JP4935565B2 - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

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Description

本発明は、感光性樹脂組成物に関する。
液晶表示素子を構成するカラーフィルタ基板とアレイ基板との間には、両基板の間隔を一定に保持するためにスペーサーが設けられており、この両基板間に液晶が満たされて、液晶表示素子として機能する。このスペーサーとしては、従来、ガラスビーズ、プラスチックビーズ等の球形粒子が使用されている。
しかしながら、このような球形粒子を使用した場合、両基板間に無秩序に散布され配置されるため、アレイ基板またはカラーフィルタ基板に形成されているTFT素子や電極などの位置に球形粒子が丁度配置されてしまった場合、それらに接触して損傷を与えたり、透過画素部の内に配置されると、入射光が球形粒子で散乱され、液晶表示素子のコントラストが低下したりすることがあった。
そこで、感光性樹脂組成物を用いてスペーサーを形成することが提案されている。この方法によれば、アレイ基板またはカラーフィルタ基板の任意の場所にスペーサーを形成することができるので、前述の問題点を解決することができる。
そして、スペーサー形成用の感光性樹脂組成物としては、スチレンとメタクリル酸とメタクリル酸グリシジルの共重合体からなる樹脂と、3官能以上の(メタ)アクリレートと、重合開始剤として2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オンと、溶剤からなるスペーサー形成用感光性樹脂組成物が知られていた(例えば、特許文献1参照。)。
また、スペーサー形成用組成物として、ベンジルメタクリレート、アクリル酸、ヒドロキシエチルメタクリレートおよびエトキシプロピオン酸エチルを共重合させ、得られた共重合体にヘキサメチレンジイソシアナートのヒドロキシエチルアクリレートのモノ付加物を反応させて得られる樹脂と、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート/ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート混合物と、重合開始剤として2,4−トリクロロメチル(ピペロニル)−6−トリアジンと、界面活性剤と、溶剤からなるスペーサー形成用感光性樹脂組成物が知られていた(例えば、特許文献2参照。)。
そして、スペーサーを形成することができる感光性樹脂組成物は、LCDの液晶分子の配向を制御するためにアレイ基板またはカラーフィルタ基板の任意の場所に設置する突起の形成や、LCD用の保護層(絶縁膜)の形成や、LCD用のオーバーコートの形成や、LCD用のコンタクトホールの形成にも用いることができる。
特開平11−133600号公報 特開2002−20442号公報
液晶分子配向制御用突起形成用またはスペーサー形成用感光性樹脂組成物としてはさらなる性能の向上が期待されており、特に、形状が良好であり、かつ表面平滑性が良好なパターンを与える組成物が求められていた。
本発明の目的は、形状が良好であり、かつ表面平滑性が良好なパターンを与える液晶分子配向制御用突起形成用またはスペーサー形成用感光性樹脂組成物を提供することにある。
本発明者は、前記の課題を解決しうる新たな組成物について鋭意検討の結果、特定の樹脂を含む感光性樹脂組成物が形状が良好であり、かつ表面平滑性が良好なパターンを与える液晶分子配向制御用突起形成用またはスペーサー形成用感光性樹脂組成物となることを見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち本発明は、バインダー樹脂(A)、キノンジアジド化合物(B)、および溶剤(C)を含有する感光性樹脂組成物であって、
バインダー樹脂(A)が、下記(A1)〜(A3)を共重合させて得られる共重合体3に、さらに(A4)を反応させて得られる共重合体、または下記(A1)、(A2)および(A4)を共重合させて共重合体1を得て、得られた共重合体1と(A3)とを共重合体1の(A4)に由来するエポキシ基の部位で反応させて共重合体2を得て、さらに得られた共重合体2と(A5)とを共重合体1の(A4)と(A3)の反応により生成した水酸基の部位に反応させて得られる共重合体のうち少なくとも一種を含有するバインダー樹脂であることを特徴とする液晶分子配向制御用突起形成用またはスペーサー形成用感光性樹脂組成物を提供する。
(A1);一分子中にトリシクロデカン骨格およびジシクロペンタジエン骨格からなる群から選ばれる少なくとも1種の骨格と、不飽和結合とを有する化合物
(A2);(A1)および(A4)と共重合可能であって不飽和結合を有する化合物
(A3);不飽和結合基を有するカルボン酸
(A4);一分子中に不飽和結合とエポキシ基とを有する化合物
(A5);酸無水物
(ただし、(A1)〜(A5)は、それぞれ、互いに同一ではない。)
本発明のスペーサー形成用感光性樹脂組成物は、形状が良好であり、かつ表面平滑性が良好なパターンを与え、また得られるパターンは耐溶剤性に優れ、組成物に含有される樹脂の合成プロセスにおいて粒状異物が生成しにくく、スペーサー、液晶配向制御用の突起のようなパターン形成用に好適であり、スペーサーと液晶配向制御用の突起を同時に形成することも可能であり、本発明は工業的に極めて有用である。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の感光性樹脂組成物は、バインダー樹脂(A)、キノンジアジド(B)および溶剤(C)を含有する感光性樹脂組成物であって、バインダー樹脂(A)が、下記(A1)〜(A3)を共重合させて得られる共重合体3に、さらに(A4)を反応させて得られる共重合体または、下記(A1)、(A2)および(A4)を共重合させて共重合体1を得て、得られた共重合体1と(A3)とを共重合体1の(A4)に由来するエポキシ基の部位で反応させて共重合体2を得て、さらに得られた共重合体2と(A5)とを共重合体1の(A4)と(A3)の反応により生成した水酸基の部位に反応させて得られる共重合体のうち少なくとも一種を含有することを特徴とする。
(A1);一分子中にトリシクロデカン骨格およびジシクロペンタジエン骨格からなる群から選ばれる少なくとも1種の骨格と、不飽和結合とを有する化合物
(A2);(A1)および(A4)と共重合可能であって不飽和結合を有する化合物
(A3);不飽和結合基を有するカルボン酸
(A4);一分子中に不飽和結合とエポキシ基とを有する化合物
(A5);酸無水物
ただし、(A1)〜(A5)は、それぞれ、互いに同一ではない。
一分子中に不飽和結合とトリシクロデカン骨格およびジシクロペンタジエン骨格からなる群から選ばれる少なくとも1種の骨格と、不飽和結合とを有する化合物(A1)としては、具体的には、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレートが挙げられる。これらは、それぞれ単独で、または両者を組合せて用いることができる。ここで、本明細書中における(メタ)アクリレートの記載は、アクリレートおよび/またはメタクリレートを表す。
(A1)および(A4)と共重合可能な不飽和結合を有する化合物(A2)としては、具体的には、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートおよびアミノエチル(メタ)アクリレートのような不飽和カルボン酸の無置換または置換アルキルエステル;
シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘプチル(メタ)アクリレート、シクロオクチル(メタ)アクリレート、メンチル(メタ)アクリレート、シクロペンテニル(メタ)アクリレート、シクロヘキセニル(メタ)アクリレート、シクロヘプテニル(メタ)アクリレート、シクロオクテニル(メタ)アクリレート、メンタジエニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ピナニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、ノルボルネニル(メタ)アクリレート、ピネニル(メタ)アクリレートのような不飽和カルボン酸の脂環式基を含むエステル化合物;
オリゴエチレングリコールモノアルキル(メタ)アクリレートのようなグリコール類のモノ飽和カルボン酸エステル化合物;
ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシ(メタ)アクリレートのような不飽和カルボン酸の芳香環を含むエステル化合物;
スチレン、α−メチルスチレン、α−フェニルスチレンおよびビニルトルエンのような芳香族ビニル化合物;
酢酸ビニルおよびプロピオン酸ビニルのようなカルボン酸ビニルエステル;
(メタ)アクリロニトリルおよびα−クロロアクリロニトリルのようなシアン化ビニル化合物;
N−シクロヘキシルマレイミドやN−フェニルマレイミド、N−ベンジルマレイミドのようなN−置換マレイミド化合物などが挙げられる。これらは、それぞれ単独で、または組合せて用いることができる。
中でも、(A2)としては、スチレン、α−メチルスチレン、ベンジル(メタ)アクリレート、N−置換マレイミド化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物が好ましい。
不飽和結合基を有するカルボン酸(A3)としては、具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、α−(ヒドロキシメチル)アクリル酸のような、同一分子中にヒドロキシ基およびカルボキシル基を含有する不飽和結合基を有するカルボン酸が挙げられる。中でも、アクリル酸およびメタクリル酸が好ましく、アクリル酸およびメタクリル酸は、それぞれ単独で、または両者を組合せて用いることができる。クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、α−(ヒドロキシメチル)アクリル酸を用いる場合は、単独ではなく、アクリル酸および/またはメタクリル酸と組合わせて用いる場合が好ましい。
一分子中に不飽和結合とエポキシ基とを有する化合物(A4)としては、具体的には、(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸−β−メチルグリシジル、(メタ)アクリル酸−β−エチルグリシジル、(メタ)アクリル酸−β−プロピルグリシジル、α−エチルアクリル酸−β−メチルグリシジル、(メタ)アクリル酸−3−メチル−3,4−エポキシブチル、(メタ)アクリル酸−3−エチル−3,4−エポキシブチル、(メタ)アクリル酸−4−メチル−4,5−エポキシペンチル、(メタ)アクリル酸−5−メチル−5,6−エポキシヘキシル、グリシジルビニルエーテルなどが挙げられ、中でも、(A4)としては、(メタ)アクリル酸グリシジルの1種以上が好ましい。
酸無水物(A5)は、分子中に酸無水物基を1個有する化合物であり、具体的には、マレイン酸無水物、コハク酸無水物、イタコン酸無水物、フタル酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸無水物、メチルテトラヒドロフタル酸無水物、トリメリット酸無水物などが挙げられ、テトラヒドロフタル酸無水物が好ましい。
本発明に使用されるバインダー樹脂(A)は、上記(A1)〜(A3)を共重合させて得られる共重合体3に、さらに(A4)を反応させて得られる共重合体、または(A1)、(A2)および(A4)を共重合させて共重合体1を得て、得られた共重合体1と(A3)とを反応させて共重合体2を得て、さらに得られた共重合体2と(A5)とを反応させて得られる共重合体を含有する。
まず、本発明における(A1)〜(A3)を共重合させて得られる共重合体3において、(A1)〜(A3)のそれぞれから導かれる構成成分の比率が、前記の共重合体を構成する構成成分の合計モル数に対してモル分率で、以下の範囲にあることが好ましい。
(A1)から導かれる構成単位;2〜30モル%
(A2)から導かれる構成単位;2〜95モル%
(A3)から導かれる構成単位;2〜70モル%
また、前記の構成成分の比率が以下の範囲であると、より好ましい。
(A1)から導かれる構成単位;5〜25モル%
(A2)から導かれる構成単位;5〜80モル%
(A3)から導かれる構成単位;5〜60モル%
