JP5572288B2 - 超小型電子部品パッケージ及びそのための方法 - Google Patents

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Description

(関連出願の相互参照)
本出願は、2004年10月25日に提出された米国特許仮出願第60/621,865号、及び2004年6月25日に提出された同第60/583,066号の利益を主張する、2005年5月27日に提出された米国特許出願第11/140,312号の利益を主張し、これらの明細書の開示は参照により本明細書に組み込まれる。
(発明の分野)
本発明は、一般に、超小型電子部品パッケージに関し、より具体的には、該超小型電子部品パッケージを形成及び検査する方法に関する。
半導体チップ等の超小型デバイスは、典型的には、他の電子コンポーネントに対する多くの入力及び出力接続部を必要とする。半導体チップ又は他の類似のデバイスの入力及び出力のコンタクトは、一般に、(通常、「エリアアレイ」と呼ばれている)該デバイスの表面を実質的にカバーする格子状パターンで、又は、該デバイスの前面の各縁部に平行に及び該縁部に隣接して伸びてもよい細長い列状に、あるいは、該前面の中心に配置されている。典型的には、チップ等のデバイスは、プリント配線基板等の基板上に物理的に取付けなければならない。また、該デバイスのコンタクトは、該配線基板の導電性形状構成に電気的に接続しなければならない。
半導体チップは、通常、パッケージ内に設けられており、このことは、製造中、及び配線基板又は他の回路パネル等の外部基板上への該チップの取付け中の、該チップの取扱いを容易にする。例えば、多くの半導体チップは、表面実装に適したパッケージ内に設けられている。この一般的なタイプの多数のパッケージは、様々な用途のために提案されてきた。最も一般的には、そのようなパッケージは、端子が、誘電体上に、めっきされた又はエッチングされた金属性構造部として形成された、一般に「チップキャリア」と呼ばれている該誘電体素子を含む。それらの端子は、典型的には、該チップキャリア自体に沿って伸びる薄いトレース等の形状構成により、及び該チップのコンタクトと、該端子又はトレースとの間に伸びる微細なリード又はワイヤにより、該チップ自体のコンタクトに接続されている。表面実装工程において、該パッケージは、該パッケージ上の各端子が、該配線基板上の対応する接触パッドと位置合わせされるように、該配線基板上に配置される。はんだ又は他の接合材料は、該端子と該接触パッドとの間に設けられる。該パッケージは、該はんだを溶融し、又は「リフロー」するように、あるいは、他の方法で該接合材料を活性化させるように、アセンブリを加熱することによって、定位置に恒久的に接合することができる。
多くのパッケージは、該パッケージの端子に付着された、典型的には、直径が約0.1mm〜約0.8mm(5〜30ミル)のはんだボールのかたちで、はんだ群を含む。その底面から突出するはんだボールからなる配列を有するパッケージは、一般に、ボールグリッドアレイ又は「BGA」パッケージと呼ばれている。ランドグリッドアレイ又は「LGA」パッケージと呼ばれる他のパッケージは、はんだから形成された薄い層又はランドによって該基板に固着されている。この種のパッケージは、かなりコンパクトにすることができる。一般に、「チップスケールパッケージ」と呼ばれる特定のパッケージは、該パッケージに内蔵されたデバイスの面積と等しいか、又は、該面積よりもわずかに大きい、該配線基板の面積を専有する。このことは、該アセンブリの全体のサイズが低減され、該基板上の様々なデバイス間の短い相互配線の使用を可能にし、デバイス間の信号伝播時間を限定し、その結果、該アセンブリの高速での動作を容易にするという点で有利である。
パッケージを含むアセンブリは、該デバイス及び該基板の異なる熱膨張及び熱収縮によって与えられる応力を受ける可能性がある。作動中、ならびに製造中、半導体チップは、配線基板の膨張及び収縮の量とは異なる量だけ膨張及び収縮する傾向がある。該パッケージの端子が該チップ又は他のデバイスに対して固定されている場合、それらの影響は、該配線基板上の接触パッドに対して該端子を移動させる傾向がある。このことは、該端子を該基板に接続するはんだに、応力を与える可能性がある。その開示が参照により本明細書に組み込まれる、米国特許第5,679,977号、同第5,148,266号、同第5,148,265号、同第5,455,390号及び同第5,518,964号の特定の好ましい実施形態に開示されているように、半導体チップパッケージは、該パッケージに内蔵された該チップ又は他のデバイスに対して移動可能である端子を有することができる。そのような移動は、異なる膨張及び収縮に対して、かなりの程度まで補正することができる。
パッケージされたデバイスの検査は、別の厄介な問題を引き起こす。一部の製造プロセスにおいては、該パッケージされたデバイスの端子と検査装置との間に、一時的な接続部を形成し、該デバイスが十分に機能的であることを保障するために、それらの接続部を介して該デバイスを作動させることが必要である。通常、それらの一時的な接続部は、該パッケージの端子の該検査装置への接合を要することなく、形成しなければならない。全ての端子が、該検査装置の導電性素子に確実に接続されることを保障することが重要である。しかし、平坦なパッドを有する通常の回路基板等の単純な検査装置に対して該パッケージを押圧することにより、接続部を形成することは困難である。該パッケージの端子が、同一平面上にない場合、又は該検査装置の導電性素子が同一平面上にない場合には、該端子のうちのいくつかは、そのそれぞれの接触パッドを該検査装置に接触させないことになる。例えば、BGAパッケージにおいて、該端子に付着されたはんだボールの直径の違い、及び該チップキャリアの非平坦性は、該はんだボールのうちのいくつかを異なる高さで載置させる可能性がある。
これらの問題は、非平坦性を補正するように配列された形状構成を有する、特別に構成された検査装置の使用によって、解決することができる。しかし、そのような形状構成は、該検査装置のコストを増大させ、また、ある場合においては、該検査装置自体にある程度の信頼性の欠如をもたらす。このことは、該検査装置、及び該デバイスの該検査装置との連携は、重要な検査を実行するために、該パッケージされたデバイス自体よりも高い信頼性がなければならないため、特に望ましくない。また、高周波動作を意図されたデバイスは、典型的には、高周波信号を印加することによって検査しなければならない。この要件は、該検査装置内の信号経路の電気的特性に対して制約を課し、そのことが、該検査装置の構造をさらに複雑にする。
加えて、上記パッケージされたデバイスが、その端子上にはんだボールを有する場合、はんだは、該はんだボールに係合する、該検査装置の当該部分に蓄積する傾向がある。このことは、該検査装置の寿命を短くし、その信頼性を損なう可能性がある。
上述した問題に対処するために、様々な解決法が出されてきている。上述した特許に開示されているあるパッケージは、その超小型電子デバイスに対して移動することができる端子を有する。そのような移動は、検査中に、該端子の非平坦性をある程度まで補正することができる。
共に、Nishiguchi等に対して発行された米国特許第5,196,726号及び同第5,214,308号は、チップの表面のバンプリードが、基板上のカップ状ソケット内に収容されて、低融点材料によって、該ソケット内に接合されているBGA型アプローチを開示している。Beaman et al.,に対して発行された米国特許第4,975,079号は、検査基板上のドーム状コンタクトが、円錐形ガイド内に配置されている、チップ用検査ソケットを開示している。該チップは、はんだボールが、該円錐形ガイドに入り、そのドーム状ピンを該基板に係合するように押し付けられる。該ドーム状ピンが実際に、該チップのはんだボールを変形させるように、十分な力が加えられる。
BGAソケットの別の実施例は、1998年9月8日に発行された、同一出願人による米国特許第5,802,699号に見つけることができ、該明細書の開示は参照により本明細書に組み込まれる。‘699特許は、複数の穴を有するシート状コネクタを開示している。各穴は、穴の周りで内側に伸びる少なくとも1つの弾性薄層コンタクトを備えている。BGAデバイスのバンプリードは、該コンタクトに係合するように、該穴の中に進められる。該アセンブリは、検査することができ、また、容認可能であることが分かれば、該バンプリードを該コンタクトに恒久的に接合することができる。
その開示が参照により本明細書に組み込まれる、2001年3月20日に発行された、同一出願人による米国特許第6,202,297号は、バンプリードを有する超小型電子デバイス用コネクタ、及び該コネクタを製造する方法及び該コネクタを用いる方法について開示している。米国特許第6,202,297号の一つの実施形態において、誘電体基板は、表面から上方へ伸びる複数のポストを有する。該ポストは、各ポスト群が、それらの間のギャップを画定する状態で、ポスト群からなるアレイ状で配列することができる。該して薄いコンタクトは、各ポストの上部から伸びる。デバイスを検査するために、該デバイスのバンプリードは、それぞれのギャップ内に挿入され、それによって、挿入し続けられる際に、該バンプリードをこする該コンタクトを係合する。典型的には、該コンタクトの先端部は、該バンプリードがギャップ内に挿入されるにつれて、基板に向かって下方へ、及び該ギャップの中心から離れて外側へ偏向する。
その開示が参照により本明細書に組み込まれる、同一出願人による米国特許第6,177,636号は、超小型電子デバイスと支持基板との間に相互配線を形成する方法及び装置を開示している。米国特許第6,177,636号の一つの好ましい実施形態において、超小型電子デバイスのための相互接続コンポーネントを製造する方法は、第1及び第2の面を有するフレキシブルなチップキャリアを設けることと、導電性シートを、該チップキャリアの該第1の面に結合することとを含む。そして、該導電性シートは、複数の、実質的に硬いポストを形成するように、選択的にエッチングされる。柔軟層が、支持構造体の第2の面に形成され、半導体チップ等の超小型電子デバイスは、該柔軟層が、該超小型電子デバイスと該チップキャリアとの間に位置して、該チップキャリアの露出面から突出する該ポストを残すように、該柔軟層に係合する。該ポストは、該超小型電子デバイスに電気的に接続される。該ポストは、ソケットに係合することができる、又は、配線パネル等の基板の形状構成にはんだ接合することができる、突出パッケージ端子を構成する。該ポストは、該超小型電子デバイスに対して移動可能であるため、そのようなパッケージは、該デバイスの使用時に、該デバイスと支持基板との間の熱膨張係数の不整合に実質的に適応する。また、該ポストの先端は、同一平面又はほぼ同一平面にすることができる。
これまで、超小型電子素子に対して移動可能であるピン又は導電性ポストを有する超小型電子部品パッケージに関連する多数の進展があった。2004年10月6日に提出された、同一出願人による米国特許出願第10/959,465号のある好ましい実施形態は、面及びコンタクト、及び離間されたフレキシブル基板を有し、超小型電子素子の第1の面に重なっている該超小型電子素子を含む超小型電子部品パッケージを開示している。該パッケージは、該フレキシブル基板から伸びており、かつ該超小型電子素子の該第1の面から離れて突出している、複数の導電性ポストを有し、該導電性ポストの少なくとも一部は、該超小型電子素子と電気的に相互接続されている。該超小型電子部品パッケージは、該超小型電子素子を覆って該フレキシブル基板を支持する、複数の支持体を含む。該導電性ポストは、該基板のたわみ、及び該超小型電子素子に対する該ポストの移動を容易にするために、該支持体からずらされている。「Micro Pin Grid Array With Wiping Action」というタイトルの、同一出願人による米国特許仮出願第60/533,393号のある好ましい実施形態は、取付け構造、該取付け構造に付随する超小型電子素子、及び該取付け構造に物理的に接続され、かつ該超小型電子素子に電気的に接続された複数の導電性ポストを含む超小型電子部品パッケージを開示している。該導電性ポストは、該取付け構造から上方へ突出し、該導電性ポストの少なくとも1つは、オフセットポストである。各オフセットポストは、該取付け構造に接続されたベースを有し、各オフセットポストの該ベースは、重心を画定する。また、各オフセットポストは、重心を有する上方先端部を画定し、該上方先端部の重心は、上方向と直角な水平オフセット方向に、該ベースの重心からずらされている。該取付け構造は、該上方先端部が、対向する配線基板の接触パッドの全面をこすることができるように、各オフセットポストの水平軸周りの角度調節を可能にするように適応されている。
「Micro Pin Grid Array With Pin Motion Isolation」というタイトルの、同一出願人による米国特許仮出願第60/533,437号のある好ましい実施形態は、面及びコンタクトと、超小型電子素子の第1の面に重なっており、かつ該第1の面から離間されているフレキシブル基板と、該フレキシブル基板の表面に露出された複数の導電性端子とを含む超小型電子部品パッケージを開示している。該導電性端子は、該超小型電子素子と電気的に相互接続されており、該フレキシブル基板は、少なくとも1つの該導電性端子の周りに少なくとも部分的に伸びるギャップを含む。特定の実施形態において、該パッケージは、該超小型電子素子の第1の面と、該フレキシブル基板との間に配置された、柔軟層等の支持層を含む。他の実施形態においては、該支持層は、該導電性端子の一つと、少なくとも部分的に位置合わせされている、少なくとも1つの開口を含む。
当分野における、上述した全ての進展にもかかわらず、平坦でない接触パッドを有する検査基板に適応できる端子を有する超小型電子部品パッケージに対する要求が残る。また、該パッケージの検査及びバーンイン中に、回路基板と信頼できる電気的相互接続を形成できる超小型電子部品パッケージに対する要求が残る。従って、超小型電子部品パッケージの形成及び検査におけるさらなる改善が望ましい。
本発明の特定の好ましい実施形態において、超小型電子部品パッケージは、複数の面及びコンタクトを有する、半導体チップ等の超小型電子素子を含み、該超小型電子素子は、外周部を有する。該パッケージは、該超小型電子素子の第1の面に重なり、かつ該第1の面から離間している、高分子材料で形成された誘電体基板等のフレキシブル基板を含んでもよく、それにより、前記フレキシブル基板の外側領域は、該超小型電子素子の外周部を越えて拡がる。該パッケージは、望ましくは、該超小型電子素子と電気的に相互接続されている、該フレキシブル基板の表面に露出された複数の導電性ポストを有し、該導電性ポストのうちの少なくとも1つは、該フレキシブル基板の外側領域に配置されている。柔軟層は、好ましくは、該超小型電子素子の第1の面と、該フレキシブル基板との間に配置されており、該柔軟層は、該フレキシブル基板の外側領域に配置されている少なくとも1つの導電性ポストに重なっている。また、該パッケージは、望ましくは、該超小型電子素子及び該柔軟層と接触している支持体を含み、それにより、該支持体は、該フレキシブル基板の外側領域に重なる。
特定の好ましい実施形態において、上記導電性ポストは、互いに無関係に移動可能であり、また、上記超小型電子素子に対して移動可能である。該導電性ポストの独立した動きは、上記パッケージと、第2の超小型電子素子との間の信頼できる電気的相互接続を形成するように、該ポストを、該第2の超小型電子素子の非平坦面に適合できるようにする。
特定の好ましい実施形態において、上記超小型電子素子の第1の面は、該超小型電子素子の前面であり、また、上記コンタクトは、該前面でアクセス可能である。他の好ましい実施形態においては、該超小型電子素子は、上記フレキシブル基板から離れて対向する第2の面を有し、それにより、該コンタクトは、該第2の面でアクセス可能である。該超小型電子素子は、該導電性ポストのうちの少なくとも一部を介して、約300MHzを超える周波数で、信号をやりとりするように作動することができる。該フレキシブル基板は、該基板上に設けられた導電性トレースを含んでもよく、該導電性トレースは、該導電性ポストのうちの少なくとも一部と、該超小型電子素子とを電気的に相互接続する。該フレキシブル基板は、望ましくは、該超小型電子素子と対向する第1の面を有し、該導電性トレースは、該フレキシブル基板の第1の面に沿って伸びている。他の好ましい実施形態において、該フレキシブル基板は、該超小型電子素子から離れて対向する第2の面を有してもよく、該導電性トレースは、該フレキシブル基板の第2の面に沿って伸びている。
特定の好ましい実施形態において、上記超小型電子素子上の上記コンタクトは、該超小型電子素子の上記面のうちの一つを覆う格子配列で離間させてもよい。他の実施形態においては、該コンタクトは、該超小型電子素子の面のうちの一つを覆って伸びる1つ以上の列で配置してもよい。
