JP5696858B2 - マイクロレンズ用感光性樹脂組成物 - Google Patents

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Description

本発明は、マイクロレンズ用感光性樹脂組成物に関する。より詳しくは、透明性、耐熱性、耐熱変色性及び耐溶剤性を著しく改善することができるマイクロレンズ用感光性樹脂組成物に関する。
従来より、マイクロレンズの形成材料としてはポリヒドロキシスチレンが知られている。しかしながら、次のような問題があり、改良すべき余地があった。前記ポリヒドロキシスチレンをマイクロレンズの形成材料として用いた場合、高温での加熱により着色しやすく、透明性が劣化する傾向があり、マイクロレンズの使用時に着色が認められる場合がある。
ところで、マレイミド系共重合体を含有するフォトレジスト組成物、反射防止膜形成組成物、液浸リソグラフィー用レジスト保護膜形成用材料等が提案されている(特許文献1〜4)。
また、液晶ディスプレイ(LCD)、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ装置等のディスプレイ装置の絶縁膜の開発を目的に、インデンとマレイミドとN−置換マレイミドからなるアルカリ可溶性共重合体、1,2−ナフトキノンジアジド化合物、架橋剤を含有する感放射線性樹脂組成物を用いることを特徴とするディスプレイ装置の絶縁膜形成方法が提案されている(特許文献5)。
さらに、多官能(メタ)アクリレートとの相溶性に非常に優れ、また、アルカリ可溶性も良好であり、したがって、このような特徴が要求される各種用途に好適に用いることを目的に、無置換マレイミド由来の単量体構造単位、スチレン類由来の単量体構造単位、(メタ)アクリル酸由来の単量体構造を含有することを特徴とする、マレイミド系共重合体が提案されている(特許文献6)。
しかし、これら従来文献は、マイクロレンズ用感光性樹脂組成物としての用途の提供を目的とするものでなく、かつ、無置換マレイミド構造単位、及びエポキシ基又はブロックイソシアネート基を含む構造単位を有する共重合体のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物への適用について具体的な手段及び効果は示唆されていない。
また、[A](a1)不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物、(a2)エポキシ基含有不飽和化合物、(a3)マレイミド系モノマー及び(a4)その他のオレフィン系不飽和化合物の重合体、並びに、[B]1,2−キノンジアジド化合物が含有されていることを特徴とする、感放射線性樹脂組成物が報告されている(特許文献7)。しかし、この文献に報告された感放射線性樹脂組成物は、高い感放射線性が得られ、耐溶剤性、耐熱性、透明性及び耐熱変色性に優れたパターン状薄膜を容易に形成できると説明しているが、当該組成物から形成されたパターン形状やその耐熱性までは示唆していない。また、マレイミド系モノマーとして、無置換マレイミドは記載されていない。
米国特許第6,586,560(B1)号明細書 特公平6−23842号公報 特開2008−303315号公報 特開2002−323771号公報 特開2003−131375号公報 特開2004−224894号公報 特開2001−354822号公報
本発明は、上記の事情に基づいてなされたものであり、その解決しようとする課題は、透明性、耐熱性、耐熱変色性、耐溶剤性、及びパターニング性を著しく改善することができるマイクロレンズ用感光性樹脂組成物を提供することである。
本発明者らは、上記の課題を解決するべく鋭意検討を行った結果、本発明を完成するに至った。
すなわち、第1観点として、
(A)成分、(B)成分及び溶剤を含有するマイクロレンズ用感光性樹脂組成物。
(A)成分:下記式(1)で表されるマレイミド構造単位及び下記式(2)で表される繰り返し構造単位を有する共重合体
(B)成分:感光剤
Figure 0005696858
(上記式(2)中、R0は水素原子又はメチル基を表し、R1は単結合又は炭素原子数1乃至5のアルキレン基を表し、R2は熱架橋性を有する1価の有機基を表す。但し、前記式(2)で表される繰り返し構造単位においてR0同士は互いに異なっていても良い。)
第2観点として、前記熱架橋性を有する1価の有機基は、エポキシ基又はブロックイソシアネート基を含むことを特徴とする第1観点に記載のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物。
第3観点として、前記(A)成分が、さらに、下記式(3)、式(4)及び式(5)で表される繰り返し構造単位3種のうち少なくとも1種を有する共重合体である、第1観点又は第2観点に記載のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物。
Figure 0005696858
(上記式(3)中、Xは炭素原子数1乃至5のアルキル基、炭素原子数5又は6のシクロアルキル基、フェニル基又はベンジル基を表す。但し、該アルキル基、該シクロアルキル基、該フェニル基及び該ベンジル基は、水素原子の一部又は全てがハロゲン原子、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基又はニトロ基で置換されていても良い。)
(前記式(4)中、Yはフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、ビフェニリル基又は炭素原子数1乃至8のアルコキシ基を表す。但し、該フェニル基、該ナフチル基、該アントラセニル基及び該ビフェニリル基は、水素原子の一部又は全てが炭素原子数1乃至10のアルキル基、ハロゲン原子、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基又はニトロ基で置換されていても良い。)
第4観点として、更に(C)成分として架橋剤を含む第1観点乃至第3観点のいずれか一に記載のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物。
第5観点として、前記重合体の重量平均分子量が1000乃至50000である、第1観点乃至第4観点のいずれか一に記載のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物。
第6観点として、第1観点乃至第5観点のいずれか一に記載のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物から得られる硬化膜。
第7観点として、第1観点乃至第5観点のいずれか一に記載のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物から作製されるマイクロレンズ。
