JP5675529B2 - 低雑音高効率バイアス生成回路及び方法 - Google Patents
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Description
BSGA バイアス信号生成アーキテクチャ10
BBSGM ベースバイアス信号生成モジュール100
DOM 差動発振器モジュール200
PVCPM 正電圧電荷ポンプモジュール300
NVCPM 負電圧電荷ポンプモジュール400
PVCM 正電圧クランピングモジュール15
NVCM 負電圧クランピングモジュール17
PSM 電源モジュール18
VRM 電圧レギュレータモジュール110
BRM バンドギャップ基準モジュール140
RVCGM 基準電圧及び電流発生器モジュール170
SSM 起動及びスタンバイモジュール190
VDD 外部電源信号
VDD_LS 正電圧供給
VNEG 負電圧供給
GND 接地
BIASP1 P形デバイスのための第1のバイアス信号
BIASP2 P形デバイスのための第2のバイアス信号
BIASN1 N形デバイスのための第1のバイアス信号
BIASN2 N形デバイスのための第2のバイアス信号
VBG バンドギャップ電圧基準信号
HKP 高調波ニーポイント
FET 電界効果トランジスタ
CS_P P形電流ソース
CS_N N形電流シンク
OPAMP 演算増幅器
OTA 演算相互コンダクタンス増幅器
POS_CP_VDD 正電荷ポンプ制御信号
NEG_CP_VDD 負電荷ポンプ制御信号
LDO 低ドロップ出力
TIN 厚膜内在性N形FET
IN 内在性N形FET
TRP 厚膜標準タイプP形FET
TRN 厚膜標準タイプN形FET
RP 標準タイプP形FET
RN 標準タイプN形FET
IREF 基準電流
IVREF 基準電流に基づく基準電圧
CBVGM 電流/バイアス電圧生成モジュール192
ABR アクティブバイアス抵抗207
VCSGM 正電圧制御信号生成モジュール310
PVCPGM 正電圧電荷ポンプ生成モジュール340
NCSGM 負電圧制御信号生成モジュール410
NVCPGM 負電圧電荷ポンプ生成モジュール440
P_VT P形電圧トラッカ349A
N_VT N形電圧トラッカ349B。
15 正電圧クランピングモジュール(PVCM)
17 負電圧クランピングモジュール(NVCM)
18 電源モジュール(PSM)
22 スイッチングモジュール
100 ベースバイアス信号生成モジュール(BBSGM)
110 電圧レギュレータモジュール(VRM)
112 シュミットトリガ
130,164,188 スタンバイ−起動モジュール
140 バンドギャップ基準モジュール(BRM)
142 電流ソースモジュール
160 バンドギャップモジュール
170 基準電圧及び電流発生器モジュール(RVCGM)
172 電流シンクモジュール
190 起動及びスタンバイモジュール(SSM)
192 電流/バイアス電圧生成モジュール(CBVGM)
200 差動発振器モジュール(DOM)
207 対称形アクティブバイアス抵抗(ABR)
300 正電圧電荷ポンプモジュール(PVCPM)
310 正電圧制御信号生成モジュール(VCSGM)
340 正電圧電荷ポンプ生成モジュール(PVCPGM)
349A Pバイアス電圧トラッカ(P−VT)
349B Nバイアス電圧トラッカ(N−VT)
400 負電圧電荷ポンプモジュール(NVCPM)
410 負電圧制御信号生成モジュール(NCSGM)410
440 負電圧電荷ポンプ生成モジュール(NVCPGM)
Claims (21)
- 無線周波数信号を変調するよう構成されるスイッチングモジュールに対して、略定常状態の正電圧信号と、略定常状態の負電圧信号とを生成する装置であって、前記正電圧信号及び前記負電圧信号は、前記スイッチングモジュールのスイッチングイベントの間略安定なままである装置において、
前記正電圧信号よりも低い電圧レベルを有する略定常状態の基準電圧信号を生成するバイアス信号生成モジュールと、