上記パッケージのための支持体は、望ましくは、該超小型電子素子を覆う硬い保護層を含み、上記柔軟層の第1の面は、上記導電性ポストから離れて対向する。該硬い保護層は、望ましくは、エポキシ、ガラス及びポリマーからなる群から選択される材料で形成される。上記フレキシブル基板は、好ましくは、該柔軟層の外縁部を越えて伸びて、ギャップを画定する。該硬い保護層は、好ましくは、該ギャップを充填する。
本発明の他の好ましい実施形態において、超小型電子アセンブリは、上述したパッケージと、接触パッドを有する回路パネルとを含み、上記導電性ポストは、上記フレキシブル基板から離れている先端部を有する。該導電性ポストの先端部は、該接触パッドに直面し、該接触パッドに電気的に接続されている。また、該アセンブリは、該導電性ポストを該接触パッドに固着する導電性接合材料を含んでもよい。
本発明の別の好ましい実施形態において、超小型電子部品パッケージは、複数の面及びコンタクトを有する超小型電子素子と、該超小型電子素子の第1の面に重なり、かつ該第1の面から離間しているフレキシブル基板と、該フレキシブル基板の面に露出され、かつ該超小型電子素子と電気的に相互接続されている複数の導電性ポストとを含み、少なくとも1つの該導電性ポストは、該超小型電子素子の外周部を越えて拡がる、該フレキシブル基板の外側領域に配設されている。また、該パッケージは、望ましくは、該超小型電子素子の第1の面と、該フレキシブル基板との間に配置された柔軟層であって、それにより、該柔軟層が、該フレキシブル基板の外側領域に配設された少なくとも1つの該導電性ポストに重なる部分を含む該柔軟層と、該超小型電子素子と、該フレキシブル基板の外側領域に配設された該少なくとも1つの導電性ポストに重なる該柔軟層の該部分とに接触している保護層とを含む。
上記フレキシブル基板は、望ましくは、上記超小型電子素子に対向する第1の面と、該超小型電子素子から離れて対向する第2の面とを有する。上記導電性トレースは、該フレキシブル基板の第1の面に重なってもよい。他の実施形態においては、該導電性トレースは、該フレキシブル基板の第2の面に重なってもよい。
特定の好ましい実施形態において、上記超小型電子素子は、上記フレキシブル基板に対向する第1の面と、該フレキシブル基板から離れて対向する第2の面とを有する。上記コンタクトは、該超小型電子素子の第1の面及び/又は該超小型電子素子の第2の面でアクセス可能である。また、上記パッケージは、該超小型電子素子と上記導電性ポストとを電気的に相互接続するワイヤボンドを含んでもよい。
本発明のまた別の好ましい実施形態において、超小型電子部品パッケージは、複数の面及びコンタクトを有する超小型電子素子と、該超小型電子素子の第1の面に重なっており、かつ該第1の面から離間している基板と、該基板の面で露出され、かつ該超小型電子素子と電気的に相互接続されている複数の導電性ポストと、該基板を貫通して伸びており、かつ該パッケージから熱を取り除くために、該超小型電子素子と熱的に連通している少なくとも1つの熱伝導性素子とを含む。該少なくとも1つの熱伝導性素子は、好ましくは、該超小型電子素子と絶縁されている。
上記パッケージは、上記超小型電子素子からの熱エネルギを上記少なくとも1つの熱伝導性素子へ伝達するために、該超小型電子素子と該少なくとも1つの熱伝導性素子との間に熱伝導性材料を含んでもよい。該熱伝導性材料は、望ましくは、誘電材料を含む。また、該パッケージは、該超小型電子素子及び該基板を被覆する保護封止層を含んでもよく、該保護封止層は、望ましくは、エポキシ、ポリマー及びガラスからなる群から選択される材料を含む。
ヒートスプレッダを有する上述した超小型電子部品パッケージは、導電性接触パッド及び少なくとも1つの熱伝導性パッドを有する回路パネルを用いて組立てることができる。組立ての間、上記フレキシブル基板から離れた先端部を有する上記導電性ポストは、上記接触パッドに係合して配置され、かつ該接触パッドに電気的に接続されており、上記少なくとも1つの熱伝導性素子は、該少なくとも1つの熱伝導性パッドと熱的に連通している。該アセンブリは、該導電性ポストを該接触パッドに固着する導電性接合材料を含んでもよい。
本発明の別の好ましい実施形態において、超小型電子部品パッケージは、複数の面及びコンタクトを有する超小型電子素子と、該超小型電子素子の第1の面に重なり、かつ該第1の面から離間している誘電体基板と、該基板の底面から伸び、かつ該超小型電子素子と電気的に相互接続されている複数の導電性ポストとを含む。該パッケージは、望ましくは、該基板の上面を被覆し、かつ該超小型電子素子を封止する硬い保護層を含み、それにより、該硬い保護層は、該導電性ポストの該超小型電子素子に対する動きを制限する。特定の好ましい実施形態において、該誘電体基板は、フレキシブル誘電体シートを含む。また、該パッケージは、該超小型電子素子を該基板に固着する接着剤を含んでもよい。該接着剤は、硬くてもよい。
本発明のまた別の好ましい実施形態において、超小型電子アセンブリは、少なくとも2つの積層形超小型電子部品パッケージを含む。各超小型電子部品パッケージは、望ましくは、超小型電子素子と、上面及び底面を有するフレキシブル基板であって、該超小型電子素子の面に重なり、かつ該面から離間しているフレキシブル基板と、該フレキシブル基板の底面で露出され、該超小型電子素子に電気的に相互接続されている複数の導電性ポストとを含む。該少なくとも2つの積層形超小型電子部品パッケージは、望ましくは、第1の超小型電子部品パッケージと、第2の超小型電子部品パッケージの導電性端子が、該第1の超小型電子部品パッケージのフレキシブル基板の上面に直面するように、該第1の超小型電子部品パッケージの上部に積層された該第2の超小型電子部品パッケージとを含む。また、該アセンブリは、望ましくは、該第2の超小型電子部品パッケージの導電性端子の端部を該第1の超小型電子部品パッケージのフレキシブル基板に接続する硬い導電性材料を含み、それにより、該硬い材料は、該第2の超小型電子部品パッケージの導電性端子の端部の動きを防ぐ。
本発明の他の好ましい実施形態において、超小型電子アセンブリは、上部又は第1の面と、そこから離れた底部又は第2の面とを有する誘電体基板を含む。該超小型電子アセンブリは、望ましくは、該第2の面の上部に形成された導電性トレースを含む。他の好ましい実施形態において、該導電性トレースは、該第1の面を覆って、又は、該第1の面及び第2の面の両方を覆って形成することができる。該超小型電子アセンブリは、好ましくは、該導電性トレースと電気的に相互接続され、かつ該誘電体基板の面のうちの一方から突出する、導電性ピン又はポストを含む。該導電性ポストは、好ましくは、金等の高導電性材料で被覆されている。特定の好ましい実施形態において、該導電性ポストは、約50〜200ミクロンの直径と、約50〜200ミクロンの長さとを有する。より好ましい実施形態においては、該導電性ポストの先端部は、約100ミクロンの直径を有する。該導電性ピンの中心間ピッチは、好ましくは、約100〜300ミクロンであり、より好ましくは、約225〜275ミクロンであり、さらに好ましくは、約250ミクロンである。
また、上記超小型電子アセンブリは、好ましくは、第1の接触支持面と、該第1の接触支持面から離れている第2の面とを有する、半導体チップ等の、超小型電子素子を含む。該超小型電子素子は、好ましくは、約50〜200ミクロンの高さを、より好ましくは、200ミクロン未満の高さを有する。該超小型電子素子は、接着剤又は封止材料で形成することができるアンダーフィル層を用いて、該誘電体基板と共に組立てられる。該超小型電子素子が、該誘電体基板と共に組立てられた後、該導電性ポストの先端部は、好ましくは、該超小型電子素子を越えて突出する。
上記超小型電子アセンブリは、好ましくは、上記誘電体基板の第1の面から、上記導電性ポストの先端部まで伸びる高さを有する。特定の好ましい実施形態において、該超小型電子アセンブリの高さは、約75〜300ミクロンであり、より好ましくは、約100〜200ミクロンである。
超小型電子部品スタックは、2つ以上の上述した超小型電子アセンブリを用いることにより、組立てることができる。特定の好適な積層方法において、第1の超小型電子アセンブリの上記導電性ポストは、プリント配線基板等の別の回路付き要素上で、導電性パッドに電気的に相互接続されている。該電気的相互接続を形成する一つの好適な方法は、はんだ等の導電性材料を用いる。該第1の超小型電子アセンブリが、プリント配線基板等の外部要素に接続された後、導電性材料が、好ましくは、該第1の超小型電子アセンブリの誘電体基板上に設けられた導電性パッドの上部に配置される。第2の超小型電子アセンブリは、好ましくは、該第2の超小型電子アセンブリの導電性ポストが、該第1の超小型電子アセンブリの導電性パッドに電気的に接触するように、該第1の超小型電子アセンブリを覆って組立てられる。ここでまた、該第2の超小型電子アセンブリの導電性ポストは、はんだ等の導電性材料を用いて、該第1の超小型電子アセンブリの導電性パッドに固着される。このプロセスは、第3の超小型電子アセンブリを該第2の超小型電子アセンブリの上部に積層することにより、繰り返される。特定の好ましい実施形態において、この積層されたアセンブリは、該第1の超小型電子アセンブリの導電性ポストが、プリント配線基板に電気的に相互接続される前に形成してもよい。
さらに他の好ましい実施形態においては、上記超小型電子アセンブリの上記プリント配線基板との組立ての前か後のいずれかに、オーバーモールドを、該スタックの1つ以上の層を覆って設けてもよい。一つの好ましい実施形態において、該超小型電子アセンブリは、該アセンブリが積層して組立てられる前に、個別にオーバーモールドされる。他の好ましい実施形態においては、該超小型電子アセンブリは、スタック状に配列され、オーバーモールドされた後、プリント配線基板等の別の回路要素に接続される。さらに他の好ましい実施形態において、該超小型電子素子は、該プリント配線基板上でスタック状に組立てられた後、該スタック全体がオーバーモールドされる。
他の好ましい実施形態において、上記超小型電子アセンブリの導電性ポストは、各誘電体基板の表面から突出してもよい。さらに他の好ましい実施形態においては、該導電性ポストは、該誘電体基板の上面又は底面のいずれかから突出する導電性ボールと置き換えてもよい。
本発明の他の好ましい実施形態において、超小型電子アセンブリは、上記アセンブリの誘電体基板を覆って拡がる導電性トレースを破断することにより、プログラムすることができる。該超小型電子アセンブリは、望ましくは、誘電体基板の1つ以上の面を覆って拡がる導電性トレースを含む。該導電性トレースは、超小型電子素子上のコンタクトと電気的に相互接続されている第1の端部と、導電性パッドで終端する第2の端部とを有する。また、該超小型電子アセンブリは、好ましくは、該導電性パッドと電気的に相互接続されており、また、誘電体基板の第2の面から突出する導電性ポストを含む。
上記超小型電子アセンブリは、望ましくは、超小型電子素子と電気的に相互接続されている主トレースを含む。該主トレースは、好ましくは、それぞれ、導電性パッドと電気的に接続されている複数の枝トレースと電気的に相互接続されている。該枝トレースの各々は、該主トレースから1つ以上の導電性パッドを電気的に絶縁するために切断することができる切断可能部を含む。その結果として、該導電性パッドの一つ以外の全ては、該主トレース及び該超小型電子素子から電気的に絶縁される。複数のこのようなアセンブリを積層することができる。
他の好ましい実施形態においては、上記枝トレースを切断して、上記超小型電子アセンブリをプログラムする代わりに、該枝トレースのうちの1つを、上記主トレースに接続して、残りの枝トレースを、該主トレースから電気的に絶縁したままにすることができる。その結果、該アセンブリは、該枝トレースのうちの1つと該主トレースとの電気的相互接続を形成することにより、プログラムすることができる。
本発明のこれら及び他の好ましい実施形態を、以下により詳細に説明する。
図1Aについて説明すると、本発明の特定の好ましい実施形態において、超小型電子サブアセンブリは、その開示が参照により本明細書に組み込まれる、同時係属中の同一出願人による米国特許仮出願第60/508,970号の特定の好ましい実施形態に開示されているプロセス等によって製造することができる。‘970出願の特定の好ましい実施形態に開示されているように、金属プレート30は、導電性材料で形成された上部層32と、中間エッチストップ層34と、導電性材料で形成された底部層36とを含む。上部層32及び底部層36は、銅等の導電性材料を含んでもよい。該中間エッチストップ層34は、ニッケル等の材料を含んでもよい。図1B及び図1Cについて説明すると、導電性端子又はポスト40a〜40fを形成するために、底部層36の部分38a〜38gを除去するように金属プレート30の底部層36が削られ、又はエッチングされる。図1C及び図1Dについて説明すると、ポスト40a〜40fが形成された後、エッチストップ層34(図1C)が、上部層32及びポスト40a〜40fを定位置に残すプロセスによって、除去される。該エッチストップ層を除去する一つの好適な方法は、化学エッチングプロセスを含む。
上記導電性ポストの寸法は、かなりの範囲で変えることができるが、上記誘電体基板の表面上の各ポストの最も典型的な高さは、約50〜300μmである。各ポストは、該誘電体基板に隣接する基部と、該誘電体基板から離れている先端部とを有する。特定の好ましい実施形態において、該ポストは、概して円錐台状であり、そのため、各ポストの該基部及び先端部は、実質的に円形である。該ポストの基部は、典型的には、直径が約100〜600μmであり、一方、該先端部は、典型的には、直径が約40〜200μmである。該ポストは、何らかの導電性材料で形成することができるが、望ましくは、銅、銅合金、金及びそれらの組合せ等の金属材料で形成される。例えば、該ポストは、主に、該ポストの表面に、金からなる層を有する銅で形成することができる。
図1D及び図1Eについて説明すると、ポリイミド膜等のフレキシブル誘電体シート42は、ポスト40a〜40fが、誘電体層42を貫通して突出するように、上部層32及びポスト40a〜40fと共に組立てられる。図1Dに示すように、誘電体層42の第1の面44は、上部層32に向かって対向しており、第2の面46は、上部層32から離れて対向している。誘電体層42は、ポリイミド等の誘電体層を、上部層32及び端子40a〜40fの周辺に被覆することによって形成することができる。他の好ましい実施形態において、誘電体層42は、該端子が該シートを貫通するように、該端子を該誘電体シートに強制的にはめ込むことによって、上部層32及び導電性ポスト40a〜40fと共に組立てることができる。誘電体層42の厚さは、用途によって変えることができるが、該誘電体層は、好ましくは、約15〜100μm厚である。図1Fについて説明すると、誘電体層42が一旦、定位置に配置されると、上部層32がエッチングされて、誘電体層42の第1の面44の上に個々の導電性トレース48a〜48fが形成される。特定の好ましい実施形態において、該導電性トレースは、該誘電体層の底面に配置されている。しかし、他の実施形態においては、該導電性トレースは、該誘電体層の上面に、該上面及び底面に、又は、該誘電体層の内部に拡がっていてもよい。従って、本開示で用いる場合、第1の形状構成が第2の形状構成の「上に」配置されているという記述は、該第1の形状構成が、該第2の形状構成の表面に位置していることを要すると理解すべきではない。該導電性トレースは、何らかの導電性材料で形成することができるが、最も典型的には、銅、銅合金、金又はこれらの材料の組合せで形成される。該トレースの厚さも、用途によって変わるが、典型的には、約5μm〜25μmである。
図1A〜図1Fに示す具体的な実施形態において、フレキシブル誘電体層42は、上記上部層が処理される前に、上部層32と共に組立てられる。しかし、他の実施形態においては、フレキシブル誘電体層42は、導電性トレース48a〜48f(図1F)が形成された後に、又は、後のプロセス工程において、上部層32に付着することができる。他の好ましい実施形態においては、めっき等の従来のプロセスが該トレースを形成してもよい。また、エッチングプロセスを用いてもよく、それにより、導電性ポスト40a〜40fを、その開示が参照により本明細書に組み込まれる、同一出願人による米国特許第6,177,636号に開示されている方法を用いて形成することができる。さらに他の好ましい実施形態において、導電性ポスト40a〜40fは、導電性ポスト40a〜40fを導電性トレース48a〜48fに接続するような方法で、個々の要素として形成した後、該フレキシブル誘電体層に組付けてもよい。「導電性端子」という用語は、本明細書で用いる場合、導電性バンプ、又は、その幅よりも著しく大きい高さを有する導電性ポストも意味する可能性がある。