前記の構成比率が、上記の範囲にあると、非画素部分である露光部分の抜け性が良好、可とう性および耐熱性のバランスが良好であり、好ましい幹ポリマーが得られる。
次に、前記の共重合体3に(A4)を付加して反応させて本発明の感光性樹脂組成物に用いる一つのバインダー樹脂となる。前記の共重合体3に(4)を反応させることにより、共重合体に光/熱硬化性を付与することができる。
前記の一分子中に不飽和結合とエポキシ基を有する化合物(A4)としては、具体的には、グリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、メチルグリシジル(メタ)アクリレートが挙げられる。好ましくは、グリシジル(メタ)アクリレートが挙げられる。これらはそれぞれ単独で、または二種以上を組み合わせて用いることができる。
(A4)の付加量は、(A1)〜(A3)を重合させて得られた共重合体3中のカルボキシル基((A3)成分に由来)に対して、5〜90モル%、好ましくは10〜80モル%である。
(A4)の組成比が上記範囲内にあると、十分な光硬化性や熱硬化性が得られ、感度と鉛筆硬度を両立し、信頼性に優れるので好ましい。
本発明の着色感光性樹脂組成物に用いられるバインダー樹脂(A)は、着色感光性樹脂組成物中の全固形分に対して、通常5〜90質量%、好ましくは10〜70質量%の範囲で含有される。バインダー樹脂(A)の含有量が、前記の基準で5〜90質量%であると、非画素部分の基板上に現像残渣が発生しにくく、また現像時に未露光部の画素部分の膜減りが生じにくく、非画素部分である露光部分の抜け性が良好な傾向にあり、好ましい。
また、上記、共重合体1を得るために、(A1)、(A2)および(A4)を共重合させる。この共重合時は、通常の条件下で行なわれる。例えば、撹拌機、温度計、還流冷却管、滴下ロートおよび窒素導入管を備えたフラスコに、(A1)、(A2)および(A4)の合計量に対して、質量基準で、0.5〜20倍量の溶剤を導入し、フラスコ内雰囲気を空気から窒素に置換する。その後、溶剤を40〜140℃に昇温した後、(A1)、(A2)および(A4)の所定量、(A1)、(A2)および(A4)の合計量に対して、質量基準で、0〜20倍量の溶剤、およびアゾビスイソブチロニトリルやベンゾイルパーオキサイドなどの重合開始剤を、(A1)、(A2)および(A4)の合計モル数に対して、0.1〜10モル%添加した溶液(室温または加熱下にて撹拌溶解)を滴下ロートから0.1〜8時間かけて前記のフラスコに滴下し、さらに40〜140℃で1〜10時間撹拌する。
なお、上記の工程において、重合開始剤の一部または全量をフラスコ側に仕込んでもよいし、(A1)、(A2)および(A4)の一部または全量をフラスコ側に仕込んでもよい。また、分子量や分子量分布を制御するために、α−メチルスチレンダイマーやメルカプト化合物を連鎖移動剤として使用してもよい。α−メチルスチレンダイマーやメルカプト化合物の使用量は、(A1)〜(A3)の合計量に対して、質量基準で、0.005〜5%である。なお、上記した重合条件は、製造設備や重合による発熱量等などを考慮し、仕込み方法や反応温度を適宜調整してもよい。
それぞれから導かれる構成成分の比率としては、前記の共重合体1を構成する構成成分の合計モル数に対してモル分率で、以下の範囲にあることが好ましい。
(A1)から導かれる構成単位;2〜40モル%
(A2)から導かれる構成単位;2〜95モル%
(A4)から導かれる構成単位;3〜65モル%
また、前記の構成成分の比率が以下の範囲であると、より好ましい。
(A1)から導かれる構成単位;5〜35モル%
(A2)から導かれる構成単位;5〜80モル%
(A4)から導かれる構成単位;15〜60モル%
前記の構成比率が、上記の範囲にあると、可とう性および耐熱性のバランスが良好であり、好ましい幹ポリマーが得られる。
次に、前記の共重合体1に(A3)を付加してバインダー樹脂(A)に光/熱硬化性を付与する。
共重合体1と(A3)との反応は、例えば、特開2001−89533号公報に記載の条件で行われることができる。具体的には、フラスコ内雰囲気を窒素から空気に置換し、前記共重合体1の(A4)から導かれる構成単位に対して、モル分率で、5〜100モル%の(A3)、カルボキシル基とエポキシ基の反応触媒として、例えば、トリスジメチルアミノメチルフェノールを(A1)〜(A4)の合計量に対して、質量基準で、0.01〜5%、および重合禁止剤として、例えば、ハイドロキノンを(A1)〜(A4)の合計量に対して、質量基準で、0.001〜5%をフラスコ内に入れて、60〜130℃で、1〜10時間反応することにより、前記の共重合体1と(A3)とを反応させることができる。なお、重合条件と同様に、製造設備や重合による発熱量等などを考慮し、仕込み方法や反応温度を適宜調整してもよい。
(A3)の付加量は、(A1)、(A2)および(A4)を共重合させて得られた樹脂中のエポキシ基(A4成分に由来)に対して、5〜100モル%、好ましくは10〜100モル%である。
(A4)の組成比が上記範囲内にあると、十分な光硬化性や熱硬化性が得られ、信頼性に優れるので好ましい。
次に、前記共重合体2と(A5)とを反応させてバインダー樹脂(A)にアルカリ溶解性を付与する。
共重合体2と(A5)との反応は、例えば、特開2001−89533号公報に記載の条件で行われることができる。具体的には、前記共重合体2の(A3)から導かれる構成単位に対して、モル分率で、5〜100モル%の(A5)、反応触媒として、例えば、トリエチルアミンを(A1)〜(A4)の合計量に対して、質量基準で、0.01〜5%をフラスコ内に入れて、60〜130℃で、1〜10時間反応することにより、前記の共重合体2と(A5)とを反応させることができる。なお、重合条件と同様に、製造設備や重合による発熱量等などを考慮し、仕込み方法や反応温度を適宜調整してもよい。
(A5)の付加量は、共重合体2のアルコール性水酸基のモル数(A3成分に由来)に対して、5〜100モル%、好ましくは10〜95モル%である。
前記のバインダー樹脂(A)のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは3,000〜100,000であり、より好ましくは5,000〜50,000であり、さらに好ましくは5,000〜30,000である。バインダー樹脂(A)の重量平均分子量が、前記の範囲にあると、塗布性が良好であり、また現像時に膜減りが生じにくく、さらに非画素部分である露光部分の抜け性が良好である傾向にあり、好ましい。
バインダー樹脂(A)の分子量分布[重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)]は、好ましくは1.5〜6.0であり、より好ましくは1.8〜4.0である。分子量分布が、前記の範囲にあると、非画素部分である露光部分の抜け性が良好である傾向にあり、好ましい。
本発明の感光樹脂組成物に用いられるバインダー樹脂(A)の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で、通常、5〜90質量%、好ましくは10〜70質量%である。バインダー樹脂(A)の含有量が、前記の範囲にあると、現像液への溶解性が十分であり、露光部分の基板上に現像残渣が発生しにくく、また現像時に未露光部の膜減りが生じにくく、露光部分の抜け性が良好な傾向にあり、好ましい。
本発明に用いられるキノンジアジド化合物(B)としては、例えば、1,2−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステル類、1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル類、1,2−ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミド類または1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミド類等が挙げられる。中でも1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル類が好ましい。
本発明に用いられるキノンジアジド化合物(B)として用いることができる1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル類としては、具体的には次のものが挙げられる。
すなわち、4−[1’、2’、3’、4’、4a’、9a’−ヘキサヒドロ−66ヒドロキシスピロ[シクロヘキサン−1、9’−キサンテン]−4a’−イル]レゾルシノール−6−ジアゾ−5−オキソ−5、6−ジヒドロ−1−ナフタレンスルホン酸(モノ〜トリ)エステル;
2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,4,6−トリヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステルまたは2,4,6−トリヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステルなどのトリヒドロキシベンゾフェノン類の1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル類;
2,2’,4,4'−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,2’,4,3’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,2’,4,3’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,3,4,2’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,3,4,2’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,3,4,4’−テトラヒドロキシ−3’−メトキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステルまたは2,3,4,4’−テトラヒドロキシ−3’−メトキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステルなどのテトラヒドロキシベンゾフェノン類の1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル類;
2,3,4,2’,6’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステルまたは2,3,4,2’,6’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステルなどのペンタヒドロキシベンゾフェノン類の1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル類;
2,4,6,3’,4’,5’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,4,6,3’,4’,5’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、3,4,5,3’,4’,5’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステルまたは3,4,5,3’,4’,5’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステルなどのヘキサヒドロキシベンゾフェノン類の1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル類;
