JP5707413B2 - 窒化物半導体装置 - Google Patents
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Description
基板と、
上記基板上に形成された窒化物半導体層と、
上記窒化物半導体層上に形成され、複数のくし状電極からなる第1電極群と、
上記窒化物半導体層上に形成され、上記第1電極群の複数のくし状電極と互いに間隔をあけて交互に配列された複数のくし状電極からなる第2電極群と、
上記窒化物半導体層上に形成され、上記第1電極群と上記第2電極群とからなる列に対して配列方向が平行になるように配列された複数のくし状電極からなる第3電極群と、
上記窒化物半導体層上に形成され、上記第3電極群の複数のくし状電極と互いに間隔をあけて交互に配列された複数のくし状電極からなる第4電極群と、
上記窒化物半導体層上に形成され、上記第1電極群と上記第2電極群との間および上記第3電極群と上記第4電極群との間に設けられたゲート電極と、
上記第1,第2,第3,第4電極群と上記ゲート電極を覆うように上記基板上に形成された層間絶縁膜と、
上記第1,第2,第3,第4電極群のある上記窒化物半導体層の活性領域に対応する上記層間絶縁膜上の領域に夫々形成され、上記第1,第3電極群にコンタクト部を介して接続された第1の電極パッドと、上記第2電極群にコンタクト部を介して接続された第2の電極パッドと、上記第4電極群にコンタクト部を介して接続された第3の電極パッドと
を備え、
上記第1電極群および上記第3電極群は、ソース電極またはドレイン電極の一方であり、上記第2電極群および上記第4電極群は、上記ソース電極または上記ドレイン電極の他方であり、
上記第3電極群は、上記第1電極群に対して上記第1電極群の複数のくし状電極の長手方向側方に配列されており、
上記第1の電極パッドは、上記第1,第3電極群の互いに隣接する領域上に跨がって形成されていることを特徴とする。
上記第1電極群と上記第3電極群の長手方向に一列に並ぶ2つのくし状電極毎に、その一列に並ぶ2つのくし状電極を互いに電気的に接続する中間配線を備え、
上記中間配線と上記第1の電極パッドとを上記コンタクト部を介して接続している。
上記窒化物半導体層上に形成された第1直線状基部と、その第1直線状基部から両側方に延びた上記第1電極群と上記第3電極群とを有する第1の電極と、
上記第2電極群を有する第2の電極と、
上記第4電極群を有する第3の電極と
を備え、
上記ゲート電極は、上記第1の電極と上記第2の電極との間および上記第1の電極と上記第3の電極との間を折曲して延在すると共に、
上記第1,第2,第3の電極パッドは、上記第1,第2,第3の電極が占める領域上でかつ上記第1,第2,第3,第4電極群のある上記窒化物半導体層の活性領域に対応する上記層間絶縁膜上の領域に形成され、上記第1,第2,第3の電極に上記コンタクト部を介して夫々接続されている。
上記第1の電極パッドは、上記第1の電極の上記第1直線状基部および上記第1電極群と上記第3電極群のうちの上記第1直線状基部側の一部を含む領域に対応する上記層間絶縁膜上の領域に形成され、
上記第2の電極パッドは、上記第2の電極の上記第2電極群のうちの上記第1の電極側と反対の側の一部を含む領域に対応する上記層間絶縁膜上の領域に形成され、
上記第3の電極パッドは、上記第3の電極の上記第4電極群のうちの上記第1の電極側と反対の側の一部を含む領域に対応する上記層間絶縁膜上の領域に形成されている。
上記第1の電極は、上記ドレイン電極であり、
上記第2の電極および上記第3の電極は、上記ソース電極である。
上記第1の電極、上記第2の電極、上記第1の電極と上記第2の電極とに挟まれた上記窒化物半導体層の活性領域、および、上記第1の電極と上記第2の電極との間の上記ゲート電極でヘテロ接合電界効果トランジスタが形成され、
上記第1の電極、上記第3の電極、上記第1の電極と上記第3の電極とに挟まれた上記窒化物半導体層の活性領域、および、上記第1の電極と上記第3の電極との間の上記ゲート電極でヘテロ接合電界効果トランジスタが形成されている。
上記第2の電極の上記第2電極群と上記第3の電極の上記第4電極群の各端部は、少なくとも半円形状または半楕円形状を含む丸みを帯びた形状をしており、
