CN102791803A - 紫外线吸收构件用组合物以及使用其而成的紫外线吸收构件 - Google Patents

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Abstract

本发明提供可在长时间维持优异的耐光性、高度保持可见光透射率的情况下，可充分遮挡以往难以遮挡的UV-A的紫外线吸收构件用组合物、以及使用其而成的紫外线吸收构件。

Description

紫外线吸收构件用组合物以及使用其而成的紫外线吸收构件
技术领域
本发明涉及紫外线吸收构件用组合物，该组合物含有式(1)所示的至少1种金属络合物，和至少1种基质材料和/或作为基质材料的前体的聚合性单体；本发明还涉及使用其而成的紫外线吸收构件。
背景技术
近年来，具有可充分透过可见光、同时选择性遮挡紫外线的功能的构件在各种领域得到应用。例如汽车的车窗玻璃或建筑物的窗玻璃等中，为了遮挡引起日晒或内饰材料劣化的紫外线，广泛使用紫外线遮挡玻璃。
另外，在停车场、展示窗、展示柜、照明用透明罩等中使用的透明树脂板或者各种透明容器等的用途中，使用赋予紫外线遮挡功能的丙烯酸类树脂、聚碳酸酯树脂、聚酯树脂等透明的热塑性树脂的成型体。
如上所述，为了使玻璃或树脂等的基材具有遮挡紫外线的功能，通常已知采用无机系金属氧化物微粒或有机系紫外线吸收剂作为紫外线吸收剂的方法。
但是，不管是无机系金属氧化物微粒还是有机系紫外线吸收剂，在以往公知的紫外线吸收剂中，可遮挡的紫外线限于380 nm以下，但可充分遮挡380-400 nm的被称为UV-A的紫外线、且长时间照射光也不会劣化、且可充分透过可见光的紫外线吸收剂几乎未被人所知。
这里，UV-A是波长较长的紫外线(320-400 nm)，在到达地表的太阳光的紫外线中含有最多，但对人体来讲，已知其渗透进皮肤的程度深，因此长时间的暴露会引起色素沉积(着色)或皱纹。
专利文献1：日本特开2008-174607号公报
专利文献2：日本特开2000-63647号公报
专利文献3：日本特许2957924
专利文献4：日本特开2009-35703号公报。
发明内容
本发明是为解决上述以往的技术所伴随的问题而设的，其目的在于提供：在长时间维持优异的耐光性、高度地保持可见光透射率的状态下，可以充分遮挡以往难以遮挡的UV-A的紫外线吸收构件用组合物、以及使用其而成的紫外线吸收构件。
本发明涉及以下所示的紫外线吸收构件用组合物以及使用其而成的紫外线吸收构件。
1. 紫外线吸收构件用组合物，该组合物含有式(1)所示的至少1种金属络合物、和至少1种基质材料和/或作为基质材料的前体的聚合性单体：
[化1]
Figure 2010800655910100002DEST_PATH_IMAGE002
(式中，Y1、Y2、Y3和Y4各自互相独立，为NH、NR5、氧原子或硫原子，
属于Y1、Y2、Y3或Y4的NR5中，R5为碳原子数1-8的烷基或可具有取代基的碳原子数6-15的芳基；另外，Y1、Y2、Y3和Y4中的至少2个以NR5表示时，这些NR5中的R5表示各自互相独立的取代基；
Z1和Z2各自互相独立，为氮原子、CH或CR6，
属于Z1或Z2的CR6中，R6表示可具有取代基的碳原子数1-8的烷基、可具有取代基的碳原子数6-15的芳基、可具有取代基的碳原子数4-12的杂芳基、可具有取代基的碳原子数5-12的杂芳烷基或碳原子数7-15的芳烷基；另外，Z1和Z2均以CR6表示时，这些CR6的R6表示各自互相独立的取代基；
R1、R2、R3和R4分别不存在或者在存在时，1个苯环的6个碳原子中，在除去与5元环共有的2个碳原子以外的4个碳原子上所键合的4个氢原子中，可以取代1-4个，4个苯环上的取代了氢原子的取代基均各自互相独立，为可具有取代基的碳原子数1-8的烷基、羟基、羧基、碳原子数1-4的烷氧基、卤代基、可具有取代基的碳原子数1-8的烷基氨基磺酰基、可具有取代基的吗啉代磺酰基、可具有取代基的哌啶基磺酰基、可具有取代基的吡咯烷基磺酰基、可具有取代基的硫代吗啉代磺酰基或可具有取代基的哌嗪基磺酰基，M表示金属原子)。
2. 1的紫外线吸收构件用组合物，其中，式(1)中的金属原子M为钴原子、镍原子、铜原子或锌原子。
3. 1或2的紫外线吸收构件用组合物，该组合物含有溶剂，或者是不含有溶剂、而是基质材料的前体兼做溶剂的溶液形态。
4. 1或2的紫外线吸收构件用组合物，该组合物含有分散介质，或者是不含有分散介质、而是基质材料的前体兼做分散介质、分散有该金属络合物微粒的分散液形态。
5. 紫外线吸收构件，该紫外线吸收构件是使用上述1-4中任一项的紫外线吸收构件用组合物制造的。
6. 5的紫外线吸收构件，该紫外线吸收构件是层叠体的形态，所述层叠体是在基材上具有含该金属络合物的基质材料的膜。
7. 5的紫外线吸收构件，该紫外线吸收构件是在基质材料的膜中含有该金属络合物的薄膜形态。
本发明提供紫外线吸收构件用组合物，其特征在于：该组合物含有作为紫外线吸收剂的式(1)所示的金属络合物、和至少1种基质材料和/或作为基质材料的前体的聚合性单体。
本发明的紫外线吸收构件用组合物可以是式(1)所示的金属络合物为溶解状态的形态，也可以是式(1)所示的金属络合物微粒为分散状态的形态。
对于含有溶解状态的式(1)所示的金属络合物的紫外线吸收构件用组合物，在高度保持最终得到的紫外线吸收构件的可见光透射率方面特别有利，而对于含有分散状态的式(1)所示的金属络合物微粒的紫外线吸收构件用组合物，在获得耐光性优异的紫外线吸收构件方面特别有利。
本发明提供使用上述的紫外线吸收构件用组合物，在玻璃基材或树脂基材上实施涂膜而得到的层叠体形式的紫外线吸收构件，以及在剥离性基材上涂布，然后将其剥离而获得的薄膜形态的紫外线吸收构件。
式(1)所示的金属络合物可高效遮挡以往难以遮挡的UV-A，与常规的有机系紫外线吸收剂相比，显示好得多的耐光性，即使长时间持续照射光，其紫外线吸收性能也难以降低。另外，与金属氧化物微粒相比，紫外线遮挡性能大幅度优异，少量添加即可具有充分的紫外线遮挡性能，并且，可见光区域的透明性非常优异，这也是值得特别提出的特征。
发明效果
根据本发明，可提供在长时间维持优异的耐光性、高度地保持可见光透射率的情况下、可充分遮挡以往难以遮挡的UV-A的紫外线吸收构件用组合物，以及使用其而成的紫外线吸收构件。
具体实施方式
以下详细说明本发明。
本发明提供紫外线吸收构件用组合物以及使用其而成的紫外线吸收构件，所述紫外线吸收构件用组合物含有式(1)所示的至少1种金属络合物、和至少1种基质材料和/或作为基质材料的前体的聚合性单体：
[化2]
Figure DEST_PATH_IMAGE004
(式中，Y1、Y2、Y3和Y4各自互相独立，为NH、NR5、氧原子或硫原子，属于Y1、Y2、Y3或Y4的NR5中，R5为碳原子数1-8的烷基或可具有取代基的碳原子数6-15的芳基。另外，Y1、Y2、Y3和Y4中的至少2个以NR5表示时，这些NR5中的R5表示各自互相独立的取代基。Z1和Z2各自互相独立，为氮原子、CH或CR6，属于Z1或Z2的CR6中，R6表示可具有取代基的碳原子数1-8的烷基、可具有取代基的碳原子数6-15的芳基、可具有取代基的碳原子数4-12的杂芳基、可具有取代基的碳原子数5-12的杂芳烷基或碳原子数7-15的芳烷基。另外，Z1和Z2均以CR6表示时，这些CR6中的R6表示各自互相独立的取代基。R1、R2、R3和R4分别不存在或者在存在时，1个苯环的6个碳原子中，在除去与5元环共有的2个碳原子以外的4个碳原子上所键合的4个氢原子中，可以取代1-4个，4个苯环上的取代了氢原子的取代基均各自互相独立，为可具有取代基的碳原子数1-8的烷基、羟基、羧基、碳原子数1-4的烷氧基、卤代基、可具有取代基的碳原子数1-8的烷基氨基磺酰基、可具有取代基的吗啉代磺酰基、可具有取代基的哌啶基磺酰基、可具有取代基的吡咯烷基磺酰基、可具有取代基的硫代吗啉代磺酰基或可具有取代基的哌嗪基磺酰基，M表示金属原子)。
式(1)中的Y1、Y2、Y3和Y4、Z1和Z2、R1、R2、R3、R4、R5、R6以及M可如以下例举。
式中，属于Y1、Y2、Y3或Y4的上述NR5中，R5例如可举出：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基、环戊基、正己基、异己基、环己基、正庚基、正辛基等烷基，或苯基、2-甲基苯基、3-甲基苯基、4-甲基苯基、3-氯苯基、4-溴苯基、3,4-二氯苯基、萘基等芳基。
应予说明，Y1、Y2、Y3、Y4中的至少2个以NR5表示时，这些NR5中的R5表示各自互相独立的取代基。
这里，从合成方法简便的观点考虑，式(1)中的Y1、Y2、Y3和Y4特别优选为硫原子。
式中，属于Z1或Z2的上述CR6中，R6例如可举出：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基、环戊基、正己基、异己基、环己基、正庚基、正辛基等的烷基，或苯基、2-甲基苯基、3-甲基苯基、4-甲基苯基、3-氯苯基、4-溴苯基、3,4-二氯苯基、萘基等芳基，或2-呋喃基、2-噻吩基、5-氯-2-噻吩基、2-吡咯基、2-噁唑基、5-甲基-2-噁唑基、2-噻唑基等杂芳基，或4-吡啶基甲基、4-喹啉基甲基、2-噻吩基甲基等杂芳烷基，或4-乙酰胺基苄基、3-氨基苄基、4-氨基苄基、3-甲氧基苄基、2-甲氧基苯乙基、4-(正戊基氧基)苄基、2-烯丙基氧基苯乙基、5-烯丙基-2-羟基-3-甲氧基苄基、4-苯基苄基、2-溴苄基、3-苯乙基、4-溴苄基、2-氯苄基、3-氯苄基、4-氯苄基、6-溴-2-羟基苄基、5-溴-3-硝基-2-羟基苯乙基、4-正丁基苄基、3-溴-5-甲氧基-4-羟基苄基、4-苄氧基苄基、6-溴-3-甲氧基-2-羟基苄基、(1-溴-2-萘基)-正丙基、2-苄氧基苄基、3,5-双三氟甲基苯乙基、4-叔丁基苄基、5-溴-2-氟苄基、3-溴-4-甲氧基苄基、5-溴-2-甲氧基苄基、3-溴-5-氯-2-羟基苄基、4-溴-2-氟苄基、2-溴-4,5-二甲氧基苯乙基、3,4-亚乙基二氧基苄基、3-溴-4-氟苯乙基、6-溴-3,4-亚甲基二氧基苄基、3-溴-4-羟基苄基、2-溴-5-氟苯乙基、4-氰基苄基、4-三氟苄基、4-(4-氯苯氧基)苯乙基、4-(N,N-二乙基氨基)苄基、3,4-二乙酰氧基苄基、4-(N,N-二苯基氨基)苄基、4-[N-(4,4-二氧代硫代吗啉代)]苄基、4-(N-吡咯烷基)苄基、3-(2-羟基乙氧基)苄基、4-(2-羟基乙氧基)苯乙基、4-羟基-3,5-二甲基苄基、(6-羟基-2-萘基)-正丙基、4-异丙基苄基、4-异丁基苄基等芳烷基。
上述的属于Z1或Z2的CR6中，在R6所例举的基团中，从合成方法简便或反应性的观点考虑，特别优选芳烷基。
应予说明，Z1和Z2均以CR6表示时，这些CR6中的R6表示各自互相独立的取代基。
并且，从合成方法简便的观点考虑，式(1)中的Z1和Z2特别优选为氮原子。
式中，属于R1、R2、R3或R4的、上述的可具有取代基的碳原子数1-8的烷基例如可举出：甲基、乙基、2-甲氧基乙基、正丙基、异丙基、3-氯-正丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、4-羟基-正丁基、正戊基、异戊基、新戊基、环戊基、正己基、异己基、环己基、6-苯基-正己基、正庚基、正辛基等。
式中，属于R1、R2、R3或R4的上述碳原子数1-4的烷氧基例如可举出：甲氧基、乙氧基、叔丁氧基等。
式中，属于R1、R2、R3或R4的上述卤代基例如可举出：氟基、氯基、溴基、碘基等。
式中，属于R1、R2、R3或R4的上述可具有取代基的碳原子数1-8的烷基氨基磺酰基例如可举出：N-甲基氨基磺酰基、N-乙基氨基磺酰基、N-异丙基氨基磺酰基、N-正丙基氨基磺酰基、N-正丁基氨基磺酰基、N,N-二甲基氨基磺酰基、N,N-甲基乙基氨基磺酰基、N,N-二乙基氨基磺酰基、N,N-乙基异丙基氨基磺酰基、N,N-二异丙基氨基磺酰基、N,N-二正丙基氨基磺酰基、N,N-二正丁基氨基磺酰基、N,N-二异丁基氨基磺酰基等。
式中，属于R1、R2、R3或R4的可具有取代基的吗啉代磺酰基例如可举出：吗啉代磺酰基、2-甲基吗啉代磺酰基、3-甲基吗啉代磺酰基、2-乙基吗啉代磺酰基、3-正丙基吗啉代磺酰基、3-正丁基吗啉代磺酰基、2,3-二甲基吗啉代磺酰基、2,6-二甲基吗啉代磺酰基、3-苯基吗啉代磺酰基等。
式中，属于R1、R2、R3或R4的可具有取代基的哌啶基磺酰基例如可举出：哌啶基磺酰基、2-甲基哌啶基磺酰基、3-甲基哌啶基磺酰基、4-甲基哌啶基磺酰基、2-乙基哌啶基磺酰基、4-正丙基哌啶基磺酰基、3-正丁基哌啶基磺酰基、2,4-二甲基哌啶基磺酰基、2,6-二甲基哌啶基磺酰基、4-苯基哌啶基磺酰基等。
式中，属于R1、R2、R3或R4的可具有取代基的吡咯烷基磺酰基例如可举出：吡咯烷基磺酰基、2-甲基吡咯烷基磺酰基、3-甲基吡咯烷基磺酰基、2-乙基吡咯烷基磺酰基、3-正丙基吡咯烷基磺酰基、3-正丁基吡咯烷基磺酰基、2,4-二甲基吡咯烷基磺酰基、2,5-二甲基吡咯烷基磺酰基、3-苯基吡咯烷基磺酰基等。
式中，属于R1、R2、R3或R4的可具有取代基的硫代吗啉代磺酰基例如可举出：硫代吗啉代磺酰基、2-甲基硫代吗啉代磺酰基、3-甲基硫代吗啉代磺酰基、2-乙基硫代吗啉代磺酰基、3-正丙基硫代吗啉代磺酰基、3-正丁基硫代吗啉代磺酰基、2,3-二甲基硫代吗啉代磺酰基、2,6-二甲基硫代吗啉代磺酰基、3-苯基硫代吗啉代磺酰基等。
式中，属于R1、R2、R3或R4的可具有取代基的哌嗪基磺酰基例如可举出：哌嗪基磺酰基、2-甲基哌嗪基磺酰基、3-甲基哌嗪基磺酰基、2-乙基哌嗪基磺酰基、3-正丙基哌嗪基磺酰基、3-正丁基哌嗪基磺酰基、2,5-二甲基哌嗪基磺酰基、2,6-二甲基哌嗪基磺酰基、3-苯基哌嗪基磺酰基、2-嘧啶基哌嗪基磺酰基等。
上述R1、R2、R3和R4分别不存在或在存在时，1个苯环的6个碳原子中，在除去与5元环共有的2个碳原子以外的4个碳原子上所键合的4个氢原子中，可以取代1-4个、优选1或2个，4个苯环上的取代了氢原子的取代基均各自互相独立，为可具有取代基的碳原子数1-8的烷基、羟基、羧基、碳原子数1-4的烷氧基、卤代基、可具有取代基的碳原子数1-8的烷基氨基磺酰基、可具有取代基的吗啉代磺酰基、可具有取代基的哌啶基磺酰基、可具有取代基的吡咯烷基磺酰基、可具有取代基的硫代吗啉代磺酰基或可具有取代基的哌嗪基磺酰基，从经济性、即，原料获得的简便或收率的观点考虑，优选不存在或为可具有取代基的碳原子数1-8的烷基、卤代基、碳原子数1-4的烷氧基，更优选不存在或为卤代基、碳原子数1-4的烷氧基，进一步优选不存在。
为碳原子数1-8的烷基氨基磺酰基、可具有取代基的吗啉代磺酰基、可具有取代基的哌啶基磺酰基、可具有取代基的吡咯烷基磺酰基、可具有取代基的硫代吗啉代磺酰基或可具有取代基的哌嗪基磺酰基时，在溶剂中的溶解性方面特别有利，其中，可具有取代基的碳原子数1-8的烷基氨基磺酰基或可具有取代基的吗啉代磺酰基的情况特别有利。
Y1、Y2、Y3和Y4、Z1和Z2、R1、R2、R3和R4各自互相独立，从合成方法简便以及所取得的该金属络合物的品质(纯度)管理的观点考虑，优选Y1=Y2且Y3=Y4且Z1=Z2且R1=R2=R3=R4。从该金属络合物在各种溶剂中的溶解性的观点考虑，优选Y1=Y3≠Y2=Y4且Z1=Z2且R1=R3=R2=R4、或Y1=Y3=Y2=Y4且Z1=Z2且R1=R3≠R2=R4。
式中，M所示的金属原子例如可举出：钴原子、镍原子、铜原子或锌原子等。
式(1)所示的金属络合物可通过使下式(2)所示的配体与金属卤化物、金属硫酸盐、金属乙酸盐、金属硝酸盐等金属盐反应来合成。
式(2)：
[化3]
Figure DEST_PATH_IMAGE006
式(2)中，Y1、Y2、Z1、R1、R2分别与式(1)中的Y1(和/或Y3)、Y2(和/或Y4)、Z1(和/或Z2)、R1(和/或R3)、R2(和/或R4)对应。