本発明の最も好適な態様は、以下の[1]〜[3]に示すマイクロレンズ用感光性樹脂組成物である。
[1](A)成分、(B)成分及び溶剤を含有するマイクロレンズ用感光性樹脂組成物。(A)成分:下記式(1)で表されるマレイミド構造単位及び下記式(2)で表される繰り返し構造単位を有し、さらに、下記式(3)で表される繰り返し構造単位を有する共重合体であって、下記式(4)で表される繰り返し構造を含まない共重合体、
(B)成分:感光剤
Figure 0005696858
(前記式(2)中、Rは水素原子又はメチル基を表し、Rは単結合又は炭素原子数1乃至5のアルキレン基を表し、Rはブロックイソシアネート基を含む熱架橋性を有する1価の有機基を表す。但し、前記式(2)で表される繰り返し構造単位においてR同士は互いに異なっていても良い。)
Figure 0005696858
(前記式(3)中、Xは炭素原子数1乃至5のアルキル基、炭素原子数5又は6のシクロアルキル基、フェニル基又はベンジル基を表す。但し、該アルキル基、該シクロアルキル基、該フェニル基及び該ベンジル基は、水素原子の一部又は全てがハロゲン原子、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基又はニトロ基で置換されていても良い。)
(前記式(4)中、Yはビフェニリル基又は炭素原子数1乃至8のアルコキシ基を表す。但し、該ビフェニリル基は、水素原子の一部又は全てが炭素原子数1乃至10のアルキル基、ハロゲン原子、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基又はニトロ基で置換されていても良い。)
[2](A)成分、(B)成分及び溶剤を含有するマイクロレンズ用感光性樹脂組成物。(A)成分:下記式(1)で表されるマレイミド構造単位及び下記式(2)で表される繰り返し構造単位を有し、さらに、下記式(3)で表される繰り返し構造単位を有する共重合体であって、下記式(4)で表される繰り返し構造を含まない共重合体、
(B)成分:感光剤
Figure 0005696858
(前記式(2)中、Rは水素原子又はメチル基を表し、Rは単結合又は炭素原子数1乃至5のアルキレン基を表し、Rはエポキシ基又はブロックイソシアネート基を含む熱架橋性を有する1価の有機基を表す。但し、前記式(2)で表される繰り返し構造単位においてR同士は互いに異なっていても良い。)
Figure 0005696858
(前記式(3)中、Xは炭素原子数1乃至5のアルキル基、炭素原子数5又は6のシクロアルキル基、フェニル基又はベンジル基を表す。但し、該アルキル基、該シクロアルキル基、該フェニル基及び該ベンジル基は、水素原子の一部又は全てがハロゲン原子、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基又はニトロ基で置換されていても良い。)
(前記式(4)中、Yはフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、ビフェニリル基又は炭素原子数1乃至8のアルコキシ基を表す。但し、該フェニル基、該ナフチル基、該アントラセニル基及び該ビフェニリル基は、水素原子の一部又は全てが炭素原子数1乃至10のアルキル基、ハロゲン原子、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基又はニトロ基で置換されていても良い。)
[3](A)成分、(B)成分及び溶剤を含有するマイクロレンズ用感光性樹脂組成物。(A)成分:下記式(1)で表されるマレイミド構造単位及び下記式(2)で表される繰り返し構造単位を有し、さらに、下記式(3)で表される繰り返し構造単位を有する共重合体であって、下記式(4)で表される繰り返し構造を含まない共重合体、
(B)成分:感光剤
Figure 0005696858
(前記式(2)中、Rは水素原子又はメチル基を表し、Rは単結合又は炭素原子数1乃至5のアルキレン基を表し、Rはエポキシ基又はブロックイソシアネート基を含む熱架橋性を有する1価の有機基を表す。但し、前記式(2)で表される繰り返し構造単位においてR同士は互いに異なっていても良い。)
Figure 0005696858
(前記式(3)中、Xは炭素原子数1乃至5のアルキル基、炭素原子数5又は6のシクロアルキル基、フェニル基又はベンジル基を表す。但し、該アルキル基、該シクロアルキル基、該フェニル基及び該ベンジル基は、水素原子の一部又は全てがハロゲン原子、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基又はニトロ基で置換されていても良い。)
(前記式(4)中、Yはフェニル基、ナフチル基又はアントラセニル基を表す。但し、該フェニル基、該ナフチル基及び該アントラセニル基は、水素原子の一部又は全てが炭素原子数1乃至10のアルキル基、ハロゲン原子、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基又はニトロ基で置換されていても良い。)
本発明のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物から形成される膜は、優れた透明性、耐熱性、耐熱変色性及び耐溶剤性を有することが可能である。
また、本発明のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物から形成されたパターンも優れた耐熱性を有することが可能である。
以上より、本発明のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物から形成される膜は、その形成工程、又は配線等の周辺装置の形成工程において、高温での加熱処理が行われる場合にマイクロレンズが着色し、レンズ形状が変形する可能性を著しく減少できる。また、マイクロレンズ形成後に電極、配線形成工程が行われる場合には、有機溶剤によるマイクロレンズの変形、剥離といった問題も著しく減少できる。
したがって、本発明のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物は、マイクロレンズを形成する材料として好適である。
本発明は、(A)成分のマレイミド構造単位及び熱架橋性を有する1価の有機基が結合した繰り返し構造単位を有する共重合体と、(B)成分の感光剤と、溶剤とを含有するマイクロレンズ用感光性樹脂組成物である。
以下、各成分の詳細を説明する。
本発明のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物から溶剤を除いた固形分は通常、1乃至50質量%である。
<(A)成分>
