JP5793236B2 - リソグラフィにおける放射ビームスポットの位置の測定 - Google Patents
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Description
本出願は、2011年3月29日に出願された米国特許仮出願第61/468,852号の利益を主張し、その全体が本明細書に援用される。
本発明は、リソグラフィ装置、放射ビームスポット位置を測定するための方法、デバイスを製造するための方法、及び、リソグラフィ装置のための放射検出システムに関する。
複数の放射ビームを提供するよう構成されているプログラマブルパターニングデバイスと、
前記複数の放射ビームを基板に投影し、対応する放射スポットを形成するよう構成されている投影系と、
放射スポット測定システムと、を備え、該システムは、
スポット測定処理のために前記放射スポットが投影されうるターゲットであって、測定ターゲットを備えるターゲットと、
前記測定ターゲットに投影された前記放射スポットの1つから放射を検出するよう構成されている放射検出器と、
前記放射検出器から情報を受信し、該情報に基づいて、前記ターゲットの上面に実質的に平行な平面における前記ターゲット上での当該放射スポットの目標位置に対する当該放射スポットの少なくとも位置を決定するよう構成されているコントローラと、を備えるリソグラフィ装置が提供される。
測定ターゲットを備えるターゲットに前記放射スポットを投影することと、
前記測定ターゲットに投影された前記放射スポットの1つから放射を検出するよう放射検出器を使用することと、
前記放射検出器からの情報に基づいて、前記ターゲットの上面に実質的に平行な平面における当該放射スポットの目標位置に対する当該放射スポットの少なくとも位置を決定することと、を備える方法が提供される。
本書に説明される方法を、前記リソグラフィ装置における前記複数の放射ビームの少なくとも1つの放射ビームスポット位置を対応する目標位置に対して測定するために使用することと、
決定されたスポット位置を、前記複数の放射ビームを基板に投影しているときに前記リソグラフィ装置のパラメタを制御するために使用することと、を備える方法が提供される。
放射を検出するよう構成されている放射検出器と、
基板を支持するよう構成されている基板テーブルと、を備え、前記放射検出器は前記基板テーブル内または前記基板テーブル上にあり、前記システムは、
前記基板テーブルまたは前記放射検出器に関して空間的に固定されている放射検出器アライメントマーカと、
前記放射検出器アライメントマーカを検査し、前記基板テーブルまたは前記基板テーブルに固定されている物体に対する前記放射検出器の位置を前記放射検出器アライメントマーカの検査結果に基づいて決定するよう構成されている放射検出器アライメントマーカ検査システムと、
前記放射検出器が異なる複数の位置で放射を検出可能であるように、前記基板テーブルまたは前記基板テーブルに固定されている物体に対する前記放射検出器の位置を制御するよう構成されているアクチュエータシステムと、を備える放射検出器システムが提供される。
1.リソグラフィ装置であって、
複数の放射ビームを提供するよう構成されているプログラマブルパターニングデバイスと、
前記複数の放射ビームを基板に投影し、対応する放射スポットを形成するよう構成されている投影系と、
放射スポット測定システムと、を備え、該システムは、
スポット測定処理のために前記放射スポットが投影されうるターゲットであって、測定ターゲットを備えるターゲットと、
前記測定ターゲットに投影された前記放射スポットの1つから放射を検出するよう構成されている放射検出器と、
前記放射検出器から情報を受信し、該情報に基づいて、前記ターゲットの上面に実質的に平行な平面における前記ターゲット上での当該放射スポットの目標位置に対する当該放射スポットの少なくとも位置を決定するよう構成されているコントローラと、を備えるリソグラフィ装置。
2.基板を支持するよう構成されている基板テーブルをさらに備え、前記ターゲットは、前記基板テーブル内または前記基板テーブル上にある、節1に記載のリソグラフィ装置。
3.前記基板テーブルは、前記基板を受けるよう構成されている上面を備え、前記ターゲットは、前記基板を受けるよう構成されている領域に隣接して前記基板テーブルの前記上面内または該上面上にある、節2に記載のリソグラフィ装置。
4.前記ターゲットは、前記基板テーブルの一方側に設けられ、前記一方側に沿って、前記基板を受けるよう構成されている前記基板テーブルの領域の幅に相当する前記一方側の少なくとも一部分に延在する、節2または3に記載のリソグラフィ装置。