上記第1の電極の上記第1直線状基部は、上記第2の電極の上記第2電極群の各端部に対向する領域に、上記第2の電極の上記第2電極群の各端部の上記丸みを帯びた形状に応じた湾曲凹部を有すると共に、上記第3の電極の上記第4電極群の各端部に対向する領域に、上記第3の電極の上記第4電極群の各端部の上記丸みを帯びた形状に応じた湾曲凹部を有する。
上記第2の電極の上記第2電極群の各端部の先端と、その先端に対向する上記第1の電極の上記第1直線状基部の上記湾曲凹部との間隔は、上記第1の電極と上記第2の電極とに挟まれた領域のうちで最も広くなっており、
上記第3の電極の上記第4電極群の各端部の先端と、その先端に対向する上記第1の電極の上記第1直線状基部の上記湾曲凹部との間隔は、上記第1の電極と上記第3の電極とに挟まれた領域のうちで最も広くなっている。
上記第1の電極と上記第2の電極との間および上記第1の電極と上記第3の電極との間を折曲して延在する上記ゲート電極は、上記第1,第2,第3の電極のうちの上記ソース電極である側に沿って、上記第1,第2,第3の電極のうちの上記ドレイン電極である側よりも上記ソース電極である側の近傍に設けられている。
上記第2の電極は、上記窒化物半導体層上かつ上記第2電極群の上記第1の電極側と反対の側の各端部を接続するように形成され、上記第1の電極の上記第1直線状基部に対して平行な第2直線状基部を有すると共に、
上記第3の電極は、上記窒化物半導体層上かつ上記第4電極群の上記第1の電極側と反対の側の各端部を接続するように形成され、上記第1の電極の上記第1直線状基部に対して平行な第3直線状基部を有する。
上記第1の電極の上記第1電極群と上記第3電極群の各端部は、少なくとも半円形状または半楕円形状を含む丸みを帯びた形状をしており、
上記第2の電極の上記第2直線状基部は、上記第1の電極の上記第1電極群の各端部に対向する領域に、上記第1の電極の上記第1電極群の各端部の上記丸みを帯びた形状に応じた湾曲凹部を有すると共に、
上記第3の電極の上記第3直線状基部は、上記第1の電極の上記第3電極群の各端部に対向する領域に、上記第1の電極の上記第3電極群の各端部の上記丸みを帯びた形状に応じた湾曲凹部を有する。
上記第1の電極の上記第1電極群の各端部の先端と、その先端に対向する上記第2の電極の上記第2直線状基部の上記湾曲凹部との間隔は、上記第1の電極と上記第2の電極とに挟まれた領域のうちで最も広くなっており、
上記第1の電極の上記第3電極群の各端部の先端と、その先端に対向する上記第3の電極の上記第3直線状基部の上記湾曲凹部との間隔は、上記第1の電極と上記第3の電極とに挟まれた領域のうちで最も広くなっている。
上記第3の電極は、上記窒化物半導体層上かつ上記第4電極群の上記第1の電極側と反対の側の各端部を接続するように形成され、上記第1の電極の上記第1直線状基部に対して平行な第3直線状基部と、上記第3直線状基部から上記第1の電極と反対の側に向かって延びた複数のくし状電極からなる第6電極群を有し、
上記窒化物半導体層上かつ上記第3の電極の上記第6電極群の複数のくし状電極と互いに間隔をあけて交互に配列された複数のくし状電極からなる第5電極群を有する第4の電極と
を備えた。
上記第4の電極の上記第5電極群のうちの上記第3の電極側と反対の側の一部を含む領域に対応する上記層間絶縁膜上の領域に形成され、上記第4の電極に上記コンタクト部を介して接続された第4の電極パッドを備えた。
図1はこの発明の第1実施形態の窒化物半導体装置の電極パターンを示している。
図7はこの発明の第2実施形態の窒化物半導体装置の電極パターンを示している。この第2実施形態の窒化物半導体装置は、第3,第4の電極と第3,第4の電極パッドとゲート電極パッドを除いて第1実施形態の窒化物半導体装置と同一の構成をしている。
図11はこの発明の第3実施形態の窒化物半導体装置の電極パターンを示す平面図を示している。この発明の第3実施形態の窒化物半導体装置は、第2,第3の電極の第2,第3直線状基部がない点を除いて第1実施形態の窒化物半導体装置と同一の構成をしている。
図15はこの発明の第4実施形態の窒化物半導体装置の電極パターンを示す平面図を示している。この発明の第4実施形態の窒化物半導体装置は、第1〜第3くし状電極部の端部の形状およびそれに対向する第1〜第3直線状基部の形状を除いて第1実施形態の窒化物半導体装置と同一の構成をしている。