式(2)所示的配体例如可按照“日本特开昭56-87575”、“Synthesis 1987, 368”、“Synthesis 1982, 590”、“Synthesis 1982, 1066-1067”、“J. Org. Chem. 2002, 67, 5753-5772”、“J.Org.Chem.2002, 67, 5753-5772”、“J.Org.Chem.1961, 26, 3434-3445”、“Gazz.Chim.Ital.1996, 126, 329-337”、“Gazz.Chim.Ital.1994, 124, 301-308”、“日本特表2007-535421”中公开的方法合成。
以下，对于式(2)所示的配体的制造方法进行部分说明。
≪配体的制造方法≫
i) 下式(3)：式(2)中，Y1=Y2=S，Z1=N的情形
[化4]
Figure DEST_PATH_IMAGE008
例如可按照日本特开昭56-87575的方法合成。即，在苯酚等酸催化剂存在下，将2-氨基苯并噻唑(R1和R2不存在时)或2-氨基-取代苯并噻唑(R1和R2为可具有取代基的碳原子数1-8的烷基、羟基、羧基、碳原子数1-4的烷氧基或卤代基时)加热至150-185℃，使其反应，由此可以合成2,2’-亚氨基二苯并噻唑或2,2’-亚氨基二(取代苯并噻唑)。
ii) 下式(4)：式(2)中，Y1=S、Y2=O、Z1=N的情形
[化5]
Figure DEST_PATH_IMAGE010
例如可按照Synthesis 1987, 368所述的方法合成。即，将2-氨基苯酚(R2不存在时)或2-氨基-取代苯酚(R2为可具有取代基的碳原子数1-8的烷基、羟基、羧基、碳原子数1-4的烷氧基或卤代基时)溶解于N,N’-二甲基甲酰胺(DMF)，加入作为碱的氢氧化钠水溶液，在室温下搅拌30分钟，向其中滴加S,S’-二甲基-N-(2-苯并噻唑基)-碳亚胺二硫代碳酸酯(S,S'-dimethyl-N-(2-benzothiazolyl)-carbonimidodithioate)(R1不存在时)或S,S’-二甲基-N-[2-(取代苯并噻唑基)]-碳亚胺二硫代碳酸酯(R1为可具有取代基的碳原子数1-8的烷基、羟基、羧基、碳原子数1-4的烷氧基或卤代基时)的DMF溶液，在氮气氛下使其回流，由此合成2-(2-苯并噻唑基氨基)苯并噁唑或2-[2-(取代苯并噻唑基)氨基]取代苯并噁唑。
上述S,S’-二甲基-N-(2-苯并噻唑基)碳亚胺二硫代碳酸酯或S,S’-二甲基-N-[2-(取代苯并噻唑基)]碳亚胺二硫代碳酸酯例如可按照Synthesis 1982, 590所述的方法合成。
即，将2-氨基苯并噻唑(R1不存在时)或2-氨基-取代苯并噻唑(R1为可具有取代基的碳原子数1-8的烷基、羟基、羧基、碳原子数1-4的烷氧基或卤代基时)溶解于DMF，在水浴或冰浴下，向该溶液中滴加氢氧化钠水溶液，接着滴加二硫化碳，进一步滴加氢氧化钠水溶液，然后滴加甲基碘，由此可以合成S,S’-二甲基-N-(2-苯并噻唑基)碳亚胺二硫代碳酸酯(R1不存在时)或S,S’-二甲基-N-(2-取代苯并噻唑基)碳亚胺二硫代碳酸酯(R1为可具有取代基的碳原子数1-8的烷基、羟基、羧基、碳原子数1-4的烷氧基或卤代基时)。
iii) 下式(5)：式(2)中，Y1=S、Y2=NH、Z1=N的情形
[化6]
Figure DEST_PATH_IMAGE012
例如可按照Synthesis 1982, 1066-1067的方法合成。即，将邻苯二胺(R2不存在时)或邻取代苯二胺(R2为可具有取代基的碳原子数1-8的烷基、羟基、羧基、碳原子数1-4的烷氧基或卤代基时)溶解于DMF，向其中滴加S,S’-二甲基-N-(2-苯并噻唑基)-碳亚胺二硫代碳酸酯(R1不存在时)或S,S’-二甲基-N-[2-(取代苯并噻唑基)]-碳亚胺二硫代碳酸酯(R1为可具有取代基的碳原子数1-8的烷基、羟基、羧基、碳原子数1-4的烷氧基或卤代基时)的DMF溶液，然后回流10-16小时，由此可以合成2-(2-苯并噻唑基氨基)苯并咪唑或2-[2-(取代苯并噻唑基氨基)]取代苯并咪唑。
iv) 下式(6)：式(2)中，Y1=S、Y2=NH、Z1=CH的情形
[化7]
例如可按照J.Org.Chem.2002, 67, 5753-5772所述的方法合成。即，在氮气氛下，在160℃下，将邻苯二胺(R2不存在时)或邻取代苯二胺(R2为可具有取代基的碳原子数1-8的烷基、羟基、羧基、碳原子数1-4的烷氧基或卤代基时)、和2-苯并噻唑基乙酸乙酯(R1不存在时)或2-(取代苯并噻唑基)乙酸乙酯(R1为可具有取代基的碳原子数1-8的烷基、羟基、羧基、碳原子数1-4的烷氧基或卤代基时)回流6小时，由此可以合成(2-苯并噻唑基)(2-苯并咪唑基)甲烷或[2-(取代苯并噻唑基)][2-(取代苯并咪唑基)]甲烷。
上述2-苯并噻唑基乙酸乙酯或2-(取代苯并噻唑基)乙酸乙酯例如可按照J.Org.Chem.2002, 67, 5753-5772所述的方法合成。
即，可将氰基乙酸乙酯与2-氨基-取代苯硫酚混合，在氮气氛下、在120℃下反应2小时，由此可以合成2-苯并噻唑基乙酸乙酯或2-(取代苯并噻唑基)乙酸乙酯。
v) 下式(7)：式(2)中，Y1=Y2=O、Z1=CH的情形
[化8]
Figure DEST_PATH_IMAGE016
例如可按照US3250780的方法合成。即，将2-氨基苯酚(R1和R2不存在时)或2-氨基取代苯酚(R1和R2为可具有取代基的碳原子数1-8的烷基、羟基、羧基、碳原子数1-4的烷氧基或卤代基时)与丙二酸混合，一边保温为70℃一边将该混合液加入到搅拌下的多聚磷酸中。接着，将该反应液升温至175℃，进行反应，由此可以合成双(2-苯并噁唑基)甲烷或双[2-(取代苯并噁唑基)]甲烷。
vi) 下式(8)：式(2)中，Y1=Y2=S、Z1=CH的情形
[化9]
Figure DEST_PATH_IMAGE018
例如可按照J.Org.Chem.1961, 26,3434-3445的方法合成。即，将2-氨基苯硫酚(R1和R2不存在时)或2-氨基-取代苯硫酚(R1和R2为可具有取代基的碳原子数1-8的烷基、羟基、羧基、碳原子数1-4的烷氧基或卤代基时)与丙二酸混合，一边保温为70℃一边将该混合液加入到搅拌下的多聚磷酸中。接着，将该反应液在125-150℃下反应2小时，由此可以合成双(2-苯并噻唑基)甲烷或双[2-(取代苯并噻唑基)]甲烷。
vii) 下式(9)：式(2)中，Y1=NR5、Y2=NR5、Z1=CH的情形
[化10]
Figure DEST_PATH_IMAGE020
例如可按照Gazz.Chim.Ital.1996, 126, 329-337的方法合成。即，将(N-取代-)邻苯二胺(R1和R2不存在时)或(N-取代-)[邻(取代苯)]二胺(R1和R2为可具有取代基的碳原子数1-8的烷基、羟基、羧基、碳原子数1-4的烷氧基或卤代基时)与丙二酸二乙酯混合，在氮气氛下、在155℃下将该混合液回流11小时，由此可以合成双[2-(N-取代)苯并咪唑基]甲烷或双[2-(N-取代)(取代苯并咪唑基)]甲烷。
viii) 下式(10)：式(2)中，Z1=CR6的情形
[化11]
Figure DEST_PATH_IMAGE022
例如可按照Gazz.Chim.Ital.1994, 124, 301-308的方法合成。如上述，式(1)中的属于Z1或Z2的CR6中，R6特别优选为芳烷基。这里，该芳烷基例如例举为4-吡啶基甲基的情况，以下说明合成方法。为除4-吡啶基甲基以外的取代基时，通过选择对应的基质(与取代基对应的醛体)，可以按照同样的合成方法合成。
将iv)中得到的(2-苯并噻唑基)(2-苯并咪唑基)甲烷或[2-(取代苯并噻唑基)][2-(取代苯并咪唑基)]甲烷、或v)中得到的双(2-苯并噁唑基)甲烷或双[2-(取代苯并噁唑基)]甲烷、或vi)中得到的双(2-苯并噻唑基)甲烷或双[2-(取代苯并噻唑基)]甲烷、或vii)中得到的双[2-(N-取代)苯并咪唑基]甲烷或双[2-(N-取代)(取代苯并咪唑基)]甲烷与乙酸和乙酸钠混合，向其中添加4-吡啶甲醛，进行反应，然后使用披钯碳等进行还原，由此，可以由iv)中得到的化合物合成对应的4-[β,β-(2-苯并噻唑基)(2-苯并咪唑基)乙基]吡啶或4-[β,β-{2-(取代苯并噻唑基)}{2-(取代苯并咪唑基)}乙基]吡啶，由v)中得到的化合物合成对应的4-[β,β-双(2-苯并噁唑基)乙基]吡啶或4-[β,β-双{2-(取代苯并噁唑基)}乙基]吡啶，由vi)中得到的化合物合成对应的4-[β,β-双(2-苯并噻唑基)乙基]吡啶或4-[β,β-双{2-(取代苯并噻唑基)}乙基]吡啶，由vii)中得到的化合物合成对应的4-[β,β-双{2-(N-取代)苯并咪唑基}乙基]吡啶或4-[β,β-双{2-(N-取代)(取代苯并咪唑基)乙基]吡啶。
ix) 式(2)中，R1和R2的分别至少一个取代基为可具有取代基的碳原子数1-8的烷基氨基磺酰基、可具有取代基的吗啉代磺酰基、可具有取代基的哌啶基磺酰基、可具有取代基的吡咯烷基磺酰基、可具有取代基的硫代吗啉代磺酰基或可具有取代基的哌嗪基磺酰基的情形
例如可按照日本特表2007-535421的方法，向上述i)-viii)的方法中得到的配体(式(2)中，R1和R2分别不存在或者存在时，1个苯环的6个碳原子中，在除去与5元环共有的2个碳原子以外的4个碳原子上所键合的4个氢原子中，限于取代1-3个)中导入可具有取代基的碳原子数1-8的烷基氨基磺酰基、可具有取代基的吗啉代磺酰基、可具有取代基的哌啶基磺酰基、可具有取代基的吡咯烷基磺酰基、可具有取代基的硫代吗啉代磺酰基或可具有取代基的哌嗪基磺酰基。
这里，以i)中得到的2,2’-亚氨基二苯并噻唑或2,2’-亚氨基二(取代苯并噻唑)为例，以下说明合成方法。
将i)中得到的2,2’-亚氨基二苯并噻唑或2,2’-亚氨基二(取代苯并噻唑)添加到氯磺酸中，将混合物搅拌过夜。进一步添加亚硫酰氯，在50℃下搅拌1小时，然后冷却至室温。将混合物注入到冰上，抽滤，与残余的冰一起，与伯或仲胺搅拌，由此可合成对应的2,2’-亚氨基二(取代苯并噻唑)。
≪式(1)所示的金属络合物的制造方法≫
例如可按照Polyhedron 2006, 25, 2363-2374或J.Org.Chem. 2002, 67, 5753-5772等的方法，使基于上述i)-ix)的制造方法得到的配体、与金属卤化物、金属硫酸盐、金属乙酸盐、金属硝酸盐等金属盐反应，由此可以合成对应的金属络合物。即，可以在甲醇、乙醇、水、N,N-二甲基甲酰胺(DMF)等的溶剂中，通过使基于上述i)-ix)的制造方法得到的配体、和与式(1)中的M对应的金属盐反应来合成。
≪含有式(1)所示的至少1种金属络合物、和至少1种基质材料和/或作为基质材料的前体的聚合性单体的紫外线吸收构件用组合物的制造方法≫
本发明的紫外线吸收构件用组合物是在该紫外线吸收构件用组合物中，给出了“式(1)所示的金属络合物处于溶解状态”的情形、和“式(1)所示的金属络合物的微粒处于分散状态”的情形。分别进行以下说明。
(i)式(1)所示的金属络合物以分子水平处于溶解状态的情形下的紫外线吸收构件用组合物
具体来说，通过使用与基质材料和/或作为基质材料的前体的聚合性单体的相容性良好、且该金属络合物的溶解性良好的溶剂，可以制造基质材料和该金属络合物溶解于该溶剂中的、均匀的紫外线吸收构件用组合物。
应予说明，替代基质材料，使用作为基质材料的前体的聚合性单体时，上述溶剂不是必须的，也可以将该聚合性单体作为基质材料的前体、兼作为溶剂来使用。
上述基质材料可以使用有机系或无机系粘合剂任何一种。这里，无机系粘合剂表示聚合物主链不含有碳原子的粘合剂。
应予说明，本发明中使用的“基质材料”的表达不仅是被称为有机系或无机系粘合剂的基质成分(固形物)本身，也包含含该基质成分的溶液(例如市售的粘合剂溶液)。不使用上述溶剂、而将金属络合物溶解于含上述基质成分的溶液中的方案也包含在本发明中。
有机系粘合剂例如可举出：聚(甲基)丙烯酸甲酯、聚(甲基)丙烯酸乙酯、聚(甲基)丙烯酸丙酯、聚(甲基)丙烯酸丁酯、聚(甲基)丙烯酸环己酯等聚(甲基)丙烯酸酯系树脂，或(甲基)丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸乙酯共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸丁酯共聚物等(甲基)丙烯酸酯共聚物，或聚苯乙烯、聚(α-甲基苯乙烯)等聚苯乙烯系树脂，或苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯-异戊二烯共聚物、苯乙烯-丙烯酸共聚物、苯乙烯-丙烯酸酯共聚物、苯乙烯-马来酸共聚物、苯乙烯-马来酸酯系共聚物等苯乙烯系共聚物，或聚丁二酸乙二酯、聚己二酸丁二酯、聚乳酸、聚乙醇酸、聚己内酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂，或聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃系树脂，或聚甲醛、聚环氧乙烷等的聚醚系树脂，或有机硅系树脂、或聚砜系树脂、或聚酰胺系树脂、或聚酰亚胺系树脂、或聚氨酯系树脂、或聚碳酸酯系树脂、或环氧系树脂、或酚醛系树脂、或三聚氰胺树脂、或脲醛树脂、或聚乙烯基系树脂等热塑性或者热固性合成树脂，或乙烯-丙烯共聚橡胶、聚丁二烯橡胶、苯乙烯-丁二烯橡胶、丙烯腈-丁二烯橡胶等合成橡胶或天然橡胶等。
从与基材的密合性或透明性的观点考虑，优选为聚(甲基)丙烯酸酯系树脂、聚苯乙烯系树脂、苯乙烯系共聚物、聚酯系树脂、聚烯烃系树脂、聚醚系树脂、有机硅系树脂、聚砜系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚氨酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、环氧系树脂、酚醛系树脂、三聚氰胺树脂、脲醛树脂、聚乙烯基系树脂等热塑性或热固性合成树脂，更优选为聚(甲基)丙烯酸酯系树脂、聚苯乙烯系树脂、苯乙烯系共聚物、聚酯系树脂、聚烯烃系树脂、聚醚系树脂、有机硅系树脂、聚碳酸酯系树脂、环氧系树脂、酚醛系树脂、聚乙烯基系树脂。
应予说明，(甲基)丙烯酸某表示甲基丙烯酸某和丙烯酸某。
无机系粘合剂可优选使用聚硅氧烷系粘合剂。此时，聚硅氧烷系粘合剂前体可优选使用通过烷氧基硅的水解・缩聚反应得到的溶胶溶液(硅氧烷低聚物溶液)。
烷氧基硅的溶胶溶液通常可在有机溶剂中、在酸催化剂存在下，在烷氧基硅中添加水，进行水解・缩聚来制备，也可以使用市售的溶胶溶液。以下具体说明烷氧基硅的溶胶溶液的制备方法。
(烷氧基硅)
烷氧基硅可举出：四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四丁氧基硅烷等四官能烷氧基硅烷，或甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷、甲基三丁氧基硅烷、甲基-三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、乙基三丙氧基硅烷、乙基三丁氧基硅烷、乙基-三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、己基三甲氧基硅烷、己基三乙氧基硅烷、己基三丙氧基硅烷、己基三丁氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、苯基三丙氧基硅烷、苯基三丁氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、甲基二甲氧基乙氧基硅烷、乙基二乙氧基甲氧基硅烷等三官能烷氧基硅烷，或二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、双(2-甲氧基乙氧基)二甲基硅烷、二乙基二乙氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、二苯基二乙氧基硅烷等双官能烷氧基硅烷。