4,4’−メチレンビス[6−2(ヒドロキシ−5−メチルフェニル)メチル]−2,5−ジメチルフェニルーナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸(モノ〜テトラ)エステル、ビス(2,4−ジヒドロキシフェニル)メタン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、ビス(2,4−ジヒドロキシフェニル)メタン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、ビス(p−ヒドロキシフェニル)メタン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、ビス(p−ヒドロキシフェニル)メタン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、1,1,1−トリ(p−ヒドロキシフェニル)エタン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、1,1,1−トリ(p−ヒドロキシフェニル)エタン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、ビス(2,3,4−トリヒドロキシフェニル)メタン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、ビス(2,3,4−トリヒドロキシフェニル)メタン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,2’−ビス(2,3,4−トリヒドロキシフェニル)プロパン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,2’−ビス(2,3,4−トリヒドロキシフェニル)プロパン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、1,1,3−トリス(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−3−フェニルプロパン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、1,1,3−トリス(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−3−フェニルプロパン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、4,4’−[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、4,4’−[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、ビス(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−2−ヒドロキシフェニルメタン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、ビス(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−2−ヒドロキシフェニルメタン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、3,3,3’,3’−テトラメチル−1,1’−スピロビインデン−5,6,7,5’,6’,7’−ヘキサノール−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、3,3,3’,3’−テトラメチル−1,1’−スピロビインデン−5,6,7,5’,6’,7’−ヘキサノール−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,2,4−トリメチル−7,2’,4’−トリヒドロキシフラバン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステルまたは2,2,4−トリメチル−7,2’,4’−トリヒドロキシフラバン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステルなどの(ポリヒドロキシフェニル)アルカン類の1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル類などが挙げられる。
中でも、下式(1)で表される「4−[1’、2’、3’、4’、4a’、9a’−ヘキサヒドロ−66ヒドロキシスピロ[シクロヘキサン−1、9’−キサンテン]−4a’−イル]レゾルシノール−6−ジアゾ−5−オキソ−5、6−ジヒドロ−1−ナフタレンスルホン酸(モノ〜トリ)エステル、下式(2)で表される4,4’−メチレンビス[6−2(ヒドロキシ−5−メチルフェニル)メチル]−2,5−ジメチルフェニルーナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸(モノ〜テトラ)エステルが好ましい。
Figure 0004935565
(ただし、式(1)の左式の3つのQ4のうち少なくとも一つは式(1)の右式で表される基であり、残りのQ4は水素原子である。)
Figure 0004935565
(ただし、式(2)の左式のP1〜P4のうち少なくとも一つは式(2)の右式で表される基であり、P1〜P4の残りは水素原子である。)
前記のキノンジアジド化合物(B)は、それぞれ単独で、または2種以上を組合せて用いられる。本発明におけるキノンジアジド化合物(B)の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して、好ましくは2〜50質量%、より好ましくは5〜40質量%である。キノンジアジド化合物の含有量が前記の範囲にあると、未露光部と露光部の溶解速度差が高くなることにより、現像時の残膜率を高く保持できる傾向があり、好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、バインダー樹脂(A)、キノンジアジド(B)、さらに任意にその他のカチオン重合開始剤(D)が、溶剤(C)に溶解または分散されて構成されてもよい。
カチオン重合開始剤(D)としては、カチオン重合開始剤であるオニウム塩が挙げられる。該オニウム塩としては、オニウムカチオンとルイス酸由来のアニオンとから構成されているものを使用することができる。
前記オニウムカチオンの具体例としては、ジフェニルヨードニウム、ビス(p−トリル)ヨードニウム、ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム、ビス(p−オクチルフェニル)ヨードニウム、ビス(p−オクタデシルフェニル)ヨードニウム、ビス(p−オクチルオキシフェニル)ヨードニウム、ビス(p−オクタデシルオキシフェニル)ヨードニウム、フェニル(p−オクタデシルオキシフェニル)ヨードニウム、(p−トリル)(p−イソプロピルフェニル)ヨードニウム、トリフェニルスルホニウム、トリス(p−トリル)スルホニウム、トリス(p−イソプロピルフェニル)スルホニウム、トリス(2,6−ジメチルフェニル)スルホニウム、トリス(p−tert−ブチルフェニル)スルホニウム、トリス(p−シアノフェニル)スルホニウム、トリス(p−クロロフェニル)スルホニウム、ジメチル(メトキシ)スルホニウム、ジメチル(エトキシ)スルホニウム、ジメチル(プロポキシ)スルホニウム、ジメチル(ブトキシ)スルホニウム、ジメチル(オクチルオキシ)スルホニウム、ジメチル(オクタデカンオキシ)スルホニウム、ジメチル(イソプロポキシ)スルホニウム、ジメチル(tert−ブトキシ)スルホニウム、ジメチル(シクロペンチルオキシ)スルホニウム、ジメチル(シクロヘキシルオキシ)スルホニウム、ジメチル(フルオロメトキシ)スルホニウム、ジメチル(2−クロロエトキシ)スルホニウム、ジメチル(3−ブロモプロポキシ)スルホニウム、ジメチル(4−シアノブトキシ)スルホニウム、ジメチル(8−ニトロオクチルオキシ)スルホニウム、ジメチル(18−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ)スルホニウム、ジメチル(2−ヒドロキシイソプロポキシ)スルホニウム、またはジメチル(トリス(トリクロロメチル)メチル)スルホニウムなどが挙げられる。
好ましいオニウムカチオンとしては、ビス(p−トリル)ヨードニウム、(p−トリル)(p−イソプロピルフェニル)ヨードニウム、ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム、トリフェニルスルホニウムまたはトリス(p−tert−ブチルフェニル)スルホニウムなどが挙げられる。
前記ルイス酸由来のアニオンの具体例としては、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアルセネート、ヘキサフルオロアンチモネートまたはテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートなどが挙げられる。好ましいルイス酸由来のアニオンとしては、ヘキサフルオロアンチモネートまたはテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートが挙げられる。
前記のオニウムカチオンおよびルイス酸由来のアニオンは、任意に組合せることができる。
カチオン重合開始剤の具体例としては、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス(p−トリル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス(p−オクチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス(p−オクタデシルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス(p−オクチルオキシフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス(p−オクタデシルオキシフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、フェニル(p−オクタデシルオキシフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、(p−トリル)(p−イソプロピルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、メチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、エチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロホスフェートなどのヨードニウムヘキサフルオロホスフェートが挙げられる。
また、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス(p−トリル)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス(p−イソプロピルフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス(2,6−ジメチルフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス(p−tert−ブチルフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス(p−シアノフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス(p−クロロフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジエチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル(メトキシ)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル(エトキシ)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル(プロポキシ)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル(ブトキシ)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル(オクチルオキシ)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル(オクタデカンオキシ)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル(イソプロポキシ)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル(tert−ブトキシ)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル(シクロペンチルオキシ)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル(シクロヘキシルオキシ)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル(フルオロメトキシ)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル(2−クロロエトキシ)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル(3−ブロモプロポキシ)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル(4−シアノブトキシ)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル(8−ニトロオクチルオキシ)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル(18−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル(2−ヒドロキシイソプロポキシ)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル(トリス(トリクロロメチル)メチル)スルホニウムヘキサフルオロホスフェートなどのスルホニウムヘキサフルオロホスフェート塩が挙げられる。
