JP5687210B2 - 紫外線吸収部材用組成物およびこれを用いた紫外線吸収部材 - Google Patents

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本発明は、式（１）で表される少なくとも１種類の金属錯体と、少なくとも１種類のマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを含む紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いた紫外線吸収部材に関する。

近年、可視光線を十分に透過すると同時に、紫外線を選択的に遮蔽する機能を有する部材が様々な分野で使用されている。例えば、自動車のウインドウガラスや建築物の窓ガラス等においては、日焼けや内装材の劣化を引き起こす紫外線を遮蔽するために紫外線遮蔽ガラスが広く使用されている。

また、カーポート、ショーウインドウ、ショーケース、照明用透明シェード等に使用される透明樹脂板や、各種透明容器等の用途においても、紫外線遮蔽機能を付与したアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂等の透明な熱可塑性樹脂の成形体が用いられている。

このように、ガラスや樹脂等の基材に紫外線を遮蔽する機能を付与するためには、紫外線吸収剤として無機系金属酸化物微粒子や有機系紫外線吸収剤を用いる方法が一般的に知られている。

しかしながら、無機系金属酸化物微粒子、有機系紫外線吸収剤を問わず、従来公知の紫外線吸収剤においては、遮蔽可能な紫外線は３８０ｎｍ以下のものに限られ、３８０〜４００ｎｍのＵＶ−Ａと呼ばれる紫外線を十分に遮蔽でき、且つ長期間に渡って光を照射しても劣化せず、且つ十分に可視光を透過するような紫外線吸収剤はほとんど知られていない。

ここでＵＶ−Ａとは、比較的波長の長い紫外線（３２０〜４００ｎｍ）であり、地表に到達する太陽光の紫外線としては最も多く含まれるが、人体にとっては皮膚への浸透程度が深いため、長時間の曝露が色素沈着（シミ）やシワを引き起こすことが知られている。

特開２００８−１７４６０７号公報 特開２０００−６３６４７号公報 特許２９５７９２４ 特開２００９−３５７０３号公報

本発明は、前記のような従来技術に伴う問題を解決しようとするものであり、優れた耐光性を長期間に渡って持続し、可視光透過率を高度に保ったまま、従来遮蔽困難であったＵＶ−Ａを十分に遮蔽することができる紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いた紫外線吸収部材を提供することを目的としている。

本発明は、以下に示すとおりの紫外線吸収部材用組成物およびこれを用いた紫外線吸収部材に関する。
項１．式（１）：

（式中、Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３およびＹ^４はそれぞれ互いに独立して、ＮＨ、ＮＲ^５、酸素原子または硫黄原子であり、
Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３またはＹ^４に帰属されるＮＲ^５のＲ^５は、炭素数１〜８のアルキル基または置換基を有してもよい炭素数６〜１５のアリール基である。尚、Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３およびＹ^４のうち少なくとも２つがＮＲ^５で表される場合、これらＮＲ^５のＲ^５はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
また、Ｚ^１およびＺ^２はそれぞれ互いに独立して、窒素原子、ＣＨまたはＣＲ^６であり、
Ｚ^１またはＺ^２に帰属されるＣＲ^６のＲ^６は、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１５のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数４〜１２のヘテロアリール基、置換基を有していてもよい炭素数５〜１２のヘテロアラルキル基または炭素数７〜１５のアラルキル基を示す。尚、Ｚ^１およびＺ^２がともにＣＲ^６で表される場合、これらＣＲ^６のＲ^６はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４の各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし４個を置換することができ、４個のベンゼン環の水素原子を置換した置換基の全てはそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であり、
Ｍは金属原子を示す。）
で表される少なくとも１種類の金属錯体と、少なくとも１種類のマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを含む紫外線吸収部材用組成物。

項２．式（１）における金属原子Ｍが、コバルト原子、ニッケル原子、銅原子、または亜鉛原子である項１に記載の紫外線吸収部材用組成物。
項３．溶媒を含むか、あるいは溶媒を含むことなくマトリックス材料の前駆体が溶媒を兼ねる溶液形態である項１または２に記載の紫外線吸収部材用組成物。
項４．分散媒を含むか、あるいは分散媒を含むことなくマトリックス材料の前駆体が分散媒を兼ね、該金属錯体の微粒子が分散した分散液形態である項１または２に記載の紫外線吸収部材用組成物。
項５．前記項１〜４のいずれかに記載の紫外線吸収部材用組成物を用いて作製される紫外線吸収部材。
項６．基材上に該金属錯体を含有するマトリックス材料の膜を有する積層体としての紫外線吸収部材である項５に記載の紫外線吸収部材。
項７．該金属錯体がマトリックス材料の膜中に含有された薄膜形態の紫外線吸収部材である項５に記載の紫外線吸収部材。

本発明は、紫外線吸収剤としての式（１）で表される金属錯体と、少なくとも１種類のマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを含有することを特徴とする紫外線吸収部材用組成物を提供する。

本発明における紫外線吸収部材用組成物は、式（１）で表される金属錯体が溶解状態にあるものであってもよいし、式（１）で表される金属錯体の微粒子が分散状態にあるものであってもよい。
溶解状態の式（１）で表される金属錯体を含有する紫外線吸収部材用組成物の場合、最終的に得られる紫外線吸収部材の可視光透過率を高度に保つ上で特に有利であり、一方、分散状態の式（１）で表される金属錯体微粒子を含有する紫外線吸収部材用組成物の場合には、耐光性が優れた紫外線吸収部材を得る上で特に有利となる。

また、本発明は前記の紫外線吸収部材用組成物を用いて、ガラス基材や樹脂基材上にコーティング膜を施して得られる積層体としての紫外線吸収部材、および剥離性基材上にコーティングした後、これを剥離することによって得られる薄膜形態の紫外線吸収部材を提供する。

式（１）で表される金属錯体は、従来遮蔽困難であったＵＶ−Ａを効率よく遮蔽し、また一般的な有機系紫外線吸収剤に比べてはるかに良好な耐光性を示し、また長期間にわたって光を照射し続けても、その紫外線吸収能が低下しにくい。また、金属酸化物微粒子に比べて紫外線遮蔽能が大幅に優れているため、少量の添加で十分な紫外線遮蔽能を付与することができ、さらに、可視光域における透明性が非常に優れていることも特筆すべき特徴である。

本発明によると、優れた耐光性を長期間に渡って持続し、可視光透過率を高度に保ったまま、従来遮蔽困難であったＵＶ−Ａを十分に遮蔽することができる紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いた紫外線吸収部材を提供することができる。

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明は、式（１）：

（式中、Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３およびＹ^４はそれぞれ互いに独立して、ＮＨ、ＮＲ^５、酸素原子または硫黄原子であり、Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３またはＹ^４に帰属されるＮＲ^５のＲ^５は、炭素数１〜８のアルキル基または置換基を有してもよい炭素数６〜１５のアリール基である。尚、Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３およびＹ^４のうち少なくとも２つがＮＲ^５で表される場合、これらＮＲ^５のＲ^５はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。また、Ｚ^１およびＺ^２はそれぞれ互いに独立して、窒素原子、ＣＨまたはＣＲ^６であり、Ｚ^１またはＺ^２に帰属されるＣＲ^６のＲ^６は、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１５のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数４〜１２のヘテロアリール基、置換基を有していてもよい炭素数５〜１２のヘテロアラルキル基または炭素数７〜１５のアラルキル基を示す。尚、Ｚ^１およびＺ^２がともにＣＲ^６で表される場合、これらＣＲ^６のＲ^６はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４の各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし４個を置換することができ、４個のベンゼン環の水素原子を置換した置換基の全てはそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であり、Ｍは金属原子を示す。）
で表される少なくとも１種類の金属錯体と、少なくとも１種類のマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを含む紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いた紫外線吸収部材を提供するものである。

また、式（１）におけるＹ^１、Ｙ^２、Ｙ^３およびＹ^４、Ｚ^１およびＺ^２、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６およびＭについて以下に例示する。

式中、Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３またはＹ^４に帰属される、前記のＮＲ^５のＲ^５としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等のアルキル基や、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、３−クロロフェニル基、４−ブロモフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、ナフチル基等のアリール基が挙げられる。
尚、Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３、Ｙ^４のうち少なくとも２つがＮＲ^５で表される場合、これらＮＲ^５のＲ^５はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。

ここで、式（１）におけるＹ^１、Ｙ^２、Ｙ^３およびＹ^４は、合成方法の簡便さの観点から、硫黄原子であることが特に好ましい。

式中、Ｚ^１またはＺ^２に帰属される、前記のＣＲ^６のＲ^６としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等のアルキル基や、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、３−クロロフェニル基、４−ブロモフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、ナフチル基等のアリール基や、２−フリル基、２−チエニル基、５−クロロ−２−チエニル基、２−ピロリル基、２−オキサゾリル基、５−メチル−２−オキサゾリル基、２−チアゾリル基等のヘテロアリール基や、４−ピリジルメチル基、４−キノリルメチル基、２−チエニルメチル基等のヘテロアラルキル基や、

４−アセトアミドベンジル基、３−アミノベンジル基、４−アミノベンジル基、３−メトキシベンジル基、２−メトキシフェネチル基、４−（ｎ−ペンチルオキシ）ベンジル基、２−アリルオキシフェネチル基、５−アリル−２−ヒドロキシ−３−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基、２−ブロモベンジル基、３−フェネチル基、４−ブロモベンジル基、２−クロロベンジル基、３−クロロベンジル基、４−クロロベンジル基、６−ブロモ−２−ヒドロキシベンジル基、５−ブロモ−３−ニトロ−２−ヒドロキシフェネチル基、４−（ｎ−ブチル）ベンジル基、３−ブロモ−５−メトキシ−４−ヒドロキシベンジル基、４−ベンジルオキシベンジル基、６−ブロモ−３−メトキシ−２−ヒドロキシベンジル基、（１−ブロモ−２−ナフチル）−ｎ−プロピル基、２−ベンジルオキシベンジル基、３,５−ビストリフルオロメチルフェネチル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル基、５−ブロモ−２−フルオロベンジル基、３−ブロモ−４−メトキシベンジル基、５−ブロモ−２−メトキシベンジル基、３−ブロモ−５−クロロ−２−ヒドロキシベンジル基、４−ブロモ−２−フルオロベンジル基、２−ブロモ−４,５−ジメトキシフェネチル基、３,４−エチレンジオキシベンジル基、３−ブロモ−４−フルオロフェネチル基、６−ブロモ−３,４−メチレンジオキシベンジル基、３−ブロモ−４−ヒドロキシベンジル基、２−ブロモ−５−フルオロフェネチル基、４−シアノベンジル基、４−トリフルオロベンジル基、４−（４−クロロフェノキシ）フェネチル基、４−（Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ）ベンジル基、３,４−ジアセトキシベンジル基、４−（Ｎ,Ｎ−ジフェニルアミノ）ベンジル基、４−［Ｎ−（４,４−ジオキソチオモルホリノ）］ベンジル基、４−（Ｎ−ピロリジノ）ベンジル基、３−（２−ヒドロキシエトキシ）ベンジル基、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェネチル基、４−ヒドロキシ−３,５−ジメチルベンジル基、（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）−ｎ−プロピル基、４−イソプロピルベンジル基、４−イソブチルベンジル基等のアラルキル基が挙げられる。

前記のＺ^１またはＺ^２に帰属されるＣＲ^６のＲ^６として例示したものの中では、合成方法の簡便さや反応性の観点から、アラルキル基であることが特に好ましい。
尚、Ｚ^１およびＺ^２がともにＣＲ^６で表される場合、これらＣＲ^６のＲ^６はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。

さらに、式（１）におけるＺ^１およびＺ^２は、合成方法の簡便さの観点から、窒素原子であることが特に好ましい。

式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３またはＲ^４に帰属される、前記の置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、２−メトキシエチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、３−クロロ−ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、４−ヒドロキシ−ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、６−フェニル−ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等が挙げられる。

式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３またはＲ^４に帰属される、前記の炭素数１〜４のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等が挙げられる。

式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３またはＲ^４に帰属される、前記のハロゲノ基としては、例えば、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基等が挙げられる。

式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３またはＲ^４に帰属される、前記の置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキルアミノスルホニル基としては、例えば、Ｎ−メチルアミノスルホニル基、Ｎ−エチルアミノスルホニル基、Ｎ−イソプロピルアミノスルホニル基、Ｎ−ｎ−プロピルアミノスルホニル基、Ｎ−ｎ−ブチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−メチルエチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−エチルイソプロピルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−プロピルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−ブチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミノスルホニル基等が挙げられる。

式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３またはＲ^４に帰属される、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基としては、例えば、モルホリノスルホニル基、２−メチルモルホリノスルホニル基、３−メチルモルホリノスルホニル基、２−エチルモルホリノスルホニル基、３−ｎ−プロピルモルホリノスルホニル基、３−ｎ−ブチルモルホリノスルホニル基、２，３−ジメチルモルホリノスルホニル基、２，６−ジメチルモルホリノスルホニル基、３−フェニルモルホリノスルホニル基等が挙げられる。

式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３またはＲ^４に帰属される、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基としては、例えば、ピペリジノスルホニル基、２−メチルピペリジノスルホニル基、３−メチルピペリジノスルホニル基、４−メチルピペリジノスルホニル基、２−エチルピペリジノスルホニル基、４−ｎ−プロピルピペリジノスルホニル基、３−ｎ−ブチルピペリジノスルホニル基、２，４−ジメチルピペリジノスルホニル基、２，６−ジメチルピペリジノスルホニル基、４−フェニルピペリジノスルホニル基等が挙げられる。

式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３またはＲ^４に帰属される、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基としては、例えば、ピロリジノスルホニル基、２−メチルピロリジノスルホニル基、３−メチルピロリジノスルホニル基、２−エチルピロリジノスルホニル基、３−ｎ−プロピルピロリジノスルホニル基、３−ｎ−ブチルピロリジノスルホニル基、２，４−ジメチルピロリジノスルホニル基、２，５−ジメチルピロリジノスルホニル基、３−フェニルピロリジノスルホニル基等が挙げられる。

式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３またはＲ^４に帰属される、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基としては、例えば、チオモルホルノスルホニル基、２−メチルチオモルホリノスルホニル基、３−メチルチオモルホリノスルホニル基、２−エチルチオモルホリノスルホニル基、３−ｎ−プロピルチオモルホリノスルホニル基、３−ｎ−ブチルチオモルホリノスルホニル基、２，３−ジメチルチオモルホリノスルホニル基、２，６−ジメチルチオモルホリノスルホニル基、３−フェニルチオモルホリノスルホニル基等が挙げられる。

式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３またはＲ^４に帰属される、置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基としては、例えば、ピペラジノスルホニル基、２−メチルピペラジノスルホニル基、３−メチルピペラジノスルホニル基、２−エチルピペラジノスルホニル基、３−ｎ−プロピルピペラジノスルホニル基、３−ｎ−ブチルピペラジノスルホニル基、２，５−ジメチルピペラジノスルホニル基、２，６−ジメチルピペラジノスルホニル基、３−フェニルピペラジノスルホニル基、２−ピリミジルピペラジノスルホニル基等が挙げられる。

前記のＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４の各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし４個、好ましくは１または２個を置換することができ、４個のベンゼン環の水素原子を置換した置換基の全てはそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であり、経済性すなわち原料の入手の簡便さや収率の観点から、存在しないか、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ハロゲノ基、炭素数１〜４のアルコキシ基であることが好ましく、存在しないか、ハロゲノ基、炭素数１〜４のアルコキシ基であることがより好ましく、存在しないことがさらに好ましい。

