JP2014529901A - リソグラフィ装置、リソグラフィ装置のセットアップ方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】改善された焦点調整システムを提供する。【解決手段】リソグラフィ装置は、プログラマブルパターニングデバイスと投影システムとを備える。プログラマブルパターニングデバイスは、複数の放射ビームを提供するよう構成される。投影システムは、複数の放射ビームを基板上に投影するよう構成されたレンズ群アレイを備える。投影システムはさらに、レンズ群アレイのレンズ群に対応する光路中に焦点アジャスタを備える。この焦点アジャスタは、実質的にゼロの屈折力を有する光学素子を備える。【選択図】図６

Description

関連出願の相互参照
本出願は、２０１１年８月３０日に出願された米国特許仮出願第６１／５２９，０３２号の利益を主張し、その全体が本明細書に援用される。本出願はまた、２０１１年９月３０日に出願された米国特許仮出願第６１／５４１，５７４号の利益を主張し、その全体が本明細書に援用される。また、２０１２年１月６日に出願された米国特許仮出願第６１／５８３，９８０号の利益を主張し、その全体が本明細書に援用される。

本発明は、リソグラフィ装置、リソグラフィ装置のセットアップ方法、及び、デバイスを製造するための方法に関する。

リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、または基板の部分に与える機械である。リソグラフィ装置は例えば、集積回路（ＩＣ）、フラットパネルディスプレイ、微細形状を備えるその他のデバイス又は構造の製造に用いられる。従来のリソグラフィ装置においては、マスクまたはレチクルとも称されるパターニングデバイスが、ＩＣやフラットパネルディスプレイ、その他のデバイスの個々の層に対応する回路パターンを生成するために使用されることがある。このパターンは例えば、（例えばシリコンウェーハまたはガラスプレート等の）基板上に設けられた放射感応性材料（レジスト）層への結像により、基板（の部分）へと転写される。

パターニングデバイスを使用して、回路パターンではなく例えばカラーフィルタのパターンやドットのマトリックス状配列などの他のパターンを生成する場合もある。従来のマスクに代えて、パターニングデバイスは、回路パターンまたはその他の適用可能なパターンを生成する個別に制御可能な素子の配列を備えるパターニングアレイを備えてもよい。このような「マスクレス」方式では従来のマスクを使用する方式に比べて迅速かつ低コストにパターンを準備したり変更したりできるという利点がある。

故に、マスクレスシステムはプログラマブルパターニングデバイス（例えば、空間光変調器、コントラストデバイスなど）を含む。プログラマブルパターニングデバイスは、個別制御可能素子のアレイを使用して所望のパターンが与えられたビームを形成するよう（例えば電子的に、または光学的に）プログラムされている。プログラマブルパターニングデバイスの種類には、マイクロミラーアレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）アレイ、グレーティングライトバルブアレイ、自己放射可能なコントラストデバイスなどがある。

マスクレスリソグラフィ装置は、例えば、基板上の目標部分にパターンを生成ことのできる光学コラムが設けられてよい。この光学コラムは、ビームを放出するよう構成された自己放射コントラストデバイスと、目標部分上に該ビームの少なくとも一部を投影するよう構成された投影システムとが設けられてよい。この装置は、光学コラムあるいはその一部を基板に対して移動させるアクチュエータが設けられてよい。それにより、ビームは基板に対して移動可能となる。移動中に自己放射コントラストデバイスの「オン」と「オフ」を切り替えることにより、基板上にパターンが形成される。

リソグラフィプロセスでは、基板上に投影される像は、正確に焦点合わせされていなければならない。特に一部のマスクレスリソグラフィ構成では、同じクリティカルディメンジョンを有するマスクを用いたシステムと比較して、焦点調整範囲が比較的小さい。例えば、マスクレスシステムでは、複数のレンズのそれぞれが基板上に放射スポットを投影するために用いられ、比較的小さい焦点調整範囲をもたらす。従って、投影システムの光軸と平行な方向において投影システムに対して基板の位置を調整することにより、焦点を調整するためのシステムが設けられてもよい。しかしながら、所望の精度の焦点調整システムを得ることは難しい。

したがって、望まれることは、改善された焦点調整システムを提供することである。

本発明のある実施の形態によると、プログラマブルパターニングデバイスと投影システムとを備えるリソグラフィ装置が提供される。プログラマブルパターニングデバイスは、複数の放射ビームを提供するよう構成される。投影システムは、複数の放射ビームを基板上に投影するよう構成されたレンズ群アレイを備える。投影システムはさらに、レンズ群アレイのレンズ群に対応する光路中に焦点アジャスタを備える。この焦点アジャスタは、実質的にゼロの屈折力を有する光学素子を備える。

本発明のある実施の形態によると、フレームに接続された光学部品と、フレームの表面又はその近傍部分を少なくとも部分的に溶融するために、フレームの表面を照射するよう構成された放射出力とを備え、部分は冷えたときに収縮し、それにより光学部品の位置及び／又は姿勢を調整する、リソグラフィ装置が提供される。

本発明のある実施の形態によると、リソグラフィ装置のセットアップ方法が提供される。リソグラフィ装置は、プログラマブルパターニングデバイスと投影システムを備える。プログラマブルパターニングデバイスは、複数の放射ビームを提供するよう構成される。投影システムは、複数の放射ビームを基板上に投影するよう構成されたレンズ群アレイを備える。この方法は、レンズ群アレイの複数のレンズ群のそれぞれに対し、レンズ群に対応する光路のパラメータを測定することと、各光路に焦点アジャスタを設けることを備える。焦点アジャスタは、実質的にゼロの屈折力を有する光学素子を備える。

本発明のある実施の形態によると、複数の放射ビームを提供することと、レンズ群アレイを介して基板上に複数の放射ビームを投影することを備えるデバイス製造方法が提供される。複数の放射ビームは、少なくとも一つの焦点アジャスタを介して基板上に投影される。焦点アジャスタは、実質的にゼロの屈折力を有する光学素子を備える。焦点アジャスタは、レンズ群アレイの対応レンズの光路中にある。

本発明のある実施の形態によると、リソグラフィ装置の、フレームに接続された光学部品の位置及び／又は姿勢を調整する方法が提供される。この方法は、フレームの表面又はその近傍部分を少なくとも部分的に溶融するために、前記フレームの表面を照射することを備える。該部分は冷えたときに収縮し、それにより光学部品の位置及び／又は姿勢を調整する。

本発明のいくつかの実施の形態が付属の概略的な図面を参照して以下に説明されるがこれらは例示に過ぎない。対応する参照符号は各図面において対応する部分を指し示す。

本発明のある実施の形態に係るリソグラフィ装置の部分を示す図である。

本発明のある実施の形態に係る図１のリソグラフィ装置の部分の上面図である。

本発明のある実施の形態に係るリソグラフィ装置の部分を高度に概略的に示す斜視図である。

本発明のある実施の形態に係り、基板上への図３に係るリソグラフィ装置による投影を示す概略上面図である。

本発明のある実施の形態に係る焦点制御システムの構成を示す図である。

本発明のある実施の形態に係る焦点と結像レンズの配置（高さおよび面内）誤差を制御するシステムの構成を示す図である。

本発明のある実施の形態に係る焦点と結像レンズの配置（高さおよび面内）誤差を制御するシステムの構成を示す図である。

スポット焦点センサシステムの構成を概略的に示す図である。

本発明のある実施の形態に係る焦点と結像レンズの配置誤差を制御するシステムの構成を示す図である。

本発明のある実施の形態に係る焦点と結像レンズの配置誤差を制御するシステムの構成を示す図である。

本発明のある実施の形態に係る焦点アジャスタの構成を概略的に示す図である。

本発明のある実施の形態に係る支持部品がレーザにより曲げられるメカニズムを概略的に示す図である。

本発明のある実施の形態に係るフレームが照射により収縮するメカニズムを概略的に示す図である。

本発明のある実施の形態に係るフレーム上の光学部品の配置を概略的に示す図である。

本発明のある実施の形態に係る光学部品の一部を調整するためのフレームの照射の一例を概略的に示す図である。

図１５に示す照射の結果を概略的に示す図である。

図１は、リソグラフィ装置の部分の概略側断面図を概略的に示す。この実施形態においては、リソグラフィ装置は、後述するようにＸＹ面で実質的に静止した個別制御可能素子を有するが、そうである必要はない。リソグラフィ装置１は、基板を保持する基板テーブル２と、基板テーブル２を最大６自由度で移動させる位置決め装置３と、を備える。基板は、レジストで被覆された基板であってもよい。ある実施の形態においては、基板はウェーハである。ある実施の形態においては、基板は多角形（例えば矩形）の基板である。ある実施の形態においては、基板はガラスプレートである。ある実施の形態においては、基板はプラスチック基板である。ある実施の形態においては、基板は箔である。ある実施の形態においては、リソグラフィ装置は、ロールトゥロール製造に適する。

リソグラフィ装置１は、複数のビームを発するよう構成されている複数の個別に制御可能な自己放射可能なコントラストデバイス４をさらに備える。ある実施の形態においては、自己放射コントラストデバイス４は、放射発光ダイオード（例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）、有機ＬＥＤ（ＯＬＥＤ）、高分子ＬＥＤ（ＰＬＥＤ））、または、レーザダイオード（例えば、固体レーザダイオード）である。ある実施の形態においては、個別制御可能素子４の各々は青紫レーザダイオード（例えば、三洋の型式番号DL-3146-151）である。こうしたダイオードは、三洋、日亜、オスラム、ナイトライド等の企業により供給される。ある実施の形態においては、ダイオードは、例えば約３６５ｎｍまたは約４０５ｎｍの波長を有するＵＶ放射を発する。ある実施の形態においては、ダイオードは、０．５ｍＷないし２００ｍＷの範囲から選択される出力パワーを提供することができる。ある実施の形態においては、ダイオードは、２００ｍＷより大きな出力パワーを提供することができる。ある実施の形態においては、レーザダイオードの（むき出しのダイの）サイズは、１００μｍないし８００μｍの範囲から選択される。ある実施の形態においては、レーザダイオードは、０．５μｍ^２ないし５μｍ^２の範囲から選択される発光領域を有する。ある実施の形態においては、レーザダイオードは、５度ないし４４度の範囲から選択される発散角を有する。ある実施の形態においては、それらのダイオードは、合計の明るさを約６．４×１０^８Ｗ／（ｍ^２・ｓｒ）以上にするための構成（例えば、発光領域、発散角、出力パワーなど）を有する。