また、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス(p−トリル)ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス(p−オクチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス(p−オクタデシルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス(p−オクチルオキシフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス(p−オクタデシルオキシフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、フェニル(p−オクタデシルオキシフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、(p−トリル)(p−イソプロピルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、メチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、エチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロアルセネートなどのヨードニウムヘキサフルオロアルセネート塩が挙げられる。
また、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス(p−トリル)スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス(p−イソプロピルフェニル)スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス(2,6−ジメチルフェニル)スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス(p−tert−ブチルフェニル)スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス(p−シアノフェニル)スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス(p−クロロフェニル)スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジエチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル(メトキシ)スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル(エトキシ)スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル(プロポキシ)スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル(ブトキシ)スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル(オクチルオキシ)スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル(オクタデカンオキシ)スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル(イソプロポキシ)スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル(tert−ブトキシ)スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル(シクロペンチルオキシ)スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル(シクロヘキシルオキシ)スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル(フルオロメトキシ)スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル(2−クロロエトキシ)スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル(3−ブロモプロポキシ)スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル(4−シアノブトキシ)スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル(8−ニトロオクチルオキシ)スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル(18−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ)スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル(2−ヒドロキシイソプロポキシ)スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル(トリス(トリクロロメチル)メチル)スルホニウムヘキサフルオロアルセネートなどのスルホニウムヘキサフルオロアルセネートが挙げられる。
また、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス(p−トリル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス(p−オクチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス(p−オクタデシルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス(p−オクチルオキシフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス(p−オクタデシルオキシフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、フェニル(p−オクタデシルオキシフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、(p−トリル)(p−イソプロピルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、メチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、エチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート塩が挙げられる。
また、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス(p−トリル)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス(p−イソプロピルフェニル)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス(2,6−ジメチルフェニル)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス(p−tert−ブチルフェニル)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス(p−シアノフェニル)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス(p−クロロフェニル)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジエチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル(メトキシ)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル(エトキシ)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル(プロポキシ)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル(ブトキシ)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル(オクチルオキシ)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル(オクタデカンオキシ)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル(イソプロポキシ)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル(tert−ブトキシ)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル(シクロペンチルオキシ)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル(シクロヘキシルオキシ)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル(フルオロメトキシ)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル(2−クロロエトキシ)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル(3−ブロモプロポキシ)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル(4−シアノブトキシ)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル(8−ニトロオクチルオキシ)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル(18−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル(2−ヒドロキシイソプロポキシ)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル(トリス(トリクロロメチル)メチル)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート塩が挙げられる。