其中，从所得膜的状态或强度、经济性的观点考虑，优选为四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、二苯基二乙氧基硅烷。
这些烷氧基硅可单独使用，也可以将2种以上组合使用。将2种以上组合使用时的混合比例可根据需要适当选择。
另外，为了使最终得到的涂膜具有所需物性，可以根据需要添加·结合使用烷氧基钛、烷氧基铈、烷氧基锆、烷氧基锡、烷氧基铝、烷氧基镍、烷氧基锌等烷氧基金属。
例如，若欲提高反射率则添加·结合使用烷氧基钛、烷氧基锌是有效的，若欲提高机械强度、耐碱性则添加·结合使用烷氧基锆是有效的，如欲提高耐候性则添加·结合使用烷氧基镍是有效的。
(酸催化剂)
酸催化剂没有特别限定，例如可举出硝酸、盐酸、硫酸等无机酸，或甲酸、乙酸、草酸等有机酸。水解・缩聚反应结束后如果残留酸，则缩合稳定性变差，因此，优选使用低沸点、挥发性高、PKa小的甲酸。
酸催化剂的添加量只要可发挥充分的催化作用即可，没有特别限定，通常相对于1摩尔烷氧基硅，优选配合0.01摩尔以上，更优选0.3摩尔以上。低于0.01摩尔时，可能无法得到充分的催化作用，而过量添加时，最终得到的烷氧基硅的溶胶溶液可能由于残留的酸而随着时间推移发生劣化。因此，相对于1摩尔烷氧基硅，优选以1摩尔以下的比例配合。
(水)
只要可引发上述烷氧基硅的水解即可，没有特别限定，优选相对于1摩尔烷氧基硅，以2-6摩尔的比例添加水。低于2摩尔时，则水解可能未充分进行，若超过6摩尔，则水解过于快速进行，妨碍接下来的缩聚反应的进行，并且反应后要除去的水量增多，效率不好。
(反应溶剂)
除烷氧基硅、水、酸催化剂之外，通过使用反应溶剂，可以适度降低水解速度，使水解・缩聚可靠地进行。并且，也兼具稀释剂的作用，该稀释剂用于将最终得到的烷氧基硅溶胶溶液(硅氧烷低聚物溶液)的粘度调节至容易操作的水平。
反应溶剂只要是上述烷氧基硅可溶解的溶剂即可，没有特别限定，可适当选择使用。例如可举出：甲醇、乙醇、异丙醇(IPA)、丁醇、四氟丙醇等醇类，或氯仿、二氯甲烷等卤化烃类，或乙二醇或1,2-丙烷二醇、1,3-丙烷二醇、1,4-丁烷二醇、二甘醇等二醇类，或丙酮、甲基乙基酮(MEK)、甲基异丁基酮、环戊酮、环己酮、2-庚酮、3-庚酮、3-辛酮等酮类，或乙酸乙酯、2-羟基丙酸乙酯、3-甲基-3-甲氧基丙酸正丁酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁基酯、甲酸正戊基酯、乙酸异戊基质、丙酸正丁基酯、丁酸乙酯、丁酸异丙酯、丁酸正丁基酯、丙酮酸乙酯、γ-丁内酯、乳酸乙酯等酯类，或二乙醚、环戊基甲基醚、四氢呋喃等醚类，或甲苯、二甲苯、单氯苯、二氯苯等芳族类，或正戊烷、环戊烷、正己烷、环己烷、正庚烷、环庚烷等烃类，或2-吡咯烷酮、N-甲基-2-吡咯烷酮、ε-己内酰胺等内酰胺类，或乙二醇单甲醚乙酸酯、二甘醇单甲基醚、二甘醇二甲基醚、二甘醇单乙醚、二甘醇单正丁基醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯(PGMEA)、丙二醇单乙醚乙酸酯等二醇醚类，或其它乙腈、环丁砜、二甲基亚砜、DMF等。
从反应性或经济性的观点考虑，优选为甲醇、乙醇、IPA、丁醇、四氟丙醇等醇类，乙二醇或1,2-丙烷二醇、1,3-丙烷二醇、1,4-丁烷二醇、二甘醇等二醇类，乙酸乙酯、2-羟基丙酸乙酯、3-甲基-3-甲氧基丙酸正丁酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、甲酸正戊酯、乙酸异戊酯、丙酸正丁酯、丁酸乙酯、丁酸异丙酯、丁酸正丁酯、丙酮酸乙酯、γ-丁内酯、乳酸乙酯等酯类，二乙基醚、环戊基甲基醚、四氢呋喃等醚类，乙二醇单甲基醚乙酸酯、二甘醇单甲基醚、二甘醇二甲基醚、二甘醇单乙基醚、二甘醇单正丁基醚乙酸酯、PGMEA、丙二醇单乙基醚乙酸酯等二醇醚类等。
在后续工序中，在将式(1)所示的金属络合物溶解・混合于该烷氧基硅的溶胶溶液(硅氧烷低聚物溶液)中时，通过预先使用该金属络合物的溶解性良好的溶剂作为正式工序中的反应溶剂，可以减轻溶解混合该金属络合物时的劳力。
不过，使用该金属络合物的不良溶剂制备正式工序中的烷氧基硅的溶胶溶液(硅氧烷低聚物溶液)时，通过在溶解・混合该金属络合物之前，将该烷氧基硅的溶胶溶液(硅氧烷低聚物溶液)的溶剂置换为该金属络合物的良溶剂、或者在该烷氧基硅的溶胶溶液(硅氧烷低聚物溶液)中添加该金属络合物的良溶剂，也可以进行溶解・混合。
上述反应溶剂的使用量相对于100重量份烷氧基硅，希望在50-1000重量份、优选100-500重量份的范围。低于50重量份时，可能难以以适度的反应速度进行水解・缩聚反应，若超过1000重量份，则水解・缩聚反应的速度低，效率不高，并且后述的减压・馏去工序可能需要较长时间。
首先，将1种或2种以上的烷氧基硅与酸催化剂、水和溶剂混合。将该溶液保持在0-150℃、优选50-100℃ 的温度，由此进行水解・缩聚反应。低于0℃时，水解・缩聚反应可能难以进行。若超过150℃，则水解・缩聚反应快速进行，因此，残留有未反应的烷氧基，可能导致凝胶化或着色。水解・缩聚反应的时间根据温度条件而不同，通常为1-24小时，更优选2-8小时。低于1小时时，水解・缩聚反应可能不能充分进行，即使超过24小时，反应也不会进行更多，不经济。
为了将由水解・缩聚反应副生成的醇和水排出到体系外，优选在反应结束后或者反应过程中减压馏去反应液。若边减压馏去边进行反应，则有望获得使缩聚反应的反应速度提高的效果，因此更优选。该工序中，如果使用甲酸等低沸点、挥发性高的催化剂作为上述酸催化剂，则酸催化剂可以与溶剂一起排出到体系外，可确保反应结束后溶胶溶液的稳定性。
这样，通过水解・缩聚反应的进行，可获得作为无机系粘合剂：聚硅氧烷系粘合剂前体的烷氧基硅的溶胶溶液(硅氧烷低聚物溶液)。
这些基质材料可单独使用，也可以将2种以上组合使用。组合使用时，可以将选自有机系粘合剂的不同的2种以上组合，也可以将选自无机系粘合剂的不同的2种以上组合，还可以将分别选自有机系粘合剂和无机系粘合剂的不同的2种以上组合。
上述的与基质材料和/或作为基质材料的前体的聚合性单体的相容性良好、且该金属络合物的溶解性良好的溶剂可根据所使用的基质材料和/或作为基质材料的前体的聚合性单体、以及该金属络合物的种类适当选择使用。例如可举出：甲醇、乙醇、IPA、丁醇、四氟丙醇等醇类，或乙二醇、1,2-丙烷二醇、1,3-丙烷二醇、1,4-丁烷二醇、二甘醇等二醇类，或氯仿、二氯甲烷等卤化烃类，或丙酮、MEK、甲基异丁基酮、环戊酮、环己酮、2-庚酮、3-辛酮等酮类，或乙酸乙酯、2-羟基丙酸乙酯、3-甲基-3-甲氧基丙酸正丁酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、甲酸正戊基酯、乙酸异戊基酯、丙酸正丁基酯、丁酸乙酯、丁酸异丙酯、丁酸正丁基酯、丙酮酸乙酯、γ-丁内酯、乳酸乙酯等酯类，或二乙醚、环戊基甲醚、四氢呋喃等醚类，或甲苯、二甲苯、单氯苯、二氯苯等芳族类，或正戊烷、环戊烷、正己烷、环己烷、正庚烷、环庚烷等烃类，或2-吡咯烷酮、N-甲基-2-吡咯烷酮、ε-己内酰胺等内酰胺类，或乙二醇单甲醚乙酸酯、二甘醇单甲醚、二甘醇二甲醚、二甘醇单乙醚、二甘醇单正丁基醚乙酸酯、PGMEA、丙二醇单乙醚乙酸酯等二醇醚类，或其它的乙腈、环丁砜、二甲基亚砜、DMF等。
其中，如果从该金属络合物的溶解性的观点考虑，举出更优选的溶剂，则为甲醇、乙醇、IPA、丁醇、四氟丙醇等醇类，或氯仿、二氯甲烷等卤化烃类，或丙酮、MEK、甲基异丁基酮、环戊酮、环己酮、2-庚酮、3-辛酮等酮类，或乙酸乙酯、2-羟基丙酸乙酯、3-甲基-3-甲氧基丙酸正丁基酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙酸正丁基酯、乙酸异丁基酯、甲酸正戊基酯、乙酸异戊基酯、丙酸正丁基酯、丁酸乙酯、丁酸异丙酯、丁酸正丁基酯、丙酮酸乙酯、γ-丁内酯、乳酸乙酯等酯类，或二乙醚、环戊基甲基醚、四氢呋喃等醚类，或甲苯、二甲苯、单氯苯、二氯苯等芳族类，或2-吡咯烷酮、N-甲基-2-吡咯烷酮、ε-己内酰胺等内酰胺类，或乙二醇单甲基醚乙酸酯、二甘醇单甲基醚、二甘醇二甲醚、二甘醇单乙醚、二甘醇单正丁基醚乙酸酯、PGMEA、丙二醇单乙醚乙酸酯等二醇醚类，或其它的乙腈、环丁砜、二甲基亚砜、DMF等。
进一步优选的可举出：醇类为四氟丙醇等，卤化烃类为氯仿、二氯甲烷等，酮类为MEK、环戊酮、环己酮等，酯类为γ-丁内酯、乳酸乙酯等，醚类为环戊基甲基醚、四氢呋喃等，芳族类为甲苯、二甲苯、单氯苯、二氯苯等，内酰胺类为2-吡咯烷酮、N-甲基-2-吡咯烷酮、ε-己内酰胺等，二醇醚类为PGMEA等，其它的环丁砜、二甲基亚砜、DMF等。
上述的聚合性单体可以作为基质材料的前体使用，也可以作为上述溶剂使用。作为聚合性单体，例如有机系聚合性单体可举出：苯乙烯、α-甲基苯乙烯、β-甲基苯乙烯、2,4-二甲基苯乙烯、α-乙基苯乙烯、α-丁基苯乙烯、α-己基苯乙烯、4-氯苯乙烯、3-氯苯乙烯、4-溴苯乙烯、4-硝基苯乙烯、4-甲氧基苯乙烯、乙烯基甲苯等苯乙烯系单体，或(甲基)丙烯酸，或(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙基酯、(甲基)丙烯酸异丙基酯、(甲基)丙烯酸正丁基酯、(甲基)丙烯酸仲丁基酯、(甲基)丙烯酸叔丁基酯、(甲基)丙烯酸2-甲基丁基酯、(甲基)丙烯酸2-乙基丁基酯、(甲基)丙烯酸3-甲基丁基酯、(甲基)丙烯酸1,3-二甲基丁基酯、(甲基)丙烯酸戊基酯、(甲基)丙烯酸己基酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己基酯、(甲基)丙烯酸庚基酯、(甲基)丙烯酸辛基酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙基酯、(甲基)丙烯酸3-乙氧基丙基酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基丁基酯、(甲基)丙烯酸3-乙氧基丁基酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸羟基乙酯、(甲基)丙烯酸羟基丙基酯、(甲基)丙烯酸羟基丁基酯、α-(羟基甲基)(甲基)丙烯酸乙酯、α-(羟基甲基)(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄基酯、(甲基)丙烯酸苯基乙基酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸己烷二醇酯、二(甲基)丙烯酸三丙二醇酯、二(甲基)丙烯酸二甘醇酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸双季戊四醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯等 (甲基)丙烯酸酯，或3,4-环氧基环己烷甲酸3,4-环氧基环己基甲酯、3,4-环氧基环己烷甲酸3,4-环氧基环己基乙酯、二氧化乙烯基环己烯、二氧化烯丙基环己烯、3,4-环氧基-4-甲基环己基-2-环氧丙烷和双(3,4-环氧基环己基)醚等脂环式环氧化合物，将双酚A、双酚F、溴化双酚A、联苯酚、间苯二酚等进行缩水甘油基醚化得到的化合物，或氧杂环丁烷、3-乙基-3-羟基甲基氧杂环丁烷、3,3-二甲基氧杂环丁烷、3,3-二氯甲基氧杂环丁烷、3-乙基-3-苯氧基甲基氧杂环丁烷、3-乙基-3-[{(3-乙基氧杂环丁基)甲氧基}甲基]氧杂环丁烷、双(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、1,4-双[{(3-乙基-3-氧杂环丁基)甲氧基}甲基]苯、三[(3-乙基-3-氧杂环丁基甲氧基)甲基]苯、双[(3-乙基-3-氧杂环丁基甲氧基)甲基苯基]醚、(3-乙基-3-氧杂环丁基甲氧基)低聚二甲基硅氧烷等的氧杂环丁烷化合物等。
无机系聚合性单体例如可使用：四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四丁氧基硅烷等四官能烷氧基硅烷，或甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷、甲基三丁氧基硅烷、甲基-三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、乙基三丙氧基硅烷、乙基三丁氧基硅烷、乙基-三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、己基三甲氧基硅烷、己基三乙氧基硅烷、己基三丙氧基硅烷、己基三丁氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、苯基三丙氧基硅烷、苯基三丁氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、甲基二甲氧基乙氧基硅烷、乙基二乙氧基甲氧基硅烷等三官能烷氧基硅烷，或二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、双(2-甲氧基乙氧基)二甲基硅烷、二乙基二乙氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、二苯基二乙氧基硅烷等双官能烷氧基硅烷，或烷氧基钛、烷氧基铈、烷氧基锆、烷氧基锡、烷氧基铝、烷氧基镍、烷氧基锌等烷氧基金属等。
这里，无机系聚合性单体表示在通过聚合反应形成的聚合物主链上不含有碳原子的单体。
这些溶剂可单独使用，也可以将2种以上组合使用。使用将2种以上组合的混合溶剂时，可适当选择混合比例。
上述溶剂的使用量可在考虑所需的紫外线吸收构件用组合物中的该金属络合物浓度、或所使用的溶剂的种类、所使用的基质材料的前体的溶解度等的基础上适当调整，没有特别限定，从该金属络合物的溶解性的观点考虑，通常相对于100重量份该金属络合物为50-100000重量份，优选100-5000重量份，更优选200-3000重量份。若比50重量份少，则该金属络合物可能不能完全溶解，可能导致最终得到的紫外线吸收构件的可见光透射率降低。若比100000重量份多，则紫外线吸收构件用组合物中该金属络合物浓度降低，可能无法使最终得到的紫外线吸收构件具有充分的紫外线吸收性能。
将该金属络合物、和基质材料和/或作为基质材料的前体的聚合性单体溶解于溶剂中时，可以事先将基质材料和/或作为基质材料的前体的聚合性单体溶解于溶剂中，在其中添加该金属络合物，使其溶解，也可以在事先将该金属络合物溶解于溶剂中，将该溶液与基质材料和/或作为基质材料的前体的聚合性单体混合，溶解，或者将该金属络合物和基质材料和/或作为基质材料的前体的聚合性单体同时与溶剂混合，溶解。
应予说明，使用聚合性单体作为基质材料的前体兼溶剂时，也可按照同样的顺序混合・溶解。
这里，如果所使用的基质材料是溶解有基质成分的溶液、且该溶液的溶剂为该金属络合物的良溶剂，则可以只将该金属络合物与基质材料(溶解有基质成分的溶液)混合。
在不损害本发明的效果的范围内，可以根据需要结合使用以往公知的光吸收剂。
可结合使用的光吸收剂没有特别限定，例如可举出：酞菁系、喹吖酮系、喹吖酮醌系、苯并咪唑酮系、醌系、蒽嵌蒽二酮系、二噁嗪系、二酮吡咯并吡咯系、二苯并芘-5,10-二酮系、阴丹酮系、黄烷士酮系、紫环酮(perinone)系、苝系、异吲哚啉系、异吲哚啉酮系、偶氮系、花青系、吖花菁系、方酸菁(squarylium)系、三芳甲烷系等有机染料，或苯二硫醇金属络合物系、双硫醇烯(dithiolene)金属络合物系、偶氮金属系、金属酞菁系、金属萘酞菁系、卟啉金属络合物系等金属络合物系染料，或二苯甲酮系、苯并三唑系、三嗪系、水杨酸酯系、水杨酸苯酯系、受阻胺系、受阻酚系、苯甲酸酯系、磷系、酰胺系、胺系、硫系等有机系紫外线吸收剂等。从经济性、光吸收性能的观点考虑，优选酞菁系、醌系、苝系、偶氮系、花青系、吖花菁系、方酸菁系、三芳甲烷系等有机染料，或二苯甲酮系、苯并三唑系、三嗪系、受阻胺系、受阻酚系、苯甲酸酯系、磷系、胺系、硫系等有机系紫外线吸收剂。