本発明の(A)成分は、下記式(1)で表されるマレイミド構造単位及び下記式(2)で表される繰り返し構造単位を有する共重合体である。
Figure 0005696858
(上記式(2)中、R0は水素原子又はメチル基を表し、R1は単結合又は炭素原子数1乃至5のアルキレン基を表し、R2は熱架橋性を有する1価の有機基を表す。但し、前記式(2)で表される繰り返し構造単位においてR0同士は互いに異なっていても良い。)
前記熱架橋性を有する1価の有機基R2としては、エポキシ基又はブロックイソシアネート基を含むことが好ましい。前記R2はエポキシ基を含む有機基であることがさらに好ましく、熱処理による膜収縮などを小さくすることができる。
前記エポキシ基を含む有機基としては、非脂環式構造であっても脂環式構造を含んでいても良い。前記R2を、エポキシ基を含む有機基とした場合の繰り返し構造単位である式(2)の具体的な例としては、当該エポキシ基を含む有機基が、非脂環式構造であれば下記式(6)で表される繰り返し構造単位、脂環式構造であれば下記式(7)で表される繰り返し構造単位が挙げられる。
Figure 0005696858
(上記式(6)、式(7)中、R0はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表し、R1はそれぞれ独立して単結合又は炭素原子数1乃至5のアルキレン基を表す。前記R0としてはメチル基、前記R1としてはメチレン基が好ましい。)
前記ブロックイソシアネート基とはイソシアネート基(−N=C=O)が適当な保護基によりブロックされた化合物である。ブロック剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、2−エトキシヘキサノール、2−N,N−ジメチルアミノエタノール、2−エトキシエタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類、フェノール、o−ニトロフェノール、p−クロロフェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール等のフェノール類、ε−カプロラクタム等のラクタム類、アセトンオキシム、メチルエチルケトンオキシム、メチルイソブチルケトンオキシム、シクロヘキサノンオキシム、アセトフェノンオキシム、ベンゾフェノンオキシム等のオキシム類、ピラゾール、3,5−ジメチルピラゾール、3−メチルピラゾール等のピラゾール類、ドデカンチオール、ベンゼンチオール等のチオール類が挙げられる。
前記R2を、ブロックイソシアネート基を含む有機基とした場合の繰り返し構造単位である式(2)の具体的な例としては、下記式(8)で表される繰り返し構造単位、及び下記式(9)で表される繰り返し構造単位が挙げられ、ブロック剤の脱離温度の観点から下記式(8)で表される繰り返し構造単位が好ましい。
Figure 0005696858
(上記式(8)、式(9)中、R0はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表し、R1はそれぞれ独立して単結合又は炭素原子数1乃至5のアルキレン基を表す。前記R0としてはメチル基、前記R1としてはエチレン基が好ましい。)
さらに、前記(A)成分は、下記式(3)、式(4)及び式(5)で表される繰り返し構造単位3種のうち少なくとも1種を有する共重合体であっても良い。
Figure 0005696858
(上記式(3)中、Xは炭素原子数1乃至5のアルキル基、炭素原子数5又は6のシクロアルキル基、フェニル基又はベンジル基を表す。但し、該アルキル基、該シクロアルキル基、該フェニル基及び該ベンジル基は、水素原子の一部又は全てがハロゲン原子、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基又はニトロ基で置換されていても良い。
上記式(4)中、Yはフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、ビフェニリル基又は炭素原子数1乃至8のアルコキシ基を表す。但し、該フェニル基、該ナフチル基、該アントラセニル基及び該ビフェニリル基は、水素原子の一部又は全てが炭素原子数1乃至10のアルキル基、ハロゲン原子、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基又はニトロ基で置換されていても良い。)
ここで、前記(A)成分の共重合体中、上記式(1)で表される繰り返し構造単位の含有量は10mol%乃至90mol%であり、好ましくは20mol%乃至70mol%である。また上記式(2)で表される繰り返し構造単位の含有量は10mol%乃至90mol%であり、好ましくは20mol%乃至70mol%である。前記(A)成分の共重合体がさらに上記式(3)及び/又は式(4)及び/又は式(5)で表される繰り返し構造単位を有する場合、その含有量は10mol%乃至90mol%であり、好ましくは20mol%乃至70mol%である。
上記共重合体の重量平均分子量は通常、1000乃至50000であり、好ましくは1500乃至30000である。なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、標準試料としてポリスチレンを用いて得られる値である。
また、本発明のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物における(A)成分の含有量は、当該マイクロレンズ用感光性樹脂組成物の固形分中の含有量に基づいて通常、1乃至99質量%であり、好ましくは10乃至95質量%である。
本発明において、前記(A)成分を得る方法は特に限定されないが、一般的には、上述した共重合体を得るために用いるモノマー種を含むモノマー混合物を重合溶媒中、通常50乃至110℃の温度下で重合反応させることにより得られる。
<(B)成分>
本発明の(B)成分である感光剤としては、感光成分として使用できる化合物であれば、特に限定されるものでないが、1,2−ナフトキノンジアジド化合物が好ましい。
前記1,2−ナフトキノンジアジド化合物としては、ヒドロキシル基を有する化合物であって、これらのヒドロキシル基のうち、10乃至100モル%、好ましくは20乃至95モル%が1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化された化合物を用いることができる。