自己放射コントラストデバイス４は、フレーム５に配設されており、Ｙ方向に沿って及び／またはＸ方向に沿って延在してもよい。１つのフレーム５が図示されているが、リソグラフィ装置は、図２に示すように複数のフレーム５を有してもよい。フレーム５には更に、レンズ１２が配設されている。フレーム５、従って、自己放射コントラストデバイス４及びレンズ１２はＸＹ面内で実質的に静止している。フレーム５、自己放射コントラストデバイス４、及びレンズ１２は、アクチュエータ７によってＺ方向に移動されてもよい。それに代えて又はそれとともに、レンズ１２はこの特定のレンズに関係づけられたアクチュエータによってＺ方向に移動されてもよい。任意選択として、各レンズ１２にアクチュエータが設けられていてもよい。

自己放射コントラストデバイス４はビームを発するよう構成されていてもよく、投影系１２、１４、１８はそのビームを基板の目標部分に投影するよう構成されていてもよい。自己放射コントラストデバイス４及び投影系が光学コラムを形成する。リソグラフィ装置１は、光学コラム又はその一部を基板に対して移動させるためのアクチュエータ（例えばモータ）１１を備えてもよい。フレーム８には視野レンズ１４及び結像レンズ１８が配設されており、そのアクチュエータを用いてフレーム８は回転可能であってもよい。視野レンズ１４と結像レンズ１８との結合が可動レンズ群９を形成する。使用時においては、フレーム８は自身の軸１０まわりを、例えば図２に矢印で示す方向に、回転する。フレーム８は、アクチュエータ（例えばモータ）１１を使用して軸１０まわりに回転させられる。また、フレーム８はモータ７によってＺ方向に移動されてもよく、それによって可動レンズ群９が基板テーブル２に対し変位させられてもよい。ある実施の形態では、フレーム８は、モータ７によりＸ方向及びＹ方向に移動されてもよい。

内側にアパーチャを有するアパーチャ構造１３がレンズ１２の上方でレンズ１２と自己放射コントラストデバイス４との間に配置されてもよい。アパーチャ構造１３は、レンズ１２、それに関連する自己放射コントラストデバイス４、及び／または、隣接するレンズ１２／自己放射コントラストデバイス４の回折効果を限定することができる。

図示される装置は、フレーム８を回転させると同時に光学コラム下方の基板テーブル２上の基板を移動させることによって、使用されてもよい。自己放射コントラストデバイス４は、レンズ１２、１４、１８が互いに実質的に整列されたときこれらのレンズを通じてビームを放つことができる。レンズ１４、１８を移動させることによって、基板上でのビームの像が基板の一部分を走査する。同時に光学コラム下方の基板テーブル２上の基板を移動させることによって、自己放射コントラストデバイス４の像にさらされる基板の当該部分も移動する。光学コラム又はその一部の回転を制御し、自己放射コントラストデバイス４の強度を制御し、且つ基板速度を制御するコントローラにより自己放射コントラストデバイス４の「オン」と「オフ」とを高速に切り換える制御をすることによって（例えば、「オフ」であるとき出力がないか、しきい値を下回る出力を有し、「オン」であるときしきい値を上回る出力を有する）、所望のパターンを基板上のレジスト層に結像することができる。ある実施の形態では、自己放射コントラストデバイスは、コントローラの制御により複数の異なる強度間で切り換えられてもよい。

図２は、自己放射コントラストデバイス４を有する図１のリソグラフィ装置の概略上面図である。図１に示すリソグラフィ装置１と同様に、リソグラフィ装置１は、基板１７を保持する基板テーブル２と、基板テーブル２を最大６自由度で移動させる位置決め装置３と、自己放射コントラストデバイス４と基板１７とのアライメントを決定し、自己放射コントラストデバイス４の投影に対して基板１７が水平か否かを決定するためのアライメント／レベルセンサ１９と、を備える。図示されるように基板１７は矩形形状を有するが、追加的に又は代替的に円形の基板が処理されてもよい。

自己放射コントラストデバイス４はフレーム１５に配設されている。自己放射コントラストデバイス４は、放射発光ダイオード、例えばレーザダイオード、例えば青紫レーザダイオードであってもよい。図２に示されるように、自己放射コントラストデバイス４はＸＹ面内に延在するアレイ２１に配列されていてもよい。

アレイ２１は細長い線であってもよい。ある実施の形態においては、アレイ２１は、自己放射コントラストデバイス４の一次元配列であってもよい。ある実施の形態においては、アレイ２１は、自己放射コントラストデバイス４の二次元配列であってもよい。

回転フレーム８が設けられていてもよく、これは、矢印で図示される方向に回転してもよい。回転フレームには、各自己放射コントラストデバイス４の像を与えるためのレンズ１４、１８（図１参照）が設けられていてもよい。本装置には、フレーム８及びレンズ１４、１８を備える光学コラムを基板に対して回転させるためのアクチュエータが設けられていてもよい。

図３は、周辺部にレンズ１４、１８が設けられている回転フレーム８を高度に概略的に示す斜視図である。複数のビーム、本実施例では１０本のビームが、それらレンズの一方へと入射し、基板テーブル２により保持された基板１７のある目標部分に投影されている。ある実施の形態においては、複数のビームは直線に配列されている。回転可能フレームは、アクチュエータ（図示せず）によって軸１０まわりに回転可能である。回転可能フレーム８の回転の結果として、それらビームは、一連のレンズ１４、１８（視野レンズ１４及び結像レンズ１８）に入射する。一連のレンズの各々に入射してビームは偏向され、それによりビームは基板１７の表面の一部分に沿って動く。詳しくは図４を参照して後述する。ある実施の形態においては、各ビームが対応する源によって、すなわち自己放射コントラストデバイス、例えばレーザダイオードによって、生成される（図３には図示せず）。図３に示される構成においては、ビームどうしの距離を小さくするために、それらビームはともに、あるセグメントミラー３０によって偏向されかつ運ばれる。それによって、後述するように、より多数のビームを同一のレンズを通じて投影し、要求解像度を実現することができる。

回転可能フレームが回転すると、ビームが連続する複数のレンズへと入射する。このときあるレンズがビームに照射されるたびに、レンズ表面上でビームが入射する場所が移動する。レンズ上のビーム入射場所に依存してビームが異なって（例えば、異なる偏向をもって）基板に投影されるので、（基板に到達する）ビームは後続のレンズが通過するたびに走査移動をすることになる。この原理について図４を参照して更に説明する。図４は、回転可能フレーム８の一部を高度に概略的に示す上面図である。第１ビームセットをＢ１と表記し、第２ビームセットをＢ２と表記し、第３ビームセットをＢ３と表記する。ビームセットのそれぞれが、回転可能フレーム８の対応するレンズセット１４、１８を通じて投影される。回転可能フレーム８が回転すると、複数ビームＢ１が基板１７に投影され、走査移動によって領域Ａ１４を走査する。同様に、ビームＢ２は領域Ａ２４を走査し、ビームＢ３は領域Ａ３４を走査する。対応するアクチュエータによる回転可能フレーム８の回転と同時に、基板１７及び基板テーブルが（図２に示すＸ軸に沿う方向であってもよい）方向Ｄに移動され、そうして領域Ａ１４、Ａ２４、Ａ３４におけるビームの走査方向に実質的に垂直に移動される。方向Ｄの第２のアクチュエータによる移動（例えば、対応する基板テーブルモータによる基板テーブルの移動）の結果、回転可能フレーム８の一連のレンズによって投影されるとき連続する複数回のビーム走査が互いに実質的に隣接するよう投影されて、実質的に隣接する領域Ａ１１、Ａ１２、Ａ１３、Ａ１４がビームＢ１の走査のたびに生じ（図４に示すように、領域Ａ１１、Ａ１２、Ａ１３は以前に走査され、領域Ａ１４は今回走査されている）、実質的に隣接した領域Ａ２１、Ａ２２、Ａ２３、Ａ２４がビームＢ２の走査のたびに生じ（図４に示すように、領域Ａ２１、Ａ２２、Ａ２３は以前に走査され、領域Ａ２４は今回走査されている）、実質的に隣接した領域Ａ３１、Ａ３２、Ａ３３、Ａ３４がビームＢ３の走査のたびに生じる（図４に示すように、領域Ａ３１、Ａ３２、Ａ３３は以前に走査され、領域Ａ３４は今回走査されている）。このようにして、基板表面の領域Ａ１、Ａ２、Ａ３が、回転可能フレーム８を回転させる間に基板を方向Ｄに移動させることにより、覆われてもよい。多数のビームを同一のレンズを通じて投影することにより、（回転可能フレーム８をある同一の回転速度とすると）より短い時間で基板全体を処理することができる。レンズ通過のたびに各レンズにより基板を複数のビームが走査するので、連続する複数回の走査に際して方向Ｄの変位量を大きくすることができるからである。見方を変えると、多数のビームを同一のレンズを通じて基板に投影するとき、ある所与の処理時間における回転可能フレームの回転速度を小さくしてもよいということである。こうして、回転可能フレームの変形、摩耗、振動、乱流などといった高回転速度による影響を軽減してもよい。ある実施の形態においては、図４に示すように、複数のビームは、レンズ１４、１８の回転の接線に対してある角度をなして配列されている。ある実施の形態においては、複数のビームは、各ビームが重なるか、又は各ビームが隣接ビームの走査経路に隣接するように配列されている。