只要在不损害本发明的效果的范围内，可以适当添加固化剂、固化催化剂、交联剂、偶联剂、流平剂、润滑剂、抗静电剂、抗氧化剂、热稳定剂、阻燃剂、填料、着色剂、光催化剂材料、防锈剂、斥水剂、导电性材料、抗粘连材料、软化剂、脱模剂、荧光增白剂等。
使用聚合性单体时，在制造后述的紫外线吸收构件时设置聚合工序时，可以另行结合使用聚合引发剂。聚合引发剂没有特别限定，可根据所使用的聚合性单体的种类适当选择。其使用量可根据聚合性单体和聚合引发剂的活性适当选择。
热固化时所使用的自由基聚合引发剂例如可举出：2,2’-偶氮二异丁腈、2,2’-偶氮二(2-甲基丁腈)、2,2’-偶氮二异戊腈、2,2’-偶氮二(2,4-二甲基戊腈)、1,1’-偶氮二(环己酮-1-甲腈)等偶氮系化合物，或过氧化甲基乙基酮、过氧化甲基异丁基酮、过氧化环己酮等酮过氧化物类，或过氧化苯甲酰、过氧化月桂酰、过氧化2,4-二氯苯甲酰等二酰基过氧化物等。
光固化时所使用的自由基聚合引发剂例如可举出：对异丙基-α-羟基异丁基-苯基-甲酮、α-羟基异丁基-苯基-甲酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、4’-甲硫基-2,2-二甲基-2-吗啉代苯乙酮、苯偶姻异丁基醚、2-氯噻吨酮、2,4,6-三甲基苯甲酰二苯基氧化膦、双(2,4,6-三甲基苯甲酰)-苯基氧化膦等。
热固化时所使用的阳离子聚合引发剂例如可举出：三氟化硼・二乙基醚络合物、三氟化硼・胺络合物、氯化铝、四氯化钛、四氯化锡、氯化铁(III)、氯化锌等路易斯酸类，或铵盐、锍盐、氧鎓盐、鏻盐等。
光固化时所使用的阳离子聚合引发剂例如可举出：芳族锍盐、芳族碘鎓盐、芳族重氮盐、芳族鏻盐等。
作为固化剂，使用环氧系单体作为上述聚合性单体时，所使用的固化剂例如可举出：邻苯二甲酸酐、四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、偏苯三酸酐、均苯四甲酸酐、氯菌酸酐、甲基四氢邻苯二甲酸酐、甲基六氢邻苯二甲酸酐、十二碳烯基琥珀酸酐、甲基桥亚甲基四氢邻苯二甲酸酐等酸酐，或二亚乙基三胺、三亚乙基二胺、三亚乙基四胺、四亚乙基五胺、二乙基氨基丙基胺、N-氨基乙基哌嗪、异佛尔酮二胺、孟烷二胺(mensendiamine)、哌啶、N,N-二甲基哌嗪等脂肪族胺，或间苯二胺、4,4’-二氨基二苯基甲烷、4,4’-二氨基二苯基砜等芳族胺，或2-甲基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑等咪唑类，或三氟化硼・胺络合物、氯化铝、四氯化钛、四氯化锡、氯化铁(III)、氯化锌等路易斯酸类，或铵盐、锍盐、氧鎓盐、鏻盐，或聚硫醇、多硫化物等。
其中，酸酐类可提高聚合后环氧树脂的机械特性，因此优选，从操作性考虑，优选常温下为液状的酸酐。具体来说，可举出：甲基四氢邻苯二甲酸酐、甲基六氢邻苯二甲酸酐、十二碳烯基琥珀酸酐、甲基桥亚甲基四氢邻苯二甲酸酐等。
使用常温下为固体的酸酐、例如邻苯二甲酸酐、四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、甲基四氢邻苯二甲酸酐等酸酐时，使其溶解于常温下为液状的酸酐、以常温下为液状混合物的形式使用，这在操作上是优选的。
为了促进环氧系单体的上述固化反应，也可进一步使用固化促进剂。固化促进剂可单独或将2种以上混合使用。例如可举出：2-乙基-4-甲基咪唑、2-甲基咪唑、1-氰基乙基-2-乙基-4-甲基咪唑、苄基二甲胺、2,4,6-三(二氨基甲基)苯酚、1,8-二氮杂双环(5,4,0)十一碳烯-7及其辛酸盐等叔胺类或咪唑类和/或它们的有机羧酸盐，或三苯基膦、三丁基膦、苄基三苯基溴化鏻盐、苄基三丁基溴化鏻盐等膦类和/或它们的季盐，或辛酸锌、月桂酸锌、硬脂酸锌、辛酸锡等有机羧酸金属盐，或含有锌和β-二酮的乙酰丙酮锌螯合物、苯甲酰丙酮锌螯合物、二苯甲酰甲烷锌螯合物、乙酰乙酸乙酯锌螯合物等金属-有机螯合化合物，或芳族锍盐等。
(ii)该金属络合物的微粒为分散状态的情形下的紫外线吸收构件用组合物
具体来说，通过使用该金属络合物的溶解性足够低、且与基质材料和/或作为基质材料的前体的聚合性单体的相容性良好的分散介质，可以制造该金属络合物的微粒分散于分散介质中的紫外线吸收构件用组合物，该分散介质中溶解有基质材料和/或作为基质材料的前体的聚合性单体。
应予说明，代替基质材料，只使用作为基质材料的前体的聚合性单体时，上述分散介质并不是必须的，也可以使用该聚合性单体作为基质材料前体、兼作分散介质。
如果所使用的基质材料是溶解有基质成分的溶液、且该溶液的溶剂对该金属络合物的溶解性足够低，则并非必须同时使用上述分散介质，也可以在基质材料(溶解有基质成分的溶液)中直接分散该金属络合物的微粒。
可以预先将该金属络合物分散于适当的分散介质中，制备该金属络合物微粒的分散液，使基质材料和/或作为基质材料的前体的聚合性单体溶解于该分散液中；也可以预先将基质材料和/或作为基质材料的前体的聚合性单体溶解于适当的分散介质中，将该金属络合物分散于其中。
应予说明，使用聚合性单体作为基质材料前体、兼做分散介质时，也可按照同样的顺序混合・分散。
上述基质材料可以使用有机系或无机系粘合剂的任何一种，可从上述的“(i)式(1)所示的金属络合物以分子水平处于溶解状态的情形下的紫外线吸收构件用组合物”项中所述的同一范围内适当选择来使用。
上述的、该金属络合物的溶解性足够低、且与基质材料和/或作为基质材料的前体的聚合性单体的相容性良好的分散介质可根据所使用的基质材料和/或作为基质材料的前体的聚合性单体、以及该金属络合物的种类来适当选择使用。例如可举出：水，或甲醇、乙醇、IPA、丁醇、四氟丙醇等醇类，或氯仿、二氯甲烷等卤化烃类，或乙二醇或1,2-丙烷二醇、1,3-丙烷二醇、1,4-丁烷二醇、二甘醇等二醇类，或丙酮、MEK、甲基异丁基酮、环戊酮、环己酮、2-庚酮、3-庚酮、3-辛酮等酮类，或乙酸乙酯、2-羟基丙酸乙酯、3-甲基-3-甲氧基丙酸正丁酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁基酯、甲酸正戊基酯、乙酸异戊基酯、丙酸正丁基酯、丁酸乙酯、丁酸异丙酯、丁酸正丁基酯、丙酮酸乙酯、γ-丁内酯、乳酸乙酯等酯类，或二乙醚、环戊基甲醚、四氢呋喃等醚类，或甲苯、二甲苯、单氯苯、二氯苯等芳族类，或正戊烷、环戊烷、正己烷、环己烷、正庚烷、环庚烷等烃类，或2-吡咯烷酮、N-甲基-2-吡咯烷酮、ε-己内酰胺等内酰胺类，或乙二醇单甲基醚乙酸酯、二甘醇单甲醚、二甘醇二甲醚、二甘醇单乙醚、二甘醇单正丁基醚乙酸酯、PGMEA、丙二醇单乙醚乙酸酯等二醇醚类，或其它的乙腈、环丁砜、二甲基亚砜、DMF等。
根据所使用的该金属络合物、以及基质材料和/或作为基质材料的前体的聚合性单体的种类，优选的分散介质各有不同，从经济性或分散性、分散液的稳定性的观点考虑，优选水、甲醇、乙醇、IPA、丁醇、乙二醇或1,2-丙烷二醇、1,3-丙烷二醇、1,4-丁烷二醇、二甘醇、丙酮、MEK、甲基异丁基酮、乙酸乙酯、二乙醚、甲苯、二甲苯、正己烷、环己烷、正庚烷、ε-己内酰胺、乙二醇单甲醚乙酸酯、PGMEA、二甘醇二甲醚，更优选水、甲醇、乙醇、IPA、PGMEA、乙二醇、甲苯、二甲苯、环己烷、正庚烷。
上述聚合性单体也可以作为基质材料的前体使用，也可以作为上述分散介质使用。作为聚合性单体，例如，有机系聚合性单体可举出：苯乙烯、α-甲基苯乙烯、β-甲基苯乙烯、2,4-二甲基苯乙烯、α-乙基苯乙烯、α-丁基苯乙烯、α-己基苯乙烯、4-氯苯乙烯、3-氯苯乙烯、4-溴苯乙烯、4-硝基苯乙烯、4-甲氧基苯乙烯、乙烯基甲苯等苯乙烯系单体，或(甲基)丙烯酸，或(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸2-甲基丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基丁酯、(甲基)丙烯酸3-甲基丁酯、(甲基)丙烯酸1,3-二甲基丁酯、(甲基)丙烯酸戊基酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸庚基酯、(甲基)丙烯酸辛基酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-乙氧基丙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基丁酯、(甲基)丙烯酸3-乙氧基丁酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸羟基乙酯、(甲基)丙烯酸羟基丙酯、(甲基)丙烯酸羟基丁酯、α-(羟基甲基)(甲基)丙烯酸乙酯、α-(羟基甲基)(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄基酯、(甲基)丙烯酸苯基乙酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸己烷二醇酯、二(甲基)丙烯酸三丙二醇酯、二(甲基)丙烯酸二甘醇酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸双季戊四醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯等(甲基)丙烯酸酯，或3,4-环氧基环己烷甲酸3,4-环氧基环己基甲酯、3,4-环氧基环己烷甲酸3,4-环氧基环己基乙酯、二氧化乙烯基环己烯、二氧化烯丙基环己烯、3,4-环氧基-4-甲基环己基-2-环氧丙烷和二(3,4-环氧基环己基)醚等脂环式环氧化合物，或将双酚A、双酚F、溴化双酚A、联苯酚、间苯二酚等进行缩水甘油基醚化得到的化合物，或氧杂环丁烷、3-乙基-3-羟基甲基氧杂环丁烷、3,3-二甲基氧杂环丁烷、3,3-二氯甲基氧杂环丁烷、3-乙基-3-苯氧基甲基氧杂环丁烷、3-乙基-3-[{(3-乙基氧杂环丁基)甲氧基}甲基]氧杂环丁烷、双(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、1,4-双[{(3-乙基-3-氧杂环丁基)甲氧基}甲基]苯、三[(3-乙基-3-氧杂环丁基甲氧基)甲基]苯、双[(3-乙基-3-氧杂环丁基甲氧基)甲基苯基]醚、(3-乙基-3-氧杂环丁基甲氧基)低聚二甲基硅氧烷等氧杂环丁烷化合物等。
无机系聚合性单体例如可举出：四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四丁氧基硅烷等四官能烷氧基硅烷，或甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷、甲基三丁氧基硅烷、甲基-三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、乙基三丙氧基硅烷、乙基三丁氧基硅烷、乙基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、己基三甲氧基硅烷、己基三乙氧基硅烷、己基三丙氧基硅烷、己基三丁氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、苯基三丙氧基硅烷、苯基三丁氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、甲基二甲氧基乙氧基硅烷、乙基二乙氧基甲氧基硅烷等三官能烷氧基硅烷，或二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、双(2-甲氧基乙氧基)二甲基硅烷、二乙基二乙氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、二苯基二乙氧基硅烷等双官能烷氧基硅烷，或烷氧基钛、烷氧基铈、烷氧基锆、烷氧基锡、烷氧基铝、烷氧基镍、烷氧基锌等烷氧基金属等。
这里，无机系聚合性单体表示在由聚合反应形成的聚合物主链上不含有碳原子的单体。
这些分散介质可单独使用，也可以将2种以上组合使用。使用将2种以上组合得到的混合分散介质时，混合比例可适当选择。
所使用的分散介质如果对该金属络合物的溶解性不是足够低，则该金属络合物的微粒化受到抑制，无法得到稳定的分散液。其理由尚未清楚，认为大概是以下所述的机理引起的。
该金属络合物微粒分散的稳定化是，后述的分散剂吸附于在粉碎・分散过程中生成的该金属络合物的微粒表面，该吸附的分散剂之间通过静电排斥、空间排斥使得微粒之间的重新聚集受到抑制，带来稳定的分散状态。但是，如果该分散系中存在该金属络合物的良溶剂，则针对该金属络合物的微粒，“分散剂的吸附作用”和“溶剂的溶解作用”两种作用竞争，溶剂的溶解作用使得分散剂的吸附受到部分妨碍，结果，微粒化受到抑制，分散稳定性也降低。
上述分散介质的使用量可在考虑所需的紫外线吸收构件用组合物中的该金属络合物的浓度、或所使用的基质材料和/或作为基质材料的前体的聚合性单体的溶解度等的基础上适当调节，没有特别限定，从该金属络合物的分散性的观点考虑，通常相对于100重量份该金属络合物为40-9900重量份，优选100-1900重量份。若比40重量份少，则该金属络合物微粒的分散稳定性可能降低。比若9900重量份多，则固形物浓度降低，因此无法获得充分的剪切力，使该金属络合物微粒化所需的时间延长，效率可能降低。
上述金属络合物微粒在紫外线吸收构件用组合物中的平均粒径是10 nm以上且200 nm以下，优选10 nm以上且150 nm以下，更优选10 nm以上且120 nm以下，进一步优选10 nm以上且100 nm以下。若平均粒径比200 nm大，则可见光透射率显著降低，最终得到的涂膜的机械强度可能降低。并且，粒径比200 nm大时，颗粒的表面积降低，导致无法获得与添加量相适应的紫外线吸收性能，成本方面不利。平均粒径为10 nm以下时，接近于溶解状态，可见光透射率提高，但耐光性降低，以分散系使用的优势可能受损。
(分散机)
在使上述金属络合物微粒化时可使用的分散机没有特别限定，例如可举出：油漆搅拌器、球磨机、纳米磨机、超微磨碎机、篮式研磨机、砂磨机、砂磨粉碎机、卧式砂磨机(Dyno mill)、分散机、SC磨机、钉碎机、搅拌磨机等介质型分散机，或超声波匀浆机、高压匀浆机、NANOMIZER、desolber、分散机、高速涡轮分散机等无介质型分散机。
其中，从成本、处理能力方面考虑，优选使用介质型分散机。还可以单独使用其中的1种，也可以将2种以上装置组合使用。
(分散媒介)
对于分散媒介，根据所使用的分散机的分散室内部的材质，可从不锈钢、钢等的钢球珠，或氧化铝、滑石、氧化锆、锆石、二氧化硅、碳化硅、氮化硅等陶瓷珠，或钠玻璃、HiBea等的玻璃珠，或WC等的超硬珠等中适当选择使用，其珠径优选0.03-1.5 mmφ的范围。
在用于将该金属络合物微粒化、并分散的正式分散工序中，由于该金属络合物与分散媒介的碰撞，可以对该金属络合物施加充分的剪切力，可通过粉碎・分散制成微粒。这里，由于该金属络合物与分散媒介的碰撞能量，分散液的液温升高，因此优选通过公知的冷却装置，一边将分散液冷却一边实施分散。冷却温度没有特别限定，通常为-50～120℃，优选-30～80℃，进一步优选-20～60℃。
(分散剂)
分散剂是为了使该金属络合物在分散介质中稳定分散，根据需要而配合的。分散剂例如可使用：烷基胺盐、二烷基胺盐、四烷基铵盐、苄烷铵盐、烷基吡啶鎓盐、咪唑鎓盐等阳离子性分散剂，或脂肪酸盐、烷基硫酸酯盐、烷基芳基磺酸盐、烷基萘磺酸盐、二烷基磺酸盐、二烷基磺基琥珀酸盐、烷基二芳基二磺酸盐、烷基磷酸盐等阴离子性分散剂，或烷基甜菜碱或酰胺甜菜碱等两性分散剂，或非离子性分散剂，或氟系分散剂，或硅系分散剂，或高分子系分散剂等。其中，特别优选以下例举的非离子性分散剂或高分子系分散剂。