前記正電圧信号を生成する正信号生成モジュールであって、第1のキャパシタを有し、該第1のキャパシタを用いて前記基準電圧信号に基づき前記正電圧信号の一部を生成する前記正信号生成モジュールと、
前記負電圧信号を生成する負信号生成モジュールであって、第2のキャパシタを有し、該第2のキャパシタを用いて前記基準電圧信号に基づき前記負電圧信号の一部を生成する前記負信号生成モジュールと
を有し、
前記正信号生成モジュールは、
前記基準電圧信号によって駆動される正信号生成モジュール用差動モジュールバイアス電流によりバイアスをかけられる正信号生成モジュール用差動モジュールと、
前記正信号生成モジュール用差動モジュールバイアス電流の電圧レベル及び前記基準電圧信号に基づき前記正信号生成モジュールへの入力電圧を制御する正電圧制御信号生成モジュールと
を有し、
前記負信号生成モジュールは、
前記基準電圧信号によって駆動される負信号生成モジュール用差動モジュールバイアス電流によりバイアスをかけられる負信号生成モジュール用差動モジュールと、
前記負信号生成モジュール用差動モジュールバイアス電流の電圧レベル及び前記基準電圧信号に基づき前記負信号生成モジュールへの入力電圧を制御する負電圧制御信号生成モジュールと
を有する、装置。 - 前記正信号生成モジュールは、少なくとも部分的に前記基準電圧信号に基づき正キャパシタ制御信号を生成し、前記第1のキャパシタを用いて少なくとも部分的に前記正キャパシタ制御信号に基づき前記正電圧信号の一部を生成し、及び/又は
前記負信号生成モジュールは、少なくとも部分的に前記基準電圧信号に基づき負キャパシタ制御信号を生成し、前記第2のキャパシタを用いて少なくとも部分的に前記負キャパシタ制御信号に基づき前記負電圧信号の一部を生成する、
請求項1に記載の装置。 - 前記バイアス信号生成モジュールは、前記基準電圧信号が温度非依存である場合に該基準電圧信号を生成するよう部分的に共通シリコン・オン・インシュレータ(SOI)ウェハーに形成される第1のFET素子及び第2のFET素子を用いる、
請求項1又は2に記載の装置。 - 前記基準電圧信号の電圧の大きさに対する前記正電圧信号の電圧の大きさの比は約1.5から4であり、任意に、前記基準電圧信号の電圧の大きさに対する前記負電圧信号の大きさの比は約1.5から4である、
請求項2に記載の装置。 - 前記バイアス信号生成モジュールは、更に、第1のFETバイアス信号及び第2のFETバイアス信号を生成し、前記正信号生成モジュールは、少なくとも前記第1のFETバイアス信号を用い、前記負信号生成モジュールは、少なくとも前記第2のFETバイアス信号を用いる、
請求項1乃至4のうちいずれか一項に記載の装置。 - 前記正信号生成モジュールは、電流ドレインを生成するよう少なくとも部分的に前記第1のFETバイアス信号を用い、任意に、前記負信号生成モジュールは、電流ソースを生成するよう少なくとも部分的に前記第2のFETバイアス信号を用いる、
請求項5に記載の装置。 - 前記正信号生成モジュール用差動モジュールは、前記電流ドレインを用い、前記正電圧信号の信号電圧レベルと前記基準電圧信号の電圧レベルとの間の差を決定し、且つ、任意に、前記正信号生成モジュールへの入力電圧を制御する低ドロップ出力レギュレータを有し、
任意に、前記負信号生成モジュール用差動モジュールは、前記電流ソースを用い、前記負電圧信号の信号電圧レベルと前記基準電圧信号の電圧レベルとの間の差を決定する、
請求項6に記載の装置。 - 前記バイアス信号生成モジュールは、少なくとも部分的に前記第1のFETバイアス信号及び前記基準電圧信号に基づき略安定した内部電圧信号を生成する、
請求項1乃至7のうちいずれか一項に記載の装置。 - 前記正信号生成モジュールは、前記内部電圧信号により部分的に前記正電圧信号を生成し、任意に、前記負信号生成モジュールは、前記内部電圧信号により部分的に前記負電圧信号を生成する、
請求項8に記載の装置。 - 前記正信号生成モジュールは、前記正電圧信号の約半分の大きさの電圧レベルを生成するよう前記第1のキャパシタを用い、任意に、前記負信号生成モジュールは、前記負電圧信号の約半分の大きさの電圧レベルを生成するよう前記第2のキャパシタを用いる、