また、炭素数１〜８のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基である場合には、溶媒に対する溶解性の面で特に有利であり、中でも置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキルアミノスルホニル基または置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基である場合に特に有利となる。

Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３およびＹ^４、Ｚ^１およびＺ^２、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ互いに独立したものであるが、合成方法の簡便さおよび取得する該金属錯体の品質（純度）管理の観点から、好ましくはＹ^１＝Ｙ^２且つＹ^３＝Ｙ^４且つＺ^１＝Ｚ^２且つＲ^１＝Ｒ^２＝Ｒ^３＝Ｒ^４である。また、該金属錯体の各種溶媒に対する溶解性の観点から言えば、Ｙ^１＝Ｙ^３≠Ｙ^２＝Ｙ^４且つＺ^１＝Ｚ^２且つＲ^１＝Ｒ^３＝Ｒ^２＝Ｒ^４、またはＹ^１＝Ｙ^３＝Ｙ^２＝Ｙ^４且つＺ^１＝Ｚ^２且つＲ^１＝Ｒ^３≠Ｒ^２＝Ｒ^４であることが好ましい。

式中、Ｍで表される金属原子は、例えば、コバルト原子、ニッケル原子、銅原子、または亜鉛原子等が挙げられる。

式（１）で表される金属錯体は、下記式（２）で表される配位子と、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩、金属酢酸塩、金属硝酸塩等の金属塩とを反応させることで合成することができる。
式（２）：

式（２）において、Ｙ^１、Ｙ^２、Ｚ^１、Ｒ^１、Ｒ^２は、それぞれ式（１）中のＹ^１（および/またはＹ^３）、Ｙ^２（および/またはＹ^４）、Ｚ^１（および/またはＺ^２）、Ｒ^１（および/またはＲ^３）、Ｒ^２（および/またはＲ^４）に対応している。

式（２）で表される配位子は、例えば、「特開昭５６−８７５７５」、「Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ １９８７，３６８」、「Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ １９８２，５９０」、「Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ １９８２，１０６６−１０６７」、「Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２００２，６７，５７５３−５７７２」、「Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２００２，６７，５７５３−５７７２」、「Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９６１，２６，３４３４−３４４５」、「Ｇａｚｚ．Ｃｈｉｍ．Ｉｔａｌ．１９９６，１２６，３２９−３３７」、「Ｇａｚｚ．Ｃｈｉｍ．Ｉｔａｌ．１９９４，１２４，３０１−３０８」、「特表２００７−５３５４２１」において開示されている方法で合成することができる。
以下、式（２）で表される配位子の製造方法を一部説明する。

≪配位子の製造方法≫
i) 下記式（３）：式（２）においてＹ^１＝Ｙ^２＝Ｓ，Ｚ^１＝Ｎの場合

例えば、特開昭５６−８７５７５に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、２−アミノベンゾチアゾール（Ｒ^１およびＲ^２が存在しない場合）または２−アミノ−置換ベンゾチアゾール（Ｒ^１およびＲ^２が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）をフェノール等の酸触媒存在下において、１５０〜１８５℃に加熱し、反応させることによって２，２’−イミノビスベンゾチアゾールまたは２，２’−イミノビス（置換ベンゾチアゾール）を合成することができる。

ii) 下記式（４）：式（２）においてＹ^１＝Ｓ，Ｙ^２＝Ｏ，Ｚ^１＝Ｎの場合

例えば、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ １９８７，３６８に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、２−アミノフェノール（Ｒ^２が存在しない場合）または２−アミノ−置換フェノール（Ｒ^２が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）をＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）に溶解させ、塩基として水酸化ナトリウム水溶液を加え、室温で３０分間攪拌し、ここにＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−（２−ベンゾチアゾリル）−カルボンイミドジチオエート（Ｒ^１が存在しない場合）またはＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−［２−（置換ベンゾチアゾリル）］−カルボンイミドジチオエート（Ｒ^１が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）のＤＭＦ溶液を滴下し、窒素雰囲気下で還流させることで２−（２−ベンゾチアゾリルアミノ）ベンゾオキサゾールまたは２−［２−（置換ベンゾチアゾリル）アミノ］置換ベンゾオキサゾールを合成することができる。

前記Ｓ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−（２−ベンゾチアゾリル）カルボンイミドジチオエートまたはＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−［２−（置換ベンゾチアゾリル）］カルボンイミドジチオエートは、例えば、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ １９８２，５９０に記載されている方法に従って合成することができる。

すなわち、２−アミノベンゾチアゾール（Ｒ^１が存在しない場合）または２−アミノ−置換ベンゾチアゾール（Ｒ^１が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）をＤＭＦに溶解させ、水浴または氷浴下でこの溶液に、水酸化ナトリウム水溶液を滴下し、次に二硫化炭素を滴下し、さらに水酸化ナトリウム水溶液を滴下した後、ヨウ化メチルを滴下することで、Ｓ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−（２−ベンゾチアゾリル）カルボンイミドジチオエート（Ｒ^１が存在しない場合）またはＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−（２−置換ベンゾチアゾリル）カルボンイミドジチオエート（Ｒ^１が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）を合成することができる。

iii) 下記式（５）：式（２）においてＹ^１＝Ｓ，Ｙ^２＝ＮＨ，Ｚ^１＝Ｎの場合

例えば、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ １９８２，１０６６−１０６７に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、ｏ−フェニレンジアミン（Ｒ^２が存在しない場合）またはｏ−（置換フェニレン）ジアミン（Ｒ^２が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）をＤＭＦに溶解させ、ここにＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−（２−ベンゾチアゾリル）−カルボンイミドジチオエート（Ｒ^１が存在しない場合）またはＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−［２−（置換ベンゾチアゾリル）］−カルボンイミドジチオエート（Ｒ^１が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）のＤＭＦ溶液を滴下した後に、１０〜１６時間還流させることで２−（２−ベンゾチアゾリルアミノ）ベンゾイミダゾールまたは２−［２−（置換ベンゾチアゾリルアミノ）］置換ベンゾイミダゾールを合成することができる。

iv) 下記式（６）：式（２）においてＹ^１＝Ｓ，Ｙ^２＝ＮＨ，Ｚ^１＝ＣＨの場合

例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２００２，６７，５７５３−５７７２に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、ｏ−フェニレンジアミン（Ｒ^２が存在しない場合）またはｏ−（置換フェニレン）ジアミン（Ｒ^２が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）と、エチル−２−ベンゾチアゾリルアセテート（Ｒ^１が存在しない場合）またはエチル−２−（置換ベンゾチアゾリル）アセテート（Ｒ^１が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）を窒素雰囲気下において１６０℃で６時間還流することによって（２−ベンゾチアゾリル）（２−ベンゾイミダゾリル）メタンまたは［２−（置換ベンゾチアゾリル）］［２−（置換ベンゾイミダゾリル）］メタンを合成することができる。
前記エチル−２−ベンゾチアゾリルアセテートまたはエチル−２−（置換ベンゾチアゾリル）アセテートは、例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２００２，６７，５７５３−５７７２に記載されている方法に従って合成することができる。

すなわち、エチルシアノアセテートと２−アミノ−置換チオフェノールを混合し、窒素雰囲気下において１２０℃で２時間反応させることで、エチル−２−ベンゾチアゾリルアセテートまたはエチル−２−（置換ベンゾチアゾリル）アセテートを合成することができる。

v) 下記式（７）：式（２）においてＹ^１＝Ｙ^２＝Ｏ，Ｚ^１＝ＣＨの場合

例えば、ＵＳ３２５０７８０に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、２−アミノフェノール（Ｒ^１およびＲ^２が存在しない場合）または２−アミノ−置換フェノール（Ｒ^１およびＲ^２が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）とマロン酸を混合し、この混合液を攪拌下のポリリン酸中に７０℃に保温しながら加える。次に、この反応液を１７５℃まで昇温し、反応させることで、ビス（２−ベンゾオキサゾリル）メタンまたはビス［２−（置換ベンゾオキサゾリル）］メタンを合成することができる。

vi) 下記式（８）：式（２）においてＹ^１＝Ｙ^２＝Ｓ，Ｚ^１＝ＣＨの場合

例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９６１，２６，３４３４−３４４５に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、２−アミノチオフェノール（Ｒ^１およびＲ^２が存在しない場合）または２−アミノ−置換チオフェノール（Ｒ^１およびＲ^２が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）とマロン酸を混合し、この混合液を攪拌下のポリリン酸中に７０℃に保温しながら加える。次に、この反応液を１２５−１５０℃で２時間反応させることで、ビス（２−ベンゾチアゾリル）メタンまたはビス［２−（置換ベンゾチアゾリル）］メタンを合成することができる。

vii) 下記式（９）：式（２）においてＹ^１＝ＮＲ^５、Ｙ^２＝ＮＲ^５，Ｚ^１＝ＣＨの場合

例えば、Ｇａｚｚ．Ｃｈｉｍ．Ｉｔａｌ．１９９６，１２６，３２９−３３７に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、（Ｎ−置換−）ｏ−フェニレンジアミン（Ｒ^１およびＲ^２が存在しない場合）または（Ｎ−置換−）［ｏ−（置換フェニレン）］ジアミン（Ｒ^１およびＲ^２が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）とマロン酸ジエチルを混合し、この混合液を窒素雰囲気下において１５５℃で１１時間還流することで、ビス［２−（Ｎ−置換）ベンゾイミダゾリル］メタンまたはビス［２−（Ｎ−置換）（置換ベンゾイミダゾリル）］メタンを合成することができる。

viii) 下記式（１０）：式（２）においてＺ^１＝ＣＲ^６の場合

例えば、Ｇａｚｚ．Ｃｈｉｍ．Ｉｔａｌ．１９９４，１２４，３０１−３０８に記載されている方法に従って合成することができる。前記の通り、式（１）中のＺ^１またはＺ^２に帰属されるＣＲ^６のＲ^６としてはアラルキル基であることが特に好ましい。ここでは、このアラルキル基が例えば４−ピリジルメチル基である場合を取り上げ、以下、合成方法を説明する。４−ピリジルメチル基以外の置換基である場合にも対応する基質（置換基に対応するアルデヒド体）を選択することで、同様の合成方法に従って合成することが可能である。

iv)で得られた（２−ベンゾチアゾリル）（２−ベンゾイミダゾリル）メタンまたは［２−（置換ベンゾチアゾリル）］［２−（置換ベンゾイミダゾリル）］メタン、または
v)で得られたビス（２−ベンゾオキサゾリル）メタンまたはビス［２−（置換ベンゾオキサゾリル）］メタン、または
vi)で得られたビス（２−ベンゾチアゾリル）メタンまたはビス［２−（置換ベンゾチアゾリル）］メタン、または
vii)で得られたビス［２−（Ｎ−置換）ベンゾイミダゾリル］メタンまたはビス［２−（Ｎ−置換）（置換ベンゾイミダゾリル）］メタンと、
酢酸および酢酸ナトリウムを混合し、ここに４−ピリジンカルボキシアルデヒドを添加し反応させた後に、パラジウムカーボン等を用いて還元することで、

iv)で得られた化合物からは、対応する４−［β，β−（２−ベンゾチアゾリル）（２−ベンゾイミダゾリル）エチル］ピリジンまたは４−［β，β−｛２−（置換ベンゾチアゾリル）｝｛２−（置換ベンゾイミダゾリル）｝エチル］ピリジンを、
v)で得られた化合物からは、対応する４−［β，β−ビス（２−ベンゾオキサゾリル）エチル］ピリジンまたは４−［β，β−ビス｛２−（置換ベンゾオキサゾリル）｝エチル］ピリジンを、
vi)で得られた化合物からは、対応する４−［β，β−ビス（２−ベンゾチアゾリル）エチル］ピリジンまたは４−［β，β−ビス｛２−（置換ベンゾチアゾリル）｝エチル］ピリジンを、
vii)で得られた化合物からは、対応する４−［β，β−ビス｛２−（Ｎ−置換）ベンゾイミダゾリル｝エチル］ピリジンまたは４−［β，β−ビス｛２−（Ｎ−置換）（置換ベンゾイミダゾリル）エチル］ピリジンを合成することができる。

ix) 式（２）においてＲ^１およびＲ^２のそれぞれ少なくとも一つの置換基が、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基の場合

例えば、特表２００７−５３５４２１に記載されている方法に従って、前記i)〜viii)の方法で得られた配位子（式（２）においてＲ^１およびＲ^２の各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし３個が置換されたものに限る）に、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基を導入することができる。

ここでは、i)で得られた２，２’−イミノビスベンゾチアゾールまたは２，２’−イミノビス（置換ベンゾチアゾール）を例に取り上げ、以下、合成方法を説明する。
i)で得られた２，２’−イミノビスベンゾチアゾールまたは２，２’−イミノビス（置換ベンゾチアゾール）をクロロスルホン酸に添加し、混合物を一晩攪拌する。さらに塩化チオニルを添加し５０℃で１時間攪拌した後室温まで冷却する。混合物を氷の上に注ぎ、吸引ろ過し残った氷と一緒に一級または二級アミンと攪拌することで対応する２，２’−イミノビス（置換ベンゾチアゾール）を合成することができる。

≪式（１）で表される金属錯体の製造方法≫
例えば、Ｐｏｌｙｈｅｄｒｏｎ ２００６，２５，２３６３−２３７４やＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２００２，６７，５７５３−５７７２等に記載されている方法に従って、前記のi) 〜ix）の製造方法に基づいて得られた配位子と、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩、金属酢酸塩、金属硝酸塩等の金属塩とを反応させることによって対応する金属錯体を合成することができる。すなわち、前記のi) 〜ix）の製造方法に基づいて得られた配位子と、式（１）中のＭに対応する金属塩を、メタノール、エタノール、水、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等の溶媒中で反応させることにより合成することができる。

≪式（１）で表される少なくとも１種類の金属錯体と、少なくとも１種類のマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを含む紫外線吸収部材用組成物の製造方法≫
本発明における紫外線吸収部材用組成物は、該紫外線吸収部材用組成物中において「式（１）で表される金属錯体が溶解状態にある」場合と、「式（１）で表される金属錯体の微粒子が分散状態にある」場合を示す。それぞれについて以下説明する。

（ｉ）式（１）で表される金属錯体が分子レベルで溶解状態にある場合の紫外線吸収部材用組成物
具体的には、マトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとの相溶性が良好であり、且つ該金属錯体の溶解性が良好な溶媒を併用することで、該溶媒中にマトリックス材料および該金属錯体が溶解した、均一な紫外線吸収部材用組成物を製造することができる。
尚、マトリックス材料の代わりに、マトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを使用する場合、前記溶媒は必ずしも必要ではなく、該重合性モノマーをマトリックス材料の前駆体、兼溶媒として使用することも可能である。

前記のマトリックス材料としては、有機系または無機系バインダーのいずれであっても使用することができる。ここで、無機系バインダーとはポリマー主鎖に炭素原子を含まないものを示す。
尚、本発明において使用する「マトリックス材料」という表現は、有機系または無機系バインダーと呼ばれるマトリックス成分（固形分）そのものだけでなく、該マトリックス成分を含む溶液（例えば、市販のバインダー溶液）も含む。前記溶媒を用いることなく、前記マトリックス成分を含む溶液に金属錯体が溶解している態様も本発明に含まれる。