非离子性分散剂例如优选使用：聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯鲸蜡基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚等聚氧乙烯烷基醚类，或聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚等聚氧乙烯烷基苯基醚类，或聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯等聚乙二醇二酯类，或脱水山梨糖醇脂肪酸酯类。从分散性、经济性的观点考虑，更优选聚氧乙烯烷基醚类和聚氧乙烯烷基苯基醚类。
高分子系分散剂例如优选使用聚氨酯、聚羧酸酯、不饱和聚酰胺、聚羧酸及其盐、苯乙烯-丙烯酸共聚物、丙烯酸-丙烯酸酯共聚物、苯乙烯-马来酸共聚物、聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮等水溶性树脂或水溶性高分子化合物、聚酯系、改性聚丙烯酸酯、环氧乙烷/环氧丙烷加成产物等。
这些分散剂可单独使用，也可以将2种以上组合使用。
利用分散剂产生的分散主要是通过吸附于微粒表面的分散剂给予微粒的电排斥力带来的“静电排斥”和吸附于微粒表面的分散剂之间的“空间排斥”这2种作用来实现分散稳定化的。通常，静电排斥产生的分散效果对于水系中的分散有利，但在介电常数低的有机溶剂系中不利。空间排斥产生的分散效果中，微粒表面与分散剂的相互作用不足时，分散剂容易从微粒表面脱离，稳定化效果受损，发生重新聚集。
上述分散剂的使用量通常相对于100重量份该金属络合物为5-100重量份，优选10-60重量份。低于5重量份时，可见分散效率降低的倾向，添加超过100重量份时，也未得到与添加量相对应的分散效果，不经济。
按照以上的方法得到分散有该金属络合物微粒的紫外线吸收构件用组合物后，可以稀释为所需的浓度。
稀释溶剂没有特别限定，可适当选择使用，为了抑制稀释时该金属络合物微粒的重新聚集，优选使用在上述的分散工序中使用的分散介质。上述分散工序中，将2种以上分散介质组合使用时，优选使用同一组成比例的混合溶剂。
稀释方法优选一边搅拌该金属络合物的微粒分散液一边添加稀释溶剂的方法。若在稀释溶剂中添加上述的分散有该金属络合物微粒的紫外线吸收构件用组合物，则该金属络合物微粒可能重新聚集。
再不损害本发明的效果的范围内，也可以根据需要将以往公知的光吸收剂与该金属络合物混合，结合使用。
可结合使用的光吸收剂没有特别限定，例如，有机系光吸收剂可举出：酞菁系、喹吖酮系、喹吖酮醌系、苯并咪唑酮系、醌系、蒽嵌蒽二酮系、二噁嗪系、二酮吡咯并吡咯系、二苯并芘-5,10-二酮系、阴丹酮系、黄烷士酮系、紫环酮(perinone)系、苝系、异吲哚啉系、异吲哚啉酮系、偶氮系、花青系、吖花菁系、方酸菁系、三芳甲烷系等的有机染料、或苯二硫醇金属络合物系、双硫醇烯金属络合物系、偶氮金属系、金属酞菁系、金属萘酞菁系、卟啉金属络合物系等的金属络合物系染料、或二苯甲酮系、苯并三唑系、三嗪系、水杨酸酯系、水杨酸苯基酯系、受阻胺系、受阻酚系、苯甲酸酯系、磷系、酰胺系、胺系、硫系等有机系紫外线吸收剂等。从经济性、光吸收性能的观点考虑，优选酞菁系、醌系、苝系、偶氮系、花青系、吖花菁系、方酸菁系、三芳甲烷系等有机染料，或二苯甲酮系、苯并三唑系、三嗪系、受阻胺系、受阻酚系、苯甲酸酯系、磷系、胺系、硫系等有机系紫外线吸收剂。
无机系光吸收剂可举出：六硼化物、氧化钨、复合氧化钨、氧化钛、氧化铈、氧化锆、氧化锡、氧化锌、氧化铁、氧化钽、氧化铝、氧化钪、氧化钇、氧化钙、氧化镓、氧化锂、氧化锶、氧化钡、氧化镁、氧化铟、氧化铊、氧化镍、氧化钕、氧化钴、氧化铬、氧化镧、氧化铌、氧化铪、氧化镨、氧化钐、氧化铕、氧化钆、氧化铽、氧化镝、氧化钬、氧化铒、氧化铥、氧化镱、氧化镥等金属氧化物，或ITO(铟-锡复合氧化物)、ATO(锑-锡复合氧化物)等复合金属氧化物，或氮化钛、氮化铬酸等金属氮化物等。
在不损害本发明的效果的范围内，可适当添加固化剂、固化催化剂、交联剂、偶联剂、流平剂、润滑剂、抗静电剂、抗氧化剂、热稳定剂、阻燃剂、填料、着色剂、光催化剂材料、防锈剂、斥水剂、导电性材料、抗粘连材、软化剂、脱模剂、荧光增白剂等。
使用聚合性单体时，在制造后述的紫外线吸收构件时设置聚合工序的情况下，可以另行结合使用聚合引发剂。聚合引发剂没有特别限定，可根据所使用的聚合性单体的种类适当选择。其使用量可根据聚合性单体以及聚合引发剂的活性适当选择。
热固化时所使用的自由基聚合引发剂例如可举出：2,2’-偶氮二异丁腈、2,2’-偶氮二(2-甲基丁腈)、2,2’-偶氮二异戊腈、2,2’-偶氮二(2,4-二甲基戊腈)、1,1’-偶氮二(环己酮-1-甲腈)等偶氮系化合物，或过氧化甲基乙基酮、过氧化甲基异丁基酮、过氧化环己酮等酮过氧化物类，或过氧化苯甲酰、过氧化月桂酰、过氧化2,4-二氯苯甲酰等二酰基过氧化物等。
光固化时所使用的自由基聚合引发剂例如可举出：对异丙基-α-羟基异丁基-苯基-甲酮、α-羟基异丁基-苯基-甲酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、4’-甲硫基-2,2-二甲基-2-吗啉代苯乙酮、苯偶姻异丁基醚、2-氯噻吨酮、2,4,6-三甲基苯甲酰二苯基氧化膦、双(2,4,6-三甲基苯甲酰)-苯基氧化膦等。
热固化时所使用的阳离子聚合引发剂例如可举出：三氟化硼・二乙基醚络合物、三氟化硼・胺络合物、氯化铝、四氯化钛、四氯化锡、氯化铁(III)、氯化锌等路易斯酸类，或铵盐、锍盐、氧鎓盐、鏻盐等。
光固化时所使用的阳离子聚合引发剂例如可举出：芳族锍盐、芳族碘鎓盐、芳族重氮盐、芳族鏻盐等。
对于固化剂，使用环氧系单体作为上述聚合性单体时所使用的固化剂例如可举出：邻苯二甲酸酐、四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、偏苯三酸酐、均苯四甲酸酐、氯菌酸酐、甲基四氢邻苯二甲酸酐、甲基六氢邻苯二甲酸酐、十二碳烯琥珀酸酐、甲基桥亚甲基四氢邻苯二甲酸酐等酸酐，或二亚乙基三胺、三亚乙基二胺、三亚乙基四胺、四亚乙基五胺、二乙基氨基丙基胺、N-氨基乙基哌嗪、异佛尔酮二胺、孟烷二胺、哌啶、N,N-二甲基哌嗪等脂肪族胺，或间苯二胺、4,4’-二氨基二苯基甲烷、4,4’-二氨基二苯基砜等芳族胺，或2-甲基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑等咪唑类，或三氟化硼・胺络合物、氯化铝、四氯化钛、四氯化锡、氯化铁(III)、氯化锌等路易斯酸类，或铵盐、锍盐、氧鎓盐、鏻盐，或聚硫醇、多硫化物等。
其中，酸酐类可提高聚合后的环氧树脂的机械特性，因此优选，在操作性方面，优选常温下为液状的固化剂。具体来说，可举出：甲基四氢邻苯二甲酸酐、甲基六氢邻苯二甲酸酐、十二碳烯基琥珀酸酐、甲基桥亚甲基四氢邻苯二甲酸酐等。
使用常温下为固体的酸酐、例如邻苯二甲酸酐、四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、甲基四氢邻苯二甲酸酐等酸酐时，在操作上优选溶解于常温下为液状的酸酐、在常温下以液状的混合物的形式使用。
为了促进环氧系单体的上述固化反应，可进一步使用固化促进剂。固化促进剂可单独或将2种以上混合使用。例如可举出：2-乙基-4-甲基咪唑、2-甲基咪唑、1-氰基乙基-2-乙基-4-甲基咪唑、苄基二甲基胺、2,4,6-三(二氨基甲基)苯酚、1,8-二氮杂双环(5,4,0)十一碳烯-7及其辛酸盐等叔胺类或咪唑类和/或它们的有机羧酸盐，或三苯基膦、三丁基膦、苄基三苯基溴化鏻盐、苄基三丁基溴化鏻盐等膦类和/或它们的季盐，或辛酸锌、月桂酸锌、硬脂酸锌、辛酸锡等有机羧酸金属盐，或含有锌和β-二酮的乙酰丙酮锌螯合物、苯甲酰丙酮锌螯合物、二苯甲酰甲烷锌螯合物、乙酰乙酸乙酯锌螯合物等金属-有机螯合物化合物，或芳族锍盐等。
还可以采用将该金属络合物微粒的分散液加入到通过加热熔融等而具有流动性的基质材料中、进行混炼的方法。
《使用紫外线吸收构件用组合物制造的紫外线吸收构件》
可以使用上述得到的紫外线吸收构件用组合物制造紫外线吸收构件。本发明中的紫外线吸收构件主要有以下2种形态。
(I)基材上具有含该金属络合物的基质材料的膜(以下称为基质膜)的、层叠体形式的紫外线吸收构件
将上述得到的紫外线吸收构件用组合物涂布于基材上，干燥和/或固化，由此可以制造在基材上具有含该金属络合物的基质膜的、层叠体形式的紫外线吸收构件。
将上述紫外线吸收构件用组合物涂布于基材上的方法没有特别限定，例如可举出：浸涂法、旋涂法、流涂法、辊涂法、凹版涂布法、柔性印刷法、丝网印刷法、喷射印刷法、绕线棒涂布法、喷涂法、逆涂法等公知的涂布方法。
基材根据需要，可以是膜也可以是板，形状没有限定。材质没有特别限定，可根据用途适当选择使用。例如可举出：玻璃、金属板、陶瓷等无机系基材，或聚(环)烯烃系树脂、聚碳酸酯系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、聚酯系树脂、聚苯乙烯系树脂、环氧系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚偏氯乙烯系树脂、聚缩醛系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、氟系树脂、有机硅系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚醚酮系树脂、聚醚醚酮系树脂、聚苯硫醚树脂等有机系基材。其中，从透明性的观点考虑，优选玻璃、聚(环)烯烃系树脂、聚碳酸酯系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、聚酯系树脂、聚苯乙烯系树脂、环氧系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚偏氯乙烯系树脂、聚缩醛系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚醚酮系树脂、聚醚醚酮系树脂、聚苯硫醚树脂等。
为了防止层间剥离、涂布不均，可以在涂布前洗涤基材表面。洗涤方法没有特别限定，可根据基材的种类适当选择实施。通常可单独或组合实施超声波洗涤、UV洗涤、Seri粉洗涤、酸洗、碱洗、表面活性剂洗涤、有机溶剂洗涤等。为了使洗涤剂不残留，洗涤结束后需进行漂洗和干燥。
由涂布形成的基质材料中，涂层覆膜的膜厚没有特别限定，可根据用途适当调节，通常为0.1-500 μm，优选0.5-100 μm，进一步优选1-100 μm。低于0.1 μm时，可能无法得到足够的紫外线吸收性能，若超过500 μm，则干燥时，溶剂或分散介质等从膜内部蒸发，在膜表面产生凹凸，可能产生裂隙。
干燥温度、干燥时间可根据所使用的溶剂或分散介质的种类适当设定。
干燥后，需要控制使基质膜的机械强度等物性以与目的相适应，因此可设置养护工序、烧成工序。
例如使用聚硅氧烷系粘合剂作为基质材料时，通过在上述干燥工序后设置在100-800℃、优选130-400℃下的烧成工序，可以使膜本身的机械强度提高。
即，在上述干燥工序中，溶胶(硅氧烷低聚物)之间发生缩聚反应，由此使硅氧烷网状物扩大，形成凝胶体的骨架结构。通过将该凝胶体烧成，硅氧烷网状物进一步扩大。可以通过该硅氧烷网状物(聚硅氧烷的分子量)的大小来控制所得基质膜的机械强度。
在比100℃低的温度下，机械强度可能无法充分提高，而在比800℃高的温度下，基质膜中所含的该金属络合物可能热分解。
烧成时间可根据所需的基质膜的物性适当调节，通常为10分钟-5小时，优选30分钟-3小时。若比10分钟短，则机械强度可能无法充分提高，若比5小时长，则未能得到与时间相应的效果，不经济。
设置聚合处理时，可以设置加热处理或UV照射等处理。加热条件或UV照射条件可根据所使用的聚合引发剂或聚合性单体的种类适当选择。
应予说明，使用后述的剥离性基材、在其上实施涂层、然后将该涂层转印至所需的另外的基材上，由此所得的层叠体也包含在(I)的形态中。另外的基材可例举上述基材。
作为具体的方法，例如可以将紫外线吸收构件用组合物涂布在剥离性基材(例如聚对苯二甲酸乙二醇酯膜)上，使其干燥，然后使用层压机等与另外的基材(例如玻璃基材)贴合，然后将剥离性基材剥离，由此可以制造在另外的基材上具有含该金属络合物的基质膜的、层叠体形式的紫外线吸收构件。这种情况下也可根据需要设置上述聚合处理。
例如在制造使含有不同成分的基质膜在所需的基材上形成多层而成的层叠体时，可以采用上述转印法。即，如上所述，当按照在基材上直接涂布紫外线吸收构件用组合物、形成涂层的方法形成多层膜时，例如形成第n＋1层(n表示自然数)时使用的紫外线吸收构件用组合物必须是第n层的构成成分不溶解不溶胀的成分，构成第n＋1层的紫外线吸收构件用组合物的构成成分受到限制，但通过使用所述转印法可以避免这些限制。
(II)在基质膜中含有该金属络合物的、薄膜形态的紫外线吸收构件
可以制造该金属络合物在基质膜中含有的、薄膜形态的紫外线吸收构件，该紫外线吸收构件是将上述得到的紫外线吸收构件用组合物涂布在剥离性基材上，干燥或固化，然后从剥离性基材上剥离该涂膜获得的。
将紫外线吸收构件用组合物涂布于剥离性基材的方法没有特别限定，例如可举出：浸涂法、旋涂法、流涂法、辊涂法、凹版涂布法、柔性印刷法、丝网印刷法、喷射印刷法、绕线棒涂布法、喷涂法、逆涂法等公知的涂布方法。
剥离性基材根据需要，可以是膜也可以是板，形状没有限定。剥离性基材只要是构成基材的材料具有剥离性即可，可以是单独的基材，构成基材的材料不具有剥离性时或缺乏剥离性时，可在基材上层叠剥离性层。前者的构成基材的材料具有剥离性时，可以使用聚乙烯树脂或聚丙烯树脂等聚烯烃系树脂，聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂等聚酯系树脂等。
后者的在基材上层叠剥离性层时，基材可使用上述(I)中例举的基材。可以使用在这些基材的表面层叠有剥离性层而成的基材，所述剥离形成具有与基材的粘接性，并对由紫外线吸收构件用组合物制造的含该金属络合物的薄膜层具有剥离性。
剥离性层由氟系树脂、有机硅系树脂、将剥离性物质溶解或分散于粘合剂树脂中所得的物质等构成。
剥离性物质没有特别限定，例如可举出长链烷基化合物、巴西棕榈蜡或褐煤蜡或氧化聚乙烯或非氧化聚乙烯等的合成蜡等。
将选自其中的至少1种以上溶解、分散、稀释于溶剂(分散介质)中，将所得组合物按照公知的方法涂布或印刷在基材上，然后干燥或固化，由此可在基材上形成剥离性层。剥离性层的膜厚优选为0.5 μm-10 μm左右。
通过将紫外线吸收构件用组合物涂布于剥离性基材上形成的、该金属络合物在基质膜中含有的薄膜的膜厚没有特别限定，可根据用途适当调节，通常为0.1-500 μm，优选0.5-100 μm，进一步优选1-100 μm。低于0.1 μm时，可能无法获得充分的紫外线吸收性能，若超过500 μm，则干燥时溶剂或分散介质等从膜内部蒸发，在膜表面产生凹凸，可能产生裂隙。
干燥温度、干燥时间可根据所使用的溶剂或分散介质等的种类适当设定。
干燥后，为了控制含有该金属络合物的薄膜的机械强度等物性以与目标相适应，可设置养护工序或烧成工序。
例如使用聚硅氧烷系粘合剂作为基质材料时，通过在上述干燥工序后设置在100-800℃、优选130-400℃下的烧成工序，可以使膜本身的机械强度提高。
即，在上述干燥工序中，溶胶(硅氧烷低聚物)之间发生缩聚反应，由此使硅氧烷网状物扩大，形成凝胶体的骨架结构。通过将该凝胶体烧成，硅氧烷网状物进一步扩大。可以通过该硅氧烷网状物(聚硅氧烷的分子量)的大小来控制所得基质膜的机械强度。
在比100℃低的温度下，机械强度可能无法充分提高，在比800℃高的温度下，基质膜中所含的该金属络合物可能热分解。
烧成时间可根据所需的薄膜的物性适当调节，通常为10分钟-5小时，优选30分钟-3小时。若比10分钟短，则机械强度可能无法充分提高，若比5小时长，则未能得到与时间相应的效果，不经济。
设置聚合处理时，可以设置加热处理或UV照射等处理。加热条件或UV照射条件可根据所使用的聚合引发剂或聚合性单体的种类适当选择。