5.前記ターゲットは細長く、その細長方向に前記ターゲットに沿って配置されている複数の測定ターゲットを備える、節1から4のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
6.前記ターゲットは、ターゲットアライメントマーカをさらに備え、
前記リソグラフィ装置は、前記ターゲット上の前記ターゲットアライメントマーカを検査し、前記リソグラフィ装置における或る他の要素に対する前記ターゲットの位置を前記ターゲットアライメントマーカの検査結果に基づいて決定するよう構成されているアライメント検査システムを備える、節1から5のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
7.前記アライメント検査システムは、前記基板上に設けられている基板アライメントマーカを検査し、前記基板に対する前記ターゲットの位置を前記ターゲットアライメントマーカ及び前記基板アライメントマーカの検査結果に基づいて決定するよう構成されている、節6に記載のリソグラフィ装置。
8.前記ターゲット上の異なる複数の測定ターゲットに投影された放射をそれぞれ前記放射検出器が対応する異なる位置で検出可能であるように、前記ターゲットに対する前記放射検出器の位置を制御するよう構成されているアクチュエータシステムを備える、節1から7のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
9.前記ターゲットは、放射検出器アライメントマーカをさらに備え、
前記リソグラフィ装置は、前記放射検出器アライメントマーカを検査し、前記ターゲットに対する前記放射検出器の位置を前記放射検出器アライメントマーカの検査結果に基づいて決定するよう構成されている放射検出器アライメントマーカ検査システムを備える、節8に記載のリソグラフィ装置。
10.前記放射検出器アライメントマーカ検査システムは、前記放射検出器と前記コントローラとを備える、節9に記載のリソグラフィ装置。
11.前記投影系は、可動光学素子を備え、前記投影系に対する基板の所与の位置について該基板への像形成中に各放射スポットを該基板上の複数の場所に投影可能であり、または、前記投影系に対する前記ターゲットの所与の位置についてスポット測定処理の実行中に各放射スポットを該ターゲット上の複数の場所に投影可能であるように構成されている、節1から10のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
12.前記ターゲット、前記放射検出器、及び前記コントローラは、前記複数の場所について、前記ターゲット上での当該放射スポットの、当該放射スポットの対応する目標位置に対する位置を決定するよう構成されている、節11に記載のリソグラフィ装置。
13.前記投影系は、各々が複数の放射ビームを基板に投影し対応する放射スポットを形成する複数のユニットを備え、
前記複数のユニットの各々は、可動光学素子を備え、前記投影系に対する基板の所与の位置について該基板への像形成中に各放射スポットを該基板上の複数の場所に投影可能であり、または、前記投影系に対する前記ターゲットの所与の位置についてスポット測定処理の実行中に各放射スポットを該ターゲット上の複数の場所に投影可能であるように構成されており、
前記リソグラフィ装置は、前記投影系の各ユニットにそれぞれ関連する放射検出器を備え、その各々が対応するユニットから測定ターゲットに投影された放射スポットから放射を検出するよう構成されている、節1から12のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
14.前記ターゲットは、透過型測定ターゲットを備え、前記放射検出器は、前記投影系に対し前記ターゲットの反対側に配設されている、節1から13のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
15.前記ターゲットは、反射型測定ターゲットを備え、前記放射検出器は、前記投影系に取り付けられている、節1から13のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
16.前記測定ターゲットは、放射スポットが投影されるとき該スポットの像を前記放射検出器に向けられるようにする窓を備え、
前記放射検出器は、前記放射スポットの像を含む像を得るよう構成されているイメージセンサを備え、