図1F及び図1Gについて説明すると、各導電性端子40a〜40fは、露出した接触面50を有する。図1Gについて説明すると、金等の高導電性金属層52を、導電性ポスト40a〜40fの外面を覆って形成することができる。図1Gに示すアセンブリは、以後、本明細書において、接続コンポーネント54と呼ぶ。
図1Hについて説明すると、接続コンポーネント54は、上面58を有する支持体56を覆って配置されている。支持体56の上面58は、好ましくは、導電性ポスト40a〜40fの底部60が共通面に位置するように、実質的に平坦又は平面的である。半導体チップ等の超小型電子素子62は、コンタクト66を有する前面64と、前面64から離れた裏面68とを含む。前面64は、真空チャック70によって保持され、フレキシブル誘電体層42の第1の面44に向かって移動される。
図1Iについて説明すると、フレーム72は、超小型電子サブアセンブリ54の上面に当接している。硬化性エラストマー74等の硬化性誘電体材料が、半導体チップ62の裏面68と、超小型電子アセンブリ54との間に導入される。フレーム72は、硬化性エラストマー材料74の流れを案内する。
図1Jについて説明すると、硬化性エラストマー材料74が硬化して、半導体チップ62と超小型電子サブアセンブリ54との間に拡がる柔軟層74を形成する。該柔軟層は、ゲル、フォーム等の柔軟な材料で形成することができる。特定の好ましい実施形態において、該柔軟層は、複数のパッド間のチャネルを画定する該複数のパッドから形成された多孔性柔軟層を備える。硬化性エラストマーは、その開示が参照により本明細書に組み込まれる、同一出願人による米国特許第5,659,952号に開示されているように、該柔軟なパッド間のチャネルに注入することができる。好ましい実施形態において、柔軟層74は、最も外側の導電性ポスト40a及び40fに重なる外周部76を有する。半導体チップ62は、チップコンタクト66に接続された第1の端部80と、導電性トレース48のうちの1つに接続された第2の端部82とを有するワイヤボンド78を用いることにより、1つ以上の導電性ポスト40a〜40fと電気的に相互接続される。特定の好ましい実施形態において、ワイヤボンド78は、硬化性エラストマー材料74(図1I)が、半導体チップ62と超小型電子サブアセンブリ54との間に導入される前に、形成される。本発明の別の好ましい実施形態においては、柔軟層74は、該半導体チップと該超小型電子サブアセンブリとの間に配置される前に、予め形成される。該予め形成された柔軟層は、ワイヤボンド又は導電性リードがそこを通過して、それにより、半導体チップ62と該超小型電子サブアセンブリとを電気的に相互接続できるようにするために、該柔軟層を貫通して伸びる1つ以上の開口を有してもよい。
図1Kについて説明すると、硬化性エポキシ等の保護層84が、半導体チップ62、柔軟層74及び超小型電子サブアセンブリ54を覆って形成される。保護層84は、エポキシ、ポリマー及びガラス等の幅広い誘電体材料で形成することができる。保護層84は、好ましくは、硬化したときに硬くなる。図1Kに示す特定の好ましい実施形態において、柔軟層74は、全ての導電性ポスト40a〜40fに重なる外周部76を有する。しかし、柔軟層74の外周部76は、誘電体層42の外周部86まで及んでいない。その結果として、保護層84は、柔軟層74の外周部76と、フレキシブル誘電体層42の外周部86との間のギャップ88を充填する。
図1Kに示すように、導電性ポスト40a〜40fは半導体チップ62によって被覆される領域を越えて拡がっている。該導電性ポストによって被覆されるより広い領域は、上記超小型電子部品パッケージのためのより多くの入力及び出力接続部を可能にする。このことは、多くの利益をもたらす。第一に、多数の接続部を、半導体チップ62によって形成することができる。加えて、より多くのスペースを、導電性ポスト40a〜40fの間に設けることができ、それにより、電気信号が、該パッケージへ送られ、又は、該パッケージの外部へ送られる際の干渉が最小化される。全ての導電性ポスト40a〜40fを覆って柔軟層74を形成することは、上記導電性端子が互いに無関係に移動することを可能にする。また、柔軟層74は、該導電性ポストが、半導体チップ62に対して移動することを可能にする。保護層84は、フレキシブル誘電体層42の外側領域が、圧力下で、過剰に湾曲又は崩壊するのを防ぐ硬い裏打ちを形成する。例えば、このことは、検査工程中に、該導電性ポストが、対向する接触パッドに押し付けられたときに生じる可能性がある。そのため、保護層84は、フレキシブル誘電体層42の外周部のための支持を実行すると共に、該導電性ポストは、柔軟層74により移動することが可能である。
図1Lは、プリント配線基板又は検査基板等の第2の超小型電子素子92と近接されている超小型電子部品パッケージ90を示す。第2の超小型電子素子92は、導電性パッド96a〜96fがその上に形成された上面94を含む。該導電性パッドのうちの1つ96cは、隣接する導電性パッドの高さH2よりもかなり高い高さH1を有する。
図1Mについて説明すると、超小型電子部品パッケージ90の導電性パッド40a〜40fは、対向する導電性パッド96a〜96fに当接されている。超小型電子部品パッケージ90が検査基板92の方へ持って来られると、第3の導電性端子40cが、導電性パッド96のうちの1つに接触する最初の導電性端子になる。これは、導電性パッド96が、隣接する導電性パッドの高さH2よりも高い高さH1を有することによる。超小型電子部品パッケージ90が下方へ移動され続けると、導電性端子40cの上の柔軟層74は、導電性端子40cが、他の導電性ポスト40a、40b及び40d〜40fよりも半導体チップ62に近づくように圧縮される。下方への圧力が該パッケージに印加されるにつれて、保護層84は、フレキシブル誘電体層42の周辺領域が湾曲するのを防ぐために、該パッケージの縁部に対する支持を実現する。
上記ポストの先端部は、例えば、上記超小型電子素子の前面の非平坦性、上記誘電体基板の反り、及び該ポスト自体の不揃いの高さ等により、互いに厳密に同一平面上になくてもよい。また、上記パッケージは、上記配線基板に対して、わずかに傾けてもよい。これら及び他の理由により、該ポストの先端部と、上記接触パッドとの間の垂直方向距離は、一様でなくてもよい。
上記ポストの互いに対する個々のずれは、全てのポストが、上記検査基板上の全ての接触パッドに接触することを可能にする。例えば、導電性ポスト40cの近傍の上記フレキシブル基板は、実質的に、導電性ポスト40b及び40dの近傍の該フレキシブル基板よりもたわむ。
上記全てのポストの先端部は、上記全ての接触パッドと高い信頼性で係合することができるため、上記パッケージは、上記検査基板を介して、及び該係合したポスト及び接触パッドを介して、検査信号、電力及び接地電位を印加することにより、確実に検査することができる。また、この確実な係合は、単純な検査回路基板を用いて実現される。例えば、該検査回路基板の接触パッドは、単純な平坦なパッドである。該検査回路基板は、非平坦性又は複雑なソケット構造を補正するための特別な機能を組み込む必要がない。該検査回路基板は、通常の回路基板を形成するのに通常用いられる技術を用いて形成することができる。このことは、該検査回路基板のコストを著しく低減し、また、高周波信号に対応する、単純なレイアウトのトレース(図示せず)を備える検査回路基板の製造を容易にする。また、該検査回路基板は、特定の高周波信号処理回路のために必要な場合には、該接触パッドに近接させて、キャパシタ等の電子素子を組み込んでもよい。ここでもまた、該検査回路基板は、非平坦性に適応するための特別な機能を組み込む必要がないため、そのような電子素子の配置は、単純化される。場合によっては、該システムの非平坦性を低減して、ピンの動きの必要性を最小化するために、該検査回路基板を、実施可能な限り平坦に形成することが望ましい。例えば、該検査回路基板が、研磨されたアルミナセラミック構造等のセラミック回路基板のように高度に平坦である場合、たった約20μmのピンの動きで十分である。
図1A〜図1Mに示す実施形態は、何らかの特定の動作理論によって限定されないが、本明細書に示した散開配置を有する超小型電子部品パッケージを実現することが、全ての導電性ポストに圧力を加えることを可能にすると共に、該超小型電子部品パッケージの完全性を維持できるようにすると考えられる。さらに、該導電性ポストの全て覆って拡がる上記柔軟層は、該導電性ポストが、互いに無関係に動くだけでなく、半導体チップ62に対して動くことも可能にする。
図2について説明すると、超小型電子部品パッケージ190は、フレキシブル誘電体基板142と、誘電体層142を貫通して突出する複数の導電性ポスト140とを含む。パッケージ190は、超小型電子素子162と導電性ポスト140とを電気的に相互接続するための、細長いトレース又はリード198等の導電性素子を含む。また、パッケージ190は、超小型電子素子162の前面164とフレキシブル誘電体層142との間に配置された柔軟層174も含む。柔軟層174は、パッケージ190の縁部まで伸びていないが、柔軟層174は、全ての導電性ポスト140を覆って拡がっている。該フレキシブル誘電体層に組み付けられる導電性ポスト140と柔軟層174の組合せは、導電性ポスト140が、互いに無関係に動き、かつ超小型電子素子162に対して動くことを可能にする。また、パッケージ190は、超小型電子素子162及び柔軟層174を被覆する保護モールド層184も含む。モールド184は、柔軟層174の外周部176と、フレキシブル誘電体層142の縁部186との間のギャップ188を充填する。モールド184は、好ましくは、該パッケージ、特に、該パッケージの誘電体層142に対する支持を実現するために、かなり硬い。本発明は、何らかの特定の動作理論に限定されないが、モールド184が、誘電体層142の縁部近くに配設された導電性ポスト140を含む、該誘電体層の縁部に対する支持を安定化することを実現できると考えられる。動作中、導電性ポスト140は、互いに無関係に、かつ超小型電子素子162に対して、自由に動くことができる。
図3は、本発明の別の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージ290を示す。超小型電子部品パッケージ290は、概して、図2に示すパッケージと同様である。しかし、柔軟層274は、パッケージ290の縁部297まで及んでいる。
図4は、本発明のさらに別の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージ390を示す。超小型電子部品パッケージ390は、フレキシブル誘電体層342と、誘電体層342を貫通して伸びる複数の導電性ポスト又はピン340とを含む。誘電体層342と導電性ポスト340とは、超小型電子サブアセンブリ354を形成する。超小型電子サブアセンブリ354は、該サブアセンブリを貫通して伸びる中央開口355を含み、該開口は、好ましくは、超小型電子素子362と超小型電子サブアセンブリ354との間の電気的配線を通すのに用いられる。超小型電子部品パッケージ390は、超小型電子素子362と超小型電子サブアセンブリ354との間に配置されている柔軟層374を含む。柔軟層374は、超小型電子サブアセンブリ354の外縁部に、導電性ポスト340を越えて及んでいる外周部376を含む。超小型電子素子362は、リード又はトレース等の導電性素子398を用いて、超小型電子サブアセンブリ354と電気的に相互接続されている。また、超小型電子部品パッケージ390は、超小型電子素子362及び柔軟層374を封止するエポキシオーバーモールド等の保護層384も含む。上述したように、保護層384は、超小型電子素子362を保護し、超小型電子サブアセンブリ354の外周部386における支持を安定化することを実現できる。
図5は、本発明のまた別の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージ490を示す。超小型電子部品パッケージ490は、概して、図4に示すものと同様である。超小型電子部品パッケージ490は、超小型電子素子462と超小型電子サブアセンブリ454との間に設けられた柔軟層474を含む。柔軟層474は、導電性ポスト440が、互いに無関係に、及び超小型電子素子462に対して、動けるようにする。柔軟層474は、超小型電子部品パッケージ490の縁部497まで及んでいる。
図6は、フレキシブル誘電体層542と複数の導電性ポスト540とで形成された超小型電子サブアセンブリ554を含む超小型電子部品パッケージ590を示す。パッケージ590は、半導体チップ等の超小型電子素子562と、超小型電子素子562と超小型電子サブアセンブリ554との間に設けられた柔軟層574とを含む。パッケージ590は、超小型電子素子562と超小型電子サブアセンブリ554とを電気的に相互接続するワイヤボンド578を含む。ワイヤボンド578は、柔軟層574が、超小型電子素子562と超小型電子サブアセンブリ554との間に設けられる前又は後のいずれに形成してもよい。パッケージ590は、超小型電子素子562、ワイヤボンド578及び柔軟層574を封止する保護層584を含む。保護層584は、該柔軟層の外縁部576と、超小型電子サブアセンブリ554の外縁部との間のギャップ588を充填する。上述したように、導電性ポスト540を、検査基板等の第2の超小型電子素子に有効に押し付けることができるように、該パッケージのための支持を全体的に安定化することを可能にする。また、保護層584は、超小型電子サブアセンブリ554の外周部に対する支持も実現できる。
図7は、図6に示すものと概して同様の超小型電子部品パッケージ690を示す。図7の実施形態において、柔軟層674は、パッケージ690の縁部697まで及んでいる。
図8A及び図8Bは、従来のRF超小型電子部品パッケージ41を示す。従来のパッケージ41は、ヒートスプレッダ45と熱的に連通している半導体チップ43を含む。パッケージ41は、チップ43と電気的に相互接続されているリード47を含む。パッケージ41は、超小型電子チップ43を封止するエポキシモールド化合物49を含む。ヒートスプレッダ45は、該パッケージから熱を取り除くようにデザインされている。パッケージ41が、プリント配線基板に組付けられると、ヒートスプレッダ45は、概して、該プリント配線基板上の熱伝導性パッドと熱的に連通して配置される。パッケージ41は、該ヒートスプレッダが、半導体チップ43に対して動くことができないように、かなり硬い。このことは、ヒートスプレッダ45の、パッケージ41から熱を効率的に伝達する能力を最小化する可能性がある。従って、超小型電子部品パッケージから熱を取り除くためのデザインに対する要求がある。
図9A及び図9Bは、本発明のまた別の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージを示す。超小型電子部品パッケージ790は、フレキシブル誘電体層742と、誘電体層742を貫通して伸びる複数の導電性ポスト740とで形成された超小型電子サブアセンブリ754を含む。超小型電子サブアセンブリ754は、誘電体層742を貫通して伸びるヒートスプレッダ755も含む。導電性ポスト740及びヒートスプレッダ755は、図1A〜図1Kに示しかつ該図で説明した方法を用いて形成することができる。パッケージ790は、超小型電子サブアセンブリ754の上に実装されている半導体チップ等の超小型電子素子762を含む。パッケージ790は、超小型電子素子762をヒートスプレッダ755に取付けるのに用いられる熱伝導性材料757を含む。熱伝導性材料757は、好ましくは、超小型電子素子762とヒートスプレッダ755との間で熱を伝導する。しかし、熱伝導性材料757は、好ましくは、ヒートスプレッダ755が超小型電子素子762と電気的に絶縁されるように、導電性ではない。超小型電子素子762は、ワイヤボンド等の導電性素子778を用いて、導電性ポスト740と電気的に相互接続される。パッケージ790は、超小型電子素子762及び導電性素子778を封止する保護層784を含む。保護層784は、エポキシ、ポリマー又はガラス等の誘電体材料で形成することができる。保護層784は、エラストマー等の柔軟な材料で形成してもよい。保護層784が柔軟である実施形態においては、導電性ポスト740は、互いに無関係に、かつ超小型電子素子762に対して、動くことができる。動作中、パッケージ790は、検査基板又はプリント配線基板等の第2の超小型電子素子の上に載置される。導電性ポスト740は、好ましくは、第2の超小型電子素子上の対向する導電性パッドと接触して配置される。ヒートスプレッダ755は、好ましくは、対向する熱伝導性パッドと位置合わせされて配置される。ヒートスプレッダ755は、好ましくは、パッケージ790から熱を奪うための熱伝導性パッドと接触して配置される。