多数のビームを一度に同一レンズにより投影する態様の更なる効果は、公差の緩和に見ることができる。レンズの公差（位置決め、光学投影など）があるために、連続する領域Ａ１１、Ａ１２、Ａ１３、Ａ１４（及び／または領域Ａ２１、Ａ２２、Ａ２３、Ａ２４及び／またはＡ３１、Ａ３２、Ａ３３、Ａ３４）の位置には、互いの位置決めにいくらかの不正確さが現れ得る。したがって、連続する領域Ａ１１、Ａ１２、Ａ１３、Ａ１４間にいくらかの重なりが必要とされるかもしれない。１本のビームの例えば１０％を重なりとする場合、同一レンズに一度にビームが一つであると、同様に１０％の係数で処理速度が遅くなるであろう。一方、同一レンズを通じて一度に５本又はそれより多数のビームが投影される状況においては、（上記同様１本のビームについて）同じ１０％の重なりが５本又はそれより多数の投影線ごとにあるとすると、重なりの総計は概ね５（又はそれより多数）分の１である２％（又はそれ未満）へと小さくなるであろう。これは、全体的な処理速度を顕著に小さくする効果をもつ。同様に、少なくとも１０本のビームを投影することにより、重なりの総計をおよそ１０分の１に小さくしうる。したがって、多数のビームを同時に同一レンズにより投影するという特徴によって、基板の処理時間に生じる公差の影響を小さくしうる。それに加えて又はそれに代えて、より大きな重なり（従って、より大きな公差幅）が許容されてもよい。一度に同一レンズにより多数のビームを投影するのであれば、重なりが処理に与える影響が小さいからである。

多数のビームを同一レンズを通じて同時に投影することに代えて又はそれとともに、インタレース技術を使用することができるかもしれない。しかしながらそのためには、より厳格にレンズどうしを整合させることが必要になるかもしれない。従って、それらレンズのうちある同一レンズを通じて一度に基板に投影される少なくとも２つのビームは相互間隔を有し、リソグラフィ装置は、その間隔の中に後続のビーム投影がなされるように光学コラムに対して基板を移動させるよう第２アクチュエータを動作させるよう構成されていてもよい。

１つのグループにおいて連続するビームどうしの方向Ｄにおける距離を小さくするために（それによって、例えば方向Ｄに解像度を高くするために）、それらビームは方向Ｄに対して、互いに斜めに配列されていてもよい。そうした間隔は、各セグメントが複数ビームのうち対応する１つのビームを反射するセグメントミラー３０を光路に設けることによって更に縮小されてもよい。それらセグメントは、それらミラーに入射するビームどうしの間隔よりもミラーで反射されたビームどうしの間隔を狭くするよう配設されている。そうした効果は、複数の光ファイバによっても実現しうる。この場合、ビームのそれぞれが複数ファイバのうち対応する１つのファイバに入射し、それらファイバが、光路に沿って光ファイバ上流側でのビームどうしの間隔よりも光ファイバ下流側でのビームどうしの間隔を狭くするよう配設されている。

また、そうした効果は、複数ビームのうち対応する１つのビームを各々が受光する複数の入力を有する集積光学導波路回路を使用して実現されてもよい。この集積光学導波路回路は、光路に沿って集積光学導波路回路の上流側でのビームどうしの間隔よりも集積光学導波路回路の下流側でのビームどうしの間隔を狭くするよう構成されている。

基板に投影される像の焦点を制御するためのシステムが提供されてもよい。上述のある構成において、ある光学コラムの部分又は全体により投影される像の焦点を調整するための構成が提供されてもよい。

図５に示されるように、焦点調整構成は、上述したように、放射ビームエキスパンダ４０を含んでもよい。放射ビームエキスパンダ４０は、フィールドレンズ１４上に投影されたプログラマブルパターニングデバイス４の像が放射ビームエキスパンダ４０を介して投影されるよう配置される。上述したように、フィールドレンズ１４及び結像レンズ１８は、フィールドレンズ１４上に投影された像が基板テーブル２上に支持された基板上に投影されるよう配置される。従って、投影システムの光路６１と平行な方向に、フィールドレンズ１４上に投影される像の位置を調整することにより、基板のレベルで形成される像の焦点を調整することができる。投影システムの光路６１は、投影システムの光軸であってもよい。後述するように、放射ビームエキスパンダ４０は、そのようなフィールドレンズ１４上に投影される像の位置の調整を提供するために用いられる。

これは、投影システムに対して基板の位置を調整することなく焦点調整を行うことができることを意味するため、有利となる可能性がある。これにより、基板上の照明フィールドの全幅にわたって位置する異なる領域に対して独立して正確な焦点制御を行うことができる可能性がある。例えば、各光学コラムまたはその一部は、基板上に投影されている像の焦点を調整する独立した機能を有していてもよい。

さらに、このような構成は、投影システムの光路６１と平行な方向でのフィールドレンズ１４または結像レンズ１８の位置調整を必要としない可能性がある。

このような制御は、上述したような、フィールドレンズ１４及び結像レンズ１８が投影システムの光路６１に垂直な方向に移動するよう配置された構成では難しいかもしれない。例えば、図５に示し、且つ上述の構成と一致するように、フィールドレンズ１４及び結像レンズ１８は、第1アクチュエータシステム１１により駆動される回転フレーム８に搭載されてもよい。

放射ビームエキスパンダ４０は、一対の軸方向に並んだ正レンズ４１，４２から形成されてもよい。レンズ４１，４２は、例えば固定支持フレーム４３によって互いに対して固定して位置してもよい。

ある実施の形態では、放射ビームエキスパンダ４０は、物体側テレセントリックと像側テレセントリックの両方となるように構成されてもよい。物体側テレセントリックにより入射瞳が無限遠に位置することが意味され、像側テレセントリックにより出射瞳が無限遠に位置することが意味されることが理解されるであろう。

投影システムの光路６１と平行な方向に放射ビームエキスパンダ４０の位置を制御するために、第２アクチュエータシステム４４が提供及び配置されてもよい。特に、第２アクチュエータシステム４４は、第１レンズ４１及び第２レンズ４２の相対位置を維持しながらフィールドレンズ１４に対して第１レンズ４１及び第２レンズ４２の位置を調整するために、固定支持フレーム４３に作用するよう構成されてもよい。

第２アクチュエータシステム４４は、特に、確実に放射ビームエキスパンダ４０のみが光路６１と平行な方向に移動するのを支援するとともに、投影システムの光路６１に対して垂直な方向における放射ビームエキスパンダ４０の実質的な移動がないように構成されてもよい。投影システムの光路６１と平行な方向での放射ビームエキスパンダ４０の移動は、フィールドレンズ１４上に投影されるプログラマブルパターニングデバイス４の像の位置を調整するために用いられる。

第２アクチュエータ４４を制御するよう構成されたコントローラ４５が設けられてもよい。このコントローラ４５は、基板上に投影される像の所望の焦点制御を提供するために、適切な方法で放射ビームエキスパンダ４０を移動するよう第２アクチュエータ４４を制御する。特に投影システムの光路６１に沿った放射ビームエキスパンダ４０の移動は、基板において結果として生じる焦点シフトに比例する。従って、コントローラは、システムに対するある倍数を格納し、これを用いて基板における所望の焦点シフトを放射ビームエキスパンダ４０の適切な移動に変えてもよい。その後、コントローラ４５は、所望の移動を提供するために第２アクチュエータシステム４４を制御してもよい。

基板レベルにおける所望の焦点シフトは、例えば、像が投影される目標部分における基板表面の歪みの測定と併せて、基板及び／又は基板テーブル２の位置の測定から決定されてもよい。これは、基板上に投影される放射ビームのそれぞれのスポット焦点に関して予め決められた情報と組み合わされてもよい。基板表面の歪みは、基板へのパターンの露光より前にマッピングされてもよいし、及び／又は、パターンが基板の各部分に投影される前に基板の各部分に対して測定されてもよい。

放射ビームエキスパンダ４０の移動を基板における焦点シフトに関連づける倍数は、以下の式で決定されてよい。
（１／Ｂ^２）／（Ａ^２−１）
ここで、Ａは、放射ビームエキスパンダ４０の倍率であり、Ｂは、放射ビームエキスパンダがプログラマブルパターニングデバイスの像を投影するレンズ１４から基板までの光学系の倍率、すなわちフィールドレンズ１４と結像レンズ１８の組み合わせの倍率である。

ある構成では、フィールドレンズ１４と結像レンズ１８を組み合わせた系の倍率は、１／１５（すなわち縮小）であってよく、放射ビームエキスパンダ４０の倍率は２であってよい。従って、上述の式を用いることにより、基板レベルでの２５μｍの焦点シフトに対して、関連する放射ビームエキスパンダの移動が１．８７５ｍｍであることが分かるであろう。

上記のように、焦点調節構成は、リソグラフィ装置内における各光学コラムに対して別々に設けられてもよい。従って、各光学コラムは、それぞれの放射ビームエキスパンダ４０および関連するアクチュエータシステム４４を含んでもよい。該アクチュエータシステム４４は、投影系の光路６１と平行な方向に各放射ビームエキスパンダ４０を移動するよう配置される。

放射ビームエキスパンダ４０は、本明細書で記載された焦点制御システムの任意選択機構である。ある実施の形態では、焦点制御システムは、放射ビームエキスパンダ４０を備えていない。

図５に示されるように、投影システムは、少なくとも一つの焦点アジャスタ６０を備える。焦点アジャスタ６０は、レンズ群アレイのレンズ群９に対応する光路６１にある。焦点アジャスタ６０は、光学素子６２を備える。光学素子６２の屈折力は、実質的にゼロである。