[实施例]
以下给出实施例和比较例，具体说明本发明，但本发明并不受这些实施例的任何限定。
制造例1
将18.8 g (0.2摩尔)苯酚加热至50℃使其熔融，向其中加入45.1 g (0.3摩尔)2-氨基苯并噻唑，然后进一步加热至180℃，保温20小时。然后将反应液冷却至80℃，滴加60 g乙醇，进一步保温1小时。然后冷却至室温，滤取析出物，用乙醇洗涤后，干燥，得到32.1 g作为配体的白色的2,2’-亚氨基二苯并噻唑(L1：参照下表1)。收率相对于2-氨基苯并噻唑为75.5%。
制造例2
制造例1中，使用53.5 g (0.3摩尔)2-氨基-5,6-二甲基苯并噻唑代替45.1 g (0.3摩尔)2-氨基苯并噻唑，除此之外与制造例1同样，得到42.1 g作为配体的白色的2,2’-亚氨基二(5,6-二甲基苯并噻唑)(L2：参照下表1)。收率相对于2-氨基-5,6-二甲基苯并噻唑为82.7%。
制造例3
制造例1中，使用55.4 g (0.3摩尔) 2-氨基-6-氯苯并噻唑代替45.1 g (0.3摩尔)2-氨基苯并噻唑，除此之外与制造例1同样，得到37.2 g作为配体的白色的2,2’-亚氨基二(6-氯苯并噻唑)(L3：参照下表1)。收率相对于2-氨基-6-氯苯并噻唑为70.4%。
制造例4
制造例1中，使用54.1 g (0.3摩尔) 2-氨基-6-甲氧基苯并噻唑代替45.1 g (0.3摩尔)2-氨基苯并噻唑，除此之外与制造例1同样，得到41.7 g作为配体的白色的2,2’-亚氨基二(6-甲氧基苯并噻唑)(L4：参照下表1)。收率相对于2-氨基-6-甲氧基苯并噻唑为81.0%。
制造例5
将90.1 g (0.60摩尔)2-氨基苯并噻唑溶解于566 g DMF，在冰浴下滴加36 mL20摩尔/L的氢氧化钠水溶液(相当于0.72摩尔氢氧化钠)，接着滴加91.4 g (1.2摩尔)二硫化碳，进一步滴加36 mL 20摩尔/L的氢氧化钠水溶液(相当于0.72摩尔氢氧化钠)，然后滴加178.8 g(1.26摩尔)甲基碘。在室温下搅拌2小时，然后，将该反应液滴加到3000 g水中。滤取析出物，用水洗涤后干燥，得到107.2 g S,S’-二甲基-N-(2-苯并噻唑基)碳亚胺二硫代碳酸酯。收率相对于2-氨基苯并噻唑为70.2%。
将21.8 g (0.20摩尔)2-氨基苯酚溶解于944 g DMF，在其中加入40 mL5摩尔/L的氢氧化钠水溶液(相当于0.20摩尔氢氧化钠)，在室温下搅拌30分钟，接着向其中滴加将上述所得的50.9 g (0.20摩尔) S,S’-二甲基-N-(2-苯并噻唑基)碳亚胺二硫代碳酸酯溶解于1416 g DMF所得的溶液。接着升温至153℃，在氮气氛下回流6小时，然后冷却至室温，将该反应液滴加到2000 g水中。滤取析出物，用水洗涤后干燥，得到30.0 g 2-(2-苯并噻唑基氨基)苯并噁唑(L5：参照下表1)。收率相对于2-氨基苯酚为56.1%。
制造例6
制造例5中，使用98.5 g (0.60摩尔)2-氨基-6-甲基苯并噻唑代替90.1 g (0.60摩尔)2-氨基苯并噻唑，除此之外与制造例5同样，得到114.2 g S,S’-二甲基-N-[2-(6-甲基苯并噻唑基)]碳二亚胺二硫代碳酸酯。收率相对于2-氨基-6-甲基苯并噻唑为70.9%。
制造例5中，使用这里得到的53.7 g (0.20摩尔) S,S’-二甲基-N-[2-(6-甲基苯并噻唑基)]碳二亚胺二硫代碳酸酯代替50.9 g (0.20摩尔) S,S’-二甲基-N-(2-苯并噻唑基)碳二亚胺二硫代碳酸酯，除此之外与制造例5同样，得到29.4 g 2-[2-(6-甲基苯并噻唑基)氨基]苯并噁唑(L6：参照下表1)。收率相对于S,S’-二甲基-N-[2-(6-甲基苯并噻唑基)]碳二亚胺二硫代碳酸酯为52.3%。
制造例7
制造例5中，使用28.7 g (0.20摩尔)2-氨基-4-氯苯酚代替21.8 g(0.20摩尔) 2-氨基苯酚，除此之外与制造例5同样，得到32.4 g 5-氯-2-(2-苯并噻唑基氨基)苯并噁唑(L7：参照下表1)。收率相对于2-氨基-4-氯苯酚为53.7%。
制造例8
将21.6 g (0.2摩尔)邻苯二胺溶解于944 g DMF，向其中滴加将50.9 g (0.20摩尔) S,S’-二甲基-N-(2-苯并噻唑基)-碳二亚胺二硫代碳酸酯溶解于1258 g DMF所得的溶液。接着，升温至153℃，在氮气氛下回流13小时，然后冷却至0℃。向其中滴加2000 g水，滤取析出物，用水洗涤后干燥，得到32.0 g 2-(2-苯并噻唑基氨基)苯并咪唑(L8：参照下表1)。收率相对于邻苯二胺为60.1%。
制造例9
将101.8 g (0.90摩尔)氰基乙酸乙酯和112.7 g (0.90摩尔) 2-氨基苯硫酚混合，在氮气氛下、在120℃下保温2小时。将该反应液冷却至室温，然后以黄色油的形式得到185.7 g 2-苯并噻唑基乙酸乙酯。收率相对于2-氨基苯硫酚为93.2%。
将73.3 g (0.60摩尔)N-甲基邻苯二胺与132.8 g (0.60摩尔)之前得到的2-苯并噻唑基乙酸乙酯混合，在氮气氛下、在160℃下回流6小时。此时一边馏去副生成的乙醇一边进行回流。将反应液冷却至室温，加入900 g二乙醚，滤取析出的黄色的固体。在滤取的黄色固体中加入1500 g 20%盐酸，使其溶解。在其中加入活性碳，在室温下搅拌30分钟，然后过滤，滴加碳酸氢钠水溶液进行中和，直至所得的滤液为pH=8，得到沉淀物。将其滤取，加入600 g水、600 g氯仿，搅拌，通过分液处理获取氯仿层。馏去氯仿，进一步干燥，由此得到36.9 g微黄色的(2-苯并噻唑基)-2-(N-甲基苯并咪唑基)甲烷(L9：参照下表1)。收率相对于N-甲基邻苯二胺为22.0%。
制造例10
将32.7 g (0.30摩尔) 2-氨基苯酚与15.6 g (0.15摩尔)丙二酸混合，一边保温为70℃，一边在搅拌下的390 g多聚磷酸中加入该混合液。接着，将该反应液升温至150℃，保温3小时，然后冷却至室温，之后滴加水。滤取析出物，用水洗涤后干燥，得到25.3 g双(2-苯并噁唑基)甲烷(L10：参照下表1)。收率相对于2-氨基苯酚为67.4%。
制造例11
制造例10中，使用37.6 g (0.30摩尔)2-氨基苯硫酚代替32.7 g (0.30摩尔)2-氨基苯酚，除此之外与制造例10同样，得到38.2 g双(2-苯并噻唑基)甲烷(L11：参照下表1)。收率相对于2-氨基苯硫酚为90.2%。
制造例12
将110.0 g (0.90摩尔) N-甲基邻苯二胺与72.1 g (0.45摩尔)丙二酸二乙酯混合，在氮气氛下、在155℃下将该混合液回流11小时。滤取析出物，用二乙醚洗涤，然后加入900 mL 20%盐酸，使其溶解。向其中加入活性碳，在室温下搅拌30分钟，然后过滤，滴加碳酸氢钠水溶液，直至所得滤液为pH=8，此时产生沉淀。滤取该沉淀，得到灰色固体。通过重结晶，从IPA中纯化该灰色固体，干燥，由此得到38.1 g白色的双[2-(N-甲基苯并咪唑基)]甲烷(L12：参照下表1)。收率相对于N-甲基邻苯二胺为30.6%。
制造例13
将10 g (0.035摩尔)制造例1中得到的2.2’-亚氨基二苯并噻唑(L1：参照下表1)添加到70.1 g (0.602摩尔)氯磺酸中，在室温下将混合物搅拌18小时。进一步添加10 g (0.084摩尔)亚硫酰氯，在50℃下搅拌1小时，然后冷却至室温。将该混合物注入到400 g冰上，抽滤，与残留的冰一起，立即与13.1 g (0.101摩尔)二异丁基胺搅拌。暖至室温后，用约1 mL 50%重量的氢氧化钠溶液将混合物制成碱性。将固体抽滤，用水洗涤，然后干燥，由此得到18.6 g淡黄色的2,2’-亚氨基双[6-(N,N-二异丁基氨基磺酰基)苯并噻唑](L13：参照下表1)。收率相对于2,2’-亚氨基二苯并噻唑为80.0%。
制造例14
制造例13中，使用8.8 g (0.101摩尔)吗啉代替13.1 g (0.101摩尔)二异丁基胺，除此之外与制造例13同样，得到15.4 g 2,2’-亚氨基二(6-吗啉代磺酰基苯并噻唑)(L14：参照下表1)。收率相对于2,2’-亚氨基二苯并噻唑为75.5%。
所得各配体的结构式如表1所示。
[表1-1]
Figure DEST_PATH_IMAGE024
[表1-2]
Figure DEST_PATH_IMAGE026
制造例15
将28.3 g (0.1摩尔)制造例1中得到的配体(L1)溶解于2250 g温甲醇(60℃)，向其中滴加将12.5 g (0.05摩尔)乙酸钴四水合物溶解于400 g温甲醇所得的溶液。滤取生成的析出物，用甲醇洗涤，然后干燥，得到28.5 g橙色的钴络合物(C1-Co)。收率相对于配体(L1)为91.4%。
制造例16
在制造例15中，使用12.4 g (0.05摩尔)乙酸镍四水合物代替12.5 g (0.05摩尔)乙酸钴四水合物，除此之外与制造例15同样，得到23.5 g红紫色的镍络合物(C1-Ni)。收率相对于配体(L1)为75.4%。
制造例17
制造例15中，使用10.0 g (0.05摩尔)乙酸铜一水合物代替12.5 g (0.05摩尔)乙酸钴四水合物，除此之外与制造例15同样，得到24.8 g灰绿色的铜络合物(C1-Cu)。收率相对于配体(L1)为78.9%。
制造例18
制造例15中，使用11.0 g (0.05摩尔)乙酸锌二水合物代替12.5 g (0.05摩尔)乙酸钴四水合物，除此之外与制造例15同样，得到28.4 g白色的锌络合物(C1-Zn)。收率相对于配体(L1)为90.1%。
制造例19
制造例15中，使用33.9 g (0.1摩尔)配体(L2)代替28.3 g (0.1摩尔)配体(L1)，除此之外与制造例15同样，得到32.3 g橙色的钴络合物(C2-Co)。收率相对于配体(L2)为87.8%。
制造例20
制造例16中，使用35.2 g (0.1摩尔)配体(L3)代替28.3 g (0.1摩尔)配体(L1)，除此之外与制造例16同样，得到28.0 g红紫色的镍络合物(C3-Ni)。收率相对于配体(L3)为73.6%。
制造例21
制造例17中，使用34.3 g (0.1摩尔)配体(L4)代替28.3 g (0.1摩尔)配体(L1)，除此之外与制造例17同样，得到26.2 g灰绿色的铜络合物(C4-Cu)。收率相对于配体(L4)为70.0%。
制造例22
制造例18中，使用26.7 g (0.1摩尔)配体(L5)代替28.3 g (0.1摩尔)配体(L1)，除此之外与制造例18同样，得到20.8 g微黄色的锌络合物(C5-Zn)。收率相对于配体(L5)为69.6%。
制造例23
制造例15中，使用28.1 g (0.1摩尔)配体(L6)代替28.3 g (0.1摩尔)配体(L1)，除此之外与制造例15同样，得到16.3 g橙色的钴络合物(C6-Co)。收率相对于配体(L6)为52.6%。
制造例24
制造例16中，使用30.2 g (0.1摩尔)配体(L7)代替28.3 g (0.1摩尔)配体(L1)，除此之外与制造例16同样，得到22.5 g红紫色的镍络合物(C7-Ni)。收率相对于配体(L7)为68.2%。
制造例25
制造例17中，使用26.6 g (0.1摩尔)配体(L8)代替28.3 g (0.1摩尔)配体(L1)，除此之外与制造例17同样，得到16.6 g绿色的铜络合物(C8-Cu)。收率相对于配体(L8)为55.9%。
制造例26
制造例18中，使用27.9 g (0.1摩尔)配体(L9)代替28.3 g (0.1摩尔)配体(L1)，除此之外与制造例18同样，得到21.1 g黄色的锌络合物(C9-Zn)。收率相对于配体(L9)为67.8%。
制造例27
制造例15中，使用25.0 g (0.1摩尔)配体(L10)代替28.3 g (0.1摩尔)配体(L1)，除此之外与制造例15同样，得到20.3 g红色的钴络合物(C10-Co)。收率相对于配体(L10)为72.8%。
制造例28
制造例15中，使用28.2 g (0.1摩尔)配体(L11)代替28.3 g (0.1摩尔)配体(L1)，除此之外与制造例15同样，得到22.1 g紫色的钴络合物(C11-Co)。收率相对于配体(L11)为71.1%。
制造例29
制造例16中，使用28.2 g (0.1摩尔)配体(L11)代替28.3 g (0.1摩尔)配体(L1)，除此之外与制造例16同样，得到13.5 g墨绿色的镍络合物(C11-Ni)。收率相对于配体(L11)为43.4%。
制造例30
制造例17中，使用28.2 g (0.1摩尔)配体(L11)代替28.3 g (0.1摩尔)配体(L1)，除此之外与制造例17同样，得到18.6 g绿色的铜络合物(C11-Cu)。收率相对于配体(L11)为59.4%。
制造例31
制造例18中，使用28.2 g (0.1摩尔)配体(L11)代替28.3 g (0.1摩尔)配体(L1)，除此之外与制造例18同样，得到19.1 g黄色的锌络合物(C11-Zn)。收率相对于配体(L11)为60.8%。
制造例32
制造例16中，使用27.6 g (0.1摩尔)配体(L12)代替28.3 g (0.1摩尔)配体(L1)，除此之外与制造例16同样，得到20.8 g灰色的镍络合物(C12-Ni)。收率相对于配体(L12)为68.3%。
制造例33
将4.00 g (0.006摩尔)制造例13中得到的配体(L13)溶解于24 g温DMF(70℃)中，向其中添加0.75 g (0.003摩尔)乙酸镍四水合物。将该混合物在70℃下搅拌1小时，冷却至室温，然后滴加20 g甲醇。滤取生成的析出物，用甲醇洗涤，然后干燥，得到3.58 g黄绿色的镍络合物(C13-Ni)。收率相对于配体(L13)为85.9%。
制造例34
将3.49 g (0.006摩尔)制造例14中得到的配体(L14)溶解于24 g温DMF(70℃)中，向其中添加0.75 g (0.003摩尔)乙酸钴四水合物。将该混合物在70℃下搅拌1小时，冷却至室温，然后滴加20 g甲醇。滤取生成的析出物，用甲醇洗涤，然后干燥，得到3.14 g黄色的钴络合物(C14-Co)。收率相对于配体(L14)为85.8%。
所得各金属络合物的结构式如表2所示。
[表2]
Figure DEST_PATH_IMAGE028
(无机系粘合剂：烷氧基硅的溶胶溶液的制备)
应予说明，以下所述的烷氧基硅的溶胶溶液的加热残余率是，在玻璃基材上放置溶胶溶液的液滴、在200℃下烧成30分钟时，残留在玻璃基材上的固形物的重量除以放置于上述玻璃基材上的溶胶溶液的液滴的重量所得的值。对各试样各测定3次，以所得值的平均值表示。
制造例35
将49.9 g (0.28摩尔)甲基三乙氧基硅烷、和24.0 g (0.10摩尔)苯基三乙氧基硅烷、和80 g PGMEA混合，在室温下搅拌，得到溶液。在该溶液中添加作为催化剂的6.9 g (0.15摩尔)甲酸和25.0 g水，在室温下搅拌30分钟，由此进行水解。接着，将水解后的溶液升温至70 ℃，保温4小时，进行水解・缩聚反应，进一步在减压下馏去副生成的醇和水，同时再进行1小时水解・缩聚反应，由此得到无机系粘合剂：作为聚硅氧烷系粘合剂前体的烷氧基硅的溶胶/PGMEA溶液(硅氧烷低聚物/PGMEA溶液，加热残余率40.5%)。
制造例36
制造例35中，使用80 g IPA代替80 g PGMEA，除此之外与制造例35同样，得到无机系粘合剂：作为聚硅氧烷系粘合剂前体的烷氧基硅溶胶/IPA溶液(硅氧烷低聚物/IPA溶液，加热残余率41.7%)。
制造例37
制造例35中，使用80 g DMF代替80 g PGMEA，除此之外与制造例35同样，得到无机系粘合剂：作为聚硅氧烷系粘合剂前体的烷氧基硅的溶胶/DMF溶液(硅氧烷低聚物/DMF溶液，加热残余率45.3%)。
(金属络合物微粒分散液的制备)
应予说明，平均粒径表示通过常规粒度分布计、例如动态光散射式粒度分布计(例如シスメックス社制造的“ゼータサイザーナノZS”)测定的Z均粒径的值。