有機系バインダーとしては、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸プロピル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、ポリ（メタ）アクリル酸シクロヘキシル等のポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂や、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体や、ポリスチレン、ポリ（α−メチルスチレン）等のポリスチレン系樹脂や、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−イソプレン共重合体、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−マレイン酸エステル系共重合体等のスチレン系共重合体や、ポリエチレンサクシネート、ポリブチレンアジペート、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、ポリカプロラクトン、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂や、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂や、ポリオキシメチレン、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル系樹脂や、シリコーン系樹脂や、ポリスルホン系樹脂や、ポリアミド系樹脂や、ポリイミド系樹脂や、ポリウレタン系樹脂や、ポリカーボネート系樹脂や、エポキシ系樹脂や、フェノール系樹脂や、メラミン樹脂や、ユリア樹脂や、ポリビニル系樹脂等の熱可塑性もしくは熱硬化性合成樹脂や、エチレン−プロピレン共重合ゴム、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム等の合成ゴムもしくは天然ゴム等が挙げられる。

基材への密着性や透明性の観点から、好ましくは、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、スチレン系共重合体、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリビニル系樹脂等の熱可塑性もしくは熱硬化性合成樹脂であり、より好ましくは、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、スチレン系共重合体、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、ポリビニル系樹脂である。
尚、（メタ）アクリルは、メタクリルおよびアクリルを示す。

無機系バインダーとしては、ポリシロキサン系バインダーを好適に用いることができる。この場合、ポリシロキサン系バインダー前駆体としてシリコンアルコキシドの加水分解・重縮合反応により得られるゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）を好適に用いることができる。

シリコンアルコキシドのゾル溶液は、通常、有機溶媒中で酸触媒存在下、シリコンアルコキシドに水を添加し、加水分解・重縮合させることにより、調製することができるが、市販のゾル溶液を使用しても良い。以下、シリコンアルコキシドのゾル溶液の調製方法を具体的に説明する。

（シリコンアルコキシド）
シリコンアルコキシドとしては、
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等の４官能アルコキシシランや、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリプロポキシシラン、ヘキシルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルジメトキシ（エトキシ）シラン、エチルジエトキシ（メトキシ）シラン等の３官能アルコキシシランや、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビス（２−メトキシエトキシ）ジメチルシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等の２官能アルコキシシランが挙げられる。
これらの中でも、得られる膜の状態や強度、経済性の観点から、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランであることが好ましい。

これらのシリコンアルコキシドは、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種類以上を組み合わせて使用する場合の混合比率は所望に応じて適宜選択することができる。

また、最終的に得られるコーティング膜に所望の物性を付与するために、必要に応じて、チタンアルコキシド、セリウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、スズアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、ニッケルアルコキシド、亜鉛アルコキシド等の金属アルコキシドを添加・併用してもよい。

例えば、反射率を高くしたい場合にはチタンアルコキシドや亜鉛アルコキシドを、また機械的強度、耐アルカリ性を高くしたい場合にはジルコニウムアルコキシドを、耐候性を向上させたい場合にはニッケルアルコキシドを添加・併用することが効果的である。

（酸触媒）
酸触媒としては、特に限定されないが、例えば、硝酸、塩酸、硫酸等の無機酸や、蟻酸、酢酸、蓚酸等の有機酸が挙げられる。加水分解・重縮合反応終了後に酸が残存すると、縮合安定性が悪化するため、低沸点で揮発性が高く、ＰＫａの小さな蟻酸を用いることが好ましい。

酸触媒の添加量としては、十分な触媒作用を発揮する限り、特に限定されるものではないが、通常シリコンアルコキシド１モルに対して０．０１モル以上、より好ましくは０．３モル以上を配合することが好ましい。０．０１モル未満では十分な触媒作用が得られないおそれがあり、また過剰に添加した場合には、最終的に得られるシリコンアルコキシドのゾル溶液が、残存する酸により経時的に劣化するおそれがある。よって、シリコンアルコキシド１モルに対して１モル以下の割合で配合することが好ましい。

（水）
上記シリコンアルコキシドの加水分解を引き起こし得る限り、特に限定されないが、シリコンアルコキシド１モルに対し、２〜６モルの割合で水を添加することが好ましい。２モル未満では十分に加水分解が進行しないおそれがあり、６モルを超えると加水分解が速く進行しすぎてしまい、続く重縮合反応の進行を妨げることに加え、反応後に除去する水の量が多くなり効率的でない。

（反応溶媒）
シリコンアルコキシド、水、酸触媒に加えて反応溶媒を使用することにより、加水分解速度を適度に低め、確実に加水分解・重縮合を進行させることができる。さらに、最終的に得られるシリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）の粘度をハンドリングしやすいレベルにまで調整するための希釈剤としての役割も兼ねる。

反応溶媒としては、前記シリコンアルコキシドが溶解するものであれば特に限定されることなく、適宜選択し使用することができる。例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール（ＩＰＡ）、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、エチレングリコールや１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類や、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、３ − オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシプロピオン酸−ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸−ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸−ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、ｎ−ペンタン、シクロペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘプタン等の炭化水素類や、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等が挙げられる。

反応性や経済性の観点から、好ましくは、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類、エチレングリコールや１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシプロピオン酸−ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸−ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸−ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類等である。

後工程において、該シリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）に式（１）で表される金属錯体を溶解・混合する場合には、あらかじめ該金属錯体の溶解性が良好な溶媒を本工程における反応溶媒として使用することで、該金属錯体を溶解混合する際の労力を軽減することができる。

ただし、該金属錯体の貧溶媒を用いて本工程におけるシリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）を調製した場合であっても、該金属錯体を溶解・混合する前に該シリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）の溶媒を該金属錯体の良溶媒に置換する、あるいは該シリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）に該金属錯体の良溶媒を添加することによって、溶解・混合することも可能である。

前記反応溶媒の使用量は、シリコンアルコキシド１００重量部に対し、５０〜１０００重量部、好ましくは１００〜５００重量部の範囲とすることが望ましい。５０重量部未満では、加水分解・重縮合反応を適度な反応速度で進行させることが困難になるおそれがあり、１０００重量部を超えると、加水分解・重縮合反応の速度が低下するため効率的でないことに加えて、後述の減圧・留去工程に長時間を必要とするおそれがある。

まず、１種類または２種類以上のシリコンアルコキシドを、酸触媒、水及び溶媒と混合する。この溶液を０〜１５０℃、好ましくは５０〜１００℃ の温度に維持することにより、加水分解・重縮合反応を進行させる。０℃未満では、加水分解・重縮合反応が進行しにくくなるおそれがある。また１５０℃を超えると加水分解・重縮合反応が急速に進行するため、未反応のアルコキシ基が残存したり、ゲル化や着色を招くおそれがある。加水分解・重縮合反応の時間は、温度条件にもよるが、通常１〜２４時間、より好ましくは２〜８時間である。１時間未満では、十分に加水分解・重縮合反応が進行しないおそれがあり、２４時間を超えてもそれ以上反応が進まないことから経済的でない。

加水分解・重縮合反応により副生するアルコールと水を系外に除去するために、反応終了後、あるいは反応中に、反応液を減圧留去することが好ましい。減圧留去しながら反応を進行させれば、重縮合反応の反応速度を向上させる効果も見込めるためより好ましい。この工程において、前記酸触媒として蟻酸等の低沸点で揮発性の高い触媒を用いれば、溶媒とともに酸触媒も系外に除去でき、反応終了後のゾル溶液の安定性を確保することができる。

このようにして加水分解・重縮合反応の進行により、無機系バインダー：ポリシロキサン系バインダー前駆体としての、シリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）を得ることができる。

これらのマトリックス材料は単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。組み合わせて使用する場合、有機系バインダーから選ばれる異なる２種類以上を組み合わせてもよいし、無機系バインダーから選ばれる異なる２種類以上を組み合わせてもよいし、有機系バインダーと無機系バインダーのそれぞれから選ばれる異なる２種類以上を組み合わせてもよい。

前記の、マトリックス材料および/またはマトリックスの材料の前駆体としての重合性モノマーとの相溶性が良好であり、且つ該金属錯体の溶解性が良好な溶媒としては、用いるマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマー、および該金属錯体の種類に応じて適宜選択し、使用することができる。例えば、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、アセトン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２ − ヘプタノン、３ − オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシプロピオン酸−ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸−ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、ｎ−ペンタン、シクロペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘプタン等の炭化水素類や、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等が挙げられる。

これらの中で、該金属錯体の溶解性の観点からより好ましいものを挙げると、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、アセトン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２ − ヘプタノン、３ − オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシプロピオン酸−ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸−ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等である。

さらに好ましくは、アルコール類としてはテトラフルオロプロパノール等が、ハロゲン化炭化水素類としてはクロロホルム、ジクロロメタン等が、ケトン類としてはＭＥＫ、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等が、エステル類としてはγ−ブチロラクトン、乳酸エチル等が、エーテル類としてはシクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等が、芳香族類としてはトルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼンが、ラクタム類としては２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等が、グリコールエーテル類としてはＰＧＭＥＡ等が、その他スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等が挙げられる。

また、前記の重合性モノマーは、マトリックス材料の前駆体としても使用できるし、前記溶媒としても使用することができる。重合性モノマーとしては、例えば、有機系重合性モノマーとして、スチレン、α−メチルスチレン、β−メチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、α−エチルスチレン、α−ブチルスチレン、α−ヘキシルスチレン、４−クロロスチレン、３−クロロスチレン、４−ブロモスチレン、４−ニトロスチレン、４−メトキシスチレン、ビニルトルエン等のスチレン系モノマーや、（メタ）アクリル酸や、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−メチルブチル（メタ）アクリレート、２−エチルブチル（メタ）アクリレート、３−メチルブチル（メタ）アクリレート、１，３−ジメチルブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−エトキシプロピル（メタ）アクリレート、２−エトキシブチル（メタ）アクリレート、３−エトキシブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、エチル−α−（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリレート、メチル−α−（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニルエチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステルや、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシシクロヘキシルエチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド、アリルシクロヘキセンジオキシド、３，４−エポキシ−４−メチルシクロヘキシル−２−プロピレンオキシドおよびビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）エーテル等の脂環式エポキシ化合物や、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ブロモ化ビスフェノールＡ、ビフェノール、レゾルシン等をグリシジルエーテル化した化合物や、トリメチレンオキシド、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３，３−ジメチルオキセタン、３，３−ジクロルメチルオキセタン、３−エチル−３−フェノキシメチルオキセタン、３−エチル−３−［｛（３−エチルオキセタニル）メトキシ｝メチル］オキセタン、ビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、１，４−ビス［｛（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ｝メチル］ベンゼン、トリ［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチルフェニル］エーテル、（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）オリゴジメチルシロキサン等のオキセタン化合物等が挙げられる。

また、無機系重合性モノマーとして、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等の４官能アルコキシシランや、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリプロポキシシラン、ヘキシルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルジメトキシ（エトキシ）シラン、エチルジエトキシ（メトキシ）シラン等の３官能アルコキシシランや、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビス（２−メトキシエトキシ）ジメチルシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等の２官能アルコキシシランや、チタンアルコキシド、セリウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、スズアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、ニッケルアルコキシド、亜鉛アルコキシド等の金属アルコキシド等を使用することができる。

ここで、無機系重合性モノマーとは、重合反応により形成されるポリマー主鎖に炭素原子を含まないものを示す。

これらの溶媒は、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種類以上を組み合わせた混合溶媒を使用する場合の混合比率は適宜選択することができる。

前記溶媒の使用量は、所望する紫外線吸収部材用組成物中の該金属錯体の濃度や、使用する溶媒の種類、使用するマトリックス材料の前駆体の溶解度等を考慮した上で適宜調整することができ、特に限定されるものではないが、該金属錯体の溶解性の観点から言えば、通常該金属錯体１００重量部に対して５０〜１０００００重量部、好ましくは１００〜５０００重量部、より好ましくは２００〜３０００重量部である。５０重量部より少ないと、該金属錯体が完全に溶解しないおそれがあり、最終的に得られる紫外線吸収部材の可視光透過率の低下を招くおそれがある。また１０００００重量部よりも多いと、紫外線吸収部材用組成物中の該金属錯体濃度が低下し、最終的に得られる紫外線吸収部材に十分な紫外線吸収能を付与できない可能性がある。

該金属錯体と、マトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを溶媒中に溶解させる際には、事前にマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを溶媒中に溶解させておき、ここに該金属錯体を添加し溶解させてもよいし、事前に該金属錯体を溶媒に溶解させ、この溶液とマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを混合し溶解させてもよいし、あるいは該金属錯体とマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを同時に溶媒と混合し溶解させてもよい。

尚、重合性モノマーを、マトリックス材料の前駆体、兼溶媒として使用する場合であっても、同様の手順で混合・溶解させることが可能である。

ここで、用いるマトリックス材料が、マトリックス成分が溶解している溶液であり、且つ該溶液の溶媒が該金属錯体の良溶媒である場合には、該金属錯体とマトリックス材料（マトリックス成分が溶解している溶液）を混合するだけでもよい。

また、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じて従来公知の光吸収剤を併用することも可能である。
併用することのできる光吸収剤としては特に限定されるものではないが、例えば、フタロシアニン系、キナクリドン系、キナクリドンキノン系、ベンズイミダゾロン系、キノン系、アントアントロン系、ジオキサジン系、ジケトピロロピロール系、アンサンスロン系、インダンスロン系、フラバンスロン系、ペリノン系、ペリレン系、イソインドリン系、イソインドリノン系、アゾ系、シアニン系、アザシアニン系、スクアリリウム系、トリアリールメタン系等の有機色素や、ベンゼンジチオール金属錯体系、ジチオレン金属錯体系、アゾ金属系、金属フタロシアニン系、金属ナフタロシアニン系、ポルフィリン金属錯体系等の金属錯体系色素や、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、サルチレート系、サリチル酸フェニルエステル系、ヒンダードアミン系、ヒンダードフェノール系、ベンゾエート系、リン系、アミド系、アミン系、硫黄系等の有機系紫外線吸収剤等が挙げられる。経済性や光吸収性能の観点から、好ましくは、フタロシアニン系、キノン系、ペリレン系、アゾ系、シアニン系、アザシアニン系、スクアリリウム系、トリアリールメタン系等の有機色素や、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ヒンダードアミン系、ヒンダードフェノール系、ベンゾエート系、リン系、アミン系、硫黄系等の有機系紫外線吸収剤である。

また、本発明の効果を損なわない範囲内であれば、硬化剤、硬化触媒、架橋剤、カップリング剤、レベリング剤、潤滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、熱安定剤、難燃剤、フィラー、着色剤、光触媒材料、防錆剤、撥水剤、導電性材料、アンチブロッキング材、軟化剤、離型剤、蛍光増白剤等を適宜添加してもよい。

また、重合性モノマーを用いる場合において、後述の紫外線吸収部材を作製する際に重合工程を設ける場合には、別途重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤としては特に限定されるものではなく、使用する重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。また、その使用量は、重合性モノマーおよび重合開始剤の活性に応じて適宜選択することができる。

熱硬化の場合に使用されるラジカル重合開始剤としては、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、２，２’−アゾビスイソバレロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサノン−１−カルボニトリル）等のアゾ系化合物や、メチルエチルケトンパーオキシド、メチルイソブチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキサイド等のケトンパーオキシド類や、ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド等を挙げることができる。