請求項8に記載の装置。 - 無線周波数信号を変調するよう構成されるスイッチングモジュールに対して、略定常状態の正電圧信号と、略定常状態の負電圧信号とを生成する方法であって、前記正電圧信号及び前記負電圧信号は、前記スイッチングモジュールのスイッチングイベントの間略安定なままである方法において、
前記正電圧信号よりも低い電圧レベルを有する略定常状態の基準電圧信号を生成するステップと、
第1のキャパシタを用いて、前記基準電圧信号に基づき前記正電圧信号の一部を生成するステップと、
第2のキャパシタを用いて、前記基準電圧信号に基づき前記負電圧信号の一部を生成するステップと
を有し、
前記第1のキャパシタを充電するための入力電圧は、差動モジュールを用いて前記基準電圧信号に基づき制御され、該差動モジュールのバイアス電流は、前記正電圧信号の信号電圧レベルと前記基準電圧信号の電圧レベルとの間の差によって駆動され、
前記第2のキャパシタを充電するための入力電圧は、差動モジュールを用いて前記基準電圧信号に基づき制御され、該差動モジュールのバイアス電流は、前記負電圧信号の信号電圧レベルと前記基準電圧信号の電圧レベルとの間の差によって駆動される、
方法。 - 少なくとも部分的に前記基準電圧信号に基づき正キャパシタ制御信号を生成し、前記第1のキャパシタを用いて少なくとも部分的に前記正キャパシタ制御信号に基づき前記正電圧信号の一部を生成するステップを更に有し、任意に、少なくとも部分的に前記基準電圧信号に基づき負キャパシタ制御信号を生成し、前記第2のキャパシタを用いて少なくとも部分的に前記負キャパシタ制御信号に基づき前記負電圧信号の一部を生成するステップを更に有する、
請求項11に記載の方法。 - 前記基準電圧信号が温度非依存である場合に該基準電圧信号を生成するよう部分的に共通シリコン・オン・インシュレータ(SOI)ウェハーに形成される第1のFET素子及び第2のFET素子を用いるステップを更に有する、
請求項11又は12に記載の方法。 - 前記基準電圧信号の電圧の大きさに対する前記正電圧信号の電圧の大きさの比は約1.5から4であり、任意に、前記基準電圧信号の電圧の大きさに対する前記負電圧信号の大きさの比は約1.5から4である、
請求項12に記載の方法。 - 第1のFETバイアス信号及び第2のFETバイアス信号を生成するステップを更に有する、
請求項11乃至14のうちいずれか一項に記載の方法。 - 電流ドレインを生成するよう少なくとも部分的に前記第1のFETバイアス信号を用いるステップを更に有し、任意に、電流ソースを生成するよう少なくとも部分的に前記第2のFETバイアス信号を用いるステップを更に有する、
請求項15に記載の方法。 - 前記正電圧信号の信号電圧レベルと前記基準電圧信号の電圧レベルとの間の差を決定するよう部分的に前記電流ドレインを用いるステップを更に有する、
請求項16に記載の方法。 - 前記負電圧信号の信号電圧レベルと前記基準電圧信号の電圧レベルとの間の差を決定するよう部分的に前記電流ソースを用いるステップを更に有する、
請求項16に記載の方法。 - 少なくとも部分的に前記第1のFETバイアス信号及び前記基準電圧信号に基づき略安定した内部電圧信号を生成するステップを更に有する、
請求項11乃至18のうちいずれか一項に記載の方法。 - 前記内部電圧信号により部分的に前記正電圧信号を生成するステップを更に有し、任意に、前記内部電圧信号により部分的に前記負電圧信号を生成するステップを更に有する、
請求項19に記載の方法。 - 前記正電圧信号の約半分の大きさの電圧レベルを生成するよう前記第1のキャパシタを用いるステップを更に有し、任意に、前記負電圧信号の約半分の大きさの電圧レベルを生成するよう前記第2のキャパシタを用いるステップを更に有する、
請求項11乃至20のうちいずれか一項に記載の方法。
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