以下所示的平均粒径是使用シスメックス社制造的“ゼータサイザーナノZS”，在光源：He-Ne激光(633 nm)、样品池：玻璃方形样品池、测定温度：25℃、测定位置：0.85(mm)的条件下测定的。对各试样各测定3次，给出所得值的平均值。
制造例38
将11.1 g制造例15中得到的金属络合物(C1-Co)、58.5 g作为分散介质的PGMEA、以及3.0 g作为分散剂的聚氧乙烯月桂基醚混合，使用0.1 mmφ氧化锆珠作为分散媒介，使用DYNO-MILL (シンマルエンタープライゼス制造，型号：KDL)作为分散机，一边将外壳温度保温为10℃，一边以周速15 m/s进行1小时分散处理，得到分散液A。平均粒径为88 nm。
制造例39
将11.1 g制造例16中得到的金属络合物(C1-Ni)、58.0 g作为分散介质的PGMEA、以及3.0 g作为分散剂的聚氧乙烯油基醚混合，使用0.1 mmφ氧化锆珠作为分散媒介，使用DYNO-MILL (シンマルエンタープライゼス制造，型号：KDL)作为分散机，一边将外壳温度保温为10℃，一边以周速15 m/s进行1小时分散处理，得到分散液B。平均粒径为95 nm。
制造例40
将11.1 g制造例17中得到的金属络合物(C1-Cu)、30.0 g作为分散介质的乙醇、30.0 g水、以及3.0 g作为分散剂的聚氧乙烯硬脂基醚混合，使用0.1 mmφ氧化锆珠作为分散媒介，使用DYNO-MILL (シンマルエンタープライゼス制造，型号：KDL)作为分散机，一边将外壳温度保温为10℃，一边以周速15 m/s进行1小时分散处理，得到分散液C。平均粒径为85 nm。
制造例41
将11.1 g制造例18中得到的金属络合物(C1-Zn)、30.0 g作为分散介质的乙醇、30.0 g水、以及3.0 g作为分散剂的聚氧乙烯辛基苯基醚混合，使用0.1 mmφ氧化锆珠作为分散媒介，使用DYNO-MILL (シンマルエンタープライゼス制造，型号：KDL)作为分散机，一边将外壳温度保温为10℃，一边以周速15 m/s进行1小时分散处理，得到分散液D。平均粒径为68 nm。
制造例42
将11.1 g制造例15中得到的金属络合物(C1-Co)、70.2 g作为分散介质的甲苯、以及3.5 g作为分散剂的聚氧乙烯壬基苯基醚混合，使用0.1 mmφ氧化锆珠作为分散媒介，使用DYNO-MILL (シンマルエンタープライゼス制造，型号：KDL)作为分散机，一边将外壳温度保温为10℃，一边以周速15 m/s进行1小时分散处理，得到分散液E。平均粒径为70 nm。
制造例43
将11.1 g制造例16中得到的金属络合物(C1-Ni)、70.2 g作为分散介质的甲苯、以及3.5 g作为分散剂的聚乙二醇二月桂酸酯混合、使用0.1 mmφ氧化锆珠作为分散媒介，使用DYNO-MILL (シンマルエンタープライゼス制造，型号：KDL)作为分散机，一边将外壳温度保温为10℃，一边以周速15 m/s进行1小时分散处理，得到分散液F。平均粒径为77 nm。
制造例44
将11.1 g制造例17中得到的金属络合物(C1-Cu)、70.2 g作为分散介质的甲苯、以及3.5 g作为分散剂的聚乙二醇二硬脂酸酯混合，使用0.1 mmφ氧化锆珠作为分散媒介，使用DYNO-MILL (シンマルエンタープライゼス制造，型号：KDL)作为分散机，一边将外壳温度保温为10℃，一边以周速15 m/s进行1小时分散处理，得到分散液G。平均粒径为69 nm。
制造例45
将11.1 g制造例18中得到的金属络合物(C1-Zn)、70.2 g作为分散介质的甲苯、以及3.5 g作为分散剂的聚氧乙烯月桂基醚混合，使用0.1 mmφ氧化锆珠作为分散媒介，使用DYNO-MILL (シンマルエンタープライゼス制造，型号：KDL)作为分散机，一边将外壳温度保温为10℃，一边以周速15 m/s进行1小时分散处理，得到分散液H。平均粒径为73 nm。
(紫外线吸收构件用组合物以及使用其而成的紫外线吸收构件)
实施例1
在2.0 g制造例35中得到的硅氧烷低聚物/PGMEA溶液中加入0.7 g PGMEA，混合。接着，将其边搅拌边加入到0.6 g制造例38得到的金属络合物微粒的分散液(分散液A)中，混合，由此得到分散液形态的紫外线吸收构件用组合物A。平均粒径为92 nm。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将所得紫外线吸收构件用组合物A涂布在钠钙玻璃基材上，然后在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在200℃下烧成30分钟，得到紫外线吸收构件A。涂膜的膜厚为12 μm。
实施例2
在2.0 g制造例35得到的硅氧烷低聚物/PGMEA溶液中加入0.7 g PGMEA，混合。接着，将其边搅拌边加入到0.6 g制造例39得到的金属络合物微粒的分散液(分散液B)中，混合，由此得到分散液形态的紫外线吸收构件用组合物B。平均粒径为98 nm。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将所得紫外线吸收构件用组合物B涂布于钠钙玻璃基材上，然后在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在200℃下烧成30分钟，得到紫外线吸收构件B。涂膜的膜厚为13 μm。
实施例3
在2.0 g制造例36得到的硅氧烷低聚物/IPA溶液中加入0.8 g IPA，混合。接着，将其边搅拌边加入到0.8 g制造例40得到的金属络合物微粒的分散液(分散液C)中，混合，由此得到分散液形态的紫外线吸收构件用组合物C。平均粒径为95 nm。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将所得紫外线吸收构件用组合物C涂布于钠钙玻璃基材上，然后在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在200℃下烧成30分钟，得到紫外线吸收构件C。涂膜的膜厚为13 μm。
实施例4
在2.0 g制造例36得到的硅氧烷低聚物/IPA溶液中加入0.8 g IPA，混合。接着，将其边搅拌边加入到0.5 g制造例41得到的金属络合物微粒的分散液(分散液D)中，混合，由此得到分散液形态的紫外线吸收构件用组合物D。平均粒径为72 nm。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将所得紫外线吸收构件用组合物D涂布于钠钙玻璃基材上，然后，在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在200℃下烧成30分钟，得到紫外线吸收构件D。涂膜的膜厚为9 μm。
实施例5
将0.8 g作为有机系粘合剂的丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸乙酯共聚物(ローム・アンド・ハース社制造，商品名：パラロイド B-72)溶解于1.7 g甲苯，将其边搅拌边加入到0.6 g制造例42得到的金属络合物微粒的分散液(分散液E)中，混合，由此得到分散液形态的紫外线吸收构件用组合物E。平均粒径为78 nm。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将所得紫外线吸收构件用组合物E涂布于钠钙玻璃基材上，然后在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在110℃下干燥3分钟，得到紫外线吸收构件E。涂膜的膜厚为13 μm。
实施例6
将0.8 g作为有机系粘合剂的丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸乙酯共聚物(ローム・アンド・ハース制造，商品名：パラロイド B-72)溶解于1.7 g甲苯，将其边搅拌边加入到0.6 g制造例43得到的金属络合物微粒的分散液(分散液F)中，混合。由此得到分散液形态的紫外线吸收构件用组合物F。平均粒径为80 nm。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将所得紫外线吸收构件用组合物F涂布于钠钙玻璃基材上，然后在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在110℃下干燥3分钟，得到紫外线吸收构件F。涂膜的膜厚为10 μm。
实施例7
将0.8 g作为有机系粘合剂的丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸乙酯共聚物(ローム・アンド・ハース制造，商品名：パラロイド B-72)溶解于1.7 g甲苯，将其边搅拌边加入到0.8 g制造例44得到的金属络合物微粒的分散液(分散液G)中，混合，由此得到分散液形态的紫外线吸收构件用组合物G。平均粒径为75 nm。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将所得紫外线吸收构件用组合物G涂布于钠钙玻璃基材上，然后在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在110℃下干燥3分钟，得到紫外线吸收构件G。涂膜的膜厚为11 μm。
实施例8
将0.8 g作为有机系粘合剂的丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸乙酯共聚物(ローム・アンド・ハース制造，商品名：パラロイド B-72)溶解于1.7 g甲苯，将其边搅拌边加入到0.5 g制造例45得到的金属络合物微粒的分散液(分散液H)中，混合，由此得到分散液形态的紫外线吸收构件用组合物H。平均粒径为81 nm。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将所得紫外线吸收构件用组合物H涂布于钠钙玻璃基材上，然后在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在110℃下干燥3分钟，得到紫外线吸收构件H。涂膜的膜厚为10 μm。
实施例9
将2.2 g制造例20得到的金属络合物(C3-Ni)、60.1 g作为分散介质的甲苯、21.9 g作为有机系粘合剂的丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸乙酯共聚物(ローム・アンド・ハース制造，商品名：パラロイド B-72)、以及0.68 g作为分散剂的聚氧乙烯辛基苯基醚混合，使用0.3 mmφ氧化锆珠作为分散媒介，使用DYNO-MILL (シンマルエンタープライゼス制造，型号：KDL)作为分散机，一边将外壳温度保温为10℃，一边以周速15 m/s进行2小时分散处理，得到分散液形态的紫外线吸收构件用组合物I。平均粒径为94 nm。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将所得紫外线吸收构件用组合物I涂布于钠钙玻璃基材上，然后在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在110℃下干燥3分钟，得到紫外线吸收构件I。涂膜的膜厚为10 μm。
实施例10
将1.8 g制造例22得到的金属络合物(C5-Zn)、60.1 g作为分散介质的甲苯、21.9 g作为有机系粘合剂的丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸乙酯共聚物(ローム・アンド・ハース制造，商品名：パラロイド B-72)、以及0.68 g作为分散剂的聚氧乙烯月桂基醚混合，使用0.3 mmφ氧化锆珠作为分散媒介，使用DYNO-MILL (シンマルエンタープライゼス制造，型号：KDL)作为分散机，一边将外壳温度保温为10℃，一边以周速15 m/s进行2小时分散处理，得到分散液形态的紫外线吸收构件用组合物J。平均粒径为88 nm。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将所得紫外线吸收构件用组合物J涂布于钠钙玻璃基材上，然后在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在110℃下干燥3分钟，得到紫外线吸收构件J。涂膜的膜厚为12 μm。
实施例11
将21.9 g作为有机系粘合剂的丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸乙酯共聚物(ローム・アンド・ハース制造，商品名：パラロイド B-72)溶解于60.1 g甲苯。在其中添加2.4 g制造例23得到的金属络合物(C6-Co)、和0.68 g作为分散剂的聚乙二醇二月桂酸酯，使用0.1 mmφ氧化锆珠作为分散媒介，使用DYNO-MILL (シンマルエンタープライゼス制造，型号：KDL)作为分散机，一边将外壳温度保温为10℃，一边以周速15 m/s进行1小时分散处理，得到分散液形态的紫外线吸收构件用组合物K。平均粒径为98 nm。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将所得紫外线吸收构件用组合物K涂布于钠钙玻璃基材上，然后在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在110℃下干燥3分钟，得到紫外线吸收构件L。涂膜的膜厚为13 μm。
实施例12
将21.9 g作为有机系粘合剂的丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸乙酯共聚物(ローム・アンド・ハース制造，商品名：パラロイド B-72)溶解于60.1 g甲苯。在其中添加3.7 g制造例25得到的金属络合物(C8-Cu)、和0.68 g作为分散剂的聚乙二醇二硬脂酸酯，使用0.1 mmφ氧化锆珠作为分散媒介，使用DYNO-MILL (シンマルエンタープライゼス制造，型号：KDL)作为分散机，一边将外壳温度保温为10℃，一边以周速15 m/s进行1小时分散处理，得到分散液形态的紫外线吸收构件用组合物L。平均粒径为97 nm。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将所得紫外线吸收构件用组合物L涂布于钠钙玻璃基材上，然后在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在110℃下干燥3分钟，得到紫外线吸收构件L。涂膜的膜厚为10 μm。
实施例13
将2.4 g制造例27得到的金属络合物(C10-Co)、和55.0 g作为分散介质的环戊酮、25.0 g作为分散介质兼聚合性单体的六丙烯酸双季戊四醇酯、4.0 g光聚合引发剂(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ制造，商品名：イルガキュア819)、以及0.68 g作为分散剂的聚氧乙烯壬基苯基醚混合，使用0.3 mmφ氧化锆珠作为分散媒介，使用DYNO-MILL (シンマルエンタープライゼス制造，型号：KDL)作为分散机，一边将外壳温度保温为20℃，一边以周速15 m/s进行1小时分散处理，得到分散液形态的紫外线吸收构件用组合物M。平均粒径为73 nm。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将所得紫外线吸收构件用组合物M涂布于钠钙玻璃基材上，然后在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在140℃下干燥1分钟，进一步使用曝光装置(ナノテック株式会社制造，商品名：マスクアライナーLA410s；株式会社三永电机制作所制造，商品名：超高压汞灯L2501L)进行曝光(未单色化，波长365 nm下的光强度为40 mW/cm2，照射2.5秒)，使其固化，得到紫外线吸收构件M。涂膜的膜厚为12 μm。