前記ヒドロキシル基を有する化合物としては、例えば、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、ハイドロキノン、レゾルシノール、カテコール、ガリック酸メチル、ガリック酸エチル、1,3,3−トリス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、4,4’−イソプロピリデンジフェノール、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフェノール、4,4’,4’’−トリスヒドロキシフェニルエタン、1,1,1−トリスヒドロキシフェニルエタン、4,4’−[1−[4−[1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,2’,3,4,4’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、2,5−ビス(2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)メチルなどのフェノール化合物、エタノール、2−プロパノール、4−ブタノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、2−メトキシエタノール、2−ブトキシエタノール、2−メトキシプロパノール、2−ブトキシプロパノール、乳酸エチル、乳酸ブチルなどの脂肪族アルコール類を挙げることができる。
これらの感光剤は、単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物における(B)成分の含有量は、当該マイクロレンズ用感光性樹脂組成物の固形分中の含有量に基づいて通常、1乃至50質量%である。
また、本発明のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物は、(C)成分として架橋剤を含有することもできる。本発明の(C)成分である架橋剤は、熱又は酸の作用により、樹脂、感光剤等の配合組成物又は他の架橋剤分子との結合を形成する化合物である。当該架橋剤としては、例えば、多官能(メタ)アクリレート化合物、エポキシ化合物、ヒドロキシメチル基置換フェノール化合物、及びアルコキシアルキル化されたアミノ基を有する化合物を挙げることができる。
これらの架橋剤は、単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
上記多官能(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレートを挙げることができる。
上記エポキシ化合物としては、例えば、下記一般式(10)で表される化合物を用いることができる。
Figure 0005696858
(式中、kは2乃至10の整数、mは0乃至4の整数を示し、R3はk価の有機基を表す。)
上記式(10)で表される化合物において、mが2であるシクロヘキセンオキサイド構造を有する化合物の具体例としては、下記式(11)及び式(12)で表される化合物、並びに以下に示す市販品が挙げられるが、これらの例に限定されるわけではない。
Figure 0005696858
Figure 0005696858
市販品としては、例えば、エポリード(登録商標)GT−401、同GT−403、同GT−301、同GT−302、セロキサイド(登録商標)2021、同3000(以上、ダイセル化学工業(株)製)が挙げられる。
また、エポキシ化合物として、下記一般式(13)で示される化合物も用いることができる。
Figure 0005696858
(式中、kは2乃至10の整数を示し、R4はk価の有機基を表す。)
上記式(13)で表されるオキシラン構造を有する化合物の具体例としては、以下に示す市販品が挙げられるが、これらの例に限定されるわけではない。脂環式エポキシ樹脂としては、例えば、デナコール(登録商標)EX−252(ナガセケムッテクス(株)製)、EPICLON(登録商標)200、同400(以上DIC(株)製)、jER(登録商標)871、同872(以上、三菱化学(株)製)が挙げられる。ビスフェノールA型エポキシ樹脂としては、例えば、jER(登録商標)828、同834、同1001、同1004(以上、三菱化学(株)製)、EPICLON(登録商標)850、同860、同4055(以上、DIC(株)製)が挙げられる。ビスフェノールF型エポキシ樹脂としては、例えば、jER(登録商標)807(三菱化学(株)製)、EPICLON(登録商標)830(DIC(株)製)が挙げられる。フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、例えば、EPICLON(登録商標)N−740、同N−770、同N−775(以上、DIC(株)製)、jER(登録商標)152、同154(以上、三菱化学(株)製)が挙げられる。クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、例えば、EPICLON(登録商標)N−660、同N−665、同N−670、同N−673、同N−680、同N−695、同N−665−EXP、同N−672−EXP(以上、DIC(株)製)等が挙げられる。グリシジルアミン型エポキシ樹脂としては、例えば、EPICLON(登録商標)430、同430−L(以上、DIC(株)製)、TETRAD(登録商標)−C、TETRAD(登録商標)−X(以上、三菱ガス化学(株)製)、jER(登録商標)604、同630(以上、三菱化学(株)製)、スミエポキシ(登録商標)ELM120、同ELM100、同ELM434、同ELM434HV(以上、住友化学(株)製)、エポトート(登録商標)YH−434、同YH−434L(以上、東都化成(株)製)が挙げられる。
これらのうち、耐熱性、耐溶剤性、耐長時間焼成耐性等の耐プロセス性、及び透明性の観点からシクロヘキセンオキサイド構造を有する、式(11)及び式(12)で表される化合物、エポリード(登録商標)GT−401、同GT−403、同GT−301、同GT−302、セロキサイド(登録商標)2021、同3000が(C)成分として好ましい。
前記ヒドロキシメチル基置換フェノール化合物としては、例えば、2−ヒドロキシメチル−4,6−ジメチルフェノール、1,3,5−トリヒドロキシメチルベンゼン、3,5−ジヒドロキシメチル−4−メトキシトルエン[2,6−ビス(ヒドロキシメチル)−p−クレゾール]等を挙げることができる。
前記アルコキシアルキル化されたアミノ基を有する化合物としては、例えば、(ポリ)メチロール化メラミン、(ポリ)メチロール化グリコールウリル、(ポリ)メチロール化ベンゾグアナミン、(ポリ)メチロール化ウレア等の、一分子内に複数個の活性メチロール基を有する含窒素化合物であって、そのメチロール基のヒドロキシル基の水素原子の少なくとも一つが、メチル基、ブチル基等のアルキル基によって置換された化合物を挙げることができる。
