JP5815869B2 - リソグラフィ装置、リソグラフィ装置のセットアップ方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
本出願は、2011年8月30日に出願された米国特許仮出願第61/529,032号の利益を主張し、その全体が本明細書に援用される。本出願はまた、2011年9月30日に出願された米国特許仮出願第61/541,574号の利益を主張し、その全体が本明細書に援用される。また、2012年1月6日に出願された米国特許仮出願第61/583,980号の利益を主張し、その全体が本明細書に援用される。
(1/B2)/(A2−1)
ここで、Aは、放射ビームエキスパンダ40の倍率であり、Bは、放射ビームエキスパンダがプログラマブルパターニングデバイスの像を投影するレンズ14から基板までの光学系の倍率、すなわちフィールドレンズ14と結像レンズ18の組み合わせの倍率である。
ある実施の形態では、焦点アジャスタ60は、光学素子62の材料の屈折率が増加するにつれて焦点距離調整dfが増加するように構成される。ここで、屈折率nは1より大きい。ある実施の形態では、焦点アジャスタ60によって生じる焦点距離調整dfは、以下の式によって少なくとも近似的に与えられる。
1.複数の放射ビームを提供するよう構成されたプログラマブルパターニングデバイスと、
投影システムと、を備え、
前記投影システムは、
前記複数の放射ビームを基板上に投影するよう構成されたレンズ群アレイと、
前記レンズ群アレイのレンズ群に対応する光路中の焦点アジャスタであって、実質的にゼロの屈折力を有する光学素子を備える焦点アジャスタと、
を備えるリソグラフィ装置。
2.前記焦点アジャスタは、前記光路の焦点距離を調整するよう構成される、節1に記載のリソグラフィ装置。
3.前記焦点アジャスタは、前記光路の焦点距離を前記レンズ群アレイの異なるレンズ群の光路の焦点距離と実質的に等しくなるよう調整するよう構成される、節1または2に記載のリソグラフィ装置。
4.前記焦点アジャスタは、前記光路の焦点位置を調整するよう構成される、節1から3のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
5.前記光学素子は、放射ビームがそれぞれ前記光学素子に入射および前記光学素子から出射する入射面および出射面を備え、前記入射面および前記出射面は実質的に平面である、節1から4のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
6.前記焦点アジャスタの前記光学素子は、前記光路の最終光学素子となるよう構成される、節1から5のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
7.前記焦点アジャスタは、前記光路をシフトするよう構成される、節1から6のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
8.前記焦点アジャスタは、フレームに取り付けられる、節1から7のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
9.前記フレームは、前記レンズ群に設けられる、節8に記載のリソグラフィ装置。
10.前記焦点アジャスタは、前記光学素子が前記光路に対して傾斜した姿勢で固定されるよう前記フレームに取り付けられる、節8または9に記載のリソグラフィ装置。
11.前記光学素子は、前記光路に対して前記光学素子を傾斜するよう構成されたヒンジを介して前記フレームに取り付けられる、節8から10のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
12.前記ヒンジを介して前記光学素子の傾斜姿勢を調整するために、前記光学素子取り付けられるアームを移動および該アームを押すよう構成されたアクチュエータを備える、節11に記載のリソグラフィ装置。
13.前記光学素子は、前記フレームに対して前記光路に沿って前記光学素子の位置を調整するよう構成されたアジャスタを介して前記フレームに取り付けられる、節8から12のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
14.前記光学素子は、支持部品を介して前記フレームに取り付けられ、前記支持部品の表面又はその近傍部分を少なくとも部分的に溶融するために、前記支持部品の表面を照射するよう構成されたレーザ出力をさらに備え、前記支持部品は冷えたときに曲がり、それにより前記光学素子の傾斜姿勢を調整する、節8から13のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
15.前記焦点アジャスタは、前記光路に沿って伸びるチューブを備え、前記チューブは、前記光学素子を前記光路に対して固定的に傾斜して収容する、節1から14のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
16.前記光学素子は、回転軸として前記光路の周りを回転可能である、節1から15のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
17.前記投影システムは、複数の焦点アジャスタを備え、それぞれは、前記レンズ群アレイのレンズ群に対応する対応光路中にある、節1から16のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
18.各焦点アジャスタは、全ての光路が実質的に同一の焦点距離を有するために前記対応光路の焦点距離を調整するよう構成される、節17に記載のリソグラフィ装置。
19.各焦点アジャスタは、光路間に一定の角度分離を形成するために前記対応光路の焦点位置を調整するよう構成される、節17または18に記載のリソグラフィ装置。
20.フレームに接続された光学部品と、
前記フレームの表面又はその近傍部分を少なくとも部分的に溶融するために、前記フレームの表面を照射するよう構成された放射出力とを備え、前記部分は冷えたときに収縮し、それにより前記光学部品の位置及び/又は姿勢を調整する、リソグラフィ装置。
21.複数の光学部品を備え、前記フレームはスリットアレイを備え、各隣接光学部品対は前記スリットアレイのスリットにより分離される、節20に記載のリソグラフィ装置。
22.前記放射出力は、前記フレームの上面を照射するよう構成される、及び/又は、前記フレームの下面を照射するよう構成される、節20または21に記載のリソグラフィ装置。
23.複数の放射ビームを提供するよう構成されたプログラマブルパターニングデバイスと、
前記複数の放射ビームを基板上に投影するよう構成されたレンズ群アレイを備える投影システムと、を備える、節20から22のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