前記コントローラは、前記放射スポットの目標位置に対する前記放射スポットの位置を前記イメージセンサの視野における前記放射スポットの像の位置に基づいて決定するよう構成されている、節1から15のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
17.節9または10を引用する場合において、
前記イメージセンサにより得られる像は、前記放射検出器アライメントマーカの像を含む、節16に記載のリソグラフィ装置。
18.前記コントローラは、前記イメージセンサにより得られる前記放射スポットの像に基づいて前記放射スポットの形状を決定するよう構成されている、節16または17に記載のリソグラフィ装置。
19.前記測定ターゲットは、第1区域、第2区域、及び第3区域を備え、前記第1区域及び前記第3区域はそれぞれ格子を備え、前記第2区域は前記放射スポットを前記放射検出器に向けられるようにするよう構成されている窓を備え、
前記リソグラフィ装置は、前記放射スポットが前記第1区域、第2区域、及び第3区域を走査するよう前記放射スポットを前記測定ターゲットに投影するように構成され、
前記放射検出器は、前記測定ターゲットから前記放射検出器に向けられたスポットから放射の強度を検出するよう構成されている放射強度センサを備え、
前記コントローラは、前記放射スポットを与える放射ビームが前記第1区域及び前記第3区域を走査するとき実質的に一定の強度を有し前記第2区域を走査するとき参照位置にて変化する強度を有するよう前記プログラマブルパターニングデバイスを制御し、前記放射スポットの位置を、前記第1区域、第2区域、及び第3区域に投影された放射スポットそれぞれに対応して前記放射検出器から得られる第1信号、第2信号、及び第3信号のタイミング及び/または位相に基づいて決定するよう構成されている、節1から15のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
20.前記コントローラは、前記第1信号と前記第2信号との時間差及び/または位相差と前記第2信号と前記第3信号との時間差及び/または位相差との比較に基づいて、前記放射スポットの前記ターゲットを走査する方向に実質的に平行な方向における前記放射スポットの目標位置に対する前記放射スポットの位置を決定するよう構成されている、節19に記載のリソグラフィ装置。
21.前記第1区域及び前記第3区域の格子はそれぞれ、前記放射スポットの前記ターゲットを走査する方向に対し異なる斜めの角度で設けられており、
前記コントローラは、前記第1信号と前記第3信号との時間差及び/または位相差に基づいて、前記放射スポットの前記ターゲットを走査する方向に実質的に垂直な方向における前記放射スポットの目標位置に対する前記放射スポットの位置を決定するよう構成されている、節19または20に記載のリソグラフィ装置。
22.前記測定ターゲットは、各々が格子を備える複数の区域を備え、
前記リソグラフィ装置は、前記放射スポットが前記測定ターゲットの前記複数の区域を走査するよう前記放射スポットを前記測定ターゲットに投影するように構成され、
前記放射検出器は、前記測定ターゲットから前記放射検出器に向けられたスポットから放射の強度を検出するよう構成されている放射強度センサを備え、
前記コントローラは、前記放射スポットを与える放射ビームが実質的に一定の周波数で変化する強度を前記ターゲットに投影される点にて有するよう前記プログラマブルパターニングデバイスを制御するよう構成され、
前記コントローラは、前記放射スポットの目標位置に対する前記放射スポットの位置を、前記測定ターゲットの前記複数の区域それぞれに投影された放射スポットに対応して前記放射検出器から得られる信号に基づいて決定するよう構成されている、節1から15のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
23.前記格子の各々は、前記放射スポットの前記ターゲットを走査する方向に実質的に平行な方向に測定されるとき実質的に同一のピッチを有し、
前記格子の第1グループは、複数の区域それぞれに対応する第1格子、第2格子、及び第3格子を備え、前記放射スポットの前記ターゲットを走査する方向に実質的に平行な方向に前記格子の前記ピッチと異なる距離だけ前記第1格子と前記第2格子とが、及び、前記第2格子と前記第3格子とが隔てられているように前記第1格子、第2格子、及び第3格子は互いに隣接しており、