上記アルコキシアルキル化されたアミノ基を有する化合物は、複数の置換化合物を混合した混合物である場合があり、一部自己縮合してなるオリゴマー成分を含む混合物も存在し、そのような混合物も使用することができる。より具体的には、例えば、ヘキサメトキシメチルメラミン(日本サイテックインダストリーズ(株)製、CYMEL(登録商標)303)、テトラブトキシメチルグリコールウリル(日本サイテックインダストリーズ(株)製、CYMEL(登録商標)1170)、テトラメトキシメチルベンゾグアナミン(日本サイテックインダストリーズ(株)製、CYMEL(登録商標)1123)等のCYMELシリーズの商品、メチル化メラミン樹脂((株)三和ケミカル製、ニカラック(登録商標)MW−30HM、同MW−390、同MW−100LM、同MX−750LM)、メチル化尿素樹脂((株)三和ケミカル製、ニカラック(登録商標)MX−270、同MX−280、同MX−290)等のニカラックシリーズの商品を挙げることができる。
本発明のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物における(C)成分の含有量は、当該マイクロレンズ用感光性樹脂組成物の固形分中の含有量に基づいて通常、1乃至50質量%である。
本発明のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物の調製方法は、特に限定されないが、例えば、(A)成分である共重合体を溶剤に溶解し、この溶液に(B)成分である感光剤及び必要ならば(C)成分である架橋剤を所定の割合で混合し、均一な溶液とする方法が挙げられる。さらに、この調製方法の適当な段階において、必要に応じて、その他の添加剤を更に添加して混合する方法が挙げられる。
上記溶剤としては、上記(A)成分、(B)成分、(C)成分を溶解するものであれば特に限定されない。
そのような溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、ピルビン酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、2−ヘプタノン、γ−ブチロラクトンを挙げることができる。
これらの溶剤は、単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの溶剤の中でも、塗膜のレベリング性の向上の観点より、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、2−ヘプタノン、乳酸エチル、乳酸ブチル及びシクロヘキサノンが好ましい。
また、本発明のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物は、塗布性を向上させる目的で、界面活性剤を含有することもできる。
当該界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェノールエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェノールエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤、エフトップ(登録商標)EF301、同EF303、同EF352(以上、三菱マテリアル電子化成株式会社(旧(株)ジェムコ)製)、メガファック(登録商標)F171、同F173、同R30(以上、DIC(株)製)、フロラードFC430、同FC431(以上、住友スリーエム(株)製)、アサヒガード(登録商標)AG710、サーフロン(登録商標)S−382、同SC101、同SC102、同SC103、同SC104、同SC105、同SC106(旭硝子(株)製)、FTX−206D、FTX−212D、FTX−218、FTX−220D、FTX−230D、FTX−240D、FTX−212P、FTX−220P、FTX−228P、FTX−240G等フタージェントシリーズ((株)ネオス製)等のフッ素系界面活性剤、オルガノシロキサンポリマーKP341(信越化学工業(株)製)を挙げることができる。
上記界面活性剤は、単独又は2種以上の組み合わせで使用することができる。
また、上記界面活性剤が使用される場合、本発明のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物における含有量は、当該マイクロレンズ用感光性樹脂組成物の固形分中の含有量に基づいて、3質量%以下であり、好ましくは1質量%以下であり、より好ましくは0.5質量%以下である。
また、本発明のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、硬化助剤、紫外線吸収剤、増感剤、可塑剤、酸化防止剤、密着助剤等の添加剤を含むことができる。
以下、本発明のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物の使用について説明する。
基板{例えば、酸化珪素膜で被覆されたシリコン等の半導体基板、窒化珪素膜又は酸化窒化珪素膜で被覆されたシリコン等の半導体基板、窒化珪素基板、石英基板、ガラス基板(無アルカリガラス、低アルカリガラス、結晶化ガラスを含む)、ITO膜が形成されたガラス基板}上に、スピナー、コーター等の適当な塗布方法により本発明のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物が塗布され、その後、ホットプレート等の加熱手段を用いてプリベークすることにより、塗膜が形成される。
プリベーク条件としては、ベーク温度80乃至250℃、ベーク時間0.3乃至60分間の中から適宜選択され、好ましくは、ベーク温度80乃至150℃、ベーク時間0.5乃至5分間である。
また、本発明のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物から形成される膜の膜厚としては、0.005乃至3.0μmであり、好ましくは0.01乃至1.0μmである。
次に、上記で得られた膜上に、所定のパターンを形成するためのマスク(レチクル)を通して露光が行われる。露光には、g線及びi線等の紫外線、KrFエキシマレーザー等の遠赤外線を使用することができる。露光後、必要に応じて露光後加熱(Post Exposure Bake)が行われる。露光後加熱の条件としては、加熱温度80乃至150℃、加熱時間0.3乃至60分間の中から適宜選択される。そして、アルカリ性現像液で現像される。
上記アルカリ性現像液としては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物の水溶液、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、コリン等の水酸化四級アンモニウムの水溶液、エタノールアミン、プロピルアミン、エチレンジアミン等のアミン水溶液等のアルカリ性水溶液を挙げることができる。
