JP2006024954A - 支持テーブルの支持表面上の突起の高さを調節する方法、リソグラフィ投影装置、およびリソグラフィ装置内で品目を支持する支持テーブル - Google Patents
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Abstract
【解決手段】装置は、放射線の投影ビームを提供し、ビームにパターンを形成して、パターン形成したビームを基板の目標部分に投影するように構成されたビーム生成システム、および品目の平面が投影ビームの伝搬方向を横切る所定の面にあるように、品目を支持する支持テーブルを含む。支持テーブルは、支持表面と、品目を支持するように構築され、配置構成された、支持表面上に配置されたアレイ状の突起を有する。位置選択的材料表面溶融デバイスは、支持テーブルが装置内で動作可能である場合に、個々の突起に作用するように構成され、したがって突起の上面の局所的区域が溶融して、その後に冷め、それによって局所的区域が突起の上面に対して隆起する。
【選択図】図1
Description
1.ステップモードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTは基本的に静止状態に保たれている。そして、投影ビームに与えたパターン全体が1回の作動(すなわち1回の静止露光)で目標部分Cに投影される。次に基板テーブルWTがX方向および/あるいはY方向にシフトされ、異なる目標部分Cが照射され得る。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の静止露光で描像される目標部分Cのサイズを制限する。
2.走査モードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTを同期走査する一方、投影ビームに与えられたパターンを目標部分Cに投影する(つまり1回の動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPLの拡大(縮小)および像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の動的露光で目標部分の(非走査方向における)幅を制限し、走査動作の長さが目標部分の(走査方向における)高さを決定する。
3.別のモードでは、マスクテーブルMTが基本的に静止状態に維持されて、プログラマブルパターニングデバイスを保持し、投影ビームに与えられたパターンを目標部分Cに投影する間に、基板テーブルWTが動作するか、走査される。このモードでは、一般的にパルス状放射線ソースを使用して、基板テーブルWTを動作させるごとに、または走査中に連続する放射線パルス間に、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクなしリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (35)
- リソグラフィ投影装置のビーム路を横切る所定の面で、平面を有する品目を保持する支持テーブルの支持表面上にある突起の高さを調節する方法であって、突起は、支持表面に配置され、自身上に品目を支持するようにアレイ状であり、少なくとも1つの突起を局所的な表面熱処理のプロセスにかけるステップを含み、したがって突起の上面の局所的区域が溶融して、その後に冷め、それによって区域が突起の上面に対して隆起する方法。
- 突起は均質が材料で形成される、請求項1に記載の方法。
- 突起が、第一材料の領域と第二材料の領域を含む複合材料で形成され、第二材料の領域を、第一材料の基質内に設け、第一材料は第二材料より高い融点を有する、請求項1に記載の方法
- 突起を局所的な表面熱処理のプロセスにかけるステップが、表面の温度を第二材料の融点より高いが第一材料の融点よりは低い温度まで上昇させることを含む、請求項3に記載の方法。
- 溶融した第二材料が、毛管作用および/または表面張力によって突起の上面へと移送される、請求項4に記載の方法。
- さらに、表面要素をチャックに装着した場合に、品目の平面の表面平面度に影響する突起の高さ偏差を測定するステップと、測定の結果に従って少なくとも1つの突起を局所的表面熱処理にかけるステップとを含み、表面熱処理は、表面要素がチャックに装着されたままの間に測定した高さの偏差に対応する、請求項1に記載の方法。
- 支持テーブルがリソグラフィ投影装置の動作可能位置にある間に、測定および表面熱処理を実行する、請求項6に記載の方法。
- 前記測定は、品目がアレイ状の突起によって支持されるように、品目を支持テーブルに配置することと、突起に面していない側で品目の平面の高さ輪郭を測定することと、高さ輪郭から突起の高さの偏差を計算することとを含む、請求項6に記載の方法。
- 支持テーブルが非複合材料で作成される、請求項1に記載の方法。
- さらに、突起の上面に延在する暗いフィールドと明るいフィールドのマトリクスで、少なくとも1つの突起を照明することを含む、請求項1に記載の方法。
- リソグラフィ装置のビーム路を横切る所定の面で、平面を有する品目を保持する支持テーブルの支持表面上にある突起の高さを調節する方法であって、突起は、支持表面に配置され、自身上に品目を支持するようにアレイ状であり、少なくとも1つの突起を研磨装置にかけるステップを含み、したがって突起の上面が研磨装置で研磨され、それによって研磨装置と少なくとも1つの突起の上面との間に加えられる接触圧力が、前記上面の縁部付近で増加する方法。
- 研磨装置が、5nmと50nmの間、特に15nmと35nmの間、さらに約20nmの粗さRaを有する洗浄砥石を有する、請求項11に記載の方法。
- リソグラフィ装置であって、