实施例14
实施例13中，使用2.4 g金属络合物(C11-Ni)代替2.4 g金属络合物(C10-Co)，除此之外与制造例13同样，得到分散液形态的紫外线吸收构件用组合物N。平均粒径为83 nm。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将所得紫外线吸收构件用组合物N涂布于钠钙玻璃基材上，然后在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在140℃下干燥1分钟，进一步使用曝光装置(ナノテック株式会社制造，商品名：マスクアライナーLA410s；株式会社三永电机制作所制造，商品名：超高压汞灯L2501L)进行曝光(未单色化，波长365 nm下的光强度为40 mW/cm2，照射2.5秒)，使其固化，得到紫外线吸收构件N。涂膜的膜厚为14 μm。
实施例15
将2.2 g制造例30得到的金属络合物(C11-Cu)、和28.0 g作为分散介质兼聚合性单体的3,4-环氧基环己烷甲酸3,4-环氧基环己基甲酯以及55.0 g 3-乙基-3-[{(3-乙基氧杂环丁基)甲氧基}甲基]氧杂环丁烷、2.5 g作为热聚合引发剂(三新化学株式会社制造，商品名：SI-60L)、以及0.68 g作为分散剂的聚氧乙烯辛基苯基醚混合，使用0.3 mmφ氧化锆珠作为分散媒介，使用DYNO-MILL (シンマルエンタープライゼス制造，型号：KDL)作为分散机，一边将外壳温度保温为20℃，一边以周速15 m/s进行1小时分散处理，得到分散液形态的紫外线吸收构件用组合物O。平均粒径为95 nm。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将所得紫外线吸收构件用组合物O涂布于钠钙玻璃基材上，然后在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在160℃下、用30分钟固化，得到紫外线吸收构件O。涂膜的膜厚为10 μm。
实施例16
实施例15中，使用1.4 g金属络合物(C11-Zn)代替2.2 g金属络合物(C11-Cu)，除此之外与制造例15同样，得到分散液形态的紫外线吸收构件用组成液P。平均粒径为88 nm。使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将所得紫外线吸收构件用组合物P涂布于钠钙玻璃基材上，然后在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在160℃下用30分钟固化，得到紫外线吸收构件P。涂膜的膜厚为11 μm。
实施例17
在2.0 g制造例37得到的硅氧烷低聚物/DMF溶液中加入0.6 g DMF，混合。在该溶液中加入0.1 g制造例19中得到的金属络合物(C2-Co)，使其溶解，由此得到溶液形态的紫外线吸收构件用组合物Q。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将该紫外线吸收构件用组合物Q涂布于钠钙玻璃基材上，然后在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在200℃下烧成30分钟，得到紫外线吸收构件Q。涂膜的膜厚为9 μm。
实施例18
将0.8 g作为有机系粘合剂的丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸乙酯共聚物(ローム・アンド・ハース制造，商品名：パラロイド B-72)溶解于1.7 g DMF，在该溶液中加入0.1 g制造例21得到的金属络合物(C4-Cu)，使其溶解，由此得到溶液形态的紫外线吸收构件用组合物R。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将该紫外线吸收构件用组合物R涂布于钠钙玻璃基材上，然后，在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在160℃下干燥3分钟，得到紫外线吸收构件R。涂膜的膜厚为10 μm。
实施例19
在0.1 g制造例24得到的金属络合物(C7-Ni)中加入0.6 g DMF，使其溶解。将该溶液添加到2.0 g搅拌下的制造例33得到的硅氧烷低聚物/DMF溶液中并混合，由此得到溶液形态的紫外线吸收构件用组合物S。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将该紫外线吸收构件用组合物S涂布于钠钙玻璃基材上，然后在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在200℃下烧成30分钟，得到紫外线吸收构件S。涂膜的膜厚为10 μm。
实施例20
在0.1 g制造例26得到的金属络合物(C9-Zn)加入1.7 g DMF，使其溶解。在其中添加0.8 g作为有机系粘合剂的丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸乙酯共聚物(ローム・アンド・ハース制造，商品名：パラロイド B-72)，使其溶解，由此得到溶液形态的紫外线吸收构件用组合物T。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将该紫外线吸收构件用组合物T涂布于钠钙玻璃基材上，然后在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在160℃下干燥3分钟，得到紫外线吸收构件T。涂膜的膜厚为8 μm。
实施例21
一并加入0.1 g制造例28得到的金属络合物(C11-Co)、0.6 g DMF、2.0 g制造例37得到的硅氧烷低聚物/DMF溶液，搅拌使其混合・溶解，得到溶液形态的紫外线吸收构件用组合物U。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将该紫外线吸收构件用组合物U涂布于钠钙玻璃基材上，然后在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在200℃下烧成30分钟，得到紫外线吸收构件U。涂膜的膜厚为12 μm。
实施例22
一并加入0.1 g制造例32得到的金属络合物(C12-Ni)、1.7 g DMF、0.8 g作为有机系粘合剂的丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸乙酯共聚物(ローム・アンド・ハース制造，商品名：パラロイド B-72)，搅拌使其混合・溶解，得到溶液形态的紫外线吸收构件用组合物V。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将该紫外线吸收构件用组合物V涂布于钠钙玻璃基材上，然后在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在160℃下干燥3分钟，得到紫外线吸收构件V。涂膜的膜厚为9 μm。
实施例23
一并加入0.1 g制造例33得到的金属络合物(C13-Ni)、1.7 g MEK、0.8 g作为有机系粘合剂的丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸乙酯共聚物(ローム・アンド・ハース制造，商品名：パラロイド B-72)，搅拌使其混合・溶解，得到溶液形态的紫外线吸收构件用组合物W。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将该紫外线吸收构件用组合物W涂布于钠钙玻璃基材上，然后在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在80℃下干燥3分钟，得到紫外线吸收构件W。涂膜的膜厚为10 μm。
实施例24
一并加入0.1 g制造例34得到的金属络合物(C14-Co)、1.7 g环戊酮、0.8 g作为有机系粘合剂的丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸乙酯共聚物(ローム・アンド・ハース制造，商品名：パラロイド B-72)，搅拌使其混合・溶解，得到溶液形态的紫外线吸收构件用组合物X。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将该紫外线吸收构件用组合物X涂布于钠钙玻璃基材上，然后在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在80℃下干燥3分钟，得到紫外线吸收构件X。涂膜的膜厚为10 μm。
比较例1
在2.0 g制造例36中得到的硅氧烷低聚物/IPA溶液中加入0.4 g IPA，混合。接着，将其边搅拌边加入到2.0 g氧化锌微粒分散液(ハクスイテック株式会社制造，产品名：パゼットGK-IPA分散体，粉体一次粒径：20-40 nm)，混合，由此得到紫外线吸收构件用组成液Y。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将所得紫外线吸收构件用组合物Y涂布于钠钙玻璃基材上，然后在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在200℃下烧成30分钟，得到紫外线吸收构件Y。涂膜的膜厚为8 μm。
比较例2
将0.8 g作为有机系粘合剂的丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸乙酯共聚物(ローム・アンド・ハース制造，商品名：パラロイド B-72)溶解于1.7 g MEK，将其边搅拌边加入到2.0 g氧化锌微粒分散液(ハクスイテック株式会社制造，产品名：パゼットGK-MEK分散体，粉体一次粒径：20-40 nm)，混合，由此得到紫外线吸收构件用组合物Z。
使用旋涂机(株式会社アクティブ制造，型号：ACT-300A)，将该紫外线吸收构件用组合物Z涂布于钠钙玻璃基材上，然后在室温下、在氮气氛中预干燥10分钟，然后在80℃下干燥3分钟，得到紫外线吸收构件Z。涂膜的膜厚为11 μm。
[紫外线吸收构件的评价]
对于实施例1-24和比较例1-2得到的紫外线吸收构件A-Z，按照以下顺序实施。
(1)透射率
对于实施例1-24和比较例1-2得到的紫外线吸收构件A-Z，使用分光光度计(株式会社日立制作所制造，型号：U-4100)，测定特定波长(λ=380 nm：紫外线UV-A，λ=460 nm、545 nm、610 nm：可见光)下的透射率，实施紫外线吸收性能(UV-A吸收性能)和可见光透明性的评价。
应予说明，测定为，分别制作在玻璃基材上施加了基质层的试验片(不包含紫外线吸收剂，基质的种类分别使用与测定对象试样相同的种类，在同一条件下制作试验片)，使用该试验片作为空白，进行背景校正。即，下表所示的透射率的值并不反映膜自身的透过性能，可视为是专门来自紫外线吸收剂的值。
(2)耐光性试验
按照(1)的顺序，对实施例1-24和比较例1-2得到的紫外线吸收构件A-Z测定透射率，然后使用氙灯耐候仪(スガ试验机株式会社制造，型号：X25)，对这些紫外线吸收构件A-Z照射1000小时放射强度60W/m2(300-400 nm区域的累积计算)的光。此时，不是由紫外线吸收构件A-Z的钠钙玻璃基材一侧，而是由涂层一侧照射光。即，钠钙玻璃具有吸收短波长区域的紫外线的性质，因此，不是由紫外线吸收构件A-Z的钠钙玻璃基材一侧，而是由涂层一侧照射光，由此，故意使由光源发射的光直接照射涂层中的紫外线吸收剂，这对于紫外线吸收剂来说是严酷的条件。对于光照射后的紫外线吸收构件A-Z，分别测定透射率，评价光照射导致的紫外线吸收性能的变化。
以下表3表示结果。
应予说明，表中的Δ%T表示由光照射后的透射率减去光照射前的透射率所得的值。
[表3-1]
Figure DEST_PATH_IMAGE030
[表3-2]
Figure DEST_PATH_IMAGE032
实施例1-16是在分散体系中以微粒的形式使用式(1)所示的金属络合物作为紫外线吸收剂的体系。即，实施例1-16得到的紫外线吸收构件用组合物A-P均为分散液形态，可以确认使用这些分散液形态的紫外线吸收构件用组合物A-P制作的紫外线吸收构件A-P可充分遮挡UV-A，且光照射导致的透射率的变化也小，显示优异的耐光性。
应予说明，实施例4、8、10、16(分别为紫外线吸收构件D、H、J、P)是采用式(1)中的M为锌原子的金属络合物的体系，与使用式(1)中的M为钴、镍、铜原子的金属络合物的体系相比，虽然耐光性差，但可以确认可见光区域的透明性非常优异。
实施例17-24是在溶解体系中使用式(1)所示的金属络合物作为紫外线吸收剂的体系。即，实施例17-24中得到的紫外线吸收构件用组合物Q-X均为溶液形态，使用这些溶液形态的紫外线吸收构件用组合物Q-X制作的紫外线吸收构件Q-X与上述分散系相比，虽然整体的耐光性稍差，但可以确认可充分遮挡UV-A，在可见光区域显示优异的透明性。
比较例1和比较例2是使用以往公知的氧化锌微粒作为紫外线吸收剂的体系。虽然耐光性非常良好，但是可以确认其无法充分遮挡UV-A。
产业实用性
本发明的紫外线吸收构件用组合物以及使用其制造的紫外线吸收构件可在长时间维持优异的耐光性、高度地保持可见光透射率的情况下，可充分遮挡以往难以遮挡的UV-A。

Claims (7)

1. 紫外线吸收构件用组合物，该组合物含有式(1)所示的至少1种金属络合物、和至少1种基质材料和/或作为基质材料的前体的聚合性单体：
[化1]
式中，Y1、Y2、Y3和Y4各自互相独立，为NH、NR5、氧原子或硫原子，
属于Y1、Y2、Y3或Y4的NR5中，R5为碳原子数1-8的烷基或可具有取代基的碳原子数6-15的芳基；另外，Y1、Y2、Y3和Y4中的至少2个以NR5表示时，这些NR5中的R5表示各自互相独立的取代基；
Z1和Z2各自互相独立，为氮原子、CH或CR6，
属于Z1或Z2的CR6中，R6表示可具有取代基的碳原子数1-8的烷基、可具有取代基的碳原子数6-15的芳基、可具有取代基的碳原子数4-12的杂芳基、可具有取代基的碳原子数5-12的杂芳烷基或碳原子数7-15的芳烷基；另外，Z1和Z2均以CR6表示时，这些CR6中的R6表示各自互相独立的取代基；
R1、R2、R3和R4分别不存在或者在存在时，1个苯环的6个碳原子中，在除去与5元环共有的2个碳原子以外的4个碳原子上所键合的4个氢原子中，可以取代1-4个，4个苯环上的取代了氢原子的取代基均各自互相独立，为可具有取代基的碳原子数1-8的烷基、羟基、羧基、碳原子数1-4的烷氧基、卤代基、可具有取代基的碳原子数1-8的烷基氨基磺酰基、可具有取代基的吗啉代磺酰基、可具有取代基的哌啶基磺酰基、可具有取代基的吡咯烷基磺酰基、可具有取代基的硫代吗啉代磺酰基或可具有取代基的哌嗪基磺酰基，
M表示金属原子。
2. 权利要求1的紫外线吸收构件用组合物，其中，式(1)中的金属原子M为钴原子、镍原子、铜原子或锌原子。
3. 权利要求1或2的紫外线吸收构件用组合物，该组合物是含有溶剂，或者不含溶剂、而是基质材料的前体兼做溶剂的溶液形态。
4. 权利要求1或2的紫外线吸收构件用组合物，该组合物是含有分散介质，或者不含分散介质、而是基质材料的前体兼做分散介质、分散有该金属络合物的微粒的分散液形态。
5. 紫外线吸收构件，该紫外线吸收构件是使用权利要求1-4中任一项的紫外线吸收构件用组合物制造的。
6. 权利要求5的紫外线吸收构件，该紫外线吸收构件是层叠体的形式，所述层叠体在基材上具有含该金属络合物的基质材料的膜。
7. 权利要求5的紫外线吸收构件，该紫外线吸收构件是在基质材料的膜中含有该金属络合物的薄膜形态。
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