光路６１は、プログラマブルパターニングデバイスで始まり、基板１７で終わる。プログラマブルパターニングデバイス４は、光路６１の上流端にある。基板１７は、光路６１の下流端にある。

焦点アジャスタ６０は、光路６１のパラメータを調整するよう構成される。焦点アジャスタ６０は、レンズ群９の実際の位置とレンズ群９の目標位置との間の望ましくない差を修正及び／又は補償することができる。焦点アジャスタ６０は、レンズ群９のレンズ１４，１８の材料と異なるレンズ群９のレンズ１４，１８の材料との間の望ましくないばらつきを修正及び／又は補償することができる。

焦点アジャスタ６０が無い場合、フィールドレンズ１４は、互いに対して、レンズとレンズの精度を数ミクロン（又はさらに０．１マイクロメートル）以内に位置されなければならず、結像レンズ１８は、互いに対して、レンズとレンズの精度を０．１μメートル以内に位置されなければならない。レンズの位置精度は、レンズを通過する放射ビームの角度分離の所望の精度を提供することである。角度分離は、リソグラフィ装置１にとって、例えば基板１７上に正確なパターンを提供するために正確でなければならない。半径方向では、隣接するレンズの焦点位置に対するレンズの焦点位置は、ライティンググリッド（writing grid）におけるギャップを避けるために重要である。このレンズとレンズの精度を成し遂げるのは非常に困難である。焦点アジャスタ６０を用いることにより、所望の焦点精度を備えるリソグラフィ装置１を製造することが容易となる。

フィールドレンズ１４および結像レンズ１８は、半径方向と軸方向の両方において適切な精度の範囲内でリソグラフィ装置１のフレーム８に位置するべきである。軸方向は、フレーム８の軸１０の方向に相当する。半径方向は、軸方向に垂直である。機械的トレランスにより、レンズ１４，１８を適切な精度で取り付けるのは困難である。

加えて、レンズ群９の光学部品の材料のばらつきは、光学的位置決めに望ましくない影響を及ぼす可能性がある。特にレンズ群９の焦点距離は、レンズ群９間で望ましくなく変化する可能性がある。加えて、放射ビームがレンズ群９を通ってたどる光路の基板１７上の焦点位置は、目標焦点位置から望ましくなく変化する可能性がある。これは、レンズ群９を通過する放射ビームの角度分離に望ましくない相違をもたらす。焦点アジャスタ６０を用いることにより、これらの問題の一つ又は複数を克服することが可能となる。

ある実施の形態では、焦点アジャスタ６０は、光路６１の焦点距離を調整するよう構成される。焦点アジャスタ６０による光路６１の焦点距離の調整は、焦点アジャスタ６０の光学素子６２の厚さに依存するとともに、光学素子６２の材料の屈折率ｎにも依存する。ある実施の形態では、焦点アジャスタ６０は、光学素子６２の厚さＤが増加するにつれて焦点距離調整ｄｆが増加するように構成される。
ある実施の形態では、焦点アジャスタ６０は、光学素子６２の材料の屈折率が増加するにつれて焦点距離調整ｄｆが増加するように構成される。ここで、屈折率ｎは１より大きい。ある実施の形態では、焦点アジャスタ６０によって生じる焦点距離調整ｄｆは、以下の式によって少なくとも近似的に与えられる。

焦点距離調整ｄｆは、レンズ群９のレンズ１４，１８の実際の位置とそれらの目標位置との間の望ましくない差を修正するために用いることができる。焦点アジャスタ６０の光学素子６２の厚さＤは、所望の焦点距離調整ｄｆを達成するように選択することができる。

ある実施の形態では、焦点アジャスタ６０は、レンズ群アレイの異なるレンズ群の光路の焦点距離と実質的に等しくなるよう光路６１の焦点距離ｆを調整するよう構成される。焦点アジャスタ６０は、レンズ群アレイの異なるレンズ群９間で均一な焦点距離を実現するために用いることができる。

ある実施の形態では、投影システムは複数の焦点アジャスタ６０を備える。各焦点アジャスタ６０は、レンズ群アレイのレンズ群９に対応する対応光路６１中に位置する。ある実施の形態では、レンズ群アレイの一つ一つが焦点アジャスタ６０を備える。各焦点アジャスタ６０は、対応するレンズ群９に対する焦点距離が目標焦点距離と等しくなるような厚さＤの光学素子６２を有するよう構成することができる。レンズ群９の焦点距離は、焦点アジャスタ６０を用いることにより、レンズ群アレイ間で均一にすることができる。

ある実施の形態では、光学素子６２は入射面６８及び出射面６９を備える。放射ビームは入射面６８を通って光学素子６２に入射する。放射ビームは、出射面６９を通って光学素子６２から出射する。ある実施の形態では、入射面６８及び出射面６９は、実質的に平面である。ある実施の形態では、入射面６８は出射面６９と実質的に平行である。光学素子６２は、実質的に平坦であってよい。

光学素子６２の屈折力は、実質的にゼロである。屈折力は、光学部品が放射を収束または発散する度合いである。単独では、焦点アジャスタ６０の光学素子６２は放射を収束も分散もしない。しかしながら、焦点アジャスタ６０は、その一部である投影システムの焦点距離ｆに影響を及ぼす。焦点アジャスタ６０の光学素子６２は、たとえあったとしても、放射ビームの最小限の色の変化しか生じさせない。

ある実施の形態では、焦点アジャスタ６０の光学素子６２は、光路６１における最終光学素子となるよう構成される。ある実施の形態では、光学素子６２は、結像レンズ１８と基板１７の間に位置する。結像レンズ１８は、投影システムの最終レンズであってよい。焦点アジャスタ６０の光学素子６２は、光路６１における最終光学素子である必要はない。例えば、ある実施の形態では、光学素子６２は、投影システムの結像レンズ１８とフィールドレンズ１４の間に位置してもよい。別の実施の形態では、焦点アジャスタ６０の光学素子６２は、レンズ群９のフィールドレンズ１４の上流に位置してもよい。しかしながら、焦点アジャスタ６０は、光路６１の最終光学素子として位置することにより、最も効果的に光路６１の焦点距離ｆ及び／又は焦点位置を調整する。

図６及び図７に示すように、ある実施の形態では、焦点アジャスタ６０は、光路６１の焦点位置を調整するよう構成される。光路６１の焦点位置は、レンズ群９を通過する放射ビームが基板１７と接触する位置である。焦点位置は、放射ビームが投影システムから出射する角度によって決まる。ある実施の形態では、焦点アジャスタ６０は、光路６１をシフトするよう構成される。光路６１のシフトは、光路６１のテレセントリック性に影響を及ぼさず、テレセントリック性は維持される。ある実施の形態では、真空隔室のウィンドウが焦点アジャスタ６０と基板７０の間に位置する。

ある実施の形態では、焦点アジャスタ６０の光学素子６２は、光路６１に対して傾斜している。特に、焦点アジャスタ６０の光学素子６２は、光路６１のすぐ上流部分７１と垂直な平面に対して傾斜していてもよい。光学素子６２は、光学素子６２がレンズ群９のレンズ１４，１８と平行とならないようにレンズ群９に対して傾斜している。光学素子６２の傾斜は、光路６１の焦点位置の調整をもたらす。この焦点位置調整ｄｓは、レンズ群９のレンズ１４，１８の、それらの目標横位置からの横方向（例えば半径方向）のずれを修正する。焦点位置調整ｄｓは、光学素子６２の厚さＤ、光学素子６２の屈折率ｎ、および光学素子６２の傾斜角によって決まる。ある実施の形態では、焦点アジャスタ６０は、光路６１の焦点位置を距離ｄｓだけシフトするよう構成される。焦点アジャスタ６０のすぐ上流の光路６１は、焦点アジャスタ６０のすぐ下流の光路６１と実質的に平行である。

ある実施の形態では、焦点アジャスタ６０は、傾斜角ａが増加するとともに焦点位置調整ｄｓが増加するように構成される。ある実施の形態では、焦点アジャスタ６０は、光学素子６２の厚さＤが増加するとともに焦点位置調整ｄｓが増加するよう構成される。ある実施の形態では、焦点アジャスタ６０は、光学素子６２の材料の屈折率ｎの増加とともに焦点位置調整ｄｓが増加するよう構成される。ここで、屈折率ｎは１より大きい。特に、焦点アジャスタ６０により提供される焦点位置調整ｄｓは、以下の式により近似的に与えられる。

焦点位置調整ｄｓは、焦点アジャスタ６０が使用されていないときの放射ビームの焦点位置と、焦点アジャスタ６０が使用されているときの放射ビームの焦点位置との間の距離である。傾斜角ａは、ラジアンで測定される。

ある実施の形態では、焦点アジャスタ６０は、フレームに取り付けられる。このフレームは、レンズ群アレイが設けられてもよい。ある実施の形態では、焦点アジャスタ６０は、レンズ群アレイが固定されるフレーム８に取り付けられる。これにより、焦点アジャスタ６０は、レンズ群９がモータ１１により移動されるとき、レンズ群９とともに移動することが可能となる。レンズ群９に対する焦点アジャスタ６０の位置は、リソグラフィ装置１の使用中、一定に保たれる。

ある実施の形態では、焦点アジャスタ６０は、光学素子６２が光路６１に対して傾いた姿勢で固定されるよう、フレーム８に取り付けられる。ある実施の形態では、リソグラフィ装置の使用中、傾斜角ａは固定され、調整することができない。傾斜角ａは、リソグラフィ装置１をセットアップするときに選択することができる。傾斜角ａは、光路６１の焦点位置を修正するよう選択することができる。この傾斜角は、レンズ群の光軸に垂直な平面と光学素子６２の入射面６８の最大傾斜方向との間の角である。勾配は、レンズ群９の光軸に対して垂直な平面に対して測定される。