さらに、これらの現像液に界面活性剤を加えることもできる。
現像の条件としては、現像温度5乃至50℃、現像時間10乃至300秒から適宜選択される。本発明のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物から形成される膜は、水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を用いて、室温で容易に現像を行うことができる。現像後、例えば超純水を用いてリンスを行う。
さらに、g線及びi線等の紫外線又はKrFエキシマレーザー等の遠赤外線を用い、基板を全面露光する。その後、ホットプレート等の加熱手段を用いてポストベーク(リフロー)する。ポストベーク条件としては、ベーク温度100乃至250℃、ベーク時間0.5乃至60分間の中から適宜選択される。
以下に実施例及び比較例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでない。
〔下記合成例で得られたポリマーの重量平均分子量の測定〕
装置:日本分光(株)製GPCシステム
カラム:Shodex〔登録商標〕KL−804L及び803L
カラムオーブン:40℃
流量:1ml/分
溶離液:テトラヒドロフラン
[ポリマーの合成]
<合成例1>
マレイミド15.0g、グリシジルメタクリレート22.0g、N−シクロヘキシルマレイミド23.7g、及び2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル1.2gをプロピレングリコールモノメチルエーテル144.5gに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテル41.3gを80℃に保持したフラスコ中に3時間かけて滴下した。滴下終了後、12時間反応させた。この反応溶液を室温に冷却後、ジエチルエーテル溶媒に投入してポリマーを再沈殿させ、減圧乾燥して、下記式(14)で表される3種の繰り返し構造単位を有するポリマー(共重合体)を得た。
得られたポリマーの重量平均分子量Mwは4,900(ポリスチレン換算)であった。
Figure 0005696858
<合成例2>
マレイミド2.0g、グリシジルメタクリレート5.86g、スチレン4.29g、及び2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル0.6gをプロピレングリコールモノメチルエーテル29.8gに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテル8.5gを80℃に保持したフラスコ中に3時間かけて滴下した。滴下終了後、12時間反応させた。この反応溶液を室温に冷却後、ジエチルエーテル溶媒に投入してポリマーを再沈殿させ、減圧乾燥して、下記式(15)で表される3種の繰り返し構造単位を有するポリマー(共重合体)を得た。
得られたポリマーの重量平均分子量Mwは6,000(ポリスチレン換算)であった。
Figure 0005696858
<合成例3>
マレイミド3.7g、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート(サイクロマー(登録商標)M100(ダイセル化学工業(株)製))7.5g、N−シクロヘキシルマレイミド3.4g、及び2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル0.3gをプロピレングリコールモノメチルエーテル34.7gに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテル9.9gを100℃に保持したフラスコ中に3時間かけて滴下した。滴下終了後、12時間反応させた。この反応溶液を室温に冷却後、ジエチルエーテル溶媒に投入してポリマーを再沈殿させ、減圧乾燥して、下記式(16)で表される3種の繰り返し構造単位を有するポリマー(共重合体)を得た。
得られたポリマーの重量平均分子量Mwは3,500(ポリスチレン換算)であった。
Figure 0005696858
<合成例4>
マレイミド12.0g、グリシジルメタクリレート8.4g、2−ビニルナフタレン17.2g、及び2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル2.0gをプロピレングリコールモノメチルエーテル92.5gに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテル26.4gを80℃に保持したフラスコ中に3時間かけて滴下した。滴下終了後、12時間反応させた。この反応溶液を室温に冷却後、メタノール溶媒に投入してポリマーを再沈殿させ、減圧乾燥して、下記式(17)で表される3種の繰り返し構造単位を有するポリマー(共重合体)を得た。
得られたポリマーの重量平均分子量Mwは9,500(ポリスチレン換算)であった。
Figure 0005696858
<合成例5>
マレイミド10.0g、グリシジルメタクリレート7.0g、4−tert−ブチルスチレン14.9g、及び2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル1.7gをプロピレングリコールモノメチルエーテル78.4gに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテル22.4gを80℃に保持したフラスコ中に3時間かけて滴下した。滴下終了後、12時間反応させた。この反応溶液を室温に冷却後、純水に投入してポリマーを再沈殿させ、減圧乾燥して、下記式(18)で表される3種の繰り返し構造単位を有するポリマー(共重合体)を得た。
得られたポリマーの重量平均分子量Mwは15,500(ポリスチレン換算)であった。
Figure 0005696858
<合成例6>
マレイミド3.0g、2−(O−[1’−メチルプロピリデンアミノ]カルボキシアミノ)エチルメタクリレート(カレンズMOI−BM(登録商標)(昭和電工(株)製)5.6g、N−シクロヘキシルマレイミド4.2g、及び2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル0.3gをプロピレングリコールモノメチルエーテル30.4gに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテル8.7gを80℃に保持したフラスコ中に3時間かけて滴下した。滴下終了後、12時間反応させた。この反応溶液を室温に冷却後、ジエチルエーテル溶媒に投入してポリマーを再沈殿させ、減圧乾燥して、下記式(19)で表される3種の繰り返し構造単位を有するポリマー(共重合体)を得た。