前記コントローラは、前記第1区域から前記第2区域へと前記放射スポットが通過する時点及び/または前記第2区域から前記第3区域へと前記放射スポットが通過する時点に対応して前記放射検出器からの信号レベルが変化するタイミングに基づいて、前記放射スポットの前記ターゲットを走査する方向に実質的に平行な方向における前記放射スポットの目標位置に対する前記放射スポットの位置のタイミングベースの測定結果を決定するよう構成されている、節22に記載のリソグラフィ装置。
24.前記コントローラは、前記放射スポットが或る格子に投影されている時間における前記放射検出器による信号出力の低周波数成分の信号レベルに基づいて、前記放射スポットの前記ターゲットを走査する方向に実質的に平行な方向における前記放射スポットの目標位置に対する前記放射スポットの位置の強度ベースの測定結果を決定するよう構成されている、節22または23に記載のリソグラフィ装置。
25.前記放射スポットの目標位置に対する前記放射スポットの位置の強度ベースの測定結果は、前記放射スポットが異なる3つの格子に投影されている時間それぞれにおける前記放射検出器による信号出力の低周波数成分の信号レベルに基づく、節24に記載のリソグラフィ装置。
26.節23を引用する場合において、
前記タイミングベースの測定結果は粗位置測定に使用され、前記強度ベースの測定結果は精位置測定に使用される、節24または25に記載のリソグラフィ装置。
27.前記格子は、前記格子の前記第1グループに対応する態様で配設されている第1格子、第2格子、及び第3格子の第2グループを含み、前記第1グループ及び前記第2グループの格子は、前記放射スポットの前記ターゲットを走査する方向に対しそれぞれ異なる斜めの角度で配設されており、
前記コントローラは、前記格子の前記第1グループへの前記放射スポットの走査中と前記格子の前記第2グループへの前記放射スポットの走査中との前記タイミングベースの位置測定結果及び/または前記強度ベースの位置測定結果の差に基づいて、前記放射スポットの前記ターゲットを走査する方向に実質的に垂直な方向における前記放射スポットの目標位置に対する前記放射スポットの位置を決定するよう構成されている、節23から26のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
28.前記リソグラフィ装置は、前記放射スポットが前記測定ターゲットを走査するよう前記放射スポットを前記測定ターゲットに投影するように構成され、
前記ターゲットは、前記放射スポットの面積の一部分が前記測定ターゲットに対する前記放射スポットの位置それぞれについて前記放射検出器に向けられるように当該一部分を選択するよう構成されているスリットを備え、
前記放射検出器は、前記測定ターゲットから前記放射検出器に向けられたスポットから放射の強度を検出する放射強度センサを備える、節1から15のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
29.前記測定ターゲットは、少なくとも第1スリット及び第2スリットを備え、これらは前記放射スポットが前記測定ターゲットを走査するとき各スリットが逐次走査されるよう配設され、
前記第1スリット及び前記第2スリットは、前記放射スポットの前記ターゲットを走査する方向に対しそれぞれ異なる角度で配設されている、節28に記載のリソグラフィ装置。
30.リソグラフィ装置において放射ビームスポット位置を測定する方法であって、前記リソグラフィ装置は、複数の放射ビームを提供するプログラマブルパターニングデバイスと、前記複数の放射ビームを基板に投影し、対応する放射スポットを形成する投影系と、を備え、前記方法は、
測定ターゲットを備えるターゲットに前記放射スポットを投影することと、
前記測定ターゲットに投影された前記放射スポットの1つから放射を検出するよう放射検出器を使用することと、
前記放射検出器からの情報に基づいて、前記ターゲットの上面に実質的に平行な平面における当該放射スポットの目標位置に対する当該放射スポットの少なくとも位置を決定することと、を備える方法。
31.デバイス製造方法であって、
節30に記載の方法を、前記リソグラフィ装置における前記複数の放射ビームの少なくとも1つの放射ビームスポット位置を対応する目標位置に対して測定するために使用することと、
決定されたスポット位置を、前記複数の放射ビームを基板に投影しているときに前記リソグラフィ装置のパラメタを制御するために使用することと、を備える方法。
32.リソグラフィ装置のための放射検出器システムであって、