また、ジフェニルヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス(p−トリル)ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス(p−オクチルフェニル)ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス(p−オクタデシルフェニル)ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス(p−オクチルオキシフェニル)ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス(p−オクタデシルオキシフェニル)ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、フェニル(p−オクタデシルオキシフェニル)ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、(p−トリル)(p−イソプロピルフェニル)ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、メチルナフチルヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、エチルナフチルヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートなどのヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート塩が挙げられる。
また、トリフェニルスルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリス(p−トリル)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリス(p−イソプロピルフェニル)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリス(2,6−ジメチルフェニル)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリス(p−tert−ブチルフェニル)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリス(p−シアノフェニル)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリス(p−クロロフェニル)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチルナフチルスルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジエチルナフチルスルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(メトキシ)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(エトキシ)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(プロポキシ)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(ブトキシ)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(オクチルオキシ)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(オクタデカンオキシ)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(イソプロポキシ)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(tert−ブトキシ)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(シクロペンチルオキシ)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(シクロヘキシルオキシ)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(フルオロメトキシ)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(2−クロロエトキシ)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(3−ブロモプロポキシ)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(4−シアノブトキシ)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(8−ニトロオクチルオキシ)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(18−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(2−ヒドロキシイソプロポキシ)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(トリス(トリクロロメチル)メチル)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートなどが挙げられ、好ましくはビス(p−トリル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、(p−トリル)(p−イソプロピルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス(p−tert−ブチルフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス(p−トリル)ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、(p−トリル)(p−イソプロピルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス(p−t−ブチルフェニル)スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス(p−トリル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、(p−トリル)(p−イソプロピルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス(p−tert−ブチルフェニル)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス(p−トリル)ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、(p−トリル)(p−イソプロピルフェニル)ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム、トリフェニルスルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリス(p−tert−ブチルフェニル)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートなどが挙げられ、より好ましくはビス(p−トリル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、(p−トリル)(p−イソプロピルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス(p−tert−ブチルフェニル)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス(p−トリル)ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、(p−トリル)(p−イソプロピルフェニル)ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリフェニルスルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、またはトリス(p−tert−ブチルフェニル)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートなどのスルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート塩が挙げられる。
これらのカチオン重合開始剤(D)は、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
また本発明における前記のオニウム塩であるカチオン重合開始剤の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で、好ましくは0.01〜10質量%、より好ましくは0.1〜5質量%である。重合開始剤(D)の含有量が、前記の範囲にあると、硬化後の解像度低下を抑制する傾向があり好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は溶剤(C)を含む。前記の溶剤(C)としては、感光性樹脂組成物の分野で用いられている各種の有機溶剤を用いることができる。その具体例としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテルおよびエチレングリコールモノブチルエーテルなどのエチレングリコールモノアルキルエーテル類;
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテルおよびジエチレングリコールジブチルエーテルなどのジエチレングリコールジアルキルエーテル類;
メチルセロソルブアセテートおよびエチルセロソルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類;
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテートおよびメトキシペンチルアセテートなどのアルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類;
ベンゼン、トルエン、キシレンおよびメシチレンのような芳香族炭化水素類;
メチルエチルケトン、アセトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトンおよびシクロヘキサノンなどのケトン類;
エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコールおよびグリセリンなどのアルコール類;
3−エトキシプロピオン酸エチルおよび3−メトキシプロピオン酸メチルなどのエステル類;
γ−ブチロラクトンなどの環状エステル類などが挙げられる。
上記の溶剤のうち、塗布性、乾燥性の点から、好ましくは上記溶剤の中で沸点が100〜200℃の有機溶剤が挙げられ、より好ましくは、アルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ケトン類、3−エトキシプロピオン酸エチルおよび3−メトキシプロピオン酸メチルのようなエステル類が挙げられ、とりわけ好ましくは、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチルが挙げられる。
これらの溶剤(C)は、それぞれ単独で、または2種類以上混合して用いることができる。
本発明の感光性樹脂組成物における溶剤(C)の含有量は、感光性樹脂組成物に対して質量分率で、通常、60〜90質量%、好ましくは70〜85質量%である。溶剤(C)の含有量が、前記の範囲にあると、スピンコーター、スリット&スピンコーター、スリットコーター(ダイコーター、カーテンフローコーターとも呼ばれることがある。)、インクジェットなどの塗布装置で塗布したときに塗布性が良好になる傾向があり、好ましい。
その他の成分として、本発明の感光性樹脂組成物においては、必要に応じて、増感剤(E)、多価フェノール化合物(F)、架橋剤(G)、重合性モノマー(H)を含有させることができる。
前記の増感剤(E)としては、例えば、1−ナフトール、2−ナフトール、1,2−ジヒドロキシナフタレン、1,3−ジヒドロキシナフタレン、1,4−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、1,7−ジヒドロキシナフタレン、1,8−ジヒドロキシナフタレン、2,3−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレン、4−メトキシ−1−ナフトールなどのナフトール類;
チオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、4−イソプロピルチオキサントン、2,3−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、2−シクロヘキシルチオキサントン、4−シクロヘキシルチオキサントンなどのチオキサントン類が挙げられる。特に、1−ナフトール、2−ナフトール、4−メトキシ−1−ナフトール、2,4−ジエチルチオキサントンが好ましい。
前記の増感剤(E)を含有する場合、その含有量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で、好ましくは0.1〜10質量%、より好ましくは0.1〜5質量%である。増感剤(E)の含有量が、前記の範囲にあると、カチオン重合開始剤の分解を促進し、硬化後の解像度低下を防止し、さらに得られる塗膜の可視光透過率が実用上問題となる程度までは低下しないので好ましい。
前記の多価フェノール化合物(F)は、分子中に2個以上のフェノール性水酸基を有する化合物であることが好ましい。前記の多価フェノール化合物は、例えば、キノンジアジド化合物において記載したと同様のトリヒドロキシベンゾフェノン類、テトラヒドロキシベンゾフェノン類、ペンタヒドロキシベンゾフェノン類、ヘキサヒドロキシベンゾフェノン類、(ポリヒドロキシフェニル)アルカン類などの多価フェノール類などが挙げられる。
また、前記の多価フェノール化合物(F)として、少なくともヒドロキシスチレンを原料モノマーとする重合体が挙げられる。多価フェノール化合物(F)として、具体的には、ポリヒドロキシスチレン、ヒドロキシスチレン/メチルメタクリレート共重合体、ヒドロキシスチレン/シクロヘキシルメタクリレート共重合体、ヒドロキシスチレン/スチレン共重合体、ヒドロキシスチレン/アルコキシスチレン共重合体などのヒドロキシスチレンを重合した樹脂が挙げられる。さらに、フェノール類、クレゾール類およびカテコール類からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物とアルデヒド類およびケトン類からなる群から選ばれる1以上の化合物とを縮重合して得られるノボラック樹脂なども挙げられる。
前記の多価フェノール化合物(F)を含有する場合、その含有量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で、好ましくは0.1〜40質量%、より好ましくは0.1〜40質量%、とりわけ好ましくは1〜25質量%である。多価フェノール化合物の含有量が前記の範囲にあると、得られる膜の可視光透過率が低下しない傾向があり好ましい。
前記の架橋剤(G)としては、メチロール化合物等が挙げられる。
前記のメチロール化合物としては、アルコキシメチル化メラミン樹脂、アルコキシメチル化尿素樹脂などのアルコキシメチル化アミノ樹脂なども挙げられる。ここで、アルコキシメチル化メラミン樹脂としては、具体的に、メトキシメチル化メラミン樹脂、エトキシメチル化メラミン樹脂、プロポキシメチル化メラミン樹脂、ブトキシメチル化メラミン樹脂などが、アルコキシメチル化尿素樹脂としては、例えば、メトキシメチル化尿素樹脂、エトキシメチル化尿素樹脂、プロポキシメチル化尿素樹脂、ブトキシメチル化尿素樹脂などが挙げられる。前記の架橋剤は、それぞれ単独でまたは2種以上を組合せて用いられる。
前記の架橋剤(G)を含有する場合、その含有量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で、0.1〜15質量%であることが好ましい。架橋剤の含有量が前記の範囲にあると、得られる膜の可視光透過率が低下しにくい傾向があり好ましい。
前記の重合性モノマー(H)としては、例えば、加熱されることによってラジカル重合し得る重合性モノマー、カチオン重合し得る重合性モノマーなどが挙げられ、好ましくはカチオン重合し得る重合性モノマーが挙げられる。
前記のラジカル重合し得る重合性モノマーとしては、例えば、重合性炭素−炭素不飽和結合を有する化合物が挙げられ、単官能の重合性モノマーであってもよいし、2官能の重合性モノマーまたは3官能以上の重合性モノマーなど、多官能の重合性モノマーであってもよい。
前記の単官能の重合性モノマーとしては、例えば、ノニルフェニルカルビトールアクリレート、ノニルフェニルカルビトールメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルメタクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールメタアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタアクリレート、N−ビニルピロリドンなどが挙げられる。
前記の2官能の重合性モノマーとしては、例えば、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ビスフェノールAのビス(アクリロイロキシエチル)エーテル、3−メチルペンタンジオールジアクリレート、3−メチルペンタンジオールジメタクリレートなどが挙げられる。
また、前記の3官能以上の重合性モノマーとしては、例えば、トリメチルロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールペンタアクリレート、ペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレートなどが挙げられる。前記の重合性モノマーの中でも、2官能または3官能以上の重合性モノマーが好ましく用いられる。具体的には、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどが好ましく、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートがより好ましい。また、2官能または3官能以上の重合性モノマーと、単官能の重合性モノマーとを組合せて用いてもよい。
前記のカチオン重合し得る重合性モノマーとしては、例えば、ビニルエーテル基、プロペニルエーテル基、オキセタニル基などのカチオン重合性の官能基を有する重合性モノマーが挙げられる。具体的にビニルエーテル基を含む化合物として、例えば、トリエチレングリコールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテルなどが挙げられ、プロペニルエーテル基を含む化合物として、4−(1−プロペニルオキシメチル)−1,3−ジオキソラン−2−オンなどが挙げられ、オキセタニル基を含む化合物として、ビス{3−(3−エチルオキセタニル)メチル}エーテル、1,4−ビス{3−(3−エチルオキセタニル)メトキシ}ベンゼン、1,4−ビス{3−(3−エチルオキセタニル)メトキシ}メチルベンゼン、1,4−ビス{3−(3−エチルオキセタニル)メトキシ}シクロヘキサン、1,4−ビス{3−(3−エチルオキセタニル)メトキシ}メチルシクロヘキサン、3−(3−エチルオキセタニル)メチル化ノボラック樹脂などが挙げられる。
前記の重合性モノマー(H)を用いる場合、単独または2種以上を組合せて用いられることができる。重合性モノマーを用いる場合、その添加量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で、好ましくは0.1〜20質量%である
本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じて、充填剤、他の高分子化合物、界面活性剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止材、凝集剤、連鎖移動剤などの添加剤を併用することもできる。
充填剤としては、ガラス、シリカ、アルミナなどが例示される。
他の高分子化合物としては、エポキシ樹脂、マレイミド樹脂などの硬化性樹脂やポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフルオロアルキルアクリレート、ポリエステル、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂などが例示される。
界面活性剤としては、市販の界面活性剤を用いることができ、例えば、シリコーン系、フッ素系、エステル系、カチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性などの界面活性剤などが挙げられ、それぞれ単独でまたは2種以上を組合せて用いられる。前記の界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリエチレングリコールジエステル類、ソルビタン脂肪酸エステル類、脂肪酸変性ポリエステル類、3級アミン変性ポリウレタン類、ポリエチレンイミン類等のほか、商品名でSHシリーズ(東レ・ダウコーニング社製)、KP(信越化学工業(株)製)、ポリフロー(共栄化学(株)製)、エフトップ(トーケムプロダクツ社製)、メガファック(大日本インキ化学工業(株)製)、フロラード(住友スリーエム(株)製)、アサヒガード、サーフロン(以上、旭硝子(株)製)、ソルスパース(ゼネカ(株)製)、EFKA(EFKA CHEMICALS社製)、PB821(味の素(株)製)などが挙げられる。
密着性促進剤として具体的には、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロイロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
酸化防止剤として具体的には、2,2’−チオビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノールなどが挙げられる。
紫外線吸収剤として具体的には、2−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
また凝集剤として具体的には、ポリアクリル酸ナトリウムなどが挙げられる。
連鎖移動剤としては、ドデシルメルカプタン、2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテンなどが挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物は、特許文献1に記載されるような樹脂成分を含まないので、貯蔵前の粘度に対する貯蔵後の粘度の変化率が小さく、好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、前記(A)〜(C)の各成分、必要に応じて(D)〜(H)成分を任意の順序で混合するなどの方法により、容易に調整することができる。
本発明の感光樹脂組成物は必要に応じて着色材料(I)を含むことが出来る。前記の着色材料(I)は顔料/染料を問わない。例えば顔料の場合、顔料分散レジストに通常用いられる有機顔料または無機顔料であることができる。無機顔料としては、金属酸化物や金属錯塩のような金属化合物が挙げられ、具体的には、鉄、コバルト、アルミニウム、カドミウム、鉛、銅、チタン、マグネシウム、クロム、亜鉛、アンチモンなどの金属の酸化物または複合金属酸化物が挙げられる。また有機顔料および無機顔料として具体的には、カラーインデックス(Colour Index)(The Society of Dyers and Colourists 出版)で、ピグメント(Pigment)に分類されている化合物が挙げられる。より具体的には、以下のようなカラーインデックス(C.I.)番号の顔料が挙げられるが、これらに限定されるわけではない。
C.I.ピグメントイエロー20、24、31、53、83、86、93、94、109、110、117、125、137、138、139、147、148、150、153、154、166、173および180;
C.I.ピグメントオレンジ13、31、36、38、40、42、43、51、55、59、61、64、65および71;
C.I.ピグメントレッド9、97、105、122、123、144、149、166、168、176、177、180、192、215、216、224、242、254、255および、264;
C.I.ピグメントバイオレット14、19、23、29、32、33、36、37および38;