図10A及び図10Bは、本発明の別の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージ890を示す。超小型電子部品パッケージ890は、フレキシブル誘電体層842と複数の導電性ポスト840とで形成された超小型電子サブアセンブリ854を含む。超小型電子サブアセンブリ854は、誘電体層842を貫通して伸びるヒートスプレッダ855も含む。また、超小型電子サブアセンブリ854は、該サブアセンブリの第1の面844の上に形成された接触パッド859も含む。超小型電子部品パッケージ890は、はんだボール等の導体塊861によって接触パッド859と相互接続された超小型電子素子862も含む。超小型電子部品パッケージ890は、超小型電子素子862と超小型電子サブアセンブリ854との間に拡がる熱伝導性材料854を含む。熱伝導性材料857は、パッケージ890から熱を取り除くように、超小型電子素子862とヒートスプレッダ855との間で熱を伝達する。また、超小型電子部品パッケージ890は、超小型電子素子862を封止し、かつフレキシブル誘電体層842の第1の面844を被覆する保護層884も含む。特定の好ましい実施形態において、保護層884は、エポキシ又はガラス等の硬い材料で形成される。他の好ましい実施形態において、保護層884は、エラストマー等の柔軟な材料で形成される。さらに他の好ましい実施形態においては、層842は、かなり硬くしてもよい。動作中、パッケージ890は、該パッケージから熱を除去するために、ヒートスプレッダ855が熱伝導性パッドと接触するように、第2の超小型電子素子に組み付けられる。
図11A及び図11Bは、概して、図10A及び図10Bに示すパッケージと同様の超小型電子部品パッケージ990を示す。図11A及び図11Bに示す実施形態において、パッケージ990は、熱伝導性材料957を用いて、超小型電子素子962と熱的に連通している2つのヒートスプレッダ955a及び955bを含む。パッケージ990は、誘電体層942及び導電性ポスト940を有する超小型電子サブアセンブリ954を含む。導電性ポスト940の一部は、はんだボール等の導電性素子961によって超小型電子素子962と電気的に相互接続されている。
図12A及び図12Bは、本発明のさらに別の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージ1090を示す。超小型電子部品パッケージ1090は、2つの金属テープで形成された超小型電子サブアセンブリ1054を含む。超小型電子サブアセンブリ1054は、第1の面1044及び第2の面1046を有する誘電体基板1042を有する。誘電体基板1042は、第1の面1044及び第2の面1046の両方を覆って設けられた導電性金属を含む。該金属は、上述したように、誘電体層1042の第1の面1044及び第2の面1046の両方に導電性形状構成を形成するために処理される。また、超小型電子サブアセンブリ1054は、パッケージ1090から熱を取り除くのに適合している熱伝導性ヒートスプレッダ1055も含む。また、パッケージ1090は、超小型電子素子1062及びヒートスプレッダ1055と熱的に連通している熱伝導性材料1057も含む。熱伝導性材料1057は、超小型電子素子1062とヒートスプレッダ1055との間で熱を伝達する。超小型電子素子1062は、超小型電子サブアセンブリ1054に対して、フェースダウン方式で配置され、また、はんだボール等の導電性素子1061を用いて、該超小型電子サブアセンブリと電気的に相互接続されている。動作中、導電性ポスト1040は、パッケージ1090と第2の超小型電子素子とを電気的に相互接続するために、該第2の超小型電子素子上の接触パッドに係合される。また、ヒートスプレッダ1055は、好ましくは、パッケージ1090からの熱を、該第2の超小型電子素子上の該熱伝導性パッドへ伝達するために、該第2の超小型電子素子上の該熱伝導性パッドと熱的に連通して配置される。また、超小型電子部品パッケージ1090は、超小型電子素子1062を封止し、かつ誘電体層1042の第1の面1044を被覆する保護層1084も含む。保護層1084は、エポキシ又はガラス等の硬い材料で形成することができる。また、保護層1084は、エラストマー等の柔軟な材料で形成してもよい。誘電体層1042は、導電性ポスト1040が、互いに無関係に、かつ超小型電子素子1062に対して、動くことができるように、フレキシブルな材料で形成することができる。
図13A及び図13Bは、本発明の別の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージ1190を示す。超小型電子部品パッケージ1190は、第1の面1144と、該第1の面から離れた第2の面1146とを有する誘電体基板1142を含む。パッケージ1190は、誘電体層1142の第2の面1146から突出する複数の導電性ポスト1140を含む。パッケージ1190は、導電性ポスト1140と電気的に相互接続されている、半導体チップ等の超小型電子素子1162を含む。該パッケージは、超小型電子素子1162を誘電体層1142へ付着させるための硬い接着剤1157を含む。また、パッケージ1190は、超小型電子素子1162を封止し、かつ誘電体層1142の第1の面1144を被覆する硬いオーバーモールド1184も含む。導電性ポスト1140は、動かないように、堅固に固定されている。その結果として、該導電性ポストは、互いに対して、及び超小型電子素子1162に対して、動くことができない。
図14A及び図14Bは、積層された複数の超小型電子部品パッケージ1290a〜1290dを含む超小型電子アセンブリ1291を示す。各超小型電子部品パッケージ1290は、誘電体層1242から突出する導電性ポスト1240を有する該誘電体層1242を含む。また、各超小型電子部品パッケージ1290は、誘電体層1242に付着され、かつ1つ以上の導電性ポスト1240と電気的に相互接続されている1つ以上の超小型電子素子1262も含む。誘電体層1242は、特定の好ましい実施形態においては、フレキシブルであってもよい。他の好ましい実施形態において、誘電体層1242は、かなり硬くてもよい。個々の超小型電子部品パッケージ1290は、互いに積層されている。一つの特定の実施形態において、該導電性ポスト1240は、1つのパッケージの導電性ポスト1240が、概して、他のパッケージの該導電性ポストと位置合わせされるように、及び超小型電子素子1262が、概して互いに位置合わせされるように、互いに積層される。第4の超小型電子部品パッケージ1290dの導電性ポスト1240は、はんだ等の導電性材料1261を用いて、第3の超小型電子部品パッケージ1290cと電気的に相互接続される。導電性材料1261は、上方のパッケージの該導電性ポストを、下方のパッケージの基板1242に堅固に固定する。その結果として、導電性ポスト1240は、動かないように堅固に固定される。特定の好ましい実施形態において、第2、第3及び第4の超小型電子部品パッケージ1290b〜1290dの導電性ポストは、堅固に固定してもよいが、第1の超小型電子部品パッケージ1290aの導電性ポストは、互いに対して自由に動けるようになっている。
図15A及び図15Bについて説明すると、本発明の特定の好ましい実施形態に従って、超小型電子アセンブリは、上面1344及び底面1346を有する誘電体基板1342を含む。該超小型電子アセンブリは、該誘電体基板の第1の面1344から突出する導電性ポスト1340を含む。図15Bについて説明すると、該超小型電子アセンブリは、誘電体基板1342の第2の面1346でアクセス可能な接触パッド1348も含む。接触パッド1348の少なくとも一部は、各接触パッド1348の1つから、誘電体基板1342の第1の面1344と第2の面1346との間に伸びる細長い開口1350まで伸びる導電性トレース1398と電気的に相互接続されている。トレース1398の少なくとも一部は、誘電体基板1342の細長い開口1350に重なる部分1352を有する。
図16について説明すると、上記超小型電子サブアセンブリは、コンタクト1366を含む第1の面1364と、第1の面1364から離れて対向する第2の面1368とを有する、半導体チップ等の超小型電子素子1362も含む。超小型電子素子1362は、コンタクト1366上に形成された、はんだ又は金バンプ等の導電性バンプ1370も含む。該バンプは、鋳造してもよい。
図17について説明すると、超小型電子素子1362は、まず、超小型電子素子1362の第1の面1364と、誘電体基板1342の第1の面1344との間に、接着層1374を配置することにより、誘電体基板1342に組付けられる。図17に示す特定の好ましい実施形態において、接着層1374は、円形開口1376と、細長い開口1378とを含む。円形開口1376は、好ましくは、誘電体基板1342上の導電性ポスト1340の位置を反映するように配置される。組立て中、接着層1374は、好ましくは、誘電体基板1342の上面1344に当接され、また、超小型電子素子1362の第1の面1364は、接着層1374に当接される。
図18Aは、超小型電子素子1362、接着層1374及び誘電体基板1342が組付けられた後の上記超小型電子アセンブリを示す。特定の好ましい実施形態において、導電性ポスト1340の上端部1341は、超小型電子素子1362の第2の面1368の上に伸びていてもよい。超小型電子素子1362よりもかなり高い誘電体基板1342の第1の面1344の上にある結果として、該導電性ポストは、図18Aに示すのと実質的に同様の別の超小型電子アセンブリに容易に接続することができる。しかし、他の好ましい実施形態においては、導電性ポスト1340の上端部1341は、超小型電子素子1362の第2の面1368の上に伸びていない。これらの好ましい実施形態においては、導体塊を、導電性ポスト1340の上端部1341の上に配置して、該導電性ポストの高さを増して、確実な電気的相互接続を形成することができる。
図18Bについて説明すると、上記超小型電子素子(図示せず)が誘電体基板1342に組付けられた後、導電性トレース1398の端子端部1352は、該超小型電子素子のコンタクト(図示せず)と電気的に相互接続される。導電性トレース1398と、該超小型電子素子の該コンタクトとの間の電気的相互接続は、はんだ付け、超音波接合及び熱圧着を含む、当業者には公知の何らかの電気的相互接続方法によって形成することができる。
図19Aについて説明すると、特定の好ましい実施形態において、2つ以上の超小型電子アセンブリ1340A〜1340Cが積層されている。図19Aに示す具体的な好ましい実施形態において、第1の超小型電子アセンブリ1340Aは、第2の超小型電子アセンブリ1340Bの上に積層されており、該第2の超小型電子アセンブリも第3の超小型電子アセンブリ1340Cの上に積層されている。好ましくは、第3の超小型電子アセンブリ1340Cの導電性ポスト(図示せず)は、第2の超小型電子アセンブリ1340Bの接触パッド(図示せず)に接触している。また、第2の超小型電子アセンブリ1340Bの導電性ポスト(図示せず)は、第1の超小型電子アセンブリ1340Aの導電性パッド(図示せず)に接触している。その結果、誘電体基板1340A〜1340Cに組付けられた超小型電子素子1362は、互いに電気的に相互接続される。3つの超小型電子アセンブリ1340A〜1340Cは、好ましくは、デザイン及び外観が互いに実質的に同様である。しかし、他の好ましい実施形態においては、該3つの積層された超小型電子アセンブリは、実質的に異ならせてもよい。
上記超小型電子アセンブリの各々をプログラムするために、上記トレースは、通常、「チップ選択」と呼ばれているプロセスを受けてもよく、それにより、該トレースは、切断され、又は、一緒に接続される。該チップ選択プロセスを実行する好適な方法は、導電性材料のレーザ切断、エッチング、穿孔及び蒸着を含んでもよい。その結果として、上記パッケージを通る該導電性トレースの電気的相互接続の好適な経路は、該パッケージの要件に合うようにプログラムすることができる。
図19Bは、オーバーモールドプロセス後の図19Aのアセンブリを示す。特定の好ましい実施形態において、該オーバーモールドは、エポキシ又はガラスとすることができる。該オーバーモールドは、好ましくは、上記超小型電子アセンブリを保護し、処理中の安定性を実現できる。また、該オーバーモールドは、処理中及び動作中の上記パッケージの信頼性を高めることもできる。特定の好ましい実施形態において、該オーバーモールドは、硬い材料であるが、他の好ましい実施形態においては、該オーバーモールドは、多少又は完全に柔軟でもよい。他の好ましい実施形態において、1つのみの誘電体基板層を有するパッケージは、個別にオーバーモールドしてもよい。
図20は、本発明の別の好ましい実施形態による超小型電子アセンブリ1490を示す。該超小型電子アセンブリは、上面又は第1の面1444と、該上面から離れた底面又は第2の面1446とを有する誘電体基板1442を含む。超小型電子アセンブリ1490は、誘電体基板1442の第2の面1446の上部に形成された導電性トレース1498を含む。他の好ましい実施形態において、導電性トレース1498は、第1の面1444のみの上に、又は、第1の面1444及び第2の面1446の両方の上に形成してもよい。また、超小型電子アセンブリ1490は、導電性トレース1498と電気的に相互接続され、かつ誘電体基板1442の第2の面1446から突出する導電性ピン又はポスト1440も含む。導電性ポスト1440は、好ましくは、金1441等の高伝導性材料で被覆される。特定の好ましい実施形態において、該導電性ポストは、約50〜200ミクロンの直径と、約50〜200ミクロンの長さとを有する。より好ましい実施形態においては、該導電性ポストの先端部は、約100ミクロンの直径を有する。該ピンの中心間のピッチは、好ましくは、約100〜300ミクロンである。より好ましい実施形態において、該ピンの中心間のピッチは、約225〜275ミクロンであり、より好ましくは、約250ミクロンである。
また、上記超小型電子アセンブリ1490は、好ましくは、第1のコンタクト支持面1464と、該支持面から離れている第2の面1466とを有する、半導体チップ等の超小型電子素子1462も含む。超小型電子素子1462は、好ましくは、約50〜200ミクロンの高さを有し、より好ましくは、200ミクロン未満の高さを有する。超小型電子素子1462は、接着材料又は封止材料で形成することができるアンダーフィル層1474を用いて、誘電体基板1442に組付けられる。超小型電子素子1462は、ワイヤボンディング、フリップチップ法、又は、ダイを回路付き基板に取付ける他の周知の方法を用いて、誘電体基板1442に接続することができる。超小型電子素子1462が誘電体基板1442に組付けられた後、導電性ポスト1440の下端部1460は、好ましくは、超小型電子素子1462の第2の面1446を越えて突出する。
超小型電子アセンブリ1490は、好ましくは、誘電体基板1442の第1の面1444から、導電性ポスト1440の先端部1460まで伸びる高さを有する。特定の好ましい実施形態において、該超小型電子アセンブリの高さは、約75〜300ミクロンであり、より好ましくは、約100〜200ミクロンである。
図21について説明すると、超小型電子スタックは、2つ以上の、図20に示す超小型電子アセンブリ1490を用いて組立てることができる。図21において、第1の超小型電子アセンブリ1490Aの導電性ポスト1440は、はんだ等の導電性材料1461を用いて、プリント配線基板1497上のコンタクト1495と電気的に相互接続されている。該導電性材料は、好ましくは、誘電体基板1442上に設けられた導電性パッド1448の上部に配置される。第2の超小型電子アセンブリ1490Bは、好ましくは、第2の超小型電子アセンブリ1490Bの導電性ポスト1440が、第1の超小型電子アセンブリ1490Aの導電性パッド1448に電気的に接触するように、第1の超小型電子アセンブリ1490Aを覆って組付けられる。ここでもまた、第2の超小型電子アセンブリ1490Bの導電性ポスト1440は、はんだ等の導電性材料1461を用いて、第1の超小型電子アセンブリ1490Aの導電性パッド1448に固着される。このプロセスは、第2の超小型電子アセンブリ1490Bの上部に組付けられる第3の超小型電子アセンブリ1490C、及び第3の超小型電子アセンブリ1490Cの上部に組付けられる第4の超小型電子アセンブリ1490Dに対して繰り返される。積層されたアセンブリは、第1の超小型電子アセンブリ1490Aの導電性ポスト1440が、プリント配線基板1497のコンタクトと電気的に相互接続される前に、一緒に組立てられる。他の好ましい実施形態において、該超小型電子スタックは、プリント配線基板1497の上部に組付けることができる。
さらに他の好ましい実施形態においては、オーバーモールドを、上記超小型電子アセンブリのプリント配線基板1497への組付けの前又は後に、上記スタックの1つ以上の層を覆って形成することができる。一つの好ましい実施形態において、該超小型電子アセンブリは、スタック状に一緒に組立てられる前に、個別にオーバーモールドされる。他の好ましい実施形態においては、該超小型電子アセンブリは、スタック状に配置され、オーバーモールドされた後、プリント配線基板等の別の回路要素に接続される。さらに他の好ましい実施形態において、該超小型電子素子は、該プリント配線基板の上にスタック状に組付けられた後、該スタック全体がオーバーモールドされる。