放射を検出するよう構成されている放射検出器と、
基板を支持するよう構成されている基板テーブルと、を備え、前記放射検出器は前記基板テーブル内または前記基板テーブル上にあり、前記システムは、
前記基板テーブルまたは前記放射検出器に関して空間的に固定されている放射検出器アライメントマーカと、
前記放射検出器アライメントマーカを検査し、前記基板テーブルまたは前記基板テーブルに固定されている物体に対する前記放射検出器の位置を前記放射検出器アライメントマーカの検査結果に基づいて決定するよう構成されている放射検出器アライメントマーカ検査システムと、
前記放射検出器が異なる複数の位置で放射を検出可能であるように、前記基板テーブルまたは前記基板テーブルに固定されている物体に対する前記放射検出器の位置を制御するよう構成されているアクチュエータシステムと、を備える放射検出器システム。
33.前記放射検出器アライメントマーカ検査システムは、前記放射検出器アライメントマーカを照明するよう構成されている照明系を備える、節32に記載の放射検出器システム。
34.前記放射検出器アライメントマーカ検査システムは、照明されているときの放射検出器アライメントマーカから来る放射を検出するよう構成されている照明検出器を備える、節32または33に記載の放射検出器システム。
35.前記照明系は、前記放射検出器に関して空間的に固定され、前記放射検出器アライメントマーカは、前記基板テーブルに関して空間的に固定され、前記アクチュエータシステムは、前記基板テーブルまたは前記基板テーブルに固定されている物体に対する前記照明系の位置を制御するよう構成されている、節33または34に記載の放射検出器システム。
36.節34を引用する場合において、
前記放射検出器は、前記照明検出器として使用される、節34または35に記載の放射検出器システム。
37.節34を引用する場合において、
前記照明検出器は、前記放射検出器と異なっており前記放射検出器に関して空間的に固定され、前記アクチュエータシステムは、前記基板テーブルまたは前記基板テーブルに固定されている物体に対する前記照明検出器の位置を制御するよう構成されている、節34または35に記載の放射検出器システム。
38.前記照明系は、前記基板テーブルに関して空間的に固定され、前記放射検出器アライメントマーカは、前記放射検出器に関して空間的に固定され、前記アクチュエータシステムは、前記基板テーブルまたは前記基板テーブルに固定されている物体に対する前記放射検出器アライメントマーカの位置を制御するよう構成されている、節33または34に記載の放射検出器システム。
39.節34を引用する場合において、
前記照明検出器は、前記基板テーブルに関して空間的に固定されている、節38に記載の放射検出器システム。
40.前記基板テーブルに関して空間的に固定されている複数の放射検出器アライメントマーカを備え、前記放射検出器アライメントマーカ検査システムは、前記複数の放射検出器アライメントマーカを検査し、前記基板テーブルまたは前記基板テーブルに固定されている物体に対する前記放射検出器の位置を1つ又は複数の放射検出器アライメントマーカの検査結果に基づいて決定するよう構成されている、節35から37に記載の放射検出器システム。
41.前記放射検出器は、放射強度検出器またはイメージセンサである、節32から40のいずれかに記載の放射検出器システム。
42.節32から41のいずれかに記載の放射検出器システムを備えるリソグラフィ装置。
Claims (15)
- リソグラフィ装置であって、
複数の放射ビームを提供するよう構成されているプログラマブルパターニングデバイスと、
前記複数の放射ビームを基板に投影し、対応する放射スポットを形成するよう構成されている投影系と、
放射スポット測定システムと、を備え、該システムは、
スポット測定処理のために前記放射スポットが投影されうるターゲットであって、複数の測定ターゲットを備えるターゲットと、
前記複数の測定ターゲットに投影された前記放射スポットの1つから放射を検出するよう構成されている少なくとも1つの放射検出器と、
前記ターゲット上の異なる複数の測定ターゲットに投影された放射をそれぞれ前記放射検出器が対応する異なる位置で検出可能であるように、前記ターゲットに対する前記放射検出器の位置を制御するよう構成されているアクチュエータシステムと、
前記放射検出器から情報を受信し、該情報に基づいて、前記ターゲットの上面に実質的に平行な平面における前記ターゲット上での当該放射スポットの目標位置に対する当該放射スポットの少なくとも位置を決定するよう構成されているコントローラと、を備え、