図19はこの発明の第5実施形態の窒化物半導体装置の電極パターンを示す平面図を示している。
図24はこの発明の第6実施形態の窒化物半導体装置の電極パターンを示す平面図を示している。この第6実施形態の窒化物半導体装置は、第5,第6電極群およびドレイン中間配線がない点と、ソース中間配線で第2電極群と第4電極群とを接続しない点を除いて、第5実施形態の窒化物半導体装置と同様の構成をしている。
基板と、
上記基板上に形成された窒化物半導体層と、
上記窒化物半導体層上に形成され、第1直線状基部と、その第1直線状基部から両側方に延びた複数のくし状電極からなる第1くし状電極部とを有する第1の電極と、
上記窒化物半導体層上かつ上記第1の電極の上記第1くし状電極部のうちの一方の側の複数のくし状電極と互いに間隔をあけて交互に配列された複数のくし状電極からなる第2くし状電極部を有する第2の電極と、
上記窒化物半導体層上かつ上記第1の電極の上記第1くし状電極部のうちの他方の側の複数のくし状電極と互いに間隔をあけて交互に配列された複数のくし状電極からなる第3くし状電極部を有する第3の電極と、
上記窒化物半導体層上に形成され、上記第1の電極と上記第2の電極との間および上記第1の電極と上記第3の電極との間を折曲して延在するゲート電極と、
上記第1,第2,第3の電極と上記ゲート電極を覆うように上記基板上に形成された層間絶縁膜と、
上記第1,第2,第3の電極が占める領域上でかつ上記第1,第2,第3くし状電極部のある上記窒化物半導体層の活性領域に対応する上記層間絶縁膜上の領域に形成され、上記第1,第2,第3の電極にコンタクト部を介して夫々接続された第1,第2,第3の電極パッドと
を備え、
上記第1の電極は、ソース電極またはドレイン電極の一方であり、上記第2の電極および上記第3の電極は、上記ソース電極または上記ドレイン電極の他方であることを特徴とする。
上記第1の電極パッドは、上記第1の電極の上記第1直線状基部および上記第1くし状電極部のうちの上記第1直線状基部側の一部を含む領域に対応する上記層間絶縁膜上の領域に形成され、
上記第2の電極パッドは、上記第2の電極の上記第2くし状電極部のうちの上記第1の電極側と反対の側の一部を含む領域に対応する上記層間絶縁膜上の領域に形成され、
上記第3の電極パッドは、上記第3の電極の上記第3くし状電極部のうちの上記第1の電極側と反対の側の一部を含む領域に対応する上記層間絶縁膜上の領域に形成されている。
上記第1の電極は、上記ドレイン電極であり、
上記第2の電極および上記第3の電極は、上記ソース電極である。
上記第1の電極、上記第2の電極、上記第1の電極と上記第2の電極とに挟まれた上記窒化物半導体層の活性領域、および、上記第1の電極と上記第2の電極との間の上記ゲート電極でヘテロ接合電界効果トランジスタが形成され、
上記第1の電極、上記第3の電極、上記第1の電極と上記第3の電極とに挟まれた上記窒化物半導体層の活性領域、および、上記第1の電極と上記第3の電極との間の上記ゲート電極でヘテロ接合電界効果トランジスタが形成されている。
上記第1の電極の上記第1くし状電極部と上記第2の電極の上記第2くし状電極部と上記第3の電極の上記第3くし状電極部の各端部は、少なくとも半円形状または半楕円形状を含む丸みを帯びた形状をしており、
上記第1の電極の上記第1直線状基部は、上記第2の電極の上記第2くし状電極部の各端部に対向する領域に、上記第2の電極の上記第2くし状電極部の各端部の上記丸みを帯びた形状に応じた湾曲凹部を有すると共に、上記第3の電極の上記第3くし状電極部の各端部に対向する領域に、上記第3の電極の上記第3くし状電極部の各端部の上記丸みを帯びた形状に応じた湾曲凹部を有する。
上記第2の電極の上記第2くし状電極部の各端部の先端と、その先端に対向する上記第1の電極の上記第1直線状基部の上記湾曲凹部との間隔は、上記第1の電極と上記第2の電極とに挟まれた領域のうちで最も広くなっており、
上記第3の電極の上記第3くし状電極部の各端部の先端と、その先端に対向する上記第1の電極の上記第1直線状基部の上記湾曲凹部との間隔は、上記第1の電極と上記第3の電極とに挟まれた領域のうちで最も広くなっている。