光硬化の場合に用いられるラジカル重合開始剤としては、例えば、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、４’−メチルチオ−２，２−ジメチル−２−モルホリノアセトフェノン、ベンゾインイソブチルエーテル、２−クロロチオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド等を挙げることができる。

熱硬化の場合に使用されるカチオン重合開始剤としては、例えば、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体、三フッ化ホウ素・アミン錯体、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化鉄（ＩＩＩ）、塩化亜鉛等のルイス酸類や、アンモニウム塩、スルホニウム塩、オキソニウム塩、ホスホニウム塩等を挙げることができる。
光硬化の場合に使用されるカチオン重合開始剤としては、例えば、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ホスホニウム塩等を挙げることができる。

硬化剤としては、上記重合性モノマーとしてエポキシ系モノマーを使用する際に使用されるものとして、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸などの酸無水物や、ジエチレントリアミン、トリエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジエチルアミノプロピルアミン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、イソホロンジアミン、メンセンジアミン、ピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルピペラジンなどの脂肪族アミンや、ｍ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４,４-ジアミノジフェニルスルホンなどの芳香族アミンや、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾールなどのイミダゾール類や、三フッ化ホウ素・アミン錯体、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化鉄（ＩＩＩ）、塩化亜鉛等のルイス酸類や、アンモニウム塩、スルホニウム塩、オキソニウム塩、ホスホニウム塩や、ポリメルカプタン、ポリサルファイドなどを挙げることができる。

中でも、酸無水物類が重合後のエポキシ樹脂の機械特性を向上する点で好ましく、操作性において常温で液状のものが好ましい。具体的には、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸等を挙げることができる。
常温で固体の酸無水物、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸等の酸無水物を使用する場合には、常温で液状の酸無水物に溶解させ、常温で液状の混合物として使用することが操作上好ましい。

エポキシ系モノマーの上記硬化反応を促進するために、さらに硬化促進剤を使用することもできる。硬化促進剤は、単独または２種以上を混合して使用することができる。 例えば、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、ベンジルジメチルアミン、２，４，６−トリス（ジアミノメチル）フェノール、１，８−ジアザビスシクロ（５，４，０）ウンデセン−７とそのオクチル酸塩などの第三級アミン類やイミダゾール類及び／ 又はそれらの有機カルボン酸塩や、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、ベンジルトリフェニルホスホニウム臭素塩、ベンジルトリブチルホスホニウム臭素塩などのホスフィン類及び／ 又はそれらの第四級塩や、オクチル酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、オクチル酸錫などの有機カルボン酸金属塩や、亜鉛とβ−ジケトンよりなるアセチルアセトン亜鉛キレート、ベンゾイルアセトン亜鉛キレート、ジベンゾイルメタン亜鉛キレート、アセト酢酸エチル亜鉛キレートなどの金属−有機キレート化合物や、芳香族スルホニウム塩などが挙げられる。

（ii）該金属錯体の微粒子が分散状態にある場合の紫外線吸収部材用組成物
具体的には、該金属錯体の溶解性が十分低く、且つマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとの相溶性が良好な分散媒を用いることで、マトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーが溶解した分散媒中に該金属錯体の微粒子が分散されている紫外線吸収部材用組成物を製造することができる。

尚、マトリックス材料の代わりに、マトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーのみを使用する場合、前記分散媒は必ずしも必要ではなく、該重合性モノマーをマトリックス材料の前駆体、兼分散媒として使用することも可能である。

また、用いるマトリックス材料が、マトリックス成分が溶解している溶液であり、且つ該溶液の溶媒が該金属錯体の溶解性が十分に低いものである場合には、必ずしも前記の分散媒を併用する必要はなく、マトリックス材料（マトリックス成分が溶解している溶液）に該金属錯体の微粒子を直接分散させることも可能である。

あらかじめ、適当な分散媒中に該金属錯体を分散させ、該金属錯体微粒子の分散液を調製し、この分散液中にマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを溶解させてもよいし、あらかじめマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを適当な分散媒中に溶解させ、ここに該金属錯体を分散させてもよい。

尚、重合性モノマーを、マトリックス材料の前駆体、兼分散媒として使用する場合であっても、同様の手順で混合・分散させることが可能である。

前記のマトリックス材料としては、有機系または無機系バインダーのいずれであっても使用することができ、前記の「（ｉ）式（１）で表される金属錯体が分子レベルで溶解状態にある場合の紫外線吸収部材用組成物」の項で述べたものと同範囲内から適宜選択し、使用することができる。

前記の、該金属錯体の溶解性が十分低く、且つマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとの相溶性が良好な分散媒としては、用いるマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマー、および該金属錯体の種類に応じて適宜選択し、使用することができる。例えば、水や、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、エチレングリコールや１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類や、アセトン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、３ − オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシプロピオン酸−ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸−ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、ｎ−ペンタン、シクロペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘプタン等の炭化水素類や、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等が挙げられる。

用いる該金属錯体、ならびにマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーの種類に応じて好ましい分散媒は異なるが、経済性や分散性、分散液の安定性の観点から、水、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、エチレングリコールや１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール、アセトン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、ジエチルエーテル、トルエン、キシレン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、ε−カプロラクタム、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、ジエチレングリコールジメチルエーテルであることが好ましく、より好ましくは、水、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ＰＧＭＥＡ、エチレングリコール、トルエン、キシレン、シクロへキサン、ｎ−ヘプタンである。

また、前記の重合性モノマーは、マトリックス材料の前駆体としても使用できるし、前記分散媒としても使用することができる。重合性モノマーとしては、例えば、有機系重合性モノマーとして、スチレン、α−メチルスチレン、β−メチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、α−エチルスチレン、α−ブチルスチレン、α−ヘキシルスチレン、４−クロロスチレン、３−クロロスチレン、４−ブロモスチレン、４−ニトロスチレン、４−メトキシスチレン、ビニルトルエン等のスチレン系モノマーや、（メタ）アクリル酸や、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−メチルブチル（メタ）アクリレート、２−エチルブチル（メタ）アクリレート、３−メチルブチル（メタ）アクリレート、１，３−ジメチルブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−エトキシプロピル（メタ）アクリレート、２−エトキシブチル（メタ）アクリレート、３−エトキシブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、エチル−α−（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリレート、メチル−α−（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニルエチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステルや、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシシクロヘキシルエチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド、アリルシクロヘキセンジオキシド、３，４−エポキシ−４−メチルシクロヘキシル−２−プロピレンオキシドおよびビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）エーテル等の脂環式エポキシ化合物や、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ブロモ化ビスフェノールＡ、ビフェノール、レゾルシン等をグリシジルエーテル化した化合物や、トリメチレンオキシド、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３，３−ジメチルオキセタン、３，３−ジクロルメチルオキセタン、３−エチル−３−フェノキシメチルオキセタン、３−エチル−３−［｛（３−エチルオキセタニル）メトキシ｝メチル］オキセタン、ビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、１，４−ビス［｛（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ｝メチル］ベンゼン、トリ［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチルフェニル］エーテル、（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）オリゴジメチルシロキサン等のオキセタン化合物等が挙げられる。

無機系重合性モノマーとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等の４官能アルコキシシランや、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリプロポキシシラン、ヘキシルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルジメトキシ（エトキシ）シラン、エチルジエトキシ（メトキシ）シラン等の３官能アルコキシシランや、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビス（２−メトキシエトキシ）ジメチルシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等の２官能アルコキシシランや、チタンアルコキシド、セリウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、スズアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、ニッケルアルコキシド、亜鉛アルコキシド等の金属アルコキシド等が挙げられる。
ここで、無機系重合性モノマーとは、重合反応により形成されるポリマー主鎖に炭素原子を含まないものを示す。

これらの分散媒は、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種類以上を組み合わせた混合分散媒を使用する場合の混合比率は適宜選択することができる。

使用する分散媒が、該金属錯体の溶解性が十分低いものでなければ、該金属錯体の微粒化が阻害され、安定な分散液が得られない。この理由は、詳らかではないが、おそらく以下に述べる機構によるものと考えられる。

該金属錯体の微粒子の分散安定化は、粉砕・分散過程において生成した該金属錯体の微粒子表面に、後述の分散剤が吸着し、その吸着した分散剤同士の静電反発、立体反発により微粒子同士の再凝集が抑制され、安定な分散状態がもたらされる。しかしこの分散系に該金属錯体の良溶媒が存在すると、該金属錯体の微粒子に対する「分散剤の吸着作用」と「溶媒の溶解作用」の二つの作用が競争し、溶媒の溶解作用により分散剤の吸着が一部妨げられ、結果として微粒化が阻害され、分散安定性も低下してしまう。

前記分散媒の使用量は、所望する紫外線吸収部材用組成物中の該金属錯体の濃度や、使用するマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーの溶解度等を考慮した上で適宜調整することができ、特に限定されるものではないが、該金属錯体の分散性の観点から言えば、通常該金属錯体１００重量部に対して４０〜９９００重量部、好ましくは１００〜１９００重量部である。４０重量部より少ないと、該金属錯体微粒子の分散安定性が低下するおそれがある。また９９００重量部よりも多いと、固形分濃度が低下するため十分な剪断力を与えることができず、該金属錯体を微粒化するためにかかる時間が長くなり効率が低下するおそれがある。

前記金属錯体微粒子の紫外線吸収部材用組成物中の平均粒子径は、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下、好ましくは１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下、さらに好ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。平均粒子径が２００ｎｍよりも大きいと、可視光透過率が著しく低下し、また最終的に得られるコーティング膜の機械的強度が低下するおそれがある。さらに粒子径が２００ｎｍよりも大きい場合、粒子の表面積の低下により、添加量に見合う紫外線吸収能が得られず、コスト面で不利である。また、平均粒子径が１０ｎｍ以下の場合には、溶解状態に近くなり可視透過率は向上するが、耐光性が低下し、分散系で使用するメリットが損なわれるおそれがある。

（分散機）
前記金属錯体を微粒化するにあたって使用できる分散機としては、特に限定されるものではないが、例えば、ペイントシェーカー、ボールミル、ナノミル、アトライター、バスケットミル、サンドミル、サンドグラインダー、ダイノーミル、ディスパーマット、ＳＣミル、スパイクミル、アジテーターミル等のメディア型分散機や、超音波ホモジナイザー、高圧ホモジナイザー、ナノマイザー、デゾルバー、ディスパー、高速インペラー分散機等のメディアレス型分散機が挙げられる。
中でも、コスト、処理能力の面から、メディア型分散機を使用するのが好ましい。また、これらのうちの一つを単独で用いても良く、２種類以上の装置を組み合わせて使用しても良い。

（分散メディア）
分散メディアとしては、用いる分散機の分散室内部の材質に応じて、ステンレス鋼、スチール等の鋼球ビーズや、アルミナ、ステアタイト、ジルコニア、ジルコン、シリカ、炭化ケイ素、窒化ケイ素等のセラミックスビーズや、ソーダガラス、ハイビー等のガラスビーズや、ＷＣ等の超硬ビーズ等の中から適宜選択し使用することができ、そのビーズ径は０．０３〜１．５ｍｍφの範囲が好ましい。

該金属錯体を微粒化し、分散させるための本分散工程においては、該金属錯体と分散メディアの衝突により、該金属錯体に十分な剪断力を負荷し、粉砕・分散させることで微粒化する。ここで、該金属錯体と分散メディアの衝突エネルギーにより、分散液の液温が上昇するため、公知の冷却装置により、分散液を冷却しながら分散を実施するのが好ましい。冷却温度は特に限定されるものではないが、通常−５０〜１２０℃、好ましくは−３０〜８０℃、さらに好ましくは−２０〜６０℃である。

（分散剤）
分散剤は、該金属錯体を分散媒中に安定に分散させるために、必要に応じて配合される。分散剤としては、例えば、アルキルアミン塩、ジアルキルアミン塩、テトラアルキルアンモニウム塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジニウム塩、イミダゾリウム塩等のカチオン性分散剤や、脂肪酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ジアルキルスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、アルキルジアリールジスルホン酸塩、アルキルリン酸塩等のアニオン性分散剤や、アルキルベタインやアミドベタイン等の両性分散剤や、ノニオン性分散剤や、フッ素系分散剤や、シリコン系分散剤や、高分子系分散剤等を使用することができる。中でも、次に例示するようなノニオン性分散剤や高分子系分散剤が特に好ましい。

ノニオン性分散剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類や、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類や、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のポリエチレングリコールジエステル類や、ソルビタン脂肪酸エステル類が好ましく用いられる。分散性や経済性の観点から、より好ましくは、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類およびポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類である。

高分子系分散剤としては、例えばポリウレタン、ポリカルボン酸エステル、不飽和ポリアミド、ポリカルボン酸及びその塩、スチレン−アクリル酸共重合体、アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンなどの水溶性樹脂や水溶性高分子化合物、ポリエステル系、変性ポリアクリレート、エチレンオキサイド／プロピレンオキサイド付加物等が好ましく用いられる。

これらの分散剤は単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
分散剤による分散は主に、微粒子表面に吸着した分散剤が微粒子に電気的な反発力を与えることによってもたらされる「静電反発」と、微粒子表面に吸着した分散剤同士の「立体反発」の２種類の作用により、分散安定化を図るものである。一般的に静電反発による分散効果は、水系での分散には有利であるが、誘電率の低い有機溶剤系においては不利とされている。また、立体反発による分散効果は、微粒子表面と分散剤との相互作用が不十分である場合には、分散剤が微粒子表面から容易に外れてしまい、安定化効果が損なわれ再凝集してしまう。

前記分散剤の使用量は、通常該金属錯体１００重量部に対して５〜１００重量部、好ましくは１０〜６０重量部である。５重量部未満の場合、分散効率が低下する傾向が見られ、１００重量部を超えて添加した場合には添加量に見合う分散効果が得られず、経済的でない。

以上の方法で該金属錯体の微粒子が分散された紫外線吸収部材用組成物を得た後に、所望する濃度に希釈してもよい。

希釈溶媒は特に限定されず、適宜選択し使用することができるが、希釈時における該金属錯体微粒子の再凝集を抑制するために、前記の分散工程で用いた分散媒を使用することが好ましい。前記分散工程において、分散媒を２種類以上組み合わせて用いた場合には、同一の組成比率の混合溶媒を用いることが好ましい。

希釈方法としては、該金属錯体の微粒子分散液を攪拌しながら、希釈溶媒を添加する方法が好ましい。希釈溶媒中に前記の該金属錯体の微粒子が分散された紫外線吸収部材用組成物を添加すると、該金属錯体の微粒子が再凝集するおそれがある。

また、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じて従来公知の光吸収剤を該金属錯体と混合し、併用することも可能である。