得られたポリマーの重量平均分子量Mwは5,400(ポリスチレン換算)であった。
Figure 0005696858
[感光性樹脂組成物溶液の調製]
<実施例1>
合成例1で得られた(A)成分であるポリマー5g、(B)成分である感光剤としてP−200(東洋合成工業(株)製)1.5g、及び界面活性剤としてメガファックR−30(DIC(株)製)0.02gを、プロピレングリコールモノメチルエーテル28.6g及び乳酸エチル13.1gに溶解させ溶液とした。その後、孔径0.20μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して、感光性樹脂組成物を調製した。
<実施例2>
(A)成分として合成例2で得られたポリマー5gを用いた以外は上記実施例1と同じ条件で、感光性樹脂組成物を調製した。
<実施例3>
(A)成分として合成例3で得られたポリマー5gを用いた以外は上記実施例1と同じ条件で、感光性樹脂組成物を調製した。
<実施例4>
(A)成分として合成例6で得られたポリマー5gを用いた以外は上記実施例1と同じ条件で、感光性樹脂組成物を調製した。
<実施例5>
合成例1で得られた(A)成分であるポリマー5g、(B)成分である感光剤としてP−200(東洋合成工業(株)製)1.5g、(C)成分である架橋剤としてセロキサイド(登録商標)2021P(ダイセル化学工業(株)製)0.75g、及び界面活性剤としてメガファック(登録商標)R−30(DIC(株)製)0.02gを、プロピレングリコールモノメチルエーテル34.1g及び乳酸エチル14.6gに溶解させ溶液とした。その後、孔径0.20μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して、感光性樹脂組成物を調製した。
<実施例6>
(A)成分として合成例4で得られたポリマー5gを用いた以外は、上記実施例5と同じ条件で、感光性樹脂組成物を調製した。
<実施例7>
(A)成分として合成例5で得られたポリマー5gを用いた以外は、上記実施例5と同じ条件で、感光性樹脂組成物を調製した。
<比較例1>
下記式(20)で表される繰り返し構造単位を有するポリ(4−ビニルフェノール)(シグマアルドリッチジャパン(株)製、重量平均分子量Mw20,000)9g、感光剤としてP−200(東洋合成工業(株)製)2.7g、架橋剤としてCYMEL(登録商標)303(日本サイテックインダストリーズ(株))1.4g、及び界面活性剤としてメガファック(登録商標)R−30(DIC(株)製)0.03gを、プロピレングリコールモノメチルエーテル46.0g及び乳酸エチル19.7gに溶解させ溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して感光性樹脂組成物を調製した。
Figure 0005696858
[透過率測定]
実施例1乃至実施例7及び比較例1で調製した感光性樹脂組成物をそれぞれ、石英基板上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上において100℃で3分間プリベークした。次いで、紫外線照射装置PLA−501(F)(キャノン(株)製)により、365nmにおける照射量が500mJ/cm2の紫外線を全面照射した(フォトブリーチング)。次いで、ホットプレート上において200℃で5分間ポストベークを行い、膜厚600nmの膜を形成した。この膜を紫外線可視分光光度計UV−2550((株)島津製作所製)を用いて波長400nmの透過率を測定した。さらにこの膜を260℃で5分間加熱した後、波長400nmの透過率を測定した。評価の結果を表1に示す。
Figure 0005696858
表1の結果から、本発明のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物から形成された膜は、耐熱性が高く、260℃で加熱した後でもほとんど着色しないものであった。一方、比較例1で調製した樹脂組成物から形成された膜については、200℃で5分間ポストベークの後、膜の透過率は95%であったが、さらに260℃で5分間加熱すると、膜の透過率は78%以下に低下した。膜の透過率は90%以上であることが通常求められ、加熱後であっても透過率がほとんど変化しないことが望ましいが、比較例1についてはいずれの要件も満たさない結果となった。
[パターニング試験]
実施例1乃至実施例7で調製した感光性樹脂組成物をそれぞれ、シリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上において100℃で90秒間プリベークして、膜厚600nmの感光性樹脂膜を形成した。次いで、i線ステッパーNSR−2205i12D(NA=0.63)((株)ニコン製)を用いて、マスクを介して露光した。次いで、ホットプレート上において、100℃で90秒間露光後ベーク(PEB)し、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)水溶液(実施例1乃至実施例5で調製した感光性樹脂組成物を用いた場合は0.4質量%、実施例6、7及び比較例1で調製した感光性樹脂組成物を用いた場合は1.0質量%)で60秒間現像し、超純水で20秒間リンス、乾燥して1.4μm×1.4μmのドットパターンを形成した。さらに、前記i線ステッパーを用いて、500mJ/cm2のi線を全面照射し(フォトブリーチング)、ホットプレート上において本ベーク(まず100℃〜180℃の温度で5分間ベーク、その後180℃〜200℃の温度に昇温して5分間ベーク)を行った。さらに、この膜を260℃で5分間加熱した。走査型電子顕微鏡S−4800((株)日立ハイテクノロジーズ製)を用いて、現像・リンス・乾燥後、上記本ベーク後及び260℃加熱後それぞれのパターンの観察を行った。実施例1乃至実施例7で調製したいずれの感光性樹脂組成物を用いた場合も本ベーク後に半球状のレンズが得られ、その後の260℃ベークによってもレンズ形状が変化しないことを確認した。
[フォトレジスト溶剤への溶出試験]
実施例1乃至実施例7で調製した感光性樹脂組成物をそれぞれ、シリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上において100℃で3分間プリベークした。次いで、紫外線照射装置PLA−501(F)(キャノン(株)製)により、365nmにおける照射量が500mJ/cm2の紫外線を全面照射した(フォトブリーチング)。次いで、ホットプレート上において200℃で5分間ポストベークを行い、膜厚600nmの膜を形成した。これらの膜を、アセトン、N−メチルピロリドン、2−プロパノール、及び2−ヘプタノンに、それぞれ23℃にて10分間浸漬した。実施例1乃至実施例7で調製したいずれの感光性樹脂組成物から形成された膜の場合も、上記各溶剤に浸漬前後での膜厚変化が5%以下であることを確認した。