上記第1の電極と上記第2の電極との間および上記第1の電極と上記第3の電極との間を折曲して延在する上記ゲート電極は、上記第1,第2,第3の電極のうちの上記ソース電極である側に沿って、上記第1,第2,第3の電極のうちの上記ドレイン電極である側よりも上記ソース電極である側の近傍に設けられている。
上記第2の電極は、上記窒化物半導体層上かつ上記第2くし状電極部の上記第1の電極側と反対の側の各端部を接続するように形成され、上記第1の電極の上記第1直線状基部に対して平行な第2直線状基部を有すると共に、
上記第3の電極は、上記窒化物半導体層上かつ上記第3くし状電極部の上記第1の電極側と反対の側の各端部を接続するように形成され、上記第1の電極の上記第1直線状基部に対して平行な第3直線状基部を有する。
上記第1の電極の上記第1くし状電極部の各端部は、少なくとも半円形状または半楕円形状を含む丸みを帯びた形状をしており、
上記第2の電極の上記第2直線状基部は、上記第1の電極の上記第1くし状電極部の各端部に対向する領域に、上記第1の電極の上記第1くし状電極部の各端部の上記丸みを帯びた形状に応じた湾曲凹部を有すると共に、
上記第3の電極の上記第3直線状基部は、上記第1の電極の上記第1くし状電極部の各端部に対向する領域に、上記第1の電極の上記第1くし状電極部の各端部の上記丸みを帯びた形状に応じた湾曲凹部を有する。
上記第1の電極の上記第1くし状電極部の各端部の先端と、その先端に対向する上記第2の電極の上記第2直線状基部の上記湾曲凹部との間隔は、上記第1の電極と上記第2の電極とに挟まれた領域のうちで最も広くなっており、
上記第1の電極の上記第1くし状電極部の各端部の先端と、その先端に対向する上記第3の電極の上記第3直線状基部の上記湾曲凹部との間隔は、上記第1の電極と上記第3の電極とに挟まれた領域のうちで最も広くなっている。
上記第3の電極は、上記窒化物半導体層上かつ上記第3くし状電極部の上記第1の電極側と反対の側の各端部を接続するように形成され、上記第1の電極の上記第1直線状基部に対して平行な第3直線状基部を有し、
上記第3の電極の上記第3くし状電極部は、上記第3直線状基部から上記第1の電極と反対の側に向かって延びた複数のくし状電極を含み、
上記窒化物半導体層上かつ上記第3の電極の上記第3くし状電極部のうちの上記第1の電極と反対の側の複数のくし状電極と互いに間隔をあけて交互に配列された複数のくし状電極からなる第4くし状電極部を有する第4の電極と
を備えた。
上記第4の電極の上記第4くし状電極部のうちの上記第3の電極側と反対の側の一部を含む領域に対応する上記層間絶縁膜上の領域に形成され、上記第4の電極に上記コンタクト部を介して接続された第4の電極パッドを備えた。
1a…第1直線状基部
1b,1c…第1くし状電極部
2…第2の電極
2a…第2直線状基部
2b…第2くし状電極部
3…第3の電極
3a…第3直線状基部
3b…第3くし状電極部
5…ゲート電極
10…Si基板
11…第1の電極パッド
12…第2の電極パッド
13…第3の電極パッド
15…ゲート電極パッド
20…窒化物半導体層
21…GaN層
22…AlGaN層
30…絶縁膜
40…層間絶縁膜
50…ビア
101…第1の電極
101a…第1直線状基部
101b,101c…第1くし状電極部
102…第2の電極
102a…第2直線状基部
102b…第2くし状電極部
103…第3の電極
103a…第3直線状基部
103b,103c…第3くし状電極部
104…第4の電極
104a…第4直線状基部
104b…第4くし状電極部
111…第1の電極パッド
112…第2の電極パッド
113…第3の電極パッド
114…第4の電極パッド
115…ゲート電極パッド
201…第1の電極
201a…第1直線状基部
201b,201c…第1くし状電極部
202…第2の電極
202b…第2くし状電極部
203…第3の電極
203b…第3くし状電極部
205…ゲート電極
211…第1の電極パッド
212…第2の電極パッド
213…第3の電極パッド
215…ゲート電極パッド
220…窒化物半導体層
221…GaN層
222…AlGaN層
230…絶縁膜
240…層間絶縁膜
250…ビア
301…第1の電極