併用することのできる光吸収剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、有機系光吸収剤としては、フタロシアニン系、キナクリドン系、キナクリドンキノン系、ベンズイミダゾロン系、キノン系、アントアントロン系、ジオキサジン系、ジケトピロロピロール系、アンサンスロン系、インダンスロン系、フラバンスロン系、ペリノン系、ペリレン系、イソインドリン系、イソインドリノン系、アゾ系、シアニン系、アザシアニン系、スクアリリウム系、トリアリールメタン系等の有機色素や、ベンゼンジチオール金属錯体系、ジチオレン金属錯体系、アゾ金属系、金属フタロシアニン系、金属ナフタロシアニン系、ポルフィリン金属錯体系等の金属錯体系色素や、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、サルチレート系、サリチル酸フェニルエステル系、ヒンダードアミン系、ヒンダードフェノール系、ベンゾエート系、リン系、アミド系、アミン系、硫黄系等の有機系紫外線吸収剤等が挙げられる。経済性や光吸収性能の観点から、好ましくは、フタロシアニン系、キノン系、ペリレン系、アゾ系、シアニン系、アザシアニン系、スクアリリウム系、トリアリールメタン系等の有機色素や、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ヒンダードアミン系、ヒンダードフェノール系、ベンゾエート系、リン系、アミン系、硫黄系等の有機系紫外線吸収剤である。

また、無機系光吸収剤としては、六ホウ化物、酸化タングステン、複合酸化タングステン、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化錫、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化タンタル、酸化アルミニウム、酸化スカンジウム、酸化イットリウム、酸化カルシウム、酸化ガリウム、酸化リチウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化インジウム、酸化タリウム、酸化ニッケル、酸化ネオジム、酸化コバルト、酸化クロム、酸化ランタン、酸化ニオブ、酸化ハフニウム、酸化プラセオジウム、酸化サマリウム、酸化ユウロピウム、酸化ガドリニウム、酸化テルビニウム、酸化ジスプロシウム、酸化ホルミニウム、酸化エルビウム、酸化ツリウム、酸化イッテルビウム、酸化ルテチウム等の金属酸化物や、ＩＴＯ（インジウム−錫複合酸化物）、ＡＴＯ（アンチモン−錫複合酸化物）等の複合金属酸化物や、窒化チタン、窒化クロム酸等の金属窒化物等が挙げられる。

また、本発明の効果を損なわない範囲内であれば、硬化剤、硬化触媒、架橋剤、カップリング剤、レベリング剤、潤滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、熱安定剤、難燃剤、フィラー、着色剤、光触媒材料、防錆剤、撥水剤、導電性材料、アンチブロッキング材、軟化剤、離型剤、蛍光増白剤等を適宜添加してもよい。
また、重合性モノマーを用いる場合において、後述の紫外線吸収部材を作製する際に重合工程を設ける場合には、別途重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤としては特に限定されるものではなく、使用する重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。また、その使用量は、重合性モノマーおよび重合開始剤の活性に応じて適宜選択することができる。

熱硬化の場合に使用されるラジカル重合開始剤としては、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、２，２’−アゾビスイソバレロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサノン−１−カルボニトリル）等のアゾ系化合物や、メチルエチルケトンパーオキシド、メチルイソブチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキサイド等のケトンパーオキシド類や、ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド等を挙げることができる。

光硬化の場合に用いられるラジカル重合開始剤としては、例えば、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、４’−メチルチオ−２，２−ジメチル−２−モルホリノアセトフェノン、ベンゾインイソブチルエーテル、２−クロロチオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド等を挙げることができる。

熱硬化の場合に使用されるカチオン重合開始剤としては、例えば、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体、三フッ化ホウ素・アミン錯体、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化鉄（ＩＩＩ）、塩化亜鉛等のルイス酸類や、アンモニウム塩、スルホニウム塩、オキソニウム塩、ホスホニウム塩等を挙げることができる。
光硬化の場合に使用されるカチオン重合開始剤としては、例えば、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ホスホニウム塩等を挙げることができる。

硬化剤としては、上記重合性モノマーとしてエポキシ系モノマーを使用する際に使用されるものとして、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸などの酸無水物や、ジエチレントリアミン、トリエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジエチルアミノプロピルアミン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、イソホロンジアミン、メンセンジアミン、ピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルピペラジンなどの脂肪族アミンや、ｍ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４,４-ジアミノジフェニルスルホンなどの芳香族アミンや、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾールなどのイミダゾール類や、三フッ化ホウ素・アミン錯体、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化鉄（ＩＩＩ）、塩化亜鉛等のルイス酸類や、アンモニウム塩、スルホニウム塩、オキソニウム塩、ホスホニウム塩や、ポリメルカプタン、ポリサルファイドなどを挙げることができる。

中でも、酸無水物類が重合後のエポキシ樹脂の機械特性を向上する点で好ましく、操作性において常温で液状のものが好ましい。具体的には、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸等を挙げることができる。
常温で固体の酸無水物、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸等の酸無水物を使用する場合には、常温で液状の酸無水物に溶解させ、常温で液状の混合物として使用することが操作上好ましい。

エポキシ系モノマーの上記硬化反応を促進するために、さらに硬化促進剤を使用することもできる。硬化促進剤は、単独または２種以上を混合して使用することができる。 例えば、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、ベンジルジメチルアミン、２，４，６−トリス（ジアミノメチル）フェノール、１，８−ジアザビスシクロ（５，４，０）ウンデセン−７とそのオクチル酸塩などの第三級アミン類やイミダゾール類及び／ 又はそれらの有機カルボン酸塩や、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、ベンジルトリフェニルホスホニウム臭素塩、ベンジルトリブチルホスホニウム臭素塩などのホスフィン類及び／ 又はそれらの第四級塩や、オクチル酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、オクチル酸錫などの有機カルボン酸金属塩や、亜鉛とβ−ジケトンよりなるアセチルアセトン亜鉛キレート、ベンゾイルアセトン亜鉛キレート、ジベンゾイルメタン亜鉛キレート、アセト酢酸エチル亜鉛キレートなどの金属−有機キレート化合物や、芳香族スルホニウム塩などが挙げられる。

また、該金属錯体の微粒子分散液を、加熱により溶融させる等して流動性をもたせたマトリックス材料中に加え、練り込む方法を採用してもよい。

《紫外線吸収部材用組成物を用いて作製される紫外線吸収部材》
かくして得られた紫外線吸収部材用組成物を用いて紫外線吸収部材を作製することができる。本発明における紫外線吸収部材は主に以下の２種類の形態を示す。
（Ｉ）基材上に該金属錯体を含有するマトリックス材料の膜（以下、マトリックス膜という）を有する積層体としての紫外線吸収部材
前記で得られた紫外線吸収部材用組成物を基材に塗布し、乾燥および/または硬化することにより、基材上に該金属錯体を含有するマトリックス膜を有する積層体としての紫外線吸収部材を作製することができる。

前記紫外線吸収部材用組成物を基材に塗布する方法としては、特に限定されないが、例えばディップコート法、スピンコート法、フローコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、バーコート法、スプレー法、リバースコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。
基材は、所望によりフィルムでもボードでも良く、形状は限定されない。材質についても特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜選択し、使用することができる。例えば、ガラス、金属板、セラミックス等の無機系基材や、ポリ（シクロ）オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂等の有機系基材が挙げられる。中でも、透明性の観点から、ガラス、ポリ（シクロ）オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂等が好ましい。

また、層間剥離、コートムラを防ぐ目的で、塗布前に基材表面を洗浄してもよい。洗浄方法としては特に限定されず、基材の種類に応じて適宜選択し、実施することができる。通常、超音波洗浄、ＵＶ洗浄、セリ粉洗浄、酸洗浄、アルカリ洗浄、界面活性剤洗浄、有機溶剤洗浄等を単独で、または組み合わせて実施することができる。洗浄終了後は、洗浄剤が残留しないように濯ぎ及び乾燥を行う。
塗布により形成されるマトリックス材料のコーティング被膜の膜厚は特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜調整することができるが、通常０．１〜５００μｍ、好ましくは０．５〜１００μｍ、さらに好ましくは１〜１００μｍである。０．１μｍ未満では、十分な紫外線吸収能が得られないおそれがあり、５００μｍを超えると、乾燥時に溶媒や分散媒等が膜内部から蒸発し、膜表面に凹凸が生じたり、クラックを生じる可能性がある。

乾燥温度、乾燥時間は、用いる溶媒や分散媒の種類によって適宜設定することができる。
乾燥後、マトリックス膜の機械的強度等の物性を目的に見合うようにコントロールするため、養生工程や焼成工程を設けてもよい。

例えば、マトリックス材料としてポリシロキサン系バインダーを用いた場合、前記乾燥工程の後に１００〜８００℃、好ましくは１３０〜４００℃での焼成工程を設けることによって膜自体の機械的強度を向上させることができる。
すなわち、前記乾燥工程において、ゾル（シロキサンオリゴマー）同士が重縮合反応を起こすことでシロキサンネットワークを拡大し、ゲル体の骨格構造を形成する。このゲル体を焼成することでさらにシロキサンネットワークが拡大する。このシロキサンネットワーク（ポリシロキサンの分子量）の大きさにより、得られるマトリックス膜の機械的強度をコントロールすることができる。
１００℃より低温では、機械的強度が十分向上しないおそれがあり、８００℃より高温では、マトリックス膜中に含有される該金属錯体が熱分解してしまうおそれがある。
焼成時間は、所望のマトリックス膜の物性に応じて適宜調整可能であるが、通常、１０分間〜５時間、好ましくは３０分間〜３時間である。１０分間より短いと機械的強度が十分向上しないおそれがあり、５時間より長いと、時間に見合う効果が得られず経済的でない。

また、重合処理を設ける場合、加熱処理やＵＶ照射等の処理を設けることができる。加熱条件やＵＶ照射条件は、使用する重合開始剤や重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。
なお、後述の剥離性基材を用い、この上にコーティングを施した後、所望の別基材に該コーティング層を転写して得られた積層体も（Ｉ）の形態に含まれる。別基材としては前記の基材が例示される。
具体的な方法としては、例えば、紫外線吸収部材用組成物を剥離性基材（例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム）上に塗布し乾燥させた後、ラミネーター等を用いて別基材（例えばガラス基材）と貼り合わせ、その後剥離性基材を剥離することで、別基材上に該金属錯体を含有するマトリックス膜を有する積層体としての紫外線吸収部材を作製することができる。この場合にも、必要に応じて前記重合処理を設けてもよい。

例えば、所望の基材上に異なる成分からなるマトリックス膜を多層化させた積層体を作製する場合に、このような転写法を用いることができる。すなわち、前記のように基材上に直接紫外線吸収部材用組成物を塗布し、コーティング層を形成する方法で多層膜を形成しようとする場合、例えば、ｎ＋１層目（ｎは自然数を表す）を形成する際に使用する紫外線吸収部材用組成物は、ｎ層目の構成成分が溶解したり膨潤したりしないものでなければならず、ｎ＋１層目を構成する紫外線吸収部材用組成物の構成成分が制限されてしまうが、かかる転写法を用いることにより、これらの制限を回避することができる。

（II）該金属錯体がマトリックス膜中に含有された薄膜形態の紫外線吸収部材
前記で得られた紫外線吸収部材用組成物を、剥離性基材上に塗布し、乾燥または硬化した後に、剥離性基材から該コーティング膜を剥離することによって得られる、該金属錯体がマトリックス膜中に含有された薄膜形態の紫外線吸収部材を作製することができる。
紫外線吸収部材用組成物を剥離性基材に塗布する方法としては、特に限定されず、例えばディップコート法、スピンコート法、フローコート法、ロールコート法、グラビアコート法。フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、バーコート法、スプレー法、リバースコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。

剥離性基材は、所望によりフィルムでもボードでも良く、形状は限定されない。剥離性基材は、基材を構成する素材が剥離性を有するものであれば基材単独でもよいし、基材を構成する素材が剥離性を有しない場合、または剥離性が乏しい場合には基材に剥離性層を積層したものであってもよい。前者の基材を構成する素材が剥離性を有するものである場合には、ポリエチレン樹脂やポリプロピレン樹脂等のポリオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂等のポリエステル系樹脂等を用いることができる。
後者の、基材に剥離性層を積層したものである場合、基材としては前記（Ｉ）で例示したような基材を用いることができる。これら基材の表面に基材とは接着性を有し、紫外線吸収部材用組成物から作製される該金属錯体を含有する薄膜層に対しては剥離性を有する剥離性層を積層したものを使用することができる。

剥離性層は、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、剥離性物質をバインダー樹脂中に溶解または分散させたもの等で構成される。
剥離性物質としては、特に制限されるものではなく、例えば、長鎖アルキル化合物、カルナバワックスやモンタンワックスや酸化ポリエチレンや非酸化ポリエチレン等の合成ワックス等が挙げられる。
これらから選択される少なくとも１種以上を溶媒（分散媒）中に溶解、分散、希釈し、得られた組成物を基材上に公知の方法で塗布または印刷した後、乾燥または硬化することによって基材上に剥離性層を形成することができる。剥離性層の膜厚は、０．５μｍ〜１０μｍ程度であることが好ましい。

紫外線吸収部材用組成物を剥離性基材上に塗布することによって形成される該金属錯体がマトリックス膜中に含有された薄膜の膜厚は特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜調整することができるが、通常０．１〜５００μｍ、好ましくは０．５〜１００μｍ、さらに好ましくは１〜１００μｍである。０．１μｍ未満では、十分な紫外線吸収能が得られないおそれがあり、５００μｍを超えると、乾燥時に溶媒や分散媒等が膜内部から蒸発し、膜表面に凹凸が生じたり、クラックを生じる可能性がある。
乾燥温度、乾燥時間は、用いる溶媒や分散媒等の種類によって適宜設定することができる。
乾燥後、該金属錯体を含有する薄膜の機械的強度等の物性を目的に見合うようにコントロールするため、養生工程や焼成工程を設けてもよい。

例えば、マトリックス材料としてポリシロキサン系バインダーを用いた場合、前記乾燥工程の後に１００〜８００℃、好ましくは１３０〜４００℃での焼成工程を設けることによって膜自体の機械的強度を向上させることができる。
すなわち、前記乾燥工程において、ゾル（シロキサンオリゴマー）同士が重縮合反応を起こすことでシロキサンネットワークを拡大し、ゲル体の骨格構造を形成する。このゲル体を焼成することでさらにシロキサンネットワークが拡大する。このシロキサンネットワーク（ポリシロキサンの分子量）の大きさにより、得られるマトリックス膜の機械的強度をコントロールすることができる。

１００℃より低温では、機械的強度が十分向上しないおそれがあり、８００℃より高温では、マトリックス膜中に含有された該金属錯体が熱分解してしまうおそれがある。
焼成時間は、所望の薄膜の物性に応じて適宜調整可能であるが、通常、１０分間〜５時間、好ましくは３０分間〜３時間である。１０分間より短いと機械的強度が十分向上しないおそれがあり、５時間より長いと、時間に見合う効果が得られず経済的でない。
また、重合処理を設ける場合、加熱処理やＵＶ照射等の処理を設けることができる。加熱条件やＵＶ照射条件は、使用する重合開始剤や重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。

以下に実施例および比較例を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明は、これら実施例によって何ら限定されるものではない。

製造例１
フェノール１８．８ｇ（０．２モル）を５０℃まで加熱し溶融させ、ここに２−アミノベンゾチアゾール４５．１ｇ（０．３モル）を加えた後、さらに１８０℃まで加熱し、２０時間保温した。その後、反応液を８０℃まで冷却し、エタノール６０ｇを滴下し、さらに１時間保温した。その後、室温まで冷却し、析出物を濾別し、エタノールで洗浄後、乾燥し、配位子として白色の２，２’−イミノビスベンゾチアゾール（Ｌ１：下記表１参照）３２．１ｇを得た。収率は２−アミノベンゾチアゾールに対して７５．５％であった。