Claims (8)

  1. (A)成分、(B)成分及び溶剤を含有するマイクロレンズ用感光性樹脂組成物。
    (A)成分:下記式(1)で表されるマレイミド構造単位及び下記式(2)で表される繰り返し構造単位を有し、さらに、下記式(3)で表される繰り返し構造単位を有する共重合体であって、下記式(4)で表される繰り返し構造を含まない共重合体、
    (B)成分:感光剤
    Figure 0005696858
    (前記式(2)中、Rは水素原子又はメチル基を表し、Rは単結合又は炭素原子数1乃至5のアルキレン基を表し、Rはブロックイソシアネート基を含む熱架橋性を有する1価の有機基を表す。但し、前記式(2)で表される繰り返し構造単位においてR同士は互いに異なっていても良い。)
    Figure 0005696858
    (前記式(3)中、Xは炭素原子数1乃至5のアルキル基、炭素原子数5又は6のシクロアルキル基、フェニル基又はベンジル基を表す。但し、該アルキル基、該シクロアルキル基、該フェニル基及び該ベンジル基は、水素原子の一部又は全てがハロゲン原子、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基又はニトロ基で置換されていても良い。)
    (前記式(4)中、Yはビフェニリル基又は炭素原子数1乃至8のアルコキシ基を表す。但し、該ビフェニリル基は、水素原子の一部又は全てが炭素原子数1乃至10のアルキル基、ハロゲン原子、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基又はニトロ基で置換されていても良い。)
  2. 前記式(2)で表される繰り返し構造単位が、下記式(8)又は下記式(9)で表される繰り返し構造単位である、請求項1に記載のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物。
    Figure 0005696858
    (上記式(8)、式(9)中、Rはそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表し、Rはそれぞれ独立して単結合又は炭素原子数1乃至5のアルキレン基を表す。)
  3. (A)成分、(B)成分及び溶剤を含有するマイクロレンズ用感光性樹脂組成物。
    (A)成分:下記式(1)で表されるマレイミド構造単位及び下記式(2)で表される繰り返し構造単位を有し、さらに、下記式(3)で表される繰り返し構造単位を有する共重合体であって、下記式(4)で表される繰り返し構造を含まない共重合体、
    (B)成分:感光剤
    Figure 0005696858
    (前記式(2)中、Rは水素原子又はメチル基を表し、Rは単結合又は炭素原子数1乃至5のアルキレン基を表し、Rはエポキシ基又はブロックイソシアネート基を含む熱架橋性を有する1価の有機基を表す。但し、前記式(2)で表される繰り返し構造単位においてR同士は互いに異なっていても良い。)
    Figure 0005696858
    (前記式(3)中、Xは炭素原子数1乃至5のアルキル基、炭素原子数5又は6のシクロアルキル基、フェニル基又はベンジル基を表す。但し、該アルキル基、該シクロアルキル
    基、該フェニル基及び該ベンジル基は、水素原子の一部又は全てがハロゲン原子、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基又はニトロ基で置換されていても良い。)
    (前記式(4)中、Yはフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、ビフェニリル基又は炭素原子数1乃至8のアルコキシ基を表す。但し、該フェニル基、該ナフチル基、該アントラセニル基及び該ビフェニリル基は、水素原子の一部又は全てが炭素原子数1乃至10のアルキル基、ハロゲン原子、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基又はニトロ基で置換されていても良い。)
  4. 更に(C)成分として架橋剤を含む請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物。
  5. 前記共重合体の重量平均分子量が1000乃至50000である、請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物。
  6. 請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物から得られる硬化膜。
  7. 請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載のマイクロレンズ用感光性樹脂組成物から作製されるマイクロレンズ。
  8. (A)成分、(B)成分及び溶剤を含有するマイクロレンズ用感光性樹脂組成物。
    (A)成分:下記式(1)で表されるマレイミド構造単位及び下記式(2)で表される繰り返し構造単位を有し、さらに、下記式(3)で表される繰り返し構造単位を有する共重合体であって、下記式(4)で表される繰り返し構造を含まない共重合体、
    (B)成分:感光剤
    Figure 0005696858
    (前記式(2)中、Rは水素原子又はメチル基を表し、Rは単結合又は炭素原子数1乃至5のアルキレン基を表し、Rはエポキシ基又はブロックイソシアネート基を含む熱架橋性を有する1価の有機基を表す。但し、前記式(2)で表される繰り返し構造単位においてR同士は互いに異なっていても良い。)
    Figure 0005696858
    (前記式(3)中、Xは炭素原子数1乃至5のアルキル基、炭素原子数5又は6のシクロアルキル基、フェニル基又はベンジル基を表す。但し、該アルキル基、該シクロアルキル基、該フェニル基及び該ベンジル基は、水素原子の一部又は全てがハロゲン原子、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基又はニトロ基で置換されていても良い。)
    (前記式(4)中、Yはフェニル基、ナフチル基又はアントラセニル基を表す。但し、該フェニル基、該ナフチル基及び該アントラセニル基は、水素原子の一部又は全てが炭素原
    子数1乃至10のアルキル基、ハロゲン原子、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基又はニトロ基で置換されていても良い。)
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