図22及び図23について説明すると、本発明の別の好ましい実施形態において、超小型電子アセンブリ1590は、第1の面1544と、該第1の面から離れた第2の面1546とを有する誘電体基板1542を含む。該超小型電子アセンブリは、誘電体基板1542の第2の面1546上に形成された導電性トレース1574を含む。超小型電子アセンブリ1590は、各導電性トレース1574と電気的に相互接続された導電性パッド1548も含む。また、超小型電子アセンブリ1590は、誘電体基板1542の第1の面1544の上で突出する導電性ピン又はポスト1540も含む。図22に示す具体的な好ましい実施形態において、該導電性ポストは、誘電体基板1542を貫通して伸びている。超小型電子アセンブリ1590は、超小型電子素子1562と、誘電体基板1542の第2の面1546との間に配置された封止剤又は接着層1574を用いて、誘電体基板1542に組付けられた超小型電子素子1562を含む。該封止剤又は接着層は、該超小型電子素子上に設けられた導電性コンタクト又はバンプを覆ってもよい。
図23について説明すると、2つ以上の超小型電子アセンブリ1590A〜1590Dが、互いに積層されて、超小型電子スタックが形成されている。そして、該アセンブリスタックは、プリント配線基板1597に電気的に相互接続されている。特定の好ましい実施形態において、該スタックアセンブリ全体は、エポキシ又はガラス等の材料を用いて、オーバーモールドすることができる。該オーバーモールド材料は、硬く又は柔軟でもよく、あるいは、硬い材料と柔軟な材料の間の硬さを有してもよい。
図24は、図20に示すアセンブリと実質的に同様である超小型電子アセンブリ1690を示す。図24に示す具体的なアセンブリにおいて、図20に示す導電性ポストは、はんだボール等の導電性素子1640と置き換えられている。図25について説明すると、2つ以上の超小型電子アセンブリ1690が、互いに積層されて、積層アセンブリが形成されている。アセンブリ1690Dとして示されている、該スタックの一番下のアセンブリは、プリント配線基板1697上のコンタクト1695に直接接続されている。残りの超小型電子アセンブリ1690A〜1690Cは、一番下の超小型電子アセンブリ1690の上に積層されている。超小型電子素子1662は、好ましくは、互いに電気的に相互接続されている。
図26について説明すると、本発明の別の好ましい実施形態による超小型電子アセンブリ1790は、概して、図22に示すアセンブリと同様である。図26に示すアセンブリ1790は、図22の実施形態に示す導電性ポストではなく、はんだボール等の導電性素子1740を用いる。図27について説明すると、積層されたアセンブリは、2つ以上の超小型電子アセンブリ1790を互いに積層することによって、形成することができる。図27においては、4つの超小型電子アセンブリ1790A〜1790Dが互いに積層されている。一番上の超小型電子アセンブリ1790Aは、導電性素子1740を介して、プリント配線基板1797のコンタクト1795と電気的に相互接続されている。
図28A及び図28Bは、超小型電子アセンブリの誘電体基板上に伸びる導電性トレースを破断することによってプログラムすることができる該超小型電子アセンブリを示す。図28Aについて説明すると、超小型電子アセンブリ1890は、第1の面1844と、該第1の面から離れている第2の面1846とを有する誘電体基板1842を含む。超小型電子アセンブリ1890は、誘電体基板1842の第2の面1846の上に伸びる導電性トレース1898を含む。該導電性トレースは、超小型電子素子1862上のコンタクトと電気的に相互接続されている第1の端部と、導電性パッド1848で終端している第2の端部とを有する。また、超小型電子アセンブリ1890は、導電性パッド1848と電気的に相互接続され、誘電体基板1842の第2の面1846から突出する導電性ポスト1840も含む。それぞれの導電性ポスト1840の一番下の先端部1860は、好ましくは、超小型電子素子1862の第2の面1866の下まで伸びている。しかし、他の好ましい実施形態においては、先端部1860は、超小型電子素子1862の第2の面1866の下まで伸びていなくてもよい。これらの具体的な実施形態において、電気的相互接続は、はんだ等の導体塊を先端部1860に用いることにより、形成することができる。該導体塊は、好ましくは、確実な電気的相互接続を形成できるように、導電性ポスト1840の全体の高さを増加させる。図28Bについて説明すると、超小型電子アセンブリ1890は、該アセンブリ上に形成された複数の導電性パッド1848を含む。図28Aに示すように、導電性パッド1848は、導電性ポスト1840と電気的に相互接続され、かつ該導電性ポストと実質的に位置合わせされている。他の好ましい実施形態において、導電性パッド1848は、導電性ポスト1860と位置合わせされていなくてもよい。また別の好ましい実施形態において、導電性パッド1848は、導電性ポスト1860とわずかに位置合わせされていてもよい。
図28Bについて説明すると、超小型電子アセンブリ1890は、超小型電子素子1862と電気的に相互接続されている主トレース1898を含む。該主トレースは、4つの枝トレース1899A〜1899Dと電気的に相互接続されている。たった1つの主トレースが図28Bに示されているが、超小型電子アセンブリは、各枝トレースに接続された複数の主トレースを有してもよい。第1の枝トレース1899Aは、第1の導電性パッド1848Aと電気的に相互接続されており、第2の枝トレース1899Bは、導電性パッド1848Bと電気的に相互接続されている。第3の枝トレース1899Cは、第3の導電性パッド1848Cと電気的に相互接続されており、第4の枝トレース1899Dは、第4の導電性パッド1848Dと電気的に相互接続されている。枝トレース1899の各々は、1つ以上の導電性パッド1848を主トレース1898と電気的に絶縁するために切断することができる切断可能部分1893を含む。
図28Cについて説明すると、超小型電子アセンブリ1890をプログラムするため、1つ以上の枝トレース1899は、1つ以上の導電性パッド1848と主トレース1898とを電気的に絶縁するために切断されている。図28Cにおいて、第1の枝トレース1899A、第3の枝トレース1899C及び第4の枝トレース1899Dは、切断可能部分1893で切断されている。その結果、第1の導電性パッド1848A、第3の導電性パッド1848C及び第4の導電性パッド1848Dは、主トレース1898及び超小型電子素子1862と電気的に絶縁される。第2の導電性パッド1848Bのみが、第2の枝トレース1899B及び主トレース1898を介して超小型電子素子1862と電気的に相互接続されたままである。当業者には周知であるように、該枝トレースは、無数のプログラムされた超小型電子アセンブリを形成するために、切断しても、又は、超小型電子素子1862と電気的に相互接続されたままであってもよい。該トレースの数は、図28Bに示すように4つより多くてもよい。
図28Cに示す複数の超小型電子アセンブリは、互いに積層して、積層アセンブリを形成してもよい。該アセンブリ全体は、例えば、上述したように、エポキシ又はガラスを用いてオーバーモールドすることができる。
図29A〜図29Cは、プログラマブル超小型電子アセンブリを示す。該アセンブリは、枝トレースと主トレースとの電気的な相互接続を形成することにより、プログラムされる。これは、図28A〜図28Cに示したこととは反対である。該超小型電子アセンブリは、該枝トレースを切断又はカッティングすることにより、プログラムされた。
図29Aについて説明すると、超小型電子アセンブリ1990は、第1の面1944と、該第1の面から離れた第2の面1946とを有する誘電体基板1942を含む。該超小型電子アセンブリは、誘電体基板1942の第2の面1946の上に形成された導電性トレース1998を含む。該導電性トレースは、超小型電子素子1962と電気的に相互接続された第1の端部(図示せず)と、導電性パッド1948と電気的に相互接続することができる外側端部とを有する。また、超小型電子アセンブリ1990は、誘電体基板1942の第2の面1946から突出する導電性ポスト1940も含む。導電性ポスト1940は、超小型電子素子1962の第2の面1966の下に伸びる先端部1960を含む。しかし、他の好ましい実施形態においては、導電性ポスト1940の先端部1960は、超小型電子素子1962の第2の面1966の下に伸びていなくてよい。
図29Bについて説明すると、超小型電子アセンブリ1990は、1つ以上の枝トレース1999を主トレース1998と電気的に相互接続することにより、プログラムすることができる。図29Bに示す具体的な好ましい実施形態において、超小型電子アセンブリ1990は、第1の枝トレース1999Aと電気的に相互接続されている第1の導電性パッド1948Aと、第2の枝トレース1999Bと電気的に相互接続されている第2の導電性パッド1948Bと、第3の枝トレース1999Cと電気的に相互接続されている第3の導電性パッド1948Cと、第4の枝トレース1999Dと電気的に相互接続されている第4の導電性パッド1948Dとを有する。しかし、枝トレース1999A〜1999Dは、主トレース1998とは電気的に絶縁されている。図29Bの拡大した部分に示すように、第1の枝トレース1999Aは、絶縁部1993で主トレース1998と電気的に絶縁されている。
図29Cについて説明すると、上記導電性パッドは、1つ以上の枝トレースを上記主トレースと電気的に相互接続することにより、超小型電子素子1962と電気的に相互接続することができる。図29Cに示す具体的な実施形態において、第1の導電性パッド1948Aは、第1の枝トレース1999Aと主トレース1998とを電気的に相互接続することにより、主トレース1998と電気的に相互接続されている。このことは、枝トレース1999Aと主トレース1998とを、例えば、リードボンディング、ワイヤボンディング、導電性材料の蒸着、又は、電気的相互接続を形成する他の周知の方法によって接合することにより、実現することができる。
本発明の別の好ましい実施形態において、第1の超小型電子アセンブリ2010は、前面2014と、該前面から離れている裏面2016とを有する半導体チップ2012を含む。また、半導体チップ2012は、その前面2014で露出されたコンタクト2018を含む。細長い導電性ポスト2020は、コンタクト2018と電気的に相互接続されており、また、半導体チップ2012の前面2014から突出している。
図30及び図32について説明すると、第2の超小型電子アセンブリ2030は、該アセンブリ上に設けられた複数のソケット2032を含む。該ソケットは、好ましくは、中央開口2034と、中央開口2034に向かって内側に伸びるフレキシブル突出部2036とを有する。フレキシブル突出部2036は、それに作用する力に応じて、湾曲することが可能である。該第2の超小型電子アセンブリは、第3の超小型電子アセンブリの導電性ソケットに挿入可能な導電性ポストを有してもよい。
図30及び図31について説明すると、第2の超小型電子アセンブリ2010及び2030は、互いに電気的に相互接続されて、積層アセンブリを形成する。図30及び図31に示すように、第1のアセンブリ2010の細長い導電性ポスト2020は、第2の超小型電子アセンブリ2030のソケット2032に挿入される。導電性ポスト2020がソケット2032に挿入されるにつれて、フレキシブル突出部2036は、図31に示すように、互いに離れてたわむ。
図30〜図32に示す実施形態は、積層され、かつ電気的に相互接続されている、2つだけの超小型電子アセンブリを示すが、複数の超小型電子素子を組立てて、同様の方法で垂直方向の配列で電気的に相互接続してもよい。そのため、本発明は、3つ、4つ以上の超小型電子アセンブリを互いに垂直方向に積層して、細長い導電性ポストを、下にある又は上にある超小型電子アセンブリのフレキシブルソケットに挿入することによって、電気的に相互接続できることを意図している。さらに別の好ましい実施形態においては、超小型電子アセンブリは、上又は下の他の超小型電子アセンブリの該ソケットと電気的に相互接続するために、該アセンブリの上又は下に伸びる導電性ポストを有してもよい。
本発明は、どのような特定の動作理論によっても限定されないが、複数の超小型電子アセンブリをスナップ式ではめ込み又は差し込むことができると考えられる。その結果、積層された超小型電子アセンブリを、高温のリフロープロセスを要することなく、確実に検査することができる。特定の好ましい実施形態において、導電性ソリューションは、導電率及び該アセンブリの信頼性を改善するために、挿入前に、該導電性ポスト又はピン、あるいは該ソケットに対して行うことができる。
従って、積層超小型電子アセンブリを容易に検査することができる。1つ以上のコンポーネントが有効に作動しない場合、その特定のコンポーネントを取り除き、個別の超小型電子コンポーネントを一緒にスナップ式ではめ込み又は差し込むことにより、該アセンブリを構成しなおしてもよい。このようなアプローチは、少なくとも一度のリフローサイクルをなくし、それにより、信頼性を増し、かつ不良コンポーネントを少なくする。また、本発明は、スタックパッケージを迅速に分解して、1つ以上の正常に機能するコンポーネントを用いて組立て直すことを可能にする。また、本発明の積層アセンブリは、はんだを用いることなく、確実に相互接続することができる。図30〜図31に示す具体的な実施形態は、本出願に示したいずれかのパッケージを一緒に組立てるのに用いることができる。また、本出願は、同一出願人による米国特許第6,177,636号に示されているアセンブリのうちのいずれかを組み込んでもよく、該明細書の開示は参照により本明細書に組み込まれる。
本発明の具体的な好ましい実施形態においては、超小型電子素子間の電気的相互接続の形成を強化するために、及び該超小型電子部品パッケージの検査を容易にするために、その開示が参照により本明細書に組み込まれる、米国特許第4,804,132号及び同第5,083,697号に開示されているもの等の粒子コーティングを、該超小型電子部品パッケージの1つ以上の導電性部分に形成してもよい。該粒子コーティングは、好ましくは、導電性端子又は導電性ポストの先端部等の導電性部分を覆って形成される。一つの特定の好ましい実施形態において、該粒子コーティングは、標準的なフォトレジスト技術を用いて、超小型電子素子の導電性部分に選択的に電気めっきされているメタライズドダイヤモンド結晶コーティングである。動作中、該ダイヤモンド結晶コーティングを備えた導電性部分は、対向する接触パッドの外面にある酸化層を貫通させるために、該接触パッド上に押し付けることができる。該ダイヤモンド結晶コーティングは、従来のワイピング動作に加えて、酸化層の貫通を介した、確実な電気的相互接続の形成を容易にする。
上述したように、上記ポストの動きは、傾斜動を含んでもよい。この傾斜動は、各ポストの先端部を、該先端部が上記接触パッドに係合するにつれて、該接触パッドの全域でワイピングさせる。このことは、確実な電気的接触を促進する。その開示が参照により本明細書に組み込まれる、2004年11月10日に提出された「MICRO PIN GRID ARRAY WITH WIPING ACTION」というタイトルの、同時係属中の同一出願人による米国特許出願第10/985,126号(代理人番号3.0−375)により詳細に論じられているように、該ポストは、そのようなワイピング動作を促進し、別の方法で、該ポストとコンタクトの係合を容易にする形状構成を備えてもよい。その開示が参照により本明細書に組み込まれる、2004年11月10日に提出された「MICRO PIN GRID WITH PIN MOTION ISOLATION」というタイトルの、同時係属中の同一出願人による米国特許出願第10/985,119号(代理人番号1.0−376)により詳細に開示されているように、該フレキシブル基板は、互いに無関係に動き、傾斜及びワイピング動作を向上させる該ポストの能力を高めるための形状構成を備えてもよい。
その開示が参照により本明細書に組み込まれる、本明細書と同日又はほぼ同日に提出された「MICROELECTRONIC PACKAGES AND METHODS THEREFOR」というタイトルの同時係属中の同一出願人による米国特許仮出願第60/533,210号(代理人番号1.0−374)により詳細に論じられているように、該支持構造部は、複数の離間した支持体を含んでもよく、また、該支持体のうえに載るフレキシブルシートを含んでもよい。該導電性ポストは、該支持体から水平方向にずらしてもよい。該ポストと該支持体との間のオフセットは、該ポスト、及び特に、該ポストの基部が、超小型電子素子に対して、互いに無関係に動くことを可能にする。