前記ターゲットは、前記投影系下方のテーブル内または該テーブル上にあり、前記放射検出器は、前記テーブルの側に又は前記投影系の側に配設されているリソグラフィ装置。 - 前記ターゲットは細長く、前記複数の測定ターゲットは、その細長方向に前記ターゲットに沿って配置されている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記少なくとも1つの放射検出器の数は、前記複数の測定ターゲットの数より少ない、請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ターゲットは、放射検出器アライメントマーカをさらに備え、
前記リソグラフィ装置は、前記放射検出器アライメントマーカを検査し、前記ターゲットに対する前記放射検出器の位置を前記放射検出器アライメントマーカの検査結果に基づいて決定するよう構成されている放射検出器アライメントマーカ検査システムを備える、請求項1から3のいずれかに記載のリソグラフィ装置。 - 前記投影系は、可動光学素子を備え、前記投影系に対する基板の所与の位置について該基板への像形成中に各放射スポットを該基板上の複数の場所に投影可能であり、または、前記投影系に対する前記ターゲットの所与の位置についてスポット測定処理の実行中に各放射スポットを該ターゲット上の複数の場所に投影可能であるように構成されている、請求項1から4のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記ターゲット、前記放射検出器、及び前記コントローラは、前記複数の場所について、前記ターゲット上での当該放射スポットの、当該放射スポットの対応する目標位置に対する位置を決定するよう構成されている、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記投影系は、各々が複数の放射ビームを基板に投影し対応する放射スポットを形成する複数のユニットを備え、
前記複数のユニットの各々は、可動光学素子を備え、前記投影系に対する基板の所与の位置について該基板への像形成中に各放射スポットを該基板上の複数の場所に投影可能であり、または、前記投影系に対する前記ターゲットの所与の位置についてスポット測定処理の実行中に各放射スポットを該ターゲット上の複数の場所に投影可能であるように構成されており、
前記リソグラフィ装置は、前記投影系の各ユニットにそれぞれ関連する放射検出器を備え、その各々が対応するユニットから測定ターゲットに投影された放射スポットから放射を検出するよう構成されている、請求項1から6のいずれかに記載のリソグラフィ装置。 - 前記ターゲットは、反射型測定ターゲットを備え、前記放射検出器は、前記投影系に取り付けられている、請求項1から7のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記測定ターゲットは、放射スポットが投影されるとき該スポットの像を前記放射検出器に向けられるようにする窓を備え、
前記放射検出器は、前記放射スポットの像を含む像を得るよう構成されているイメージセンサを備え、
前記コントローラは、前記放射スポットの目標位置に対する前記放射スポットの位置を前記イメージセンサの視野における前記放射スポットの像の位置に基づいて決定するよう構成されている、請求項1から8のいずれかに記載のリソグラフィ装置。 - 請求項4を引用する場合において、
前記イメージセンサにより得られる像は、前記放射検出器アライメントマーカの像を含む、請求項9に記載のリソグラフィ装置。 - 前記コントローラは、前記イメージセンサにより得られる前記放射スポットの像に基づいて前記放射スポットの形状を決定するよう構成されている、請求項9または10に記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置であって、
複数の放射ビームを提供するよう構成されているプログラマブルパターニングデバイスと、
前記複数の放射ビームを基板に投影し、対応する放射スポットを形成するよう構成されている投影系と、
放射スポット測定システムと、を備え、該システムは、
スポット測定処理のために前記放射スポットが投影されうるターゲットであって、測定ターゲットを備えるターゲットと、
前記測定ターゲットに投影された前記放射スポットの1つから放射を検出するよう構成されている放射検出器と、