図６は、本発明のある実施の形態に係る焦点システムを示す。焦点アジャスタ６０の光学素子６２は、レンズ群９に対応する光路６１に対して傾斜している。特に、光学素子６２は、光路６１における直前の上流部分７１に対して斜角に位置する。光学素子６２は、光路６１をシフトするよう構成される。光路６１のすぐ下流部分７２は、光路６１のすぐ上流部分７１の方向とは異なる方向に向いている。

図６に示された実施の形態では、傾斜角ａは固定されている。図６に示されるように、ある実施の形態では、焦点アジャスタ６０がチューブ７５を備える。このチューブ７５は、光路６１に沿って延びている。このチューブ７５は、細長い。この延長の方向は、光路６１と実質的に平行である。チューブ７５は、光路６１に対して固定して傾斜した光学素子６２を収容している。

ある実施の形態では、光学素子６２は、焦点アジャスタ６０のチューブ７５に対して固定される。ある実施の形態では、チューブ７５は、レンズ群アレイを含むフレーム８に取り付けられる。ある実施の形態では、チューブ７５は、結像レンズ１８に取り付けられる。焦点アジャスタ６０は、リソグラフィ装置１をセットアップする際に、リソグラフィ装置１に取り付けることができる。

本発明のある実施の形態は、リソグラフィ装置１をセットアップする方法を提供する。上述したように、ある実施の形態では、リソグラフィ装置１は、複数の放射ビームを提供するよう構成されたプログラマブルパターニングデバイスと、該複数の放射ビームを基板１７上に投影するよう構成されたレンズ群アレイを備える投影システムとを備える。

このセットアップ方法は、レンズ群アレイの複数のレンズ群９のそれぞれに対して、レンズ群９に対応する光路６１のパラメータを測定することと、各光路６１に焦点アジャスタ６０を設けることを備える。ある実施の形態では、焦点アジャスタ６０は、光路６１の測定されたパラメータを調整するよう構成される。焦点アジャスタ６０は、光路のパラメータをその目標値に等しくなるよう修正するために用いることができる。

ある実施の形態では、パラメータは、光路６１の焦点距離ｆである。上述したように、焦点アジャスタ６０は、光路６１の焦点距離ｆを増加することができる。ある実施の形態では、パラメータは、光路６１の焦点位置である。焦点アジャスタは、上述したように、焦点位置をシフトすることができる。

測定の間に、目標値からのパラメータ（例えば、光路６１の焦点距離ｆ及び／又は焦点位置）の偏差を測定することができる。その後、厚さＤ、その軸上の位置、光学素子６２の材料の屈折率ｎ及び／又は傾斜角などの焦点アジャスタ６０のパラメータを、測定された偏差を修正するために選択することができる。ある実施の形態では、コントローラ５００は、焦点アジャスタ６０の光学素子６２の傾斜角ａ、厚さＤ、軸上の位置及び／又は屈折率ｎから選択された一つ又は複数に対して、適切な値を選択する。

一度焦点アジャスタ６０のパラメータが選択されると、調整された焦点アジャスタ６０がリソグラフィ装置１に取り付けられる。図６に示されるように、焦点アジャスタ６０は、リソグラフィ装置１のフレーム８に取り付けられてもよい。

ある実施の形態では、焦点アジャスタ６０のパラメータの一つ又は複数は、光路６１のパラメータの偏差の測定とは無関係に選択されてもよい。例えば、光学素子６２の材料の屈折率ｎは、測定とは無関係に選択されてもよい。光学素子６２の材料は、例えば石英ガラスなどのガラスであってよい。これは、約１．５の屈折率を有する。

ある実施の形態では、光学素子６２の軸上の位置は、測定とは無関係に選択されてもよい。各焦点アジャスタ６０は、チューブ７５の上流端から固定距離を置いてチューブ７５内に収容された光学素子６２を備えてもよい。

ある実施の形態では、光学素子６２の傾斜角は、測定とは無関係に選択されてもよい。この場合、上述したように焦点位置調整ｄｓが傾斜角によって決まるのであるが、それでも少なくとも必要に応じて一方向に焦点位置調整ｄｓを変えることができる。例えば、焦点位置を投影システムの半径方向に調整されてもよい。ここで、半径方向は、フィールドレンズ１４と結像レンズ１８が取り付けられるホイール（図３に図示）の半径方向を意味するものと取られる。焦点位置の半径方向の精度は、焦点位置の方位角方向の精度よりも重要である。方位角方向は、ホイールの接線方向である。これは、半径方向と同一面にあるが、常に半径方向に垂直である。方位角または接線の焦点位置は、自己放射コントラストデバイスの変調タイミングによって修正されてよい。

焦点アジャスタ６０をフレーム８に取り付けるとき、焦点アジャスタ６０の姿勢は、半径方向における焦点位置調整ｄｓの所望量に応じて選択することができる。傾斜した光学素子６２の傾斜方向が半径方向とそろっているとき、半径方向の焦点位置調整は、焦点アジャスタ６０に対して最大である。傾斜方向は、光学素子６２の表面６８，６９の勾配が最大である方向である。傾斜方向が半径方向に垂直なとき、焦点アジャスタ６０は半径方向の焦点位置に影響しない。

従って、チューブ７５内での光学素子６２の傾斜角は、半径方向の焦点位置に対する最大径方向傾斜角に相当するよう選択することができる。半径方向の実際の焦点位置調整ｄｓが最大未満の場合、焦点アジャスタ６０の姿勢は、光学素子６２の径方向傾斜角が径方向における焦点位置調整の所望量をもたらすよう選択することができる。径方向傾斜角は、径方向におけるレンズ群９の光軸に垂直な平面と光学素子６２の入射面６８との間の角度である。

光学素子６２の傾斜方向が半径方向とそろっていないとき、焦点アジャスタ６０は、半径方向の焦点位置調整に加えて、方位角方向の焦点位置シフトを提供する。ある実施の形態では、チューブ７５中の光学素子６２の傾斜角は、測定とは無関係に固定され、半径方向の焦点位置調整ｄｓは、半径方向に対する光学素子６２の傾斜方向の姿勢（オリエンテーション）を制御することにより制御される。この場合、方位角方向の焦点位置調整は制御不可能であり、必然的にシステムの別の制限に起因する値をとる。しかしながら、径方向の焦点位置を制御することは、方位角の焦点位置を制御することよりも重要である可能性がある。ある実施の形態では、コントローラ５００は、例えば自己放射コントラストデバイスのタイミングなどの、リソグラフィ装置の一つ又は複数の別のパラメータを制御することにより方位角の焦点位置の変動を補償するよう構成される。

ある実施の形態では、焦点アジャスタ６０のレンズ群９に対する姿勢は、リソグラフィ装置１の使用中に調整することができない。焦点アジャスタ６０の姿勢は、リソグラフィ装置１のセットアップ中に選択され、その後、焦点アジャスタ６０がリソグラフィ装置１に固定される。

ある実施の形態では、光学素子６２は回転軸として光路６１の周りを回転可能である。この場合、半径方向に対する光学素子６２の傾斜方向の姿勢（オリエンテーション）は、リソグラフィ装置１の使用中に調整可能である。これにより、リソグラフィ装置１をセットアップした後であっても要求に応じて、焦点アジャスタ６０を用いて、光路６１の焦点位置に更なる調整を行うことが可能となる。

図７は、本発明のある実施の形態に係る焦点システムを示す。この焦点システムは、焦点アジャスタ６０を備える。図５および図６に示す構成と同様に、放射ビームエキスパンダ４０は、随意的な要素であり、除外されてもよい。

図７に示すように、焦点アジャスタ６０は、ヒンジ８１を介してフレーム８に取り付けられてもよい。ヒンジ８１は、光路６１に対して光学素子６２を傾斜するよう構成される。ある実施の形態では、ヒンジ８１は、焦点アジャスタ６０中に含まれる。ある実施の形態では、ヒンジ８１は弾性ヒンジである。ある実施の形態では、アクチュエータ８３は、光学素子６２の傾斜角を変化するよう構成される。傾斜角は、露光動作間に調整可能である。ある実施の形態では、アクチュエータ８３は、光路６１のパラメータの測定に基づいて光学素子６２の傾斜角を調整するよう構成される。

ヒンジ８１は、光学素子６２の傾斜角が所望の焦点位置調整ｄｓによって変化することを可能にする。ヒンジ８１は、一度傾斜角が選択され、光学素子６２が適切な位置にセットされたら、リソグラフィ装置１の使用中に傾斜角が実質的に固定されたままとなるように十分な剛性を提供する。ある実施の形態では、露光動作の間、傾斜角はヒンジ８１を用いて調整されてもよい。

ある実施の形態では、光学素子６２は軸方向アジャスタ８２を介してフレーム８に取り付けられる。軸方向アジャスタ８２は、フレーム８に対して光路６１に沿った光学素子６２の軸上の位置を調整するよう構成される。ある実施の形態では、コントローラ５００は、光学素子６２の所望の軸上位置を決定するよう構成される。軸方向アジャスタ８２は、その後、光学素子６２を所望の軸上位置に移動するために用いられてもよい。軸方向アジャスタ８２は、露光動作中に光学素子６２の軸上位置が実質的に一定のままとなるように構成される。光学素子６２の傾斜角は、使用中のリソグラフィ装置１の動作に起因する自由な方法では、変化しない。

ある実施の形態では、リソグラフィ装置１の各焦点アジャスタ６０は、光路６１間に一定の角度分離を形成するために、光路６１に対応する焦点位置を調整するよう構成される。このようにして、例えば特定のパターンが基板１７上に形成されてもよい。形成されるパターンは、レンズ群９のレンズ１４，１８の位置の望ましくない偏差を考慮に入れることができる。