その開示が参照により本明細書に組み込まれる、「BALL GRID ARRAY WITH BUMPS」というタイトルの、同一出願人による米国特許出願第10/786,819号の特定の好ましい実施形態により詳細に開示されているように、半導体チップアセンブリは、誘電体層と、該誘電体層上のトレースと一体形成された突起バンプの形態の導電性端子とを有するチップキャリアを含む。該バンプは、望ましくは、中空であり、かつ変形可能である凸状面を有する。該バンプの凸状底端部は、少量のはんだ又は他の接合材料により、回路パネルの表面の接触パッドに接合することができる。該構造は、該接触パッドと該バンプとの間の十分な接合を実現でき、また、比較的大きなはんだボールの必要性をなくす。該アセンブリは、従来の表面実装技術と良好に統合された技術を用いて形成することができる。
その開示が参照により本明細書に組み込まれる、「FORMATION OF CIRCUITY WITH MODIFICATION OF FEATURE HEIGHT」というタイトルの、同時係属中の同一出願人による米国特許仮出願第60/508,970号の特定の好ましい実施形態により詳細に開示されているように、チップ又は他の超小型電子素子を搭載するための接続コンポーネントは、少なくとも一部のポストの高さを詰めるか又は他の方法で低減することにより、誘電素子から突出する該ポストを含む基点ユニットから形成されている。
本発明を特定の実施形態に関して説明してきたが、それらの実施形態が、本発明の原理及び適用に関する単に例示的なものであることを理解すべきである。従って、該例示的な実施形態に対して、多くの変更が可能であること、及び添付請求項によって定義される本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく、他の構成を考案することができることを理解すべきである。
産業上の利用可能性の説明
本発明は、半導体産業における利用可能性を有する。
(A)本発明の特定の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージを形成する方法を示す図である。(B)本発明の特定の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージを形成する方法を示す図である。(C)本発明の特定の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージを形成する方法を示す図である。(D)本発明の特定の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージを形成する方法を示す図である。(E)本発明の特定の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージを形成する方法を示す図である。(F)本発明の特定の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージを形成する方法を示す図である。(G)本発明の特定の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージを形成する方法を示す図である。(H)本発明の特定の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージを形成する方法を示す図である。(I)本発明の特定の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージを形成する方法を示す図である。(J)本発明の特定の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージを形成する方法を示す図である。(K)本発明の特定の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージを形成する方法を示す図である。(L)本発明の特定の好ましい実施形態による、図1Kに示す超小型電子部品パッケージを検査する方法を示す図である。(M)本発明の特定の好ましい実施形態による、図1Kに示す超小型電子部品パッケージを検査する方法を示す図である。 本発明の別の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージを示す図である。 本発明の他の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージを示す図である。 本発明の別の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージを示す図である。 本発明のまた別の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージを示す図である。 本発明のさらに別の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージを示す図である。 本発明の別の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージを示す図である。 (A)ヒートスプレッダを含む従来の超小型電子部品パッケージの断面図を示す。(B)図8(A)に示す従来の超小型電子部品パッケージの底面図を示す。 (A)本発明の特定の好ましい実施形態による、フレキシブル基板と、フレキシブル基板を貫通して伸びるヒートスプレッダとを有する超小型電子部品パッケージの断面図を示す。(B)図9(A)の超小型電子部品パッケージの底面図を示す。 (A)本発明のまた別の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージの断面図を示す。(B)図10(A)に示す超小型電子部品パッケージの底面図を示す。 (A)本発明のさらに別の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージの断面図を示す。(B)図11(A)に示す超小型電子部品パッケージの底面図を示す。 (A)本発明のまた別の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージの断面図を示す。(B)図12(A)に示す超小型電子部品パッケージの底面図を示す。 (A)本発明のさらに別の好ましい実施形態による超小型電子部品パッケージの底面図を示す。(B)図13(A)に示す超小型電子部品パッケージの断面図を示す。 (A)本発明の別の好ましい実施形態による、互いに積層された複数の超小型電子部品パッケージを含む超小型電子アセンブリの底面図を示す。(B)図14(A)に示す超小型電子アセンブリの断面図を示す。 (A)本発明の特定の好ましい実施形態による、導電性ポストを含む誘電体基板の斜視図を示す。(B)図15(A)に示す誘電体基板の底部斜視図を示す。 本発明の特定の好ましい実施形態による、コンタクトを有する超小型電子素子の斜視図を示す。 図16の超小型電子素子、及び図15A及び図15Bの誘電体基板と共に組立てられる接着層を示す。 (A)接着層と、接着層と共に組立てられる超小型電子素子を有する、図17の誘電体基板の斜視図を示す。(B)図18(A)に示すサブアセンブリの底面図を示す。 (A)互いに積層された、図18Aに示すユニットの3つを含む超小型電子スタックを示す。(B)保護層が上に形成された、図19(A)のパッケージを示す。 誘電体層と、それと共に組立てられる超小型電子素子と、誘電体層から突出する導電性ポストとを含む超小型電子アセンブリの断面図を示す。 本発明の特定の好ましい実施形態による、互いに積層され、かつプリント配線基板と接続された、図20の複数の超小型電子アセンブリを示す。 誘電体層と、誘電体層と共に組立てられる超小型電子素子と、誘電体層から突出する複数の導電性ポストとを含む超小型電子アセンブリの断面図を示す。 本発明の特定の好ましい実施形態による、互いに積層され、かつプリント配線基板に接続された、図22の複数の超小型電子アセンブリを示す。 誘電体層と、誘電体層と共に組立てられる超小型電子素子と、誘電体層に付着される導電性素子とを含む超小型電子アセンブリの断面図を示す。 本発明の特定の好ましい実施形態による、互いに積層され、かつ該スタック内のほとんどのサブアセンブリの底部がプリント配線基板に接続されている、図24に示す複数の超小型電子アセンブリを示す。 誘電体シートと共に組立てられる超小型電子素子と、誘電体シートから突出する導電性素子とを有する誘電体シートを含む超小型電子アセンブリの断面図を示す。 本発明の特定の好ましい実施形態による、互いに積層され、かつスタックの最上部の要素がプリント配線基板に接続されている、図26の複数の超小型電子アセンブリを示す。 (A)本発明の別の好ましい実施形態による超小型電子アセンブリの断面図を示す。(B)図28(A)に示す超小型電子アセンブリの平面図を示す。(C)本発明の特定の好ましい実施形態による、導電性トレースが破断した状態の、図28Bのアセンブリを示す。 (A)誘電体層と、誘電体層と共に組立てられる超小型電子素子と、誘電体層から突出する導電性ポストとを含む超小型電子アセンブリの断面図を示す。(B)図29(A)に示す超小型電子アセンブリの平面図を示す。(C)本発明の特定の好ましい実施形態による、導電性トレースを主トレースに接続した状態の、図29BAに示す超小型電子アセンブリの別の図を示す。 本発明の特定の好ましい実施形態による、第2の超小型電子アセンブリと電気的に相互接続される第1の超小型電子アセンブリの断面図を示す。 第1の超小型電子アセンブリと第2の超小型電子アセンブリとが接続された後の、図30に示す実施形態の断面図を示す。 中央開口及びフレキシブル突出部を有するソケットを含む、図30の第2の超小型電子アセンブリの平面図を示す。

Claims (4)

  1. 複数の面及びコンタクト、及び外周部を有する超小型電子素子と、
    前記超小型電子素子の第1の面に重なり、かつ前記第1の面から離間しているフレキシブル基板であって、前記フレキシブル基板の外周部が、前記超小型電子素子の前記外周部を越えて伸びている、フレキシブル基板と、
    前記フレキシブル基板の表面に露出された先端部を有する複数のエッチングされた導電性ポストであって、前記超小型電子素子と電気的に相互接続され、前記導電性ポストの少なくとも1つは、前記フレキシブル基板の前記外周部に配置されている、複数のエッチングされた導電性ポストと、
    前記超小型電子素子の第1の面及び前記フレキシブル基板間に配置された柔軟層であって、当該柔軟層は、前記フレキシブル基板の前記外周部に配置された前記少なくとも1つの導電性ポストと重なり、前記柔軟層は、前記超小型電子素子に対し、前記導電性ポストの互いに独立した動きを可能とする、柔軟層と、
    前記超小型電子素子及び前記柔軟層と接触する封入モールド材料であって、前記フレキシブル基板の外周部と重なる、封入モールド材料とを備え、
    前記柔軟層が変形することによって、前記端部の高さの相違、又は対応する外部素子の導電性素子の高さの相違のうち少なくとも1に適合することによって、前記導電性素子に前記複数の導電性ポストを押圧することによって、前記導電性ポストの前記端部と前記対応する導電性素子との導電的接触をもたらすようにしてなる、超小型電子部品パッケージ。
  2. 前記封入モールド材料は、前記超小型電子素子と、前記導電ポストから離れて対向する柔軟層の第1の表面とに重なる堅い保護層を含む請求項に記載の超小型電子部品パッケージ。
  3. 前記堅い保護層は、エポキシ、ガラス及びポリマーからなる群から選択される材料で形成される請求項に記載の超小型電子部品パッケージ。
  4. 前記フレキシブル基板は、前記柔軟層の外縁部を超えて拡がってギャップを画定し、前記硬い保護層がギャップを充填する請求項に記載の超小型電子部品パッケージ。
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Families Citing this family (194)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6826827B1 (en) 1994-12-29 2004-12-07 Tessera, Inc. Forming conductive posts by selective removal of conductive material
US20070108609A1 (en) * 2001-07-19 2007-05-17 Samsung Electronics Co., Ltd. Bumped chip carrier package using lead frame and method for manufacturing the same
US8641913B2 (en) 2003-10-06 2014-02-04 Tessera, Inc. Fine pitch microcontacts and method for forming thereof
US7495179B2 (en) * 2003-10-06 2009-02-24 Tessera, Inc. Components with posts and pads
US7462936B2 (en) 2003-10-06 2008-12-09 Tessera, Inc. Formation of circuitry with modification of feature height
US7709968B2 (en) * 2003-12-30 2010-05-04 Tessera, Inc. Micro pin grid array with pin motion isolation
US7176043B2 (en) * 2003-12-30 2007-02-13 Tessera, Inc. Microelectronic packages and methods therefor
US8207604B2 (en) * 2003-12-30 2012-06-26 Tessera, Inc. Microelectronic package comprising offset conductive posts on compliant layer
TW200536089A (en) * 2004-03-03 2005-11-01 United Test & Assembly Ct Ltd Multiple stacked die window csp package and method of manufacture
US7453157B2 (en) 2004-06-25 2008-11-18 Tessera, Inc. Microelectronic packages and methods therefor
WO2006004671A2 (en) * 2004-06-25 2006-01-12 Tessera, Inc. Microelectronic package structure with spherical contact pins
US7105918B2 (en) * 2004-07-29 2006-09-12 Micron Technology, Inc. Interposer with flexible solder pad elements and methods of manufacturing the same
US7817434B2 (en) * 2004-10-14 2010-10-19 Agere Systems Inc. Method and apparatus for improving thermal energy dissipation in a direct-chip-attach coupling configuration of an integrated circuit and a circuit board
US8525314B2 (en) 2004-11-03 2013-09-03 Tessera, Inc. Stacked packaging improvements
JP2006310530A (ja) * 2005-04-28 2006-11-09 Sanyo Electric Co Ltd 回路装置およびその製造方法
US7687925B2 (en) 2005-09-07 2010-03-30 Infineon Technologies Ag Alignment marks for polarized light lithography and method for use thereof
US8067267B2 (en) * 2005-12-23 2011-11-29 Tessera, Inc. Microelectronic assemblies having very fine pitch stacking