24.前記光学部品は、前記レンズ群アレイのレンズである、節23に記載のリソグラフィ装置。
25.前記投影システムは、前記基板の露光中、前記プログラマブルパターニングデバイスに対して前記レンズ群アレイを移動するよう構成される、節1から19、23、24のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
26.前記光路と実質的に垂直な面内で前記レンズ群アレイを前記プログラマブルパターニングデバイスに対して回転させるよう構成されたアクチュエータを備える、節1から19、23、24、25のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
27.リソグラフィ装置のセットアップ方法であって、前記リソグラフィ装置は、
複数の放射ビームを提供するよう構成されたプログラマブルパターニングデバイスと、
前記複数の放射ビームを基板上に投影するよう構成されたレンズ群アレイを備える投影システムと、を備え、
前記レンズ群アレイの複数のレンズ群のそれぞれに対し、前記レンズ群に対応する光路のパラメータを測定することと、
実質的にゼロの屈折力を有する光学素子を備える焦点アジャスタを各光路に設けることと、を備える方法。
28.デバイス製造方法であって、
節27に記載のリソグラフィ装置のセットアップ方法と、
セットアップされたリソグラフィ装置を用いてデバイスを製造することと、を備える方法。
29.デバイス製造方法であって、
複数の放射ビームを提供することと、
レンズ群アレイを介して基板上に前記複数の放射ビームを投影することを備え、
前記複数の放射ビームは、前記レンズ群アレイの対応レンズ群の光路中に実質的にゼロの屈折力を有する光学素子を備える焦点アジャスタを介して前記基板上に投影される、方法。
30.リソグラフィ装置の、フレームに接続された光学部品の位置及び/又は姿勢を調整する方法であって、
前記フレームの表面又はその近傍部分を少なくとも部分的に溶融するために、前記フレームの表面を照射することを備え、前記部分は冷えたときに収縮し、それにより前記光学部品の位置及び/又は姿勢を調整する、方法。
Claims (14)
- 複数の放射ビームを提供するよう構成されたプログラマブルパターニングデバイスと、
投影システムと、を備え、
前記投影システムは、
前記複数の放射ビームを基板上に投影するよう構成されたレンズ群アレイと、
前記レンズ群アレイのレンズ群に対応する光路中の焦点アジャスタであって、実質的にゼロの屈折力を有する光学素子を備える焦点アジャスタと、
を備え、
前記焦点アジャスタは、前記光路の焦点距離を調整するよう構成される、リソグラフィ装置。 - 前記焦点アジャスタは、前記光路の焦点位置を調整するよう構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記光学素子は、放射ビームがそれぞれ前記光学素子に入射および前記光学素子から出射する入射面および出射面を備え、前記入射面および前記出射面は実質的に平面である、請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記焦点アジャスタは、フレームに取り付けられる、請求項1から3のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記光学素子は、支持部品を介して前記フレームに取り付けられ、前記支持部品の表面又はその近傍部分を少なくとも部分的に溶融するために、前記支持部品の表面を照射するよう構成されたレーザ出力をさらに備え、前記支持部品は冷えたときに曲がり、それにより前記光学素子の傾斜姿勢を調整する、請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 前記投影システムは、複数の焦点アジャスタを備え、それぞれは、前記レンズ群アレイのレンズ群に対応する対応光路中にある、請求項1から5のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 各焦点アジャスタは、全ての光路が実質的に同一の焦点距離を有するために前記対応光路の焦点距離を調整するよう構成される、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 各焦点アジャスタは、光路間に一定の角度分離を形成するために前記対応光路の焦点位置を調整するよう構成される、請求項6または7に記載のリソグラフィ装置。
- 複数の光学素子を備え、前記フレームはスリットアレイを備え、各隣接光学素子対は前記スリットアレイのスリットにより分離される、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記投影システムは、前記基板の露光中、前記プログラマブルパターニングデバイスに対して前記レンズ群アレイを移動するよう構成される、請求項1から9のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記光路と実質的に垂直な面内で前記レンズ群アレイを前記プログラマブルパターニングデバイスに対して回転させるよう構成されたアクチュエータを備える、請求項1から10のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置のセットアップ方法であって、前記リソグラフィ装置は、
複数の放射ビームを提供するよう構成されたプログラマブルパターニングデバイスと、
前記複数の放射ビームを基板上に投影するよう構成されたレンズ群アレイを備える投影システムと、を備え、
前記レンズ群アレイの複数のレンズ群のそれぞれに対し、前記レンズ群に対応する光路のパラメータを測定することと、
実質的にゼロの屈折力を有する光学素子を備える焦点アジャスタを各光路に設けることと、
前記焦点アジャスタを、前記光路の焦点距離を調整するよう構成することと、を備える方法。 - デバイス製造方法であって、
請求項12に記載のリソグラフィ装置のセットアップ方法と、
セットアップされたリソグラフィ装置を用いてデバイスを製造することと、を備える方法。 - デバイス製造方法であって、
複数の放射ビームを提供することと、
レンズ群アレイを介して基板上に前記複数の放射ビームを投影することを備え、
前記複数の放射ビームは、前記レンズ群アレイの対応レンズ群の光路中に実質的にゼロの屈折力を有する光学素子を備える焦点アジャスタを介して前記基板上に投影され、
前記焦点アジャスタは、前記光路の焦点距離を調整するよう構成される、方法。
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