製造例２
製造例１において２−アミノベンゾチアゾール４５．１ｇ（０．３モル）に代えて２−アミノ−５，６−ジメチルベンゾチアゾール５３．５ｇ（０．３モル）を用いた以外は製造例１と同様にして、配位子として、白色の２，２’−イミノビス（５，６−ジメチルベンゾチアゾール）（Ｌ２：下記表１参照）４２．１ｇを得た。収率は２−アミノ−５，６−ジメチルベンゾチアゾールに対して８２．７％であった。

製造例３
製造例１において２−アミノベンゾチアゾール４５．１ｇ（０．３モル）に代えて２−アミノ−６−クロロベンゾチアゾール５５．４ｇ（０．３モル）を用いた以外は製造例１と同様にして、配位子として、白色の２，２’−イミノビス（６−クロロベンゾチアゾール）（Ｌ３：下記表１参照）３７．２ｇを得た。収率は２−アミノ−６−クロロベンゾチアゾールに対して７０．４％であった。

製造例４
製造例１において２−アミノベンゾチアゾール４５．１ｇ（０．３モル）に代えて２−アミノ−６−メトキシベンゾチアゾール５４．１ｇ（０．３モル）を用いた以外は製造例１と同様にして、配位子として、白色の２，２’−イミノビス（６−メトキシベンゾチアゾール）（Ｌ４：下記表１参照）４１．７ｇを得た。収率は２−アミノ−６−メトキシベンゾチアゾールに対して８１．０％であった。

製造例５
２−アミノベンゾチアゾール９０．１ｇ（０．６０モル）をＤＭＦ５６６ｇに溶解させ、氷浴下で２０モル/Ｌの水酸化ナトリウム水溶液３６ｍＬ（水酸化ナトリウム０．７２モル相当）を滴下し、次いで二硫化炭素９１．４ｇ（１．２モル）を滴下し、さらに２０モル/Ｌの水酸化ナトリウム水溶液３６ｍＬ（水酸化ナトリウム０．７２モル相当）を滴下した後に、ヨウ化メチル１７８．８ｇ（１．２６モル）を滴下した。室温で２時間攪拌した後に、この反応液を水３０００ｇの中に滴下した。析出物を濾別し、水で洗浄後、乾燥し、Ｓ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−（２−ベンゾチアゾリル）カルボンイミドジチオエート１０７．２ｇを得た。収率は２−アミノベンゾチアゾールに対して７０．２％であった。

２−アミノフェノール２１．８ｇ（０．２０モル）をＤＭＦ９４４ｇに溶解させ、ここに５モル/Ｌの水酸化ナトリウム水溶液４０ｍＬ（水酸化ナトリウム０．２０モル相当）を加え、室温で３０分間攪拌し、次いでここに前記の得られたＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−（２−ベンゾチアゾリル）カルボンイミドジチオエート５０．９ｇ（０．２０モル）をＤＭＦ１４１６ｇに溶解させた溶液を滴下した。次いで１５３℃まで昇温し、窒素雰囲気下で６時間還流させた後、室温まで冷却し、この反応液を水２０００ｇ中に滴下した。析出物を濾別し、水で洗浄後、乾燥し、２−（２−ベンゾチアゾリルアミノ）ベンゾオキサゾール（Ｌ５：下記表１参照）３０．０ｇを得た。収率は２−アミノフェノールに対して５６．１％であった。

製造例６
製造例５において２−アミノベンゾチアゾール９０．１ｇ（０．６０モル）に代えて、２−アミノ−６−メチルベンゾチアゾール９８．５ｇ（０．６０モル）を用いた以外は製造例５と同様にして、Ｓ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−［２−（６−メチルベンゾチアゾリル）］カルボンイミドジチオエート１１４．２ｇを得た。収率は２−アミノ−６−メチルベンゾチアゾールに対して７０．９％であった。

製造例５においてＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−（２−ベンゾチアゾリル）カルボンイミドジチオエート５０．９ｇ（０．２０モル）に代えて、ここで得られたＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−［２−（６−メチルベンゾチアゾリル）］カルボンイミドジチオエート５３．７ｇ（０．２０モル）を用いた以外は製造例５と同様にして、２−［２−（６−メチルベンゾチアゾリル）アミノ］ベンゾオキサゾール（Ｌ６：下記表１参照）２９．４ｇを得た。収率はＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−［２−（６−メチルベンゾチアゾリル）］カルボンイミドジチオエートに対して５２．３％であった。

製造例７
製造例５において２−アミノフェノール２１．８ｇ（０．２０モル）に代えて、２−アミノ−４−クロロフェノール２８．７ｇ（０．２０モル）を用いた以外は製造例５と同様にして、５−クロロ−２−（２−ベンゾチアゾリルアミノ）ベンゾオキサゾール（Ｌ７：下記表１参照）３２．４ｇを得た。収率は２−アミノ−４−クロロフェノールに対して５３．７％であった。

製造例８
ｏ−フェニレンジアミン２１．６ｇ（０．２モル）をＤＭＦ９４４ｇに溶解させ、ここにＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−（２−ベンゾチアゾリル）−カルボンイミドジチオエート５０．９ｇ（０．２０モル）をＤＭＦ１２５８ｇに溶解させた溶液を滴下した。次いで１５３℃まで昇温し、窒素雰囲気下で１３時間還流させた後、０℃まで冷却した。ここに水２０００ｇを滴下し、析出物を濾別し、水で洗浄後、乾燥し、２−（２−ベンゾチアゾリルアミノ）ベンゾイミダゾール（Ｌ８：下記表１参照）３２．０ｇを得た。収率はｏ−フェニレンジアミンに対して６０．１％であった。

製造例９
エチルシアノアセテート１０１．８ｇ（０．９０モル）と２−アミノチオフェノール１１２．７ｇ（０．９０モル）を混合し、窒素雰囲気下において１２０℃で２時間保温した。この反応液を室温まで冷却した後、黄色のオイルとしてエチル−２−ベンゾチアゾリルアセテート１８５．７ｇを得た。収率は２−アミノチオフェノールに対して９３．２％であった。

Ｎ−メチル−ｏ−フェニレンジアミン７３．３ｇ（０．６０モル）と、前で得られたエチル−２−ベンゾチアゾリルアセテート１３２．８ｇ（０．６０モル）を混合し、窒素雰囲気下において１６０℃で６時間還流した。このとき副生するエタノールを留去しながら還流した。反応液を室温まで冷却し、ジエチルエーテル９００ｇを加え、析出した黄色の固体を濾別した。濾別した黄色固体に２０％塩酸１５００ｇを加え溶解させた。ここに活性炭を加え、室温で３０分間攪拌後、濾過し、得られた濾液がｐＨ＝８になるまで炭酸水素ナトリウム水溶液を滴下し中和したところ、沈殿物が得られた。これを濾別し、水６００ｇ、クロロホルム６００ｇを加え、攪拌し、分液処理によりクロロホルム層を取り出した。クロロホルムを留去し、さらに乾燥することで、微黄色の（２−ベンゾチアゾリル）（２−（Ｎ−メチルベンゾイミダゾリル）メタン（Ｌ９：下記表１参照）３６．９ｇを得た。収率はＮ−メチル−ｏ−フェニレンジアミンに対して２２．０％であった。

製造例１０
２−アミノフェノール３２．７ｇ（０．３０モル）とマロン酸１５．６ｇ（０．１５モル）を混合し、この混合液を攪拌下のポリリン酸３９０ｇ中に７０℃に保温しながら加える。次にこの反応液を１５０℃まで昇温し、３時間保温した後、室温まで冷却した後に水を滴下した。析出物を濾別し、水で洗浄後、乾燥し、ビス（２−ベンゾオキサゾリル）メタン（Ｌ１０：下記表１参照）２５．３ｇを得た。収率は２−アミノフェノールに対して６７．４％であった。

製造例１１
製造例１０において２−アミノフェノール３２．７ｇ（０．３０モル）に代えて、２−アミノチオフェノール３７．６ｇ（０．３０モル）を用いた以外は製造例１０と同様にして、ビス（２−ベンゾチアゾリル）メタン（Ｌ１１：下記表１参照）３８．２ｇを得た。収率は２−アミノチオフェノールに対して９０．２％であった。

製造例１２
Ｎ−メチル−ｏ−フェニレンジアミン１１０．０ｇ（０．９０モル）とマロン酸ジエチル７２．１ｇ（０．４５モル）を混合し、この混合液を窒素雰囲気下において１５５℃で１１時間還流した。析出物を濾別し、ジエチルエーテルで洗浄後、２０％塩酸９００ｍＬを加え溶解させた。ここに活性炭を加え、室温で３０分間攪拌後、濾過し、得られた濾液がｐＨ＝８になるまで炭酸水素ナトリウム水溶液を滴下したところ、沈殿を生じた。これを濾別し灰色固体を得た。この灰色固体をＩＰＡから再結晶することにより精製し、乾燥することで、白色のビス［２−（Ｎ−メチルベンゾイミダゾリル）］メタン（Ｌ１２：下記表１参照）３８．１ｇを得た。収率はＮ−メチル−ｏ−フェニレンジアミンに対して３０．６％であった。

製造例１３
製造例１で得られた２，２’−イミノビスベンゾチアゾール（Ｌ１：下記表１参照）１０ｇ（０．０３５モル）をクロロスルホン酸７０．１ｇ(０．６０２モル)に添加し、混合物を室温で１８時間攪拌した。さらに塩化チオニル１０ｇ（０．０８４モル）を添加し５０℃で１時間攪拌した後室温まで冷却した。この混合物を４００ｇの氷の上に注ぎ、吸引ろ過し残った氷と一緒にジイソブチルアミン１３．１ｇ（０．１０１モル）と即座に攪拌した。室温まで暖めた後、約１ｍＬの５０重量％の水酸化ナトリウム溶液によって混合物をアルカリ性にした。固体を吸引ろ過し、水で洗浄後、乾燥することで薄黄色の２，２’−イミノビス［６−（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミノスルホニル）ベンゾチアゾール］（Ｌ１３：下記表１参照）１８．６ｇを得た。収率は２，２’−イミノビスベンゾチアゾールに対して８０．０％であった。

製造例１４
製造例１３においてジイソブチルアミン１３．１ｇ（０．１０１モル）に代えて、モルホリン８．８ｇ（０．１０１モル）を用いた以外は製造例１３と同様にして、２，２’−イミノビス（６−モルホリノスルホニルベンゾチアゾール）（Ｌ１４：下記表１参照）１５．４ｇを得た。収率は２，２’−イミノビスベンゾチアゾールに対して７５．５％であった。

得られた各配位子の構造式を表１に示す。

製造例１５
製造例１で得られた配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）を温メタノール２２５０ｇ（６０℃）に溶解させ、ここに酢酸コバルト・４水和物１２．５ｇ（０．０５モル）を温メタノール４００ｇに溶解させた溶液を滴下した。生じた析出物を濾別し、メタノールで洗浄後、乾燥し、橙色のコバルト錯体（Ｃ１−Ｃｏ）２８．５ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１）に対して９１．４％であった。

製造例１６
製造例１５において酢酸コバルト・４水和物１２．５ｇ（０．０５モル）に代えて、酢酸ニッケル・４水和物１２．４ｇ（０．０５モル）を用いた以外は製造例１５と同様にして、赤紫色のニッケル錯体（Ｃ１−Ｎｉ）２３．５ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１）に対して７５．４％であった。

製造例１７
製造例１５において酢酸コバルト・４水和物１２．５ｇ（０．０５モル）に代えて、酢酸銅・１水和物１０．０ｇ（０．０５モル）を用いた以外は製造例１５と同様にして、灰緑色の銅錯体（Ｃ１−Ｃｕ）２４．８ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１）に対して７８．９％であった。

製造例１８
製造例１５において酢酸コバルト・４水和物１２．５ｇ（０．０５モル）に代えて、酢酸亜鉛・２水和物１１．０ｇ（０．０５モル）を用いた以外は製造例１５と同様にして、白色の亜鉛錯体（Ｃ１−Ｚｎ）２８．４ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１）に対して９０．１％であった。

製造例１９
製造例１５において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ２）３３．９ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１５と同様にして、橙色のコバルト錯体（Ｃ２−Ｃｏ）３２．３ｇを得た。収率は配位子（Ｌ２）に対して８７．８％であった。

製造例２０
製造例１６において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ３）３５．２ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１６と同様にして、赤紫色のニッケル錯体（Ｃ３−Ｎｉ）２８．０ｇを得た。収率は配位子（Ｌ３）に対して７３．６％であった。

製造例２１
製造例１７において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ４）３４．３ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１７と同様にして、灰緑色の銅錯体（Ｃ４−Ｃｕ）２６．２ｇを得た。収率は配位子（Ｌ４）に対して７０．０％であった。

製造例２２
製造例１８において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ５）２６．７ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１８と同様にして、微黄色の亜鉛錯体（Ｃ５−Ｚｎ）２０．８ｇを得た。収率は配位子（Ｌ５）に対して６９．６％であった。

製造例２３
製造例１５において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ６）２８．１ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１５と同様にして、橙色のコバルト錯体（Ｃ６−Ｃｏ）１６．３ｇを得た。収率は配位子（Ｌ６）に対して５２．６％であった。

製造例２４
製造例１６において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ７）３０．２ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１６と同様にして、赤紫色のニッケル錯体（Ｃ７−Ｎｉ）２２．５ｇを得た。収率は配位子（Ｌ７）に対して６８．２％であった。

製造例２５
製造例１７において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ８）２６．６ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１７と同様にして、緑色の銅錯体（Ｃ８−Ｃｕ）１６．６ｇを得た。収率は配位子（Ｌ８）に対して５５．９％であった。

製造例２６
製造例１８において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ９）２７．９ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１８と同様にして、黄色の亜鉛錯体（Ｃ９−Ｚｎ）２１．１ｇを得た。収率は配位子（Ｌ９）に対して６７．８％であった。

製造例２７
製造例１５において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ１０）２５．０ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１５と同様にして、赤色のコバルト錯体（Ｃ１０−Ｃｏ）２０．３ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１０）に対して７２．８％であった。

製造例２８
製造例１５において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ１１）２８．２ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１５と同様にして、紫色のコバルト錯体（Ｃ１１−Ｃｏ）２２．１ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１１）に対して７１．１％であった。

製造例２９
製造例１６において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ１１）２８．２ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１６と同様にして、黒緑色のニッケル錯体（Ｃ１１−Ｎｉ）１３．５ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１１）に対して４３．４％であった。

製造例３０
製造例１７において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ１１）２８．２ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１７と同様にして、緑色の銅錯体（Ｃ１１−Ｃｕ）１８．６ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１１）に対して５９．４％であった。

製造例３１
製造例１８において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ１１）２８．２ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１８と同様にして、黄色の亜鉛錯体（Ｃ１１−Ｚｎ）１９．１ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１１）に対して６０．８％であった。

製造例３２
製造例１６において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ１２）２７．６ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１６と同様にして、灰色のニッケル錯体（Ｃ１２−Ｎｉ）２０．８ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１２）に対して６８．３％であった。

製造例３３
製造例１３で得られた配位子（Ｌ１３）４．００ｇ（０．００６モル）を温ＤＭＦ２４ｇ（７０℃）に溶解させ、ここに酢酸ニッケル・４水和物０．７５ｇ（０．００３モル）を添加した。この混合物を７０℃で１時間攪拌し、室温まで冷却した後メタノール２０ｇを滴下した。生じた析出物を濾別し、メタノールで洗浄後、乾燥し、黄緑色のニッケル錯体（Ｃ１３−Ｎｉ）３．５８ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１３）に対して８５．９％であった。