C.I.ピグメントブルー15(15:3、15:4、15:6など)、21、28、60、64および76;
C.I.ピグメントグリーン7、10、15、25、36および47;
C.I.ピグメントブラウン28;
C.I.ピグメントブラック1および7など。
これらの着色材料(I)は、それぞれ単独で、または2種以上組み合わせて用いることができる。着色材料(I)は、着色感光性樹脂組成物中の全固形分量を基準に、通常3〜60質量%、好ましくは5〜55質量%の範囲で用いられる。着色材料(D)の含有量が、前記の基準で5〜60質量%の範囲であると、薄膜を形成しても画素の色濃度が十分であり、現像時に非画素部の抜け性が低下することがないため、残渣が発生しにくい傾向があり、好ましい。
感光性樹脂組成物からなる層(1)は、例えば、感光性樹脂組成物を基板(2)の上に塗布する方法等によって形成することができる。塗布は、例えば、スピンコート、流延塗布法、ロール塗布法、スリット アンド スピンコートまたはスリットコート法などにより行なわれる。塗布後、加熱乾燥(プリベーク)、または減圧乾燥後に加熱して、溶剤などの揮発成分を揮発させることによって、感光性樹脂組成物層(1)が形成される。ここで、加熱の温度は、通常、70〜200℃、好ましくは80〜130℃である。該感光性樹脂組成物層(1)は揮発成分をほとんど含まない。また、前記感光性樹脂組成物層の厚みは、1.5〜5μm程度である。
その後、感光性樹脂組成物層(1)にマスク(3)を介して、放射線(4)を照射する。マスク(3)のパターンは、目的とするパターン形状に応じて適宜選択される。放射線としては、例えばg線またはi線などの光線が用いられる。放射線は、感光性樹脂組成物層(1)の全面に亙って平行となって照射されるように、例えば、マスクアライナーやステッパなどを用いて照射されることが好ましい。このように放射線が照射されることによって、マスク(3)と感光性樹脂組成物層(1)との位置合わせを正確に行うことができる。
照射後、現像する。現像は、露光後の感光性樹脂組成物層(1)を例えば、パドル法、浸漬法またはシャワー法などによって行うことができる。現像液としては、通常、アルカリ水溶液が用いられる。アルカリ水溶液としては、アルカリ性化合物の水溶液が用いられ、アルカリ性化合物は無機アルカリ性化合物であってもよいし、有機アルカリ性化合物であってもよい。
前記の無機アルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウムまたはアンモニアなどが挙げられる。
前記の有機アルカリ性化合物としては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、2−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミンまたはエタノールアミンなどが挙げられる。
前記のアルカリ性化合物は、単独で用いてもよいし、2種以上を組合せて用いてもよい。現像液中における、アルカリ性化合物の含有量は、現像液100質量部当り、通常、0.01〜10質量部であり、好ましくは0.1〜5質量部である。
現像液は、界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤としては、例えば、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤またはアニオン系界面活性剤などが挙げられる。
ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルなどのポリオキシエチレン誘導体、オキシエチレン/オキシプロピレンブロック共重合体、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミンなどが挙げられる。
カチオン系界面活性剤としては、例えば、ステアリルアミン塩酸塩などのアミン塩、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライドなどの第四級アンモニウム塩などが挙げられる。
アニオン系界面活性剤としては、例えば、ラウリルアルコール硫酸エステルナトリウムまたはオレイルアルコール硫酸エステルナトリウムなどの高級アルコール硫酸エステル塩;ラウリル硫酸ナトリウムまたはラウリル硫酸アンモニウムなどのアルキル硫酸塩;ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムまたはドデシルナフタレンスルホン酸ナトリウムなどのアルキルアリールスルホン酸塩等が挙げられる。これらの界面活性剤は、単独で用いてもよいし、2種以上を組合せて用いてもよい。
また、現像液は、有機溶剤を含有していてもよい。前記の有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノールなどの水溶性の有機溶剤などが挙げられる。
現像によって、感光性樹脂組成物層(1)のうちの、先の露光において放射線が照射された放射線照射領域(12)が現像液に溶解し、放射線が照射されなかった放射線未照射領域(11)が現像液に溶解することなく残って、樹脂パターン(5)を形成する。
アルカリ現像後、通常は水洗し、乾燥する。乾燥後、さらに得られた樹脂パターン(5)の一部または全面に亙って、放射線を照射する。当該放射線の光源は、300〜450nmの波長の放射線を含む光源を用いることが好ましい。
このようにして形成された樹脂パターン(5)は、耐熱性や耐溶剤性などを向上させる観点から、さらに加熱処理(ポストベーク)されることが好ましい。加熱処理は、樹脂パターン(5)の一部または全面に亙って放射線を照射した後の基板をホットプレートやクリーンオーブンなどの加熱装置で加熱する方法が好ましい。加熱温度は、好ましくは150〜250℃、より好ましくは180〜240℃である。加熱時間は、好ましくは5〜120分、より好ましくは15〜90分程度である。加熱処理することによって、樹脂パターン(5)が硬化して、硬化樹脂パターン(6)が形成される。
このようにして形成された硬化樹脂パターン(6)は、例えば、スペーサー、垂直配向型液晶表示素子用の突起を構成する硬化樹脂パターンとして有用である。
上記において、本発明の実施の形態について説明を行ったが、上記に開示された本発明の実施の形態は、あくまで例示であって、本発明の範囲はこれらの実施の形態に限定されない。本発明の範囲は、特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲の記載と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。以下、実施例によって本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
実施例1、実施例2および比較例1に使用したバインダー樹脂の構造等を、式(X)、式(Y)および表1に示す。表1中、a〜hは、構成単位およびそのモル比を示す。
バインダー樹脂には、イソシアナート化合物が用いられていないので、イソシアナート化合物に起因する特有の臭気はなかった。
Figure 0004935565
構成単位の説明
a:共重合体1における(A1)から導かれる構成単位。
b:共重合体1における(A2)から導かれる構成単位。
c:共重合体1における(A4)から導かれる構成単位に、(A4)に由来するエポキシ基の部位で(A3)を反応させて導かれる構成単位。
d:共重合体1の(A4)と(A3)の反応により生成した共重合体2の(A4)と(A3)の反応により生成した水酸基の部位に(A5)を反応させて得られた共重合体における(A5)から導かれる構成単位。
e:共重合体3における(A1)から導かれる構成単位。
f:共重合体3における(A2)から導かれる構成単位。
g:共重合体3における(A3)から導かれる構成単位。
h:共重合体3に、(A4)を反応させて得られる共重合体における(A4)から導かれる構成単位。
Figure 0004935565
上記のバインダーポリマーのポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)の測定については、GPC法を用いて、以下の条件で行った。
装置;HLC-8120GPC(東ソー(株)製)
カラム;TSK−GELG4000HXL+TSK−GELG2000HXL(直列接続)
カラム温度;40℃
溶媒;THF
流速;1.0ml/min
注入量;50μl
検出器;RI
測定試料濃度;0.6質量%(溶媒;THF)
校正用標準物質;TSK STANDARD POLYSTYRENE F−40、F−4、F−1、A−2500、A−500(東ソー(株)製)
上記で得られた重量平均分子量および数平均分子量の比を分子量分布(Mw/Mn)とした。
実施例1
樹脂A(100質量部)、下式(1)で表される化合物(30質量部)(キノンジアジド化合物(B))、密着性促進剤の2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランとしてKBM−303(信越シリコーン製、3質量部)、溶剤(C)としてジエチレングリコールエチルメチルエーテル(350質量部)、シリコーン系界面活性剤としてSH8400(東レダウコーニング製、0.03質量部)(ジメチル、メチル(ポリエチレンオキサイドアセテート)シロキサン)を混合し、感光性樹脂組成物1を得た。
Figure 0004935565
(ただし、式(1)の左式の3つのQ4のうち少なくとも一つは式(1)の右式で表される基であり、残りのQ4は水素原子である。)
実施例2
樹脂A(100質量部)、下式(2)で表される化合物(20質量部)、KBM−303(3質量部)、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル(350質量部)、SH8400(0.03質量部)を混合し、感光性樹脂組成物2を得た。
Figure 0004935565
(ただし、式(2)の左式のP1〜P4のうち少なくとも一つは式(2)の右式で表される基であり、P1〜P4の残りは水素原子である。)
実施例3
樹脂B(100質量部)、式(1)で表される化合物(30質量部)、KBM−303(3質量部)、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル(350質量部)、SH8400(0.03質量部)を混合し、感光性樹脂組成物3を得た。
実施例4
樹脂B(100質量部)、式(2)で表される化合物(20質量部)、KBM−303(3質量部)、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル(350質量部)、SH8400(0.03質量部)を混合し、感光性樹脂組成物4を得た。
比較例1
樹脂C(100質量部)、式(1)で表される化合物(30質量部)、KBM−303(3質量部)、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル(350質量部)、SH8400(0.03質量部)を混合し、感光性樹脂組成物5を得た。
比較例2
樹脂B(100質量部)、下式(2)で表される化合物(20質量部)、KBM−303(3質量部)、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル(350質量部)、SH8400(0.03質量部)を混合し、感光性樹脂組成物6を得た。
透明ガラス基板(#1737;コーニング社製)上に、上記で得た感光性樹脂組成物1〜6をスピンコートし、クリーンオーブンを用いて100℃で3分間加熱(プリベーク)して2μm厚の感光性樹脂組成物層を形成した。膜厚は膜厚計(DEKTAK3;(株)ULVAC製)で測定した。
その後、得られた感光性樹脂組成物層に、コンタクトアライナ(M−2Li;ミカサ(株)製)を用いて、マスクを介して放射線(波長365nm基準での強度は150mJ/cm2)を照射して、露光した。このときに用いたマスクは、ライン/スペース=30μm/30μm、20μm/20μm、10μm/10μm、9μm/9μm、8μm/8μm、7μm/7μm、6μm/6μm、5μm/5μmのパターンを含むものである。
露光後、23℃の現像液(水酸化カリウムを質量分率で0.1%含み、ノニオン系界面活性剤を含む水溶液)に150秒間浸漬して現像した後、超純水で洗浄し、乾燥後、220℃/30分ポストベークをして着色樹脂パターンを得た。得られた着色樹脂パターンを、走査型電子顕微鏡を用いて観察した結果、6μm/6μm以上のライン/スペースパターンで樹脂パターンが形成されていることを確認した。このパターンは例えば、液晶制御用突起などに使用することができる。