US8058101B2 (en) 2005-12-23 2011-11-15 Tessera, Inc. Microelectronic packages and methods therefor
US7345353B2 (en) * 2005-12-30 2008-03-18 International Business Machines Corporation Silicon carrier having increased flexibility
KR101212473B1 (ko) * 2006-04-14 2012-12-18 에이저 시스템즈 엘엘시 집적 회로 및 회로 기판의 직접 칩 실장 결합 구성에서의 열에너지 분산을 개선하기 위한 방법 및 장치
US7638868B2 (en) * 2006-08-16 2009-12-29 Tessera, Inc. Microelectronic package
US7719121B2 (en) * 2006-10-17 2010-05-18 Tessera, Inc. Microelectronic packages and methods therefor
US20080150101A1 (en) * 2006-12-20 2008-06-26 Tessera, Inc. Microelectronic packages having improved input/output connections and methods therefor
US7683468B2 (en) * 2006-12-21 2010-03-23 Tessera, Inc. Enabling uniformity of stacking process through bumpers
KR101053746B1 (ko) * 2007-05-23 2011-08-02 텍사스 인스트루먼츠 인코포레이티드 반도체 시스템 및 그 제조 방법
US7767497B2 (en) * 2007-07-12 2010-08-03 Tessera, Inc. Microelectronic package element and method of fabricating thereof
US8299626B2 (en) * 2007-08-16 2012-10-30 Tessera, Inc. Microelectronic package
EP2206145A4 (en) 2007-09-28 2012-03-28 Tessera Inc FLIP-CHIP CONNECTION WITH DOUBLE POSTS
EP2213148A4 (en) 2007-10-10 2011-09-07 Tessera Inc ROBUST MULTILAYER WIRING ELEMENTS AND ASSEMBLIES INCLUDING MICROELECTRONIC ELEMENTS INCLUDED
JP4991495B2 (ja) * 2007-11-26 2012-08-01 東京エレクトロン株式会社 検査用保持部材及び検査用保持部材の製造方法
JP2009302095A (ja) * 2008-06-10 2009-12-24 Seiko Epson Corp 半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP5629969B2 (ja) 2008-09-29 2014-11-26 凸版印刷株式会社 リードフレーム型基板の製造方法と半導体装置の製造方法
KR101044008B1 (ko) 2008-10-08 2011-06-24 주식회사 하이닉스반도체 플랙시블 반도체 패키지 및 이의 제조 방법
WO2010138493A1 (en) 2009-05-28 2010-12-02 Hsio Technologies, Llc High performance surface mount electrical interconnect
US9276336B2 (en) 2009-05-28 2016-03-01 Hsio Technologies, Llc Metalized pad to electrical contact interface
WO2011139619A1 (en) 2010-04-26 2011-11-10 Hsio Technologies, Llc Semiconductor device package adapter
WO2014011232A1 (en) 2012-07-12 2014-01-16 Hsio Technologies, Llc Semiconductor socket with direct selective metalization
US9054097B2 (en) 2009-06-02 2015-06-09 Hsio Technologies, Llc Compliant printed circuit area array semiconductor device package
WO2012074963A1 (en) 2010-12-01 2012-06-07 Hsio Technologies, Llc High performance surface mount electrical interconnect
WO2011002712A1 (en) 2009-06-29 2011-01-06 Hsio Technologies, Llc Singulated semiconductor device separable electrical interconnect
WO2010147934A1 (en) 2009-06-16 2010-12-23 Hsio Technologies, Llc Semiconductor die terminal
US9184527B2 (en) 2009-06-02 2015-11-10 Hsio Technologies, Llc Electrical connector insulator housing
US9136196B2 (en) 2009-06-02 2015-09-15 Hsio Technologies, Llc Compliant printed circuit wafer level semiconductor package
US9930775B2 (en) 2009-06-02 2018-03-27 Hsio Technologies, Llc Copper pillar full metal via electrical circuit structure
US9318862B2 (en) 2009-06-02 2016-04-19 Hsio Technologies, Llc Method of making an electronic interconnect
WO2010141316A1 (en) 2009-06-02 2010-12-09 Hsio Technologies, Llc Compliant printed circuit wafer probe diagnostic tool
US9276339B2 (en) 2009-06-02 2016-03-01 Hsio Technologies, Llc Electrical interconnect IC device socket
WO2012061008A1 (en) 2010-10-25 2012-05-10 Hsio Technologies, Llc High performance electrical circuit structure
US8928344B2 (en) 2009-06-02 2015-01-06 Hsio Technologies, Llc Compliant printed circuit socket diagnostic tool
US8988093B2 (en) 2009-06-02 2015-03-24 Hsio Technologies, Llc Bumped semiconductor wafer or die level electrical interconnect
US9231328B2 (en) 2009-06-02 2016-01-05 Hsio Technologies, Llc Resilient conductive electrical interconnect
US9699906B2 (en) 2009-06-02 2017-07-04 Hsio Technologies, Llc Hybrid printed circuit assembly with low density main core and embedded high density circuit regions
WO2013036565A1 (en) 2011-09-08 2013-03-14 Hsio Technologies, Llc Direct metalization of electrical circuit structures
WO2010141266A1 (en) 2009-06-02 2010-12-09 Hsio Technologies, Llc Compliant printed circuit peripheral lead semiconductor package
WO2012078493A1 (en) 2010-12-06 2012-06-14 Hsio Technologies, Llc Electrical interconnect ic device socket
US9196980B2 (en) 2009-06-02 2015-11-24 Hsio Technologies, Llc High performance surface mount electrical interconnect with external biased normal force loading
WO2010141298A1 (en) 2009-06-02 2010-12-09 Hsio Technologies, Llc Composite polymer-metal electrical contacts
US8618649B2 (en) 2009-06-02 2013-12-31 Hsio Technologies, Llc Compliant printed circuit semiconductor package
WO2010141295A1 (en) 2009-06-02 2010-12-09 Hsio Technologies, Llc Compliant printed flexible circuit
US9613841B2 (en) 2009-06-02 2017-04-04 Hsio Technologies, Llc Area array semiconductor device package interconnect structure with optional package-to-package or flexible circuit to package connection
US8981568B2 (en) * 2009-06-16 2015-03-17 Hsio Technologies, Llc Simulated wirebond semiconductor package
US9320144B2 (en) 2009-06-17 2016-04-19 Hsio Technologies, Llc Method of forming a semiconductor socket
US8981809B2 (en) 2009-06-29 2015-03-17 Hsio Technologies, Llc Compliant printed circuit semiconductor tester interface
US8739392B2 (en) 2009-06-30 2014-06-03 Intel Corporation Cast grid array (CGA) package and socket
EP2337068A1 (en) 2009-12-18 2011-06-22 Nxp B.V. Pre-soldered leadless package
US20110147923A1 (en) * 2009-12-21 2011-06-23 Jiun Hann Sir Surface Mounting Integrated Circuit Components
US9161448B2 (en) 2010-03-29 2015-10-13 Semprius, Inc. Laser assisted transfer welding process
KR101078743B1 (ko) * 2010-04-14 2011-11-02 주식회사 하이닉스반도체 스택 패키지
US9689897B2 (en) 2010-06-03 2017-06-27 Hsio Technologies, Llc Performance enhanced semiconductor socket
US10159154B2 (en) 2010-06-03 2018-12-18 Hsio Technologies, Llc Fusion bonded liquid crystal polymer circuit structure
US9350093B2 (en) 2010-06-03 2016-05-24 Hsio Technologies, Llc Selective metalization of electrical connector or socket housing
US8653670B2 (en) * 2010-06-29 2014-02-18 General Electric Company Electrical interconnect for an integrated circuit package and method of making same
US8330272B2 (en) 2010-07-08 2012-12-11 Tessera, Inc. Microelectronic packages with dual or multiple-etched flip-chip connectors
US9159708B2 (en) 2010-07-19 2015-10-13 Tessera, Inc. Stackable molded microelectronic packages with area array unit connectors
US8482111B2 (en) * 2010-07-19 2013-07-09 Tessera, Inc. Stackable molded microelectronic packages
US8580607B2 (en) 2010-07-27 2013-11-12 Tessera, Inc. Microelectronic packages with nanoparticle joining
KR101075241B1 (ko) 2010-11-15 2011-11-01 테세라, 인코포레이티드 유전체 부재에 단자를 구비하는 마이크로전자 패키지
US9899329B2 (en) 2010-11-23 2018-02-20 X-Celeprint Limited Interconnection structures and methods for transfer-printed integrated circuit elements with improved interconnection alignment tolerance
US8853558B2 (en) 2010-12-10 2014-10-07 Tessera, Inc. Interconnect structure
US20120146206A1 (en) 2010-12-13 2012-06-14 Tessera Research Llc Pin attachment
US9137903B2 (en) 2010-12-21 2015-09-15 Tessera, Inc. Semiconductor chip assembly and method for making same
KR101128063B1 (ko) 2011-05-03 2012-04-23 테세라, 인코포레이티드 캡슐화 층의 표면에 와이어 본드를 구비하는 패키지 적층형 어셈블리
US8618659B2 (en) 2011-05-03 2013-12-31 Tessera, Inc. Package-on-package assembly with wire bonds to encapsulation surface
US20120286416A1 (en) * 2011-05-11 2012-11-15 Tessera Research Llc Semiconductor chip package assembly and method for making same