製造例３４
製造例１４で得られた配位子（Ｌ１４）３．４９ｇ（０．００６モル）を温ＤＭＦ２４ｇ（７０℃）に溶解させ、ここに酢酸コバルト・４水和物０．７５ｇ（０．００３モル）を添加した。この混合物を７０℃で１時間攪拌し、室温まで冷却した後メタノール２０ｇを滴下した。生じた析出物を濾別し、メタノールで洗浄後、乾燥し、黄色のコバルト錯体（Ｃ１４−Ｃｏ）３．１４ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１４）に対して８５．８％であった。

得られた各金属錯体の構造式を表２に示す。

（無機系バインダー：シリコンアルコキシドのゾル溶液の調製）
尚、以下に記載のシリコンアルコキシドのゾル溶液の加熱残分とは、ガラス基材上にゾル溶液の液滴をのせ２００℃で３０分間焼成した際にガラス基材上に残った固形分の重量を、前記のガラス基材上にのせたゾル溶液の液滴の重量で除した値である。それぞれの試料について３回ずつ測定し、得られた値の平均値を示した。

製造例３５
メチルトリエトキシシラン４９．９ｇ（０．２８モル）と、フェニルトリエトキシシラン２４．０ｇ（０．１０モル）と、ＰＧＭＥＡ８０ｇとを混合し、室温で攪拌し、溶液を得た。この溶液に、触媒としてギ酸６．９ｇ （０．１５モル）および水２５．０ｇを添加し、室温で３０分間攪拌することにより、加水分解を行った。次に加水分解後の溶液を７０ ℃まで昇温し、４時間保温し、加水分解・重縮合反応を進行させ、さらに減圧下で、副生したアルコールと水を留去しつつ、さらに１時間加水分解・重縮合反応を進行させることで、無機系バインダー：ポリシロキサン系バインダー前駆体としての、シリコンアルコキシドのゾル/ＰＧＭＥＡ溶液（シロキサンオリゴマー/ＰＧＭＥＡ溶液，加熱残分４０．５％）を得た。

製造例３６
製造例３５において、ＰＧＭＥＡ８０ｇに代えてＩＰＡ８０ｇを用いた以外は製造例３５と同様にして、無機系バインダー：ポリシロキサン系バインダー前駆体としての、シリコンアルコキシドのゾル/ＩＰＡ溶液（シロキサンオリゴマー/ＩＰＡ溶液，加熱残分４１．７％）を得た。

製造例３７
製造例３５において、ＰＧＭＥＡ８０ｇに代えてＤＭＦ８０ｇを用いた以外は製造例３５と同様にして、無機系バインダー：ポリシロキサン系バインダー前駆体としての、シリコンアルコキシドのゾル/ＤＭＦ溶液（シロキサンオリゴマー/ＤＭＦ溶液，加熱残分４５．３％）を得た。

（金属錯体の微粒子分散液の調製）
尚、平均粒子径とは一般的な粒度分布計、例えば動的光散乱式の粒度分布計（例えばシスメックス社製「ゼータサイザーナノＺＳ」）で測定されるＺ−Ａｖｅｒａｇｅ ｓｉｚｅの値を示す。
以下に示す平均粒子径は、シスメックス社製「ゼータサイザーナノＺＳ」を用いて、光源：Ｈｅ−Ｎｅレーザー（６３３ｎｍ）、セル：ガラス角セル、測定温度：２５℃、Ｍｅａｓｕｒｅ ｐｏｓｉｔｉｏｎ：０．８５（ｍｍ）の条件下で測定した。また、それぞれの試料について３回ずつ測定し、得られた値の平均値を示した。

製造例３８
製造例１５で得られた金属錯体（Ｃ１―Ｃｏ）１１．１ｇと、分散媒としてＰＧＭＥＡ５８．５ｇ、さらに分散剤としてポリオキシエチレンラウリルエーテル３．０ｇを混合し、分散メディアとして０．１ｍｍφのジルコニアビーズを用い、分散機としてＤＹＮＯ−ＭＩＬＬ（シンマルエンタープライゼス製、型番：ＫＤＬ）を用いてジャケット温を１０℃に保温しながら周速１５ｍ/ｓで１時間分散処理を行い、分散液Ａを得た。平均粒子径は８８ｎｍであった。

製造例３９
製造例１６で得られた金属錯体（Ｃ１―Ｎｉ）１１．１ｇと、分散媒としてＰＧＭＥＡ５８．０ｇ、さらに分散剤としてポリオキシエチレンオレイルエーテル３．０ｇを混合し、分散メディアとして０．１ｍｍφのジルコニアビーズを用い、分散機としてＤＹＮＯ−ＭＩＬＬ（シンマルエンタープライゼス製、型番：ＫＤＬ）を用いてジャケット温を１０℃に保温しながら周速１５ｍ/ｓで１時間分散処理を行い、分散液Ｂを得た。平均粒子径は９５ｎｍであった。

製造例４０
製造例１７で得られた金属錯体（Ｃ１―Ｃｕ）１１．１ｇと、分散媒としてエタノール３０．０ｇ、水３０．０ｇ、さらに分散剤としてポリオキシエチレンステアリルエーテル３．０ｇを混合し、分散メディアとして０．１ｍｍφのジルコニアビーズを用い、分散機としてＤＹＮＯ−ＭＩＬＬ（シンマルエンタープライゼス製、型番：ＫＤＬ）を用いてジャケット温を１０℃に保温しながら周速１５ｍ/ｓで１時間分散処理を行い、分散液Ｃを得た。平均粒子径は８５ｎｍであった。

製造例４１
製造例１８で得られた金属錯体（Ｃ１―Ｚｎ）１１．１ｇと、分散媒としてエタノール３０．０ｇ、水３０．０ｇ、さらに分散剤としてポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル３．０ｇを混合し、分散メディアとして０．１ｍｍφのジルコニアビーズを用い、分散機としてＤＹＮＯ−ＭＩＬＬ（シンマルエンタープライゼス製、型番：ＫＤＬ）を用いてジャケット温を１０℃に保温しながら周速１５ｍ/ｓで１時間分散処理を行い、分散液Ｄを得た。平均粒子径は６８ｎｍであった。

製造例４２
製造例１５で得られた金属錯体（Ｃ１―Ｃｏ）１１．１ｇと、分散媒としてトルエン７０．２ｇ、さらに分散剤としてポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル３．５ｇを混合し、分散メディアとして０．１ｍｍφのジルコニアビーズを用い、分散機としてＤＹＮＯ−ＭＩＬＬ（シンマルエンタープライゼス製、型番：ＫＤＬ）を用いてジャケット温を１０℃に保温しながら周速１５ｍ/ｓで１時間分散処理を行い、分散液Ｅを得た。平均粒子径は７０ｎｍであった。

製造例４３
製造例１６で得られた金属錯体（Ｃ１―Ｎｉ）１１．１ｇと、分散媒としてトルエン７０．２ｇ、さらに分散剤としてポリエチレングリコールジラウレート３．５ｇを混合し、分散メディアとして０．１ｍｍφのジルコニアビーズを用い、分散機としてＤＹＮＯ−ＭＩＬＬ（シンマルエンタープライゼス製、型番：ＫＤＬ）を用いてジャケット温を１０℃に保温しながら周速１５ｍ/ｓで１時間分散処理を行い、分散液Ｆを得た。平均粒子径は７７ｎｍであった。

製造例４４
製造例１７で得られた金属錯体（Ｃ１―Ｃｕ）１１．１ｇと、分散媒としてトルエン７０．２ｇ、さらに分散剤としてポリエチレングリコールジステアレート３．５ｇを混合し、分散メディアとして０．１ｍｍφのジルコニアビーズを用い、分散機としてＤＹＮＯ−ＭＩＬＬ（シンマルエンタープライゼス製、型番：ＫＤＬ）を用いてジャケット温を１０℃に保温しながら周速１５ｍ/ｓで１時間分散処理を行い、分散液Ｇを得た。平均粒子径は６９ｎｍであった。

製造例４５
製造例１８で得られた金属錯体（Ｃ１―Ｚｎ）１１．１ｇと、分散媒としてトルエン７０．２ｇ、さらに分散剤としてポリオキシエチレンラウリルエーテル３．５ｇを混合し、分散メディアとして０．１ｍｍφのジルコニアビーズを用い、分散機としてＤＹＮＯ−ＭＩＬＬ（シンマルエンタープライゼス製、型番：ＫＤＬ）を用いてジャケット温を１０℃に保温しながら周速１５ｍ/ｓで１時間分散処理を行い、分散液Ｈを得た。平均粒子径は７３ｎｍであった。

（紫外線吸収部材用組成物およびこれを用いた紫外線吸収部材）
実施例１
製造例３５で得られたシロキサンオリゴマー/ＰＧＭＥＡ溶液２．０ｇにＰＧＭＥＡを０．７ｇ加え、混合した。次いでこれを、製造例３８で得られた金属錯体の微粒子分散液（分散液Ａ）０．６ｇに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ａを得た。平均粒子径は９２ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ａを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に２００℃で３０分間焼成し、紫外線吸収部材Ａを得た。コーティング膜の膜厚は１２μｍであった。

実施例２
製造例３５で得られたシロキサンオリゴマー/ＰＧＭＥＡ溶液２．０ｇにＰＧＭＥＡを０．７ｇ加え、混合した。次いでこれを、製造例３９で得られた金属錯体の微粒子分散液（分散液Ｂ）０．６ｇに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｂを得た。平均粒子径は９８ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｂを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に２００℃で３０分間焼成し、紫外線吸収部材Ｂを得た。コーティング膜の膜厚は１３μｍであった。

実施例３
製造例３６で得られたシロキサンオリゴマー/ＩＰＡ溶液２．０ｇにＩＰＡを０．８ｇ加え、混合した。次いでこれを、製造例４０で得られた金属錯体の微粒子分散液（分散液Ｃ）０．８ｇに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｃを得た。平均粒子径は９５ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｃを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に２００℃で３０分間焼成し、紫外線吸収部材Ｃを得た。コーティング膜の膜厚は１３μｍであった。

実施例４
製造例３６で得られたシロキサンオリゴマー/ＩＰＡ溶液２．０ｇにＩＰＡを０．８ｇ加え、混合した。次いでこれを、製造例４１で得られた金属錯体の微粒子分散液（分散液Ｄ）０．５ｇに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｄを得た。平均粒子径は７２ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｄを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に２００℃で３０分間焼成し、紫外線吸収部材Ｄを得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。

実施例５
有機系バインダーとしてアクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体（ローム・アンド・ハース社製の商品名；パラロイド Ｂ−７２）０．８ｇをトルエン１．７ｇに溶解させ、これを製造例４２で得られた金属錯体の微粒子分散液（分散液Ｅ）０．６ｇに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｅを得た。平均粒子径は７８ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｅを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に、１１０℃で３分間乾燥し、紫外線吸収部材Ｅを得た。コーティング膜の膜厚は１３μｍであった。

実施例６
有機系バインダーとしてアクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体（ローム・アンド・ハース社製の商品名；パラロイド Ｂ−７２）０．８ｇをトルエン１．７ｇに溶解させ、これを製造例４３で得られた金属錯体の微粒子分散液（分散液Ｆ）０．６ｇに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｆを得た。平均粒子径は８０ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｆを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に、１１０℃で３分間乾燥し、紫外線吸収部材Ｆを得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。

実施例７
有機系バインダーとしてアクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体（ローム・アンド・ハース社製の商品名；パラロイド Ｂ−７２）０．８ｇをトルエン１．７ｇに溶解させ、これを製造例４４で得られた金属錯体の微粒子分散液（分散液Ｇ）０．８ｇに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｇを得た。平均粒子径は７５ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｇを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に、１１０℃で３分間乾燥し、紫外線吸収部材Ｇを得た。コーティング膜の膜厚は１１μｍであった。

実施例８
有機系バインダーとしてアクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体（ローム・アンド・ハース社製の商品名；パラロイド Ｂ−７２）０．８ｇをトルエン１．７ｇに溶解させ、これを製造例４５で得られた金属錯体の微粒子分散液（分散液Ｈ）０．５ｇに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｈを得た。平均粒子径は８１ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｈを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に、１１０℃で３分間乾燥し、紫外線吸収部材Ｈを得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。

実施例９
製造例２０で得られた金属錯体（Ｃ３―Ｎｉ）２．２ｇと、分散媒としてトルエン６０．１ｇ、有機系バインダーとしてアクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体（ローム・アンド・ハース社製の商品名；パラロイド Ｂ−７２）２１．９ｇ、さらに分散剤としてポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル０．６８ｇを混合し、分散メディアとして０．３ｍｍφのジルコニアビーズを用い、分散機としてＤＹＮＯ−ＭＩＬＬ（シンマルエンタープライゼス製、型番：ＫＤＬ）を用いてジャケット温を１０℃に保温しながら周速１５ｍ/ｓで２時間分散処理を行い、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｉを得た。平均粒子径は９４ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｉを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に、１１０℃で３分間乾燥し、紫外線吸収部材Ｉを得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。

実施例１０
製造例２２で得られた金属錯体（Ｃ５―Ｚｎ）１．８ｇと、分散媒としてトルエン６０．１ｇ、有機系バインダーとしてアクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体（ローム・アンド・ハース社製の商品名；パラロイド Ｂ−７２）２１．９ｇ、さらに分散剤としてポリオキシエチレンラウリルエーテル０．６８ｇを混合し、分散メディアとして０．３ｍｍφのジルコニアビーズを用い、分散機としてＤＹＮＯ−ＭＩＬＬ（シンマルエンタープライゼス製、型番：ＫＤＬ）を用いてジャケット温を１０℃に保温しながら周速１５ｍ/ｓで２時間分散処理を行い、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｊを得た。平均粒子径は８８ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｊを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に、１１０℃で３分間乾燥し、紫外線吸収部材Ｊを得た。コーティング膜の膜厚は１２μｍであった。

実施例１１
有機系バインダーとしてアクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体（ローム・アンド・ハース社製の商品名；パラロイド Ｂ−７２）２１．９ｇを、トルエン６０．１ｇに溶解させた。ここに製造例２３で得られた金属錯体（Ｃ６―Ｃｏ）２．４ｇと、分散剤としてポリエチレングリコールジラウレート０．６８ｇを添加し、分散メディアとして０．１ｍｍφのジルコニアビーズを用い、分散機としてＤＹＮＯ−ＭＩＬＬ（シンマルエンタープライゼス製、型番：ＫＤＬ）を用いてジャケット温を１０℃に保温しながら周速１５ｍ/ｓで１時間分散処理を行い、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｋを得た。平均粒子径は９８ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｋを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に、１１０℃で３分間乾燥し、紫外線吸収部材Ｌを得た。コーティング膜の膜厚は１３μｍであった。

実施例１２
有機系バインダーとしてアクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体（ローム・アンド・ハース社製の商品名；パラロイド Ｂ−７２）２１．９ｇを、トルエン６０．１ｇに溶解させた。ここに製造例２５で得られた金属錯体（Ｃ８―Ｃｕ）３．７ｇと、分散剤としてポリエチレングリコールジステアレート０．６８ｇを添加し、分散メディアとして０．１ｍｍφのジルコニアビーズを用い、分散機としてＤＹＮＯ−ＭＩＬＬ（シンマルエンタープライゼス製、型番：ＫＤＬ）を用いてジャケット温を１０℃に保温しながら周速１５ｍ/ｓで１時間分散処理を行い、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｌを得た。平均粒子径は９７ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｌを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に、１１０℃で３分間乾燥し、紫外線吸収部材Ｌを得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。