ある実施の形態では、リソグラフィ装置１は、光路６１と実質的に垂直な平面内でプログラマブルパターニングデバイスに対してレンズ群アレイを回転させるよう構成されたアクチュエータ１１を備える。レンズ群アレイの回転中、遠心力により、一つ又は複数のレンズの半径方向位置が不必要に調整される可能性がある。焦点アジャスタ６０は、この不必要な変位を修正するために用いることができる。

ある実施の形態では、リソグラフィ装置１は、初期に焦点アジャスタ６０なしでセットアップされる。リソグラフィ装置の少なくとも一部がその後用いられる。例えば、レンズ群アレイが回転する。各レンズ群に対する放射ビームの位置誤差が使用中に測定される。それに代えて、リソグラフィ装置１が使用されていないとき（例えばレンズ群を回転させることなく）各レンズ群に対する放射ビームの位置誤差が推定される。焦点アジャスタ６０は、必要に応じて各レンズ群に追加（例えばマウント）される。各レンズ群に対する放射ビームの修正位置はチェックされる。

図９は、焦点アジャスタ６０がヒンジ８１を介してフレーム８に取り付けられる実施の形態を示す。ヒンジ８１は、変形可能な材料から成る。ある実施の形態では、この変形可能な材料は弾性材料である。ある実施の形態では、焦点アジャスタ６０の光学素子６２はアーム９２に固定される。アーム９２はヒンジ８１に接続される。ある実施の形態では、アーム９２はヒンジ８１と一体である。ある実施の形態では、光学素子６２の傾斜角はアーム９２の傾斜角を調整することにより調整可能である。

図９に示されるように、ある実施の形態では、光学素子６２とアーム９２の傾斜角は、アクチュエータ又はチルター（tilter）９１の移動により調整される。チルター９１は、軸方向に少なくとも部分的に移動する。チルター９１は、アーム９２および次に光学素子６２の傾斜角を変化させるよう構成される。ある実施の形態では、チルター９１は、アーム９２と物理的な接触をすることにより、アーム９２の傾斜角を変化させる。ある実施の形態では、チルター９１は、ねじ付きスクリューから成る。このねじ付きスクリューは、フレーム８に対して軸方向に移動してもよい。ねじ付きスクリューは、フレーム８内の穴に位置してもよい。

ある実施の形態では、図９に示されるように、光学素子６２の傾斜角は、リソグラフィ装置１がスイッチオンされる前（すなわちセットアップ中）に調整することができる。セットアップ後、光学素子の傾斜角が固定される。従って、光学部品６２の傾斜角が受動的に制御される。

図１０は、光学素子６２の傾斜角が異なる方法により調整される実施の形態を示す。ある実施の形態では、光学素子６２は支持部品１０３に接続されている。ある実施の形態では、支持部品１０３は、光学素子６２の小端部に接続されている。支持部品１０３は、フレーム８に一体化されていてもよい。

レーザ（便宜上図示せず）に接続されたレーザ出力１０１は、支持部品１０３のある部分１０２に入射するレーザビーム（図１０に一点鎖線で示す）を提供する。レーザビームが入射する支持部品１０３の部分１０２は、膨張プロセスを受け、次に降伏プロセスを受け、次に収縮プロセスを受ける。収縮プロセスの結果、支持部品１０３の部分１０２はレーザビームの適用により曲げられる。支持部品１０３の部分１０２の曲げは、光学素子６２をレンズ群９に対して傾斜させる。

図１２は、支持部品１０３が曲げられるメカニズムを説明するための図である。レーザ出力１０１は、支持部品１０３の部分１０２をレーザ放射で照射する。図１２の上の図に示すように、レーザ放射は支持部品１０３の部分１０２を加熱する。レーザ放射により加熱された部分１０２は、支持部品１０３の外面の部分であり、支持部品１０３中に短い距離広がっている。支持部品１０３の表面及びその近傍の部分１０２のみがレーザ放射により加熱される。部分１０２は、支持部品１０３の深さにおける一部分にのみ広がっている。

レーザ放射は、支持部品１０３の表面及びその近傍の部分１０２を、支持部品１０３が形成される材料の溶融点又はその近傍の温度に加熱する。図１２の真ん中の図に示すように、部分１０２は降伏する（すなわち少なくとも部分的に溶ける）。部分１０２が降伏するとき、該部分の形状が変化する。

レーザ出力１０１は、一定時間、部分１０２を照射する。照射が終わった後、部分１０２は冷える。図１２の下の図に示すように、該部分が冷えるとき収縮プロセスが起こる。この収縮プロセスは、支持部品１０３の曲げをもたらす。

従って、焦点アジャスタ６０の光学素子６２の傾斜角は、レーザ放射を用いて局所的に材料を溶融することにより制御することができる。レーザ放射は、支持部品１０３が形成されている材料を少なくとも部分的に溶融するのに十分なほど強力でなければならない。ある実施の形態では、支持部品１０３は金属から成る。ある実施の形態では、金属は鋼鉄である。ある実施の形態では、金属はステンレス鋼である。図１０に示すように、レーザ出力１０１は、下方から支持部品１０３を照射するよう構成されてもよい。ある実施の形態では、レーザ出力１０１は、それに加えて又はそれに代えて、光学素子６２の傾斜角を調整するために、上方から支持部品１０３を照射するよう構成される。支持部品１０３の下方のレーザ出力１０１により生じた曲げは、支持部品１０３の反対側（例えば上側）へのレーザの適用により逆向きにすることができる。

ある実施の形態では、焦点アジャスタ６０の複数の光学部品６２は、同一の支持部品１０３に接続されている。ある実施の形態では、各光学部品６２は、フレーム８に接続されている。ある実施の形態では、支持部品１０３は、図１１に示すように各隣接光学部品６２対の間にスリット１１１を備える。スリット１１１の目的は、隣接する光学部品６２について、傾斜角ａへのレーザ調整の影響を切り離すことである。スリット１１１の使用により、隣接する光学部品６２に対する傾斜角の制御の独立性が改善する。ある実施の形態では、各スリット１１１は、隣接する光学素子６２を互いに分離する。その結果、隣接する光学素子６２間に、光学素子６２が接続されている一体支持部品１０３を通る直接の直線は存在しない。ある実施の形態では、支持部品１０３はホイールから成る。スリット１１１は、放射状であってよく、ホイールの半径方向外縁から光学素子６２の半径方向内側の位置にまで延在していてよい。

レーザ調整を用いて傾斜角ａを制御する利点は、リソグラフィ装置１が使用中であるときに傾斜角の制御を実行できるということである。特に上述したように、各レンズ群９に対してなされる望ましい修正は、レンズ群アレイが移動している間に測定することができる。レーザ調整を用いることにより、レンズ群アレイが移動している間に調整を行うことができる。

上述の放射調整システム（すなわち照射による部分溶融を用いた調整）は、リソグラフィ装置のフレームに（直接的あるいは間接的に）接続された任意の光学部品の位置及び／又は姿勢を調整するために用いることができる。ある実施の形態では、部分１０２が冷えたときに収縮し、それにより光学部品の位置及び／又は姿勢を調整するために、リソグラフィ装置は、フレームの表面およびその近傍において部分１０２を少なくとも部分的に溶融する又は柔らかくするためにフレームの表面を照射するよう構成された放射出口（例えばそのような出口を有する放射源）を備える。

例えば、上述したようなプログラマブルパターニングデバイスとレンズ群アレイを備える投影システムとを備えるリソグラフィ装置との関連で、光学部品は、ある実施の形態において、レンズ群アレイのレンズ１４，１８である。しかしながら、光学部品はそのようなレンズ以外の光学部品であってもよい。例えば、光学部品は、上述の焦点アジャスタ６０の光学素子６２であってもよい。

さらに、放射調整システムは、上述のプログラマブルパターニングデバイスとレンズ群アレイを備える投影システムとを備えないリソグラフィ装置との関連で用いられてもよい。しかしながら、明確にするために、光学部品がレンズ群アレイのレンズ１４，１８であるという状況で、照射を用いて光学部品の位置及び／又は姿勢を調整することを説明する。

ある実施の形態では、放射出口（例えば放射源）は、リソグラフィ装置のフレーム８の少なくとも一部１０２を加熱するよう構成される。放射は、レンズ１４，１８の位置及び／又は姿勢を調整するために、フレーム８の一つ又は複数の部分１０２の曲げ及び／又は収縮をもたらすことができる。

フレーム８の曲げは、図１２に図示され且つ対応する説明に記載のとおり達成されてよい。このメカニズムにより、フレーム８の平面部はその平面から曲げられる。フレーム８の形状は、例えば、フレーム８の一部を収縮することによりフレーム８の面内で調整されてもよい。このメカニズムは図１３に図示されている。

図１３は、放射出口からの照射により収縮を受けている異なる段階にあるフレーム８を示す。図１３の最初の図は、照射前のフレーム８を示す。ボーダー１３１は、ボーダー１３１間で固定距離延びるフレーム８の最初の位置を表す。

図１３の第２番目の図は、フレーム８の一部分１０２を照射している放射源の放射出口１０１を示す。この放射は、フレーム８の部分１０２を加熱している。放射により加熱された部分１０２は、フレーム８の外面の一部を含み、フレーム８中に短い距離延びている。フレーム８の表面又はその近傍の部分１０２のみが放射により加熱される。部分１０２は、フレーム８の深さを通して部分的にしか延びていない。

放射は、フレーム８の表面およびその近傍において部分１０２をフレームが形成された材料の溶融点又はその近傍の温度に加熱する。図１３の第２番目の図の矢印は、材料が膨張する圧力を表す。しかしながら、材料は、フレーム８の他の部分により完全に囲まれているため、膨張することができない。この囲みは、図１３においてボーダー１３１により概略的に図示されている。膨張できないことの結果として、材料が降伏する。図１３の第３番目の図は、降伏プロセス後のフレーム８を示す。この降伏は、少なくとも部分的に溶けている部分１０２において、フレーム８の材料に影響を及ぼす。図１３に示すように、部分１０２の形状が変化する。