301a…第1直線状基部
301b,301c…第1くし状電極部
302…第2の電極
302a…第2直線状基部
302b…第2くし状電極部
303…第3の電極
303a…第3直線状基部
303b…第3くし状電極部
701…第1電極群
702…第2電極群
703…第3電極群
704…第4電極群
705…第5電極群
706…第6電極群
707…ソース中間配線
708…ドレイン中間配線
711…第1の電極パッド
712…第2の電極パッド
713…第3の電極パッド
714…第4の電極パッド
715…ゲート電極パッド
720…窒化物半導体層
721…GaN層
722…AlGaN層
750…層間絶縁膜
760…ゲート電極
801…第1電極群
802…第2電極群
803…第3電極群
804…第4電極群
807…ソース中間配線
811A,811B…第1の電極パッド
812…第2の電極パッド
813…第3の電極パッド
815…ゲート電極パッド
860…ゲート電極
901…第1電極群
902…第2電極群
903…第3電極群
904…第4電極群
907…ソース中間配線
960…ゲート電極
911…第1の電極パッド
912…第2の電極パッド
913…第3の電極パッド
914…接続電極
915…ゲート電極パッド
Claims (14)
- 基板(10,210)と、
上記基板(10,210)上に形成された窒化物半導体層(20,220,720)と、
上記窒化物半導体層(20,220,720)上に形成され、複数のくし状電極からなる第1電極群(1b,101b,201b,301b,701,801,901)と、
上記窒化物半導体層(20,220,720)上に形成され、上記第1電極群(1b,101b,201b,301b,701,801,901)の複数のくし状電極と互いに間隔をあけて交互に配列された複数のくし状電極からなる第2電極群(2b,102b,202b,302b,702,802,902)と、
上記窒化物半導体層(20,220,720)上に形成され、上記第1電極群(1b,101b,201b,301b,701,801,901)と上記第2電極群(2b,102b,202b,302b,702,802,902)とからなる列に対して配列方向が平行になるように配列された複数のくし状電極からなる第3電極群(1c,101c,201c,301c,703,803,903)と、
上記窒化物半導体層(20,220,720)上に形成され、上記第3電極群(1c,101c,201c,301c,703,803,903)の複数のくし状電極と互いに間隔をあけて交互に配列された複数のくし状電極からなる第4電極群(3b,103b,203b,303b,704,804,904)と、
上記窒化物半導体層(20,220,720)上に形成され、上記第1電極群(1b,101b,201b,301b,701,801,901)と上記第2電極群(2b,102b,202b,302b,702,802,902)との間および上記第3電極群(1c,101c,201c,301c,703,803,903)と上記第4電極群(3b,103b,203b,303b,704,804,904)との間に設けられたゲート電極(5,205,760,860,960)と、
上記第1,第2,第3,第4電極群(1b,101b,201b,301b,701,801,901,2b,102b,202b,302b,702,802,902,1c,101c,201c,301c,703,803,903,3b,103b,203b,303b,704,804,904)と上記ゲート電極(5,205,760,860,960)を覆うように上記基板(10,210)上に形成された層間絶縁膜(40,240,740)と、
上記第1,第2,第3,第4電極群(1b,101b,201b,301b,701,801,901,2b,102b,202b,302b,702,802,902,1c,101c,201c,301c,703,803,903,3b,103b,203b,303b,704,804,904)のある上記窒化物半導体層(20,220,720)の活性領域に対応する上記層間絶縁膜(40,240,740)上の領域に夫々形成され、上記第1,第3電極群(1b,101b,201b,301b,701,801,901,1c,101c,201c,301c,703,803,903)にコンタクト部を介して接続された第1の電極パッド(11,111,211,711,811A,811B,911)と、上記第2電極群(2b,102b,202b,302b,702,802,902)にコンタクト部を介して接続された第2の電極パッド(12,112,212,712,812,912)と、上記第4電極群(3b,103b,203b,303b,704,804,904)にコンタクト部を介して接続された第3の電極パッド(13,113,213,713,813,913)と