実施例１３
製造例２７で得られた金属錯体（Ｃ１０―Ｃｏ）２．４ｇと、分散媒としてシクロペンタノン５５．０ｇ、分散媒兼重合性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２５．０ｇ、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の商品名：イルガキュア８１９）４．０ｇ、さらに分散剤としてポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル０．６８ｇを混合し、分散メディアとして０．３ｍｍφのジルコニアビーズを用い、分散機としてＤＹＮＯ−ＭＩＬＬ（シンマルエンタープライゼス製、型番：ＫＤＬ）を用いてジャケット温を２０℃に保温しながら周速１５ｍ/ｓで１時間分散処理を行い、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｍを得た。平均粒子径は７３ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｍを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に、１４０℃で１分間乾燥し、さらに露光装置（ナノテック株式会社製の商品名：マスクアライナーＬＡ４１０ｓ、株式会社三永電機製作所製の商品名：超高圧水銀ランプＬ２５０１Ｌ）を用いて露光（単色化なし、波長３６５ｎｍにおける光強度４０ｍＷ/ｃｍ^２、２．５秒間照射）し、硬化させ、紫外線吸収部材Ｍを得た。コーティング膜の膜厚は１２μｍであった。

実施例１４
実施例１３において金属錯体（Ｃ１０―Ｃｏ）２．４ｇに代えて金属錯体（Ｃ１１−Ｎｉ）２．４ｇを用いた以外は実施例１３と同様にして、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｎを得た。平均粒子径は８３ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｎを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に、１４０℃で１分間乾燥し、さらに露光装置（ナノテック株式会社製の商品名：マスクアライナーＬＡ４１０ｓ、株式会社三永電機製作所製の商品名：超高圧水銀ランプＬ２５０１Ｌ）を用いて露光（単色化なし、波長３６５ｎｍにおける光強度４０ｍＷ/ｃｍ^２、２．５秒間照射）し、硬化させ、紫外線吸収部材Ｎを得た。コーティング膜の膜厚は１４μｍであった。

実施例１５
製造例３０で得られた金属錯体（Ｃ１１―Ｃｕ）２．２ｇと、分散媒兼重合性モノマーとして３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート２８．０ｇおよび３−エチル−３−［｛（３−エチルオキセタニル）メトキシ｝メチル］オキセタン５５．０ｇ、熱重合開始剤（三新化学株式会社製の商品名；ＳＩ−６０Ｌ）２．５ｇ、さらに分散剤としてポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル０．６８ｇを混合し、分散メディアとして０．３ｍｍφのジルコニアビーズを用い、分散機としてＤＹＮＯ−ＭＩＬＬ（シンマルエンタープライゼス製、型番：ＫＤＬ）を用いてジャケット温を２０℃に保温しながら周速１５ｍ/ｓで１時間分散処理を行い、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｏを得た。平均粒子径は９５ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｏを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に、１６０℃で３０分間かけて硬化し、紫外線吸収部材Ｏを得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。

実施例１６
実施例１５において、金属錯体（Ｃ１１―Ｃｕ）２．２ｇに代えて金属錯体（Ｃ１１−Ｚｎ）１．４ｇを用いた以外は実施例１５と同様にして分散液形態の紫外線吸収部材用組成液Ｐを得た。平均粒子径は８８ｎｍであった。得られた紫外線吸収部材用組成物Ｐを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に、１６０℃で３０分間かけて硬化し、紫外線吸収部材Ｐを得た。コーティング膜の膜厚は１１μｍであった。

実施例１７
製造例３７で得られたシロキサンオリゴマー/ＤＭＦ溶液２．０ｇにＤＭＦ０．６ｇを加え、混合した。この溶液に、製造例１９で得られた金属錯体（Ｃ２−Ｃｏ）０．１ｇを加え、溶解させることにより、溶液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｑを得た。
この紫外線吸収部材用組成物Ｑを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に２００℃で３０分間焼成し、紫外線吸収部材Ｑを得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。

実施例１８
有機系バインダーとしてアクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体（ローム・アンド・ハース社製の商品名；パラロイド Ｂ−７２）０．８ｇをＤＭＦ１．７ｇに溶解させ、この溶液に、製造例２１で得られた金属錯体（Ｃ４−Ｃｕ）０．１ｇを加え、溶解させることにより、溶液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｒを得た。
この紫外線吸収部材用組成物Ｒを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に１６０℃で３分間乾燥し、紫外線吸収部材Ｒを得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。

実施例１９
製造例２４で得られた金属錯体（Ｃ７−Ｎｉ）０．１ｇにＤＭＦ０．６ｇを加え、溶解させた。この溶液を、攪拌下の製造例３３で得られたシロキサンオリゴマー/ＤＭＦ溶液２．０ｇ中に添加・混合することにより、溶液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｓを得た。
この紫外線吸収部材用組成物Ｓを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に２００℃で３０分間焼成し、紫外線吸収部材Ｓを得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。

実施例２０
製造例２６で得られた金属錯体（Ｃ９−Ｚｎ）０．１ｇにＤＭＦ１．７ｇを加え、溶解させた。これに、有機系バインダーとしてアクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体（ローム・アンド・ハース社製の商品名；パラロイド Ｂ−７２）０．８ｇを添加し、溶解させることにより、溶液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｔを得た。
この紫外線吸収部材用組成物Ｔを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に１６０℃で３分間乾燥し、紫外線吸収部材Ｔを得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。

実施例２１
製造例２８で得られた金属錯体（Ｃ１１−Ｃｏ）０．１ｇ、ＤＭＦ０．６ｇ、製造例３７で得られたシロキサンオリゴマー/ＤＭＦ溶液２．０ｇを一括で仕込み、攪拌することで混合・溶解し、溶液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｕを得た。
この紫外線吸収部材用組成物Ｕを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に２００℃で３０分間焼成し、紫外線吸収部材Ｕを得た。コーティング膜の膜厚は１２μｍであった。

実施例２２
製造例３２で得られた金属錯体（Ｃ１２−Ｎｉ）０．１ｇ、ＤＭＦ１．７ｇ、有機系バインダーとしてアクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体（ローム・アンド・ハース社製の商品名；パラロイド Ｂ−７２）０．８ｇを一括で仕込み、攪拌することで混合・溶解し、溶液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｖを得た。
この紫外線吸収部材用組成物Ｖを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に１６０℃で３分間乾燥し、紫外線吸収部材Ｖを得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。

実施例２３
製造例３３で得られた金属錯体（Ｃ１３−Ｎｉ）０．１ｇ、ＭＥＫ１．７ｇ、有機系バインダーとしてアクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体（ローム・アンド・ハース社製の商品名；パラロイド Ｂ−７２）０．８ｇを一括で仕込み、攪拌することで混合・溶解し、溶液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｗを得た。
この紫外線吸収部材用組成物Ｗを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に８０℃で３分間乾燥し、紫外線吸収部材Ｗを得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。

実施例２４
製造例３４で得られた金属錯体（Ｃ１４−Ｃｏ）０．１ｇ、シクロペンタノン１．７ｇ、有機系バインダーとしてアクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体（ローム・アンド・ハース社製の商品名；パラロイド Ｂ−７２）０．８ｇを一括で仕込み、攪拌することで混合・溶解し、溶液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｘを得た。
この紫外線吸収部材用組成物Ｘを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に８０℃で３分間乾燥し、紫外線吸収部材Ｘを得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。

比較例１
製造例３６で得られたシロキサンオリゴマー/ＩＰＡ溶液２．０ｇにＩＰＡを０．４ｇ加え、混合した。次いでこれを、酸化亜鉛微粒子分散液（ハクスイテック株式会社製、製品名：パゼットＧＫ−ＩＰＡ分散体、粉体一次粒子径：２０〜４０ｎｍ）２．０ｇに攪拌しながら加え、混合することにより、紫外線吸収部材用組成液Ｙを得た。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｙを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に２００℃で３０分間焼成し、紫外線吸収部材Ｙを得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。

比較例２
有機系バインダーとしてアクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体（ローム・アンド・ハース社製の商品名；パラロイド Ｂ−７２）０．８ｇをＭＥＫ１．７ｇに溶解させ、これを酸化亜鉛微粒子分散液（ハクスイテック株式会社製、製品名：パゼットＧＫ−ＭＥＫ分散体、粉体一次粒子径：２０〜４０ｎｍ）２．０ｇに攪拌しながら加え、混合することにより、紫外線吸収部材用組成物Ｚを得た。
この紫外線吸収部材用組成物Ｚを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に８０℃で３分間乾燥し、紫外線吸収部材Ｚを得た。コーティング膜の膜厚は１１μｍであった。

[紫外線吸収部材の評価]
実施例１〜２４および比較例１〜２で得られた紫外線吸収部材Ａ〜Ｚについて、以下の手順により実施した。
（１）透過率
実施例１〜２４および比較例１〜２で得られた紫外線吸収部材Ａ〜Ｚについて、分光光度計（株式会社日立製作所製、型番：Ｕ−４１００）を用いて特定波長（λ＝３８０ｎｍ：紫外線ＵＶ−Ａ、λ＝４６０ｎｍ、５４５ｎｍ、６１０ｎｍ：可視光線）における透過率を測定し、紫外線吸収能（ＵＶ−Ａ吸収能）および可視光透明性の評価を実施した。
尚、測定はガラス基材にマトリックス層を施した試験片（紫外線吸収剤は含まず、マトリックスの種類は測定対象試料と同じものをそれぞれ使用し、同条件で試験片を作製）を別途作製し、これをブランクとして用いてバックグラウンド補正を行った。すなわち、以下の表に示す透過率の値は、膜自体の透過性能は反映しておらず、専ら紫外線吸収剤に由来するものと見なすことができる。

（２）耐光性試験
（１）の手順により実施例１〜２４および比較例１〜２で得られた紫外線吸収部材Ａ〜Ｚについて透過率を測定した後、キセノンウェザーメーター（スガ試験機株式会社製、型番：Ｘ２５）を用いて、これら紫外線吸収部材Ａ〜Ｚに放射強度６０Ｗ／ｍ^２（３００〜４００ｎｍ域における積算）の光を１０００時間照射した。このとき、紫外線吸収部材Ａ〜Ｚのソーダライムガラス基材側からではなく、コーティング層側から光を照射した。すなわちこれは、ソーダライムガラスは短波長域の紫外線を吸収する性質があるので、紫外線吸収部材Ａ〜Ｚのソーダライムガラス基材側からではなくコーティング層側から光を照射することにより、光源から放射された光を、コーティング層中の紫外線吸収剤に直接照射し、紫外線吸収剤にとってより過酷な条件とすることを意図したものである。光照射後の紫外線吸収部材Ａ〜Ｚについて、それぞれ透過率を測定し、光照射による紫外線吸収能の変化を評価した。
以下の表３に結果を示す。
尚、表中のΔ％Ｔは光照射後の透過率から光照射前の透過率を差し引きした値を示す。

実施例１〜１６は、紫外線吸収剤として式（１）で表される金属錯体を微粒子として分散系で使用した系である。すなわち、実施例１〜１６で得られた紫外線吸収部材用組成物Ａ〜Ｐはいずれも分散液形態であり、これら分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ａ〜Ｐを用いて作製した紫外線吸収部材Ａ〜Ｐは、ＵＶ−Ａを十分に遮蔽し、且つ光照射による透過率の変化も小さく、優れた耐光性を示すことが確認された。
尚、実施例４、８、１０、１６（それぞれ紫外線吸収部材Ｄ、Ｈ、Ｊ、Ｐ）は、式（１）におけるＭが亜鉛原子である金属錯体を用いた系であるが、式（１）におけるＭがコバルト、ニッケル、銅原子である金属錯体を用いた系に比べると、耐光性は劣るものの、可視域における透明性は非常に優れていることが確認できた。

また、実施例１７〜２４は、紫外線吸収剤として式（１）で表される金属錯体を溶解系で使用した系である。すなわち、実施例１７〜２４で得られた紫外線吸収部材用組成物Ｑ〜Ｘはいずれも溶液形態であり、これら溶液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｑ〜Ｘを用いて作製した紫外線吸収部材Ｑ〜Ｘは、前記の分散系に比べると全体的に耐光性は若干劣るものの、ＵＶ−Ａを十分に遮蔽し、可視域においては優れた透明性を示すことが確認された。
比較例１および比較例２は、紫外線吸収剤として従来公知の酸化亜鉛微粒子を使用した系である。耐光性は非常に良好であるものの、ＵＶ−Ａを十分に遮蔽することはできないことが確認された。

本発明の紫外線吸収部材用組成物およびこれを用いて作製された紫外線吸収部材は、優れた耐光性を長期間に渡って持続し、可視光透過率を高度に保ったまま、従来遮蔽困難であったＵＶ−Ａを十分に遮蔽することができる。

Claims (6)

1. 式（１）：
   

   

   （式中、Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３およびＹ^４はそれぞれ互いに独立して、ＮＨ、ＮＲ^５、酸素原子または硫黄原子であり、
   Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３またはＹ^４に帰属されるＮＲ^５のＲ^５は、炭素数１〜８のアルキル基または置換基を有してもよい炭素数６〜１５のアリール基である。尚、Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３およびＹ^４のうち少なくとも２つがＮＲ^５で表される場合、これらＮＲ^５のＲ^５はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
   また、Ｚ^１およびＺ^２はそれぞれ互いに独立して、窒素原子、ＣＨまたはＣＲ^６であり、
   Ｚ^１またはＺ^２に帰属されるＣＲ^６のＲ^６は、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１５のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数４〜１２のヘテロアリール基、置換基を有していてもよい炭素数５〜１２のヘテロアラルキル基または炭素数７〜１５のアラルキル基を示す。尚、Ｚ^１およびＺ^２がともにＣＲ^６で表される場合、これらＣＲ^６のＲ^６はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
   Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４の各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし４個を置換することができ、４個のベンゼン環の水素原子を置換した置換基の全てはそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であり、
   Ｍは金属原子を示す。）
   で表される少なくとも１種類の金属錯体と、少なくとも１種類のマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを含む紫外線吸収部材用組成物であって、
   式（１）における金属原子Ｍが、コバルト原子、ニッケル原子、銅原子、または亜鉛原子である、紫外線吸収部材用組成物。
2. 溶媒を含むか、あるいは溶媒を含むことなくマトリックス材料の前駆体が溶媒を兼ねる溶液形態である請求項１に記載の紫外線吸収部材用組成物。
3. 分散媒を含むか、あるいは分散媒を含むことなくマトリックス材料の前駆体が分散媒を兼ね、該金属錯体の微粒子が分散した分散液形態である請求項１に記載の紫外線吸収部材用組成物。
4. 請求項１〜３のいずれかに記載の紫外線吸収部材用組成物を用いて作製される紫外線吸収部材。
5. 基材上に該金属錯体を含有するマトリックス材料の膜を有する積層体としての紫外線吸収部材である請求項４に記載の紫外線吸収部材。
6. 該金属錯体がマトリックス材料の膜中に含有された薄膜形態の紫外線吸収部材である請求項４に記載の紫外線吸収部材。