図１３の最後の図は、降伏プロセスに続く部分１０２の固化及び収縮を示す。部分１０２は、冷えると収縮する。図１３の最後の図の矢印は、部分１０２の収縮を表す。

図１２に示すように、フレーム８の一面だけが照射される場合、その後、収縮がフレーム８の曲げをもたらす。しかしながら、フレーム８の反対面の対応する位置がこのように照射される場合、その後、収縮の結果、実質的な曲げなしで、フレーム８の長さが減少する。これは、例えば図１５及び図１６に図示される。

放射調整システムにより、フレーム８を適切に曲げてレンズ１４，１８の傾斜角を調整することができる。レンズ１４，１８に接続されたフレーム８の長さが短くなるようにフレーム８を反対面において収縮することにより、レンズ１４，１８の半径方向位置を調整することもできる。反対面の互い違いの位置でフレームを曲げることにより、レンズ１４，１８の軸方向位置を調整することもできる。これは、図１５および図１６に示されている。

柔らかくされる領域の形状（すなわち部分１０２の形状）は、特に制限されず、アプリケーションに応じて決定される。ある実施の形態では、この領域は、スポットである。ある実施の形態では、この領域はラインである。ラインは、連続的であってもよいし、一連のスポットから形成されてもよい。この領域は、曲線、円、正方形などの形状を形成してもよい。

図１４は、フレーム８の一部を示す。レンズ１４，１８がフレーム８の周辺領域に組み込まれている。ある実施の形態では、フレーム８はスリットアレイを備える。レンズ１４，１８の各隣接対は、スリットアレイのスリット１１１により分離されている。このようなスリット１１１の利点は、図１１に関連して上述されている。

図１４に示されるように、ある実施の形態では、フレーム８はスリット１１１と連通している孔１４１を備える。孔１４１の幅（例えば直径）は、スリット１１１の幅よりも大きい。孔１４１は、スリット１１１の半径方向内側端とつながっている。孔１４１は、各レンズ１４，１８の独立性を高め、隣接するレンズ１４，１８から切り離して位置させる。

図１５は、レンズ１４，１８の位置を調節するためにフレーム８の部分１０２が照射される実施の形態を示す。フレーム８の上面および下面両方の部分１０２が照射されている。図１５の矢印は、フレーム８の部分１０２の収縮を示す。部分１０２ａおよび１０２ｂを照射することにより、レンズ１４，１８はより半径方向内側の位置に調整される。これは、フレーム８の半径方向長さが部分１０２ａ及び１０２ｂの収縮により減少するからである。部分１０２ａは、部分１０２ｂと正反対であり、これらの部分の照射は、フレーム８の実質的な曲げをもたらさない。

図１５に示す例では、フレーム８は部分１０２ｃおよび１０２ｄにおいて照射されている。部分１０２ｃはフレーム８の反対面上の部分１０２ｄから互い違い（すなわちオフセット）である。部分１０２ｃおよび１０２ｄの照射の結果が図１６に示されている。部分１０２ｃの照射は、部分１０２ｃにおいてフレーム８を下方に曲げる。部分１０２ｄの照射は、部分１０２ｄにおいてフレームを上方に曲げる。その結果、レンズ１４，１８の軸方向位置は下方に調整される。これは、図１５と図１６の比較から分かる。もちろん、この放射調整システムは、レンズ１４，１８を軸方向に上げるために用いることができる。部分１０２ｃと１０２ｄの照射は、軸方向位置だけでなく、光学部品（例えばレンズ１８）の軸方向位置と傾斜を同時に調整することができる。

各部分１０２での収縮量は、例えば、照射時間の変化及び／又は照射強度の変化により制御することができる。この照射調整方法により、フレーム８の剛性を大幅に変えたり、別の材料を追加したりすることなく、レンズ１４，１８およびフレーム８の位置及び／又は姿勢に調整を行うことが可能となる。

放射調整システムは、フレーム８の回転中に実行可能である。リソグラフィ装置の使用中、レンズ１４，１８の位置及び／又は姿勢が望ましくなく変化する可能性がある。使用中にこの放射調整システムを用いることにより、このような望ましくない変化を少なくとも部分的に補償することができる。それに加えて又はそれに変えて、放射調整システムは、例えば専用の製造セットアップの間に使用前に、一つ又は複数の光学部品の位置を調整するために用いることができる。これは、動作周波数で、すなわちフレーム８の回転とともに行うことができる。従って、この放射調整システムの使用は、フレームの剛性パラメータの予測可能性および均一性への要求を緩和することができる。剛性パラメータは、例えば幾何学的トレランスに起因して変化する可能性がある。

ある実施の形態では、放射源は複数の放射出力１０１を備える。例えば、フレーム８の上面の部分１０２を照射するために、フレーム８の上方に位置する放射出力１０１があってもよい。それに代えて又はそれに加えて、フレーム８の下面の部分を照射するために、フレーム８の下方に位置するレーザ出力１０１があってもよい。ある実施の形態では、放射源は、フレーム８に対して移動可能な放射出力１０１を備える。放射出力１０１は、フレーム８の上面と下面の両方の部分１０２を照射することができる。ある実施の形態では、フレーム８の上方に一つ又は複数の放射出力１０１があり、及び／又は、フレーム８の下方に一つ又は複数の放射出力１０１がある。

基板上に放射スポットを形成する放射ビームのそれぞれの焦点が測定されるべきである。ある実施の形態では、焦点距離及び／又は焦点位置は、放射スポットの幅（例えば直径）を測定することのできる画像センサ上に各放射ビームを投影することにより測定される。その後、焦点は、スポット幅が所望のサイズとなるまで調整されてもよいし、及び／又は、システムは、スポットが所望の幅となる投影システムからの距離を決定してもよい。

ある実施の形態では、焦点距離及び／又は焦点位置は、図８に図示されるようなスポット焦点センサシステムにより測定される。放射スポット５２は、グレーチング５０上の複数の位置に入射するように、グレーチング５０上に投影されて走査される。グレーチングのギャップ上に投影された放射スポット５２の大部分は、基板５４を通過して放射強度センサ５１に入る。グレーチング５０を形成するために用いられるクロムストリップ５３上に投影された放射スポット５２’の大部分は、放射強度センサまで通過することができない。放射スポットの焦点が大きくなればなるほど、これら２つの位置における放射強度センサ５１の信号レベル間のコントラストが大きくなる。従って、コントローラ５５は、放射スポットがグレーチング５０にわたって走査したときに、放射強度センサからの最大信号レベルと最小信号レベルのコントラストの測定から、スポット焦点寸法を決定してもよい。

図８に示すスポット焦点センサシステムは、焦点調整システムの精度を向上できるという利点、比較的安価な画像センサを用いることができるという利点、及び／又は、焦点測定を迅速に行うことができるという利点を有する。