放射線のビームを提供し、ビームにパターンを形成して、パターン形成したビームを基板の目標部分に投影するように構成されたビーム生成システムと、
品目の平面が投影ビームの伝搬方向を横切る所定の面にあるように、品目を支持する支持テーブルとを有し、支持テーブルは、突起上で品目を支持するように、支持表面、および支持表面上に配置されたアレイ状の突起を有し、さらに、
支持テーブルが装置内で動作可能である場合に、個々の突起に作用するように構成された位置選択的材料表面溶融デバイスを有し、したがって突起の上面の局所的区域が溶融して、その後に冷め、それによって区域が突起の上面に対して隆起する装置。 - 溶融デバイスが、レーザおよび/または電子ビーム放射線のソースを含む、請求項13に記載の装置。
- ソースが単独の波面を提供する、請求項14に記載の装置。
- ソースが、少なくとも1つの突起の全表面に入射する単独の広い波面を提供する、請求項14に記載の装置。
- ソースが、狭い走査ビームおよび/または少なくとも1つの突起の上面にわたって移動するドットビームを提供するように構成される、請求項14に記載の装置。
- ソースが、複数の狭いビームおよび/または複数のドットを提供するように構成される、請求項14に記載の装置。
- 溶融デバイスが、突起の上面に約50mJ/cm2から約400mJ/cm2を提供するように構成される、請求項13に記載の装置。
- 溶融デバイスは、支持テーブルが装置内で動作可能である場合に、個々の突起上で独立して作用するように構成される、請求項13に記載の装置。
- 溶融デバイスが、個々の突起から突起材料の一部を溶融するのに十分なエネルギを提供するように構成される、請求項13に記載の装置。
- 品目が基板である、請求項13に記載の装置。
- 品目が、ビームにパターンを形成するために使用するレチクルまたはマスクである、請求項13に記載の装置。
- さらに、溶融する材料の量を制御するために、溶融デバイスの間に結合された制御ユニットを含む、請求項13に記載の装置。
- 溶融デバイスが、放射線のビームを提供するように構成されたソースを有し、制御ユニットは、選択された突起で測定した高さの偏差に基づいて、ソースが選択した突起に送出する個々の累積出力線量を制御するように構成される、請求項24に記載の装置。
- さらに、所定の高さの輪郭から突起の高さの偏差を計算するように構成された計算ユニットを有し、制御ユニットは、高さの偏差に基づいて溶融デバイスを制御する、請求項24に記載の装置。
- 支持テーブルおよび/または溶融デバイスが、制御ユニットの制御下で他方に対して移動可能である、請求項24に記載の装置。
- リソグラフィ装置であって、
放射線のビームを提供し、ビームにパターンを形成して、パターン形成したビームを基板の目標部分に投影するように構成されたビーム生成システムと、
品目の平面が投影ビームの伝搬方向を横切る所定の面にあるように、品目を支持する支持テーブルを有し、支持テーブルは、支持表面、および支持表面に配置され、品目を支持するように構成され、配置されたアレイ状の突起とを有し、さらに、
突起の上面を研磨するように、支持テーブルが装置内で動作可能である場合に、少なくとも1つの突起に作用するように構成された研磨装置を有し、それによって突起の上面が凸状になる装置。 - さらに、研磨装置が突起の上面の縁部付近に位置決めされた場合に、研磨装置と突起の上面との間に加えられる圧力を制御する制御装置を有する、請求項28に記載の装置。
- 研磨装置が、5nmと50nmの間、特に15nmと35nmの間、さらに約20nmの粗さRaを有する洗浄砥石を有する、請求項28に記載の装置。
- 品目の平面が所定の面にあるように、リソグラフィ装置内で品目を支持する支持テーブルであって、支持テーブルは、支持表面および支持表面上に配置されたアレイ状の突起を有し、突起は、突起の上面上で品目を支持するように構成され、少なくとも1つの突起の上面の局所的な区域が溶融して、その後に冷め、したがって局所的な区域が突起の上面に対して隆起するものである支持テーブル。
- 品目の平面が所定の面にあるように、リソグラフィ装置内で品目を支持する支持テーブルであって、支持テーブルは、支持表面および支持表面上に配置されたアレイ状の突起を有し、突起は、突起の上面上で品目を支持するように構成され、少なくとも1つの突起の上面の局所的な区域が溶融して、その後に冷め、したがって局所的な区域が突起の上面に対して隆起するものである支持テーブル。
- 品目の平面が所定の面にあるように、リソグラフィ装置内で品目を支持する支持テーブルであって、支持テーブルは、支持表面および支持表面上に配置されたアレイ状の突起を有し、突起は、突起の上面上で品目を支持するように構成され、少なくとも1つの突起の上面が研磨装置を使用して研磨され、したがって突起に凸状の上面が設けられるものである支持テーブル。
- 支持テーブルの支持表面上にある突起の高さを調節する方法であって、支持テーブルは、支持表面、および突起上に品目を支持するように、支持表面に配置したアレイ状の突起を有し、少なくとも1つの突起を局所的な表面熱処理のプロセスにかけることを含み、したがって突起の上面の局所的な区域が溶融して、その後に冷め、それによって区域が突起の上面に対して隆起するものである方法。
- 支持テーブルの支持表面上にある突起の高さを調節する方法であって、支持テーブルは、支持表面、および支持表面に配置され、品目を支持するように構成され、配置されたアレイ状の突起を有し、突起の上面が凸状になるように、少なくとも1つの突起を研磨プロセスにかけることを含むものである方法。
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