を備え、
上記第1電極群(1b,101b,201b,301b,701,801,901)および上記第3電極群(1c,101c,201c,301c,703,803,903)は、ソース電極またはドレイン電極の一方であり、上記第2電極群(2b,102b,202b,302b,702,802,902)および上記第4電極群(3b,103b,203b,303b,704,804,904)は、上記ソース電極または上記ドレイン電極の他方であり、
上記第3電極群(1c,101c,201c,301c,703,803,903)は、上記第1電極群(1b,101b,201b,301b,701,801,901)に対して上記第1電極群(1b,101b,201b,301b,701,801,901)の複数のくし状電極の長手方向側方に配列されており、
上記第1の電極パッド(11,111,211,711,811A,811B,911)は、上記第1,第3電極群(1b,101b,201b,301b,701,801,901,1c,101c,201c,301c,703,803,903)の互いに隣接する領域上に跨がって形成されていることを特徴とする窒化物半導体装置。 - 請求項1に記載の窒化物半導体装置において、
上記第1電極群(701)と上記第3電極群(703)の長手方向に一列に並ぶ2つのくし状電極毎に、その一列に並ぶ2つのくし状電極を互いに電気的に接続する中間配線を備え、
上記中間配線と上記第1の電極パッド(711)とを上記コンタクト部を介して接続していることを特徴とする窒化物半導体装置。 - 請求項1または2に記載の窒化物半導体装置において、
上記窒化物半導体層(20,220)上に形成された第1直線状基部(1a,101a,201a,301a)と、その第1直線状基部(1a,101a,201a,301a)から両側方に延びた上記第1電極群(1b,101b,201b,301b)と上記第3電極群(1c,101c,201c,301c)とを有する第1の電極(1,101,201,301)と、
上記第2電極群(2b,102b,202b,302b)を有する第2の電極(2,102,202,302)と、
上記第4電極群(3b,103b,203b,303b)を有する第3の電極(3,103,203,303)と
を備え、
上記ゲート電極(5,205)は、上記第1の電極(1,101,201,301)と上記第2の電極(2,102,202,302)との間および上記第1の電極(1,101,201,301)と上記第3の電極(3,103,203,303)との間を折曲して延在すると共に、
上記第1,第2,第3の電極パッド(11,111,211,12,112,212,13,113,213)は、上記第1,第2,第3の電極(3,103,203,303)が占める領域上でかつ上記第1,第2,第3,第4電極群(1b,101b,201b,301b,2b,102b,202b,302b,1c,101c,201c,301c,3b,103b,203b,303b)のある上記窒化物半導体層(20,220)の活性領域に対応する上記層間絶縁膜(40,240)上の領域に形成され、上記第1,第2,第3の電極(3,103,203,303)に上記コンタクト部を介して夫々接続されていることを特徴とする窒化物半導体装置。 - 請求項3に記載の窒化物半導体装置において、
上記第1の電極パッド(11,111,211)は、上記第1の電極(1,101,201,301)の上記第1直線状基部(1a,101a,201a,301a)および上記第1電極群(1b,101b,201b,301b)と上記第3電極群(1c,101c,201c,301c)のうちの上記第1直線状基部(1a,101a,201a,301a)側の一部を含む領域に対応する上記層間絶縁膜(40,240)上の領域に形成され、