あるデバイス製造方法によると、パターンが投影された基板から、ディスプレイ、集積回路、又はその他の任意の品目等のデバイスが製造されうる。

本発明に係る更なる実施の形態は、後記の番号付けされた節に与えられる。
１．複数の放射ビームを提供するよう構成されたプログラマブルパターニングデバイスと、
投影システムと、を備え、
前記投影システムは、
前記複数の放射ビームを基板上に投影するよう構成されたレンズ群アレイと、
前記レンズ群アレイのレンズ群に対応する光路中の焦点アジャスタであって、実質的にゼロの屈折力を有する光学素子を備える焦点アジャスタと、
を備えるリソグラフィ装置。
２．前記焦点アジャスタは、前記光路の焦点距離を調整するよう構成される、節１に記載のリソグラフィ装置。
３．前記焦点アジャスタは、前記光路の焦点距離を前記レンズ群アレイの異なるレンズ群の光路の焦点距離と実質的に等しくなるよう調整するよう構成される、節１または２に記載のリソグラフィ装置。
４．前記焦点アジャスタは、前記光路の焦点位置を調整するよう構成される、節１から３のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
５．前記光学素子は、放射ビームがそれぞれ前記光学素子に入射および前記光学素子から出射する入射面および出射面を備え、前記入射面および前記出射面は実質的に平面である、節１から４のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
６．前記焦点アジャスタの前記光学素子は、前記光路の最終光学素子となるよう構成される、節１から５のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
７．前記焦点アジャスタは、前記光路をシフトするよう構成される、節１から６のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
８．前記焦点アジャスタは、フレームに取り付けられる、節１から７のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
９．前記フレームは、前記レンズ群に設けられる、節８に記載のリソグラフィ装置。
１０．前記焦点アジャスタは、前記光学素子が前記光路に対して傾斜した姿勢で固定されるよう前記フレームに取り付けられる、節８または９に記載のリソグラフィ装置。
１１．前記光学素子は、前記光路に対して前記光学素子を傾斜するよう構成されたヒンジを介して前記フレームに取り付けられる、節８から１０のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
１２．前記ヒンジを介して前記光学素子の傾斜姿勢を調整するために、前記光学素子取り付けられるアームを移動および該アームを押すよう構成されたアクチュエータを備える、節１１に記載のリソグラフィ装置。
１３．前記光学素子は、前記フレームに対して前記光路に沿って前記光学素子の位置を調整するよう構成されたアジャスタを介して前記フレームに取り付けられる、節８から１２のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
１４．前記光学素子は、支持部品を介して前記フレームに取り付けられ、前記支持部品の表面又はその近傍部分を少なくとも部分的に溶融するために、前記支持部品の表面を照射するよう構成されたレーザ出力をさらに備え、前記支持部品は冷えたときに曲がり、それにより前記光学素子の傾斜姿勢を調整する、節８から１３のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
１５．前記焦点アジャスタは、前記光路に沿って伸びるチューブを備え、前記チューブは、前記光学素子を前記光路に対して固定的に傾斜して収容する、節１から１４のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
１６．前記光学素子は、回転軸として前記光路の周りを回転可能である、節１から１５のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
１７．前記投影システムは、複数の焦点アジャスタを備え、それぞれは、前記レンズ群アレイのレンズ群に対応する対応光路中にある、節１から１６のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
１８．各焦点アジャスタは、全ての光路が実質的に同一の焦点距離を有するために前記対応光路の焦点距離を調整するよう構成される、節１７に記載のリソグラフィ装置。
１９．各焦点アジャスタは、光路間に一定の角度分離を形成するために前記対応光路の焦点位置を調整するよう構成される、節１７または１８に記載のリソグラフィ装置。
２０．フレームに接続された光学部品と、
前記フレームの表面又はその近傍部分を少なくとも部分的に溶融するために、前記フレームの表面を照射するよう構成された放射出力とを備え、前記部分は冷えたときに収縮し、それにより前記光学部品の位置及び／又は姿勢を調整する、リソグラフィ装置。
２１．複数の光学部品を備え、前記フレームはスリットアレイを備え、各隣接光学部品対は前記スリットアレイのスリットにより分離される、節２０に記載のリソグラフィ装置。
２２．前記放射出力は、前記フレームの上面を照射するよう構成される、及び／又は、前記フレームの下面を照射するよう構成される、節２０または２１に記載のリソグラフィ装置。
２３．複数の放射ビームを提供するよう構成されたプログラマブルパターニングデバイスと、
前記複数の放射ビームを基板上に投影するよう構成されたレンズ群アレイを備える投影システムと、を備える、節２０から２２のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
２４．前記光学部品は、前記レンズ群アレイのレンズである、節２３に記載のリソグラフィ装置。
２５．前記投影システムは、前記基板の露光中、前記プログラマブルパターニングデバイスに対して前記レンズ群アレイを移動するよう構成される、節１から１９、２３、２４のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
２６．前記光路と実質的に垂直な面内で前記レンズ群アレイを前記プログラマブルパターニングデバイスに対して回転させるよう構成されたアクチュエータを備える、節１から１９、２３、２４、２５のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
２７．リソグラフィ装置のセットアップ方法であって、前記リソグラフィ装置は、
複数の放射ビームを提供するよう構成されたプログラマブルパターニングデバイスと、
前記複数の放射ビームを基板上に投影するよう構成されたレンズ群アレイを備える投影システムと、を備え、
前記レンズ群アレイの複数のレンズ群のそれぞれに対し、前記レンズ群に対応する光路のパラメータを測定することと、
実質的にゼロの屈折力を有する光学素子を備える焦点アジャスタを各光路に設けることと、を備える方法。
２８．デバイス製造方法であって、
節２７に記載のリソグラフィ装置のセットアップ方法と、
セットアップされたリソグラフィ装置を用いてデバイスを製造することと、を備える方法。
２９．デバイス製造方法であって、
複数の放射ビームを提供することと、
レンズ群アレイを介して基板上に前記複数の放射ビームを投影することを備え、
前記複数の放射ビームは、前記レンズ群アレイの対応レンズ群の光路中に実質的にゼロの屈折力を有する光学素子を備える焦点アジャスタを介して前記基板上に投影される、方法。
３０．リソグラフィ装置の、フレームに接続された光学部品の位置及び／又は姿勢を調整する方法であって、
前記フレームの表面又はその近傍部分を少なくとも部分的に溶融するために、前記フレームの表面を照射することを備え、前記部分は冷えたときに収縮し、それにより前記光学部品の位置及び／又は姿勢を調整する、方法。

本書ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用を例として説明しているが、本明細書に説明したリソグラフィ装置は他の用途にも適用することが可能であるものと理解されたい。他の用途としては、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用案内パターンおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどがある。当業者であればこれらの他の適用に際して、本明細書における「ウェーハ」あるいは「ダイ」という用語がそれぞれ「基板」あるいは「目標部分」という、より一般的な用語と同義であるとみなされると理解することができるであろう。本書に言及された基板は露光前または露光後において、例えばトラック（典型的にはレジスト層を基板に塗布し、露光後のレジストを現像する装置）、メトロロジツール、及び／またはインスペクションツールにより処理されてもよい。適用可能であれば、本明細書の開示はこれらのまたは他の基板処理装置にも適用され得る。また、基板は例えば多層ＩＣを製造するために複数回処理されてもよく、その場合には本明細書における基板という用語は既に処理されている多数の処理層を含む基板をも意味し得る。

本発明の特定の実施形態が上述されたが、説明したもの以外の態様で本発明が実施されてもよい。例えば、本発明は、上述の方法を記述する機械で読み取り可能な命令の１つまたは複数のシーケンスを含むコンピュータプログラム、または、そうしたコンピュータプログラムを記録したデータ記録媒体（例えば半導体メモリ、磁気ディスク、または光ディスク）の形式をとってもよい。また、機械で読み取り可能な命令は、２以上のコンピュータプログラムにより具現化されていてもよい。それら２以上のコンピュータプログラムは、１つ又は複数の異なるメモリ及び／またはデータ記録媒体に記録されていてもよい。

「レンズ」という用語は、文脈が許す限り、屈折光学部品、回折光学部品、反射光学部品、磁気的光学部品、電磁気的光学部品、静電的光学部品、またはこれらの組み合わせを含む各種の光学部品のいずれかを指し示してもよい。

上述の説明は例示であり、限定を意図しない。よって、以下に述べる請求項の範囲から逸脱することなく既述の本発明に変更を加えることができるということは、当業者には明らかなことである。

Claims (17)

1. 複数の放射ビームを提供するよう構成されたプログラマブルパターニングデバイスと、
   投影システムと、を備え、
   前記投影システムは、
   前記複数の放射ビームを基板上に投影するよう構成されたレンズ群アレイと、
   前記レンズ群アレイのレンズ群に対応する光路中の焦点アジャスタであって、実質的にゼロの屈折力を有する光学素子を備える焦点アジャスタと、
   を備えるリソグラフィ装置。
2. 前記焦点アジャスタは、前記光路の焦点距離を調整するよう構成される、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
3. 前記焦点アジャスタは、前記光路の焦点位置を調整するよう構成される、請求項１または２に記載のリソグラフィ装置。
4. 前記光学素子は、放射ビームがそれぞれ前記光学素子に入射および前記光学素子から出射する入射面および出射面を備え、前記入射面および前記出射面は実質的に平面である、請求項１から３のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
5. 前記焦点アジャスタは、フレームに取り付けられる、請求項１から４のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
6. 前記光学素子は、支持部品を介して前記フレームに取り付けられ、前記支持部品の表面又はその近傍部分を少なくとも部分的に溶融するために、前記支持部品の表面を照射するよう構成されたレーザ出力をさらに備え、前記支持部品は冷えたときに曲がり、それにより前記光学素子の傾斜姿勢を調整する、請求項５に記載のリソグラフィ装置。
7. 前記投影システムは、複数の焦点アジャスタを備え、それぞれは、前記レンズ群アレイのレンズ群に対応する対応光路中にある、請求項１から６のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
8. 各焦点アジャスタは、全ての光路が実質的に同一の焦点距離を有するために前記対応光路の焦点距離を調整するよう構成される、請求項７に記載のリソグラフィ装置。
9. 各焦点アジャスタは、光路間に一定の角度分離を形成するために前記対応光路の焦点位置を調整するよう構成される、請求項７または８に記載のリソグラフィ装置。
10. フレームに接続された光学部品と、
    前記フレームの表面又はその近傍部分を少なくとも部分的に溶融するために、前記フレームの表面を照射するよう構成された放射出力とを備え、前記部分は冷えたときに収縮し、それにより前記光学部品の位置及び／又は姿勢を調整するリソグラフィ装置。
11. 複数の光学部品を備え、前記フレームはスリットアレイを備え、各隣接光学部品対は前記スリットアレイのスリットにより分離される、請求項１０に記載のリソグラフィ装置。
12. 前記投影システムは、前記基板の露光中、前記プログラマブルパターニングデバイスに対して前記レンズ群アレイを移動するよう構成される、請求項１から９のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
13. 前記光路と実質的に垂直な面内で前記レンズ群アレイを前記プログラマブルパターニングデバイスに対して回転させるよう構成されたアクチュエータを備える、請求項１から９および１２のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
14. リソグラフィ装置のセットアップ方法であって、前記リソグラフィ装置は、
    複数の放射ビームを提供するよう構成されたプログラマブルパターニングデバイスと、
    前記複数の放射ビームを基板上に投影するよう構成されたレンズ群アレイを備える投影システムと、を備え、
    前記レンズ群アレイの複数のレンズ群のそれぞれに対し、前記レンズ群に対応する光路のパラメータを測定することと、
    実質的にゼロの屈折力を有する光学素子を備える焦点アジャスタを各光路に設けることと、を備える方法。
15. デバイス製造方法であって、
    請求項１４に記載のリソグラフィ装置のセットアップ方法と、
    セットアップされたリソグラフィ装置を用いてデバイスを製造することと、を備える方法。
16. デバイス製造方法であって、
    複数の放射ビームを提供することと、
    レンズ群アレイを介して基板上に前記複数の放射ビームを投影することを備え、
    前記複数の放射ビームは、前記レンズ群アレイの対応レンズ群の光路中に実質的にゼロの屈折力を有する光学素子を備える焦点アジャスタを介して前記基板上に投影される方法。
17. リソグラフィ装置の、フレームに接続された光学部品の位置及び／又は姿勢を調整する方法であって、
    前記フレームの表面又はその近傍部分を少なくとも部分的に溶融するために、前記フレームの表面を照射することを備え、前記部分は冷えたときに収縮し、それにより前記光学部品の位置及び／又は姿勢を調整する、方法。

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