前記放射検出器から情報を受信し、該情報に基づいて、前記ターゲットの上面に実質的に平行な平面における前記ターゲット上での当該放射スポットの目標位置に対する当該放射スポットの少なくとも位置を決定するよう構成されているコントローラと、を備え、
前記測定ターゲットは、第1区域、第2区域、及び第3区域を備え、前記第1区域及び前記第3区域はそれぞれ格子を備え、前記第2区域は前記放射スポットを前記放射検出器に向けられるようにするよう構成されている窓を備え、
前記リソグラフィ装置は、前記放射スポットが前記第1区域、第2区域、及び第3区域を走査するよう前記放射スポットを前記測定ターゲットに投影するように構成され、
前記放射検出器は、前記測定ターゲットから前記放射検出器に向けられたスポットから放射の強度を検出するよう構成されている放射強度センサを備え、
前記コントローラは、前記放射スポットを与える放射ビームが前記第1区域及び前記第3区域を走査するとき実質的に一定の強度を有し前記第2区域を走査するとき参照位置にて変化する強度を有するよう前記プログラマブルパターニングデバイスを制御し、前記放射スポットの位置を、前記第1区域、第2区域、及び第3区域に投影された放射スポットそれぞれに対応して前記放射検出器から得られる第1信号、第2信号、及び第3信号のタイミング及び/または位相に基づいて決定するよう構成され、
前記ターゲットは、前記投影系下方のテーブル内または該テーブル上にあり、前記放射検出器は、前記テーブルの側に又は前記投影系の側に配設されている、リソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置であって、
複数の放射ビームを提供するよう構成されているプログラマブルパターニングデバイスと、
前記複数の放射ビームを基板に投影し、対応する放射スポットを形成するよう構成されている投影系と、
放射スポット測定システムと、を備え、該システムは、
スポット測定処理のために前記放射スポットが投影されうるターゲットであって、測定ターゲットを備えるターゲットと、
前記測定ターゲットに投影された前記放射スポットの1つから放射を検出するよう構成されている放射検出器と、
前記放射検出器から情報を受信し、該情報に基づいて、前記ターゲットの上面に実質的に平行な平面における前記ターゲット上での当該放射スポットの目標位置に対する当該放射スポットの少なくとも位置を決定するよう構成されているコントローラと、を備え、
前記測定ターゲットは、各々が格子を備える複数の区域を備え、
前記リソグラフィ装置は、前記放射スポットが前記測定ターゲットの前記複数の区域を走査するよう前記放射スポットを前記測定ターゲットに投影するように構成され、
前記放射検出器は、前記測定ターゲットから前記放射検出器に向けられたスポットから放射の強度を検出するよう構成されている放射強度センサを備え、
前記コントローラは、前記放射スポットを与える放射ビームが実質的に一定の周波数で変化する強度を前記ターゲットに投影される点にて有するよう前記プログラマブルパターニングデバイスを制御するよう構成され、
前記コントローラは、前記放射スポットの目標位置に対する前記放射スポットの位置を、前記測定ターゲットの前記複数の区域それぞれに投影された放射スポットに対応して前記放射検出器から得られる信号に基づいて決定するよう構成され、
前記ターゲットは、前記投影系下方のテーブル内または該テーブル上にあり、前記放射検出器は、前記テーブルの側に又は前記投影系の側に配設されている、リソグラフィ装置。 - 前記リソグラフィ装置は、前記放射スポットが前記測定ターゲットを走査するよう前記放射スポットを前記測定ターゲットに投影するように構成され、
前記ターゲットは、前記放射スポットの面積の一部分が前記測定ターゲットに対する前記放射スポットの位置それぞれについて前記放射検出器に向けられるように当該一部分を選択するよう構成されているスリットを備え、
前記放射検出器は、前記測定ターゲットから前記放射検出器に向けられたスポットから放射の強度を検出する放射強度センサを備える、請求項1から8のいずれかに記載のリソグラフィ装置。 - 前記測定ターゲットは、少なくとも第1スリット及び第2スリットを備え、これらは前記放射スポットが前記測定ターゲットを走査するとき各スリットが逐次走査されるよう配設され、
前記第1スリット及び前記第2スリットは、前記放射スポットの前記ターゲットを走査する方向に対しそれぞれ異なる角度で配設されている、請求項14に記載のリソグラフィ装置。
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