得られた硬化樹脂パターンの下記の項目において測定等を行った結果を表2に示す。
Figure 0004935565
(表2中の説明)
耐NMP性;露光工程において、フォトマスクを使用しない以外は、実施例に記載したのと同様の操作を行い、塗膜を作製した。作製した塗膜をN−メチルピロリドン(30℃×30分)に浸漬し、浸漬前後の膜厚変化を測定した。浸漬前後での膜厚変化(=(浸漬後の膜厚(μm)/浸漬前の膜厚(μm))×100)が103%以下の場合を○、103%を越えた場合を×とした。
表面平滑性;表面平滑性の基準は、目視により表面を観察して、光沢があると○、白濁(不透明)していると×を表す。
粒状異物;目視により表面を観察して、異物がなければ○、あれば×を表す。
形状;パターンの基板等に対して垂直な断面に対する断面を、上記と同じSEMを用いて観察した。断面の形状が、表面が曲面を含む上に凸の図形からなる形状であれば○(特に、上に凸の円弧状である場合が好ましい。)、上底が下底より小さい等脚台形であれば△、長方形であれば×とした。
本発明の実施例1から実施例4の感光性樹脂組成物では、比較例1および比較例2と比較すると、耐NMP性、表面平滑性、パターン形状に優れるパターンおよび塗膜が得られることがわかり、スペーサーの形成用とともに垂直配向型液晶表示素子用の突起の形成用としても好適に用いることができる。
本発明の感光性樹脂組成物は、イソシアナート化合物を用いないので臭気の問題がなく、形成された塗膜やパターンは、耐溶剤性が良好で、表面平滑性が優れ、粒状異物等の塗布欠陥が発生せず、5〜50μmの微細なパターンまで解像可能であることから非画素部分である露光部分の抜け性が良好であるので、垂直配向型液晶表示素子用の突起、スペーサーのようなパターン形成用に適している。
本発明の感光性樹脂組成物は、液晶表示装置におけるスペーサーと液晶配向制御用の突起の同時形成に用いることができるほか、絶縁膜(コンタクトホール形成)、オーバーコート(平坦化膜)の形成にも用いることができる。さらに、それらの接着に用いられる接着剤として使用しうる。

Claims (12)

  1. バインダー樹脂(A)、キノンジアジド化合物(B)および溶剤(C)を含有する感光性樹脂組成物であって、バインダー樹脂(A)が、下記(A1)〜(A3)を共重合させて得られる共重合体3に、さらに(A4)を反応させて得られる共重合体、または下記(A1)、(A2)および(A4)を共重合させて共重合体1を得て、得られた共重合体1と(A3)とを共重合体1の(A4)に由来するエポキシ基の部位で反応させて共重合体2を得て、さらに得られた共重合体2と(A5)とを共重合体1の(A4)と(A3)の反応により生成した水酸基の部位に反応させて得られる共重合体のうち少なくとも一種を含有するバインダー樹脂であることを特徴とする感光性樹脂組成物。
    (A1);一分子中にトリシクロデカン骨格およびジシクロペンタジエン骨格からなる群から選ばれる少なくとも1種の骨格と、不飽和結合とを有する化合物
    (A2);(A1)および(A4)と共重合可能であり不飽和結合を有する化合物
    (A3);不飽和結合基を有するカルボン酸
    (A4);一分子中に不飽和結合とエポキシ基とを有する化合物
    (A5);酸無水物
    (ただし、(A1)〜(A5)は、それぞれ、互いに同一ではない。)
  2. (A1)が、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル(メタ)アクリレートおよびジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  3. (A2)が、スチレン、α−メチルスチレン、ベンジル(メタ)アクリレート、N−置換マレイミド化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1または2に記載の感光性樹脂組成物。
  4. (A3)が、アクリル酸およびメタクリル酸からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1〜3のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
  5. (A4)が、アクリル酸グリシジルおよびメタクリル酸グリシジルからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1〜4のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
  6. (A5)が、マレイン酸無水物、コハク酸無水物、イタコン酸無水物、フタル酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸無水物、メチルテトラヒドロフタル酸無水物およびトリメリット酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1〜5のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
  7. 請求項1〜6のいずれかに記載の感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化樹脂パターン。
  8. 硬化樹脂パターンがスペーサーである請求項7に記載の硬化樹脂パターン。
  9. 硬化樹脂パターンが垂直配向型液晶表示素子用の突起である請求項7に記載の硬化樹脂パターン。
  10. 硬化樹脂パターンが絶縁膜である請求項7に記載の硬化樹脂パターン。
  11. 硬化樹脂パターンがオーバーコートである請求項7に記載の硬化樹脂パターン。
  12. 請求項1〜6のいずれかに記載の感光性樹脂組成物を用いて形成されるスペーサー、絶縁膜、オーバーコートおよび液晶配向制御用の突起からなる群から選ばれる少なくとも1種の硬化樹脂パターンを含んでなるカラーフィルタ。
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Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5210201B2 (ja) * 2009-02-24 2013-06-12 東京応化工業株式会社 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、及びパターン形成方法
CN102165339A (zh) * 2009-05-29 2011-08-24 Dnp精细加工股份有限公司 滤色片用热固性喷墨墨液
JP5441542B2 (ja) * 2009-07-22 2014-03-12 富士フイルム株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜、層間絶縁膜、有機el表示装置、及び液晶表示装置
KR20130084240A (ko) * 2010-06-03 2013-07-24 스미또모 베이크라이트 가부시키가이샤 감광성 수지 조성물 및 감광성 수지 조성물의 제조 방법
CN103229101B (zh) * 2010-11-30 2017-05-10 日产化学工业株式会社 微透镜用感光性树脂组合物
JP5477268B2 (ja) * 2010-12-02 2014-04-23 東洋インキScホールディングス株式会社 感光性樹脂組成物およびタッチパネル用絶縁膜
KR101495533B1 (ko) * 2010-12-21 2015-02-25 동우 화인켐 주식회사 스페이서 형성용 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 표시 장치용 스페이서 및 이를 포함하는 표시 장치
TWI427412B (zh) * 2011-04-28 2014-02-21 Chi Mei Corp 彩色濾光片用感光性樹脂組成物及其所形成之彩色濾光片
KR102066287B1 (ko) * 2012-06-11 2020-01-14 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 착색 감광성 수지 조성물
JP6350521B2 (ja) * 2013-04-05 2018-07-04 Jsr株式会社 アレイ基板、液晶表示素子および感放射線性樹脂組成物
KR101391224B1 (ko) * 2013-05-28 2014-05-02 동우 화인켐 주식회사 스페이서 형성용 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조되는 스페이서
US9802400B2 (en) * 2013-06-24 2017-10-31 Dow Global Technologies Llc Orientation control layer formed on a free top surface of a first block copolymer from a mixture of first and second block copolymers
CN103360958B (zh) * 2013-07-16 2016-08-24 南昌欧菲光科技有限公司 胶粘剂及其应用、胶粘膜组件及其应用
JP6190650B2 (ja) * 2013-07-19 2017-08-30 昭和電工株式会社 カラーフィルターのオーバーコート層用樹脂組成物、それを用いたオーバーコート層、画像表示素子、及び画像表示素子の製造方法
TW201702737A (zh) * 2015-07-09 2017-01-16 奇美實業股份有限公司 感光性樹脂組成物、保護膜及元件
JP6587208B2 (ja) * 2015-07-31 2019-10-09 荒川化学工業株式会社 紫外線硬化型インキのバインダー樹脂、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物及び硬化物
WO2024135186A1 (ja) * 2022-12-21 2024-06-27 東レ株式会社 感光性樹脂組成物、硬化物、有機el表示装置、表示装置、およびフェノール化合物

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4483371B2 (ja) * 2003-04-07 2010-06-16 東レ株式会社 感光性樹脂組成物
JP4127150B2 (ja) * 2003-07-31 2008-07-30 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法
JP4572664B2 (ja) * 2004-05-28 2010-11-04 三菱化学株式会社 液晶分割配向突起用感光性組成物、及び液晶表示装置
JP2006259708A (ja) * 2005-02-21 2006-09-28 Sumitomo Chemical Co Ltd 着色感光性樹脂組成物
KR101206780B1 (ko) * 2005-03-03 2012-11-30 주식회사 동진쎄미켐 감광성 수지 조성물
JP2006243563A (ja) * 2005-03-04 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性ソルダーレジスト組成物及び感光性ソルダーレジストフィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法
KR101342521B1 (ko) * 2005-07-26 2013-12-17 주식회사 동진쎄미켐 감광성 수지 조성물
JP2007147809A (ja) * 2005-11-25 2007-06-14 Chisso Corp ポジ型感光性樹脂組成物およびそれを用いた表示素子
JP4797701B2 (ja) * 2006-03-02 2011-10-19 日立化成工業株式会社 感放射線性組成物
JP4766268B2 (ja) * 2007-03-01 2011-09-07 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法

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