上記第2の電極パッド(12,112,212)は、上記第2の電極(2,102,202,302)の上記第2電極群(2b,102b,202b,302b)のうちの上記第1の電極(1,101,201,301)側と反対の側の一部を含む領域に対応する上記層間絶縁膜(40,240)上の領域に形成され、
上記第3の電極パッド(13,113,213)は、上記第3の電極(3,103,203,303)の上記第4電極群(3b,103b,203b,303b)のうちの上記第1の電極(1,101,201,301)側と反対の側の一部を含む領域に対応する上記層間絶縁膜(40,240)上の領域に形成されていることを特徴とする窒化物半導体装置。 - 請求項3または4に記載の窒化物半導体装置において、
上記第1の電極(1,101,201,301)は、上記ドレイン電極であり、
上記第2の電極(2,102,202,302)および上記第3の電極(3,103,203,303)は、上記ソース電極であることを特徴とする窒化物半導体装置。 - 請求項3から5までのいずれか1つに記載の窒化物半導体装置において、
上記第1の電極(1,101,201,301)、上記第2の電極(2,102,202,302)、上記第1の電極(1,101,201,301)と上記第2の電極(2,102,202,302)とに挟まれた上記窒化物半導体層(20,220)の活性領域、および、上記第1の電極(1,101,201,301)と上記第2の電極(2,102,202,302)との間の上記ゲート電極(5,205)でヘテロ接合電界効果トランジスタが形成され、
上記第1の電極(1,101,201,301)、上記第3の電極(3,103,203,303)、上記第1の電極(1,101,201,301)と上記第3の電極(3,103,203,303)とに挟まれた上記窒化物半導体層(20,220)の活性領域、および、上記第1の電極(1,101,201,301)と上記第3の電極(3,103,203,303)との間の上記ゲート電極(5,205)でヘテロ接合電界効果トランジスタが形成されていることを特徴とする窒化物半導体装置。 - 請求項3から6までのいずれか1つに記載の窒化物半導体装置において、
上記第2の電極(302)の上記第2電極群(302b)と上記第3の電極(303)の上記第4電極群(303b)の各端部は、少なくとも半円形状または半楕円形状を含む丸みを帯びた形状をしており、
上記第1の電極(301)の上記第1直線状基部(301a)は、上記第2の電極(302)の上記第2電極群(302b)の各端部に対向する領域に、上記第2の電極(302)の上記第2電極群(302b)の各端部の上記丸みを帯びた形状に応じた湾曲凹部を有すると共に、上記第3の電極(303)の上記第4電極群(303b)の各端部に対向する領域に、上記第3の電極(303)の上記第4電極群(303b)の各端部の上記丸みを帯びた形状に応じた湾曲凹部を有することを特徴とする窒化物半導体装置。 - 請求項7に記載の窒化物半導体装置において、
上記第2の電極(302)の上記第2電極群(302b)の各端部の先端と、その先端に対向する上記第1の電極(301)の上記第1直線状基部(301a)の上記湾曲凹部との間隔は、上記第1の電極(301)と上記第2の電極(302)とに挟まれた領域のうちで最も広くなっており、
上記第3の電極(303)の上記第4電極群(303b)の各端部の先端と、その先端に対向する上記第1の電極(301)の上記第1直線状基部(301a)の上記湾曲凹部との間隔は、上記第1の電極(301)と上記第3の電極(303)とに挟まれた領域のうちで最も広くなっていることを特徴とする窒化物半導体装置。 - 請求項3から8までのいずれか1つに記載の窒化物半導体装置において、
上記第1の電極(1,101,201,301)と上記第2の電極(2,102,202,302)との間および上記第1の電極(1,101,201,301)と上記第3の電極(3,103,203,303)との間を折曲して延在する上記ゲート電極(5,205)は、上記第1,第2,第3の電極(1,101,201,301,2,102,202,302,3,103,203,303)のうちの上記ソース電極である側に沿って、上記第1,第2,第3の電極(1,101,201,301,2,102,202,302,3,103,203,303)のうちの上記ドレイン電極である側よりも上記ソース電極である側の近傍に設けられていることを特徴とする窒化物半導体装置。 - 請求項3から9までのいずれか1つに記載の窒化物半導体装置において、
上記第2の電極(2,102,202,302)は、上記窒化物半導体層(20,220)上かつ上記第2電極群(2b,102b,202b,302b)の上記第1の電極(1,101,201,301)側と反対の側の各端部を接続するように形成され、上記第1の電極(1,101,201,301)の上記第1直線状基部(1a,101a,201a,301a)に対して平行な第2直線状基部(2a,102a,302a)を有すると共に、
上記第3の電極(3,103,203,303)は、上記窒化物半導体層(20,220)上かつ上記第4電極群(3b,103b,203b,303b)の上記第1の電極(1,101,201,301)側と反対の側の各端部を接続するように形成され、上記第1の電極(1,101,201,301)の上記第1直線状基部(1a,101a,201a,301a)に対して平行な第3直線状基部(3a,103a,303a)を有することを特徴とする窒化物半導体装置。 - 請求項10に記載の窒化物半導体装置において、
上記第1の電極(301)の上記第1電極群(301b)と上記第3電極群(301c)の各端部は、少なくとも半円形状または半楕円形状を含む丸みを帯びた形状をしており、
上記第2の電極(302)の上記第2直線状基部(302a)は、上記第1の電極(301)の上記第1電極群(301b)の各端部に対向する領域に、上記第1の電極(301)の上記第1電極群(301b)の各端部の上記丸みを帯びた形状に応じた湾曲凹部を有すると共に、
上記第3の電極(303)の上記第3直線状基部(303a)は、上記第1の電極(301)の上記第3電極群(301c)の各端部に対向する領域に、上記第1の電極(301)の上記第3電極群(301c)の各端部の上記丸みを帯びた形状に応じた湾曲凹部を有することを特徴とする窒化物半導体装置。 - 請求項11に記載の窒化物半導体装置において、
上記第1の電極(301)の上記第1電極群(301b)の各端部の先端と、その先端に対向する上記第2の電極(302)の上記第2直線状基部(302a)の上記湾曲凹部との間隔は、上記第1の電極(301)と上記第2の電極(302)とに挟まれた領域のうちで最も広くなっており、
上記第1の電極(301)の上記第3電極群(301c)の各端部の先端と、その先端に対向する上記第3の電極(303)の上記第3直線状基部(303a)の上記湾曲凹部との間隔は、上記第1の電極(301)と上記第3の電極(303)とに挟まれた領域のうちで最も広くなっていることを特徴とする窒化物半導体装置。 - 請求項3から9までのいずれか1つに記載の窒化物半導体装置において、
上記第3の電極(103)は、上記窒化物半導体層上かつ上記第4電極群(103b)の上記第1の電極(101)側と反対の側の各端部を接続するように形成され、上記第1の電極(101)の上記第1直線状基部(101a)に対して平行な第3直線状基部(103a)と、上記第3直線状基部(3a,103a,303a)から上記第1の電極(101)と反対の側に向かって延びた複数のくし状電極からなる第6電極群(103c)を有し、
上記窒化物半導体層上かつ上記第3の電極(103)の上記第6電極群(103c)の複数のくし状電極と互いに間隔をあけて交互に配列された複数のくし状電極からなる第5電極群(104b)を有する第4の電極(104)と
を備えたことを特徴とする窒化物半導体装置。 - 請求項13に記載の窒化物半導体装置において、
上記第4の電極(104)の上記第5電極群(104b)のうちの上記第3の電極(103)側と反対の側の一部を含む領域に対応する上記層間絶縁膜上の領域に形成され、上記第4の電極(104)に上記コンタクト部を介して接続された第4の電極パッド(114)を備えたことを特徴とする窒化物半導体装置。
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