US8889485B2 (en) * 2011-06-08 2014-11-18 Semprius, Inc. Methods for surface attachment of flipped active componenets
US8697457B1 (en) 2011-06-22 2014-04-15 Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. Devices and methods for stacking individually tested devices to form multi-chip electronic modules
US8872318B2 (en) 2011-08-24 2014-10-28 Tessera, Inc. Through interposer wire bond using low CTE interposer with coarse slot apertures
US9412727B2 (en) 2011-09-20 2016-08-09 Semprius, Inc. Printing transferable components using microstructured elastomeric surfaces with pressure modulated reversible adhesion
US8404520B1 (en) 2011-10-17 2013-03-26 Invensas Corporation Package-on-package assembly with wire bond vias
US8815651B2 (en) * 2011-12-30 2014-08-26 Infineon Technologies Ag Method for manufacturing an electronic device by reducing thickness of electronic members attached to a carrier
US8946757B2 (en) 2012-02-17 2015-02-03 Invensas Corporation Heat spreading substrate with embedded interconnects
US9349706B2 (en) 2012-02-24 2016-05-24 Invensas Corporation Method for package-on-package assembly with wire bonds to encapsulation surface
US8372741B1 (en) 2012-02-24 2013-02-12 Invensas Corporation Method for package-on-package assembly with wire bonds to encapsulation surface
US8823407B2 (en) * 2012-03-01 2014-09-02 Integrated Device Technology, Inc. Test assembly for verifying heat spreader grounding in a production test
US8835228B2 (en) 2012-05-22 2014-09-16 Invensas Corporation Substrate-less stackable package with wire-bond interconnect
US9761520B2 (en) 2012-07-10 2017-09-12 Hsio Technologies, Llc Method of making an electrical connector having electrodeposited terminals
US9391008B2 (en) 2012-07-31 2016-07-12 Invensas Corporation Reconstituted wafer-level package DRAM
US9502390B2 (en) 2012-08-03 2016-11-22 Invensas Corporation BVA interposer
US9136236B2 (en) 2012-09-28 2015-09-15 Intel Corporation Localized high density substrate routing
US8912670B2 (en) 2012-09-28 2014-12-16 Intel Corporation Bumpless build-up layer package including an integrated heat spreader
US8975738B2 (en) 2012-11-12 2015-03-10 Invensas Corporation Structure for microelectronic packaging with terminals on dielectric mass
US9385098B2 (en) * 2012-11-21 2016-07-05 Nvidia Corporation Variable-size solder bump structures for integrated circuit packaging
US9190380B2 (en) 2012-12-06 2015-11-17 Intel Corporation High density substrate routing in BBUL package
US8878353B2 (en) 2012-12-20 2014-11-04 Invensas Corporation Structure for microelectronic packaging with bond elements to encapsulation surface
US9136254B2 (en) 2013-02-01 2015-09-15 Invensas Corporation Microelectronic package having wire bond vias and stiffening layer
USD759022S1 (en) * 2013-03-13 2016-06-14 Nagrastar Llc Smart card interface
USD758372S1 (en) 2013-03-13 2016-06-07 Nagrastar Llc Smart card interface
USD729808S1 (en) * 2013-03-13 2015-05-19 Nagrastar Llc Smart card interface
US9159849B2 (en) * 2013-05-24 2015-10-13 Oxford Instruments Analytical Oy Semiconductor detector head and a method for manufacturing the same
US10667410B2 (en) 2013-07-11 2020-05-26 Hsio Technologies, Llc Method of making a fusion bonded circuit structure
US10506722B2 (en) 2013-07-11 2019-12-10 Hsio Technologies, Llc Fusion bonded liquid crystal polymer electrical circuit structure
US9023691B2 (en) 2013-07-15 2015-05-05 Invensas Corporation Microelectronic assemblies with stack terminals coupled by connectors extending through encapsulation
US9034696B2 (en) 2013-07-15 2015-05-19 Invensas Corporation Microelectronic assemblies having reinforcing collars on connectors extending through encapsulation
US8883563B1 (en) 2013-07-15 2014-11-11 Invensas Corporation Fabrication of microelectronic assemblies having stack terminals coupled by connectors extending through encapsulation
US9167710B2 (en) 2013-08-07 2015-10-20 Invensas Corporation Embedded packaging with preformed vias
US9685365B2 (en) 2013-08-08 2017-06-20 Invensas Corporation Method of forming a wire bond having a free end
US9237647B2 (en) 2013-09-12 2016-01-12 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Package-on-package structure with through molding via
US20150076714A1 (en) 2013-09-16 2015-03-19 Invensas Corporation Microelectronic element with bond elements to encapsulation surface
US9159690B2 (en) 2013-09-25 2015-10-13 Intel Corporation Tall solders for through-mold interconnect
US9349703B2 (en) 2013-09-25 2016-05-24 Intel Corporation Method for making high density substrate interconnect using inkjet printing
US9082753B2 (en) 2013-11-12 2015-07-14 Invensas Corporation Severing bond wire by kinking and twisting
US9087815B2 (en) 2013-11-12 2015-07-21 Invensas Corporation Off substrate kinking of bond wire
US9583456B2 (en) 2013-11-22 2017-02-28 Invensas Corporation Multiple bond via arrays of different wire heights on a same substrate
US9379074B2 (en) 2013-11-22 2016-06-28 Invensas Corporation Die stacks with one or more bond via arrays of wire bond wires and with one or more arrays of bump interconnects
US9263394B2 (en) 2013-11-22 2016-02-16 Invensas Corporation Multiple bond via arrays of different wire heights on a same substrate
US9583411B2 (en) 2014-01-17 2017-02-28 Invensas Corporation Fine pitch BVA using reconstituted wafer with area array accessible for testing
CN104849501B (zh) * 2014-02-17 2017-09-22 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 测试用托盘
US9214454B2 (en) 2014-03-31 2015-12-15 Invensas Corporation Batch process fabrication of package-on-package microelectronic assemblies
US10381326B2 (en) 2014-05-28 2019-08-13 Invensas Corporation Structure and method for integrated circuits packaging with increased density
US9646917B2 (en) 2014-05-29 2017-05-09 Invensas Corporation Low CTE component with wire bond interconnects
US9412714B2 (en) 2014-05-30 2016-08-09 Invensas Corporation Wire bond support structure and microelectronic package including wire bonds therefrom
CN110010750B (zh) 2014-06-18 2021-11-09 艾克斯展示公司技术有限公司 微组装led显示器
US11472171B2 (en) 2014-07-20 2022-10-18 X Display Company Technology Limited Apparatus and methods for micro-transfer-printing
US9991163B2 (en) 2014-09-25 2018-06-05 X-Celeprint Limited Small-aperture-ratio display with electrical component
US9799719B2 (en) 2014-09-25 2017-10-24 X-Celeprint Limited Active-matrix touchscreen
WO2016074176A1 (en) * 2014-11-12 2016-05-19 Intel Corporation Flexible system-in-package solutions for wearable devices
US9679862B2 (en) * 2014-11-28 2017-06-13 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. Semiconductor device having conductive bumps of varying heights
US9735084B2 (en) 2014-12-11 2017-08-15 Invensas Corporation Bond via array for thermal conductivity
US9888579B2 (en) 2015-03-05 2018-02-06 Invensas Corporation Pressing of wire bond wire tips to provide bent-over tips
US9755335B2 (en) 2015-03-18 2017-09-05 Hsio Technologies, Llc Low profile electrical interconnect with fusion bonded contact retention and solder wick reduction
USD780763S1 (en) * 2015-03-20 2017-03-07 Nagrastar Llc Smart card interface
US9502372B1 (en) 2015-04-30 2016-11-22 Invensas Corporation Wafer-level packaging using wire bond wires in place of a redistribution layer
USD864968S1 (en) 2015-04-30 2019-10-29 Echostar Technologies L.L.C. Smart card interface
US9761554B2 (en) 2015-05-07 2017-09-12 Invensas Corporation Ball bonding metal wire bond wires to metal pads
US9871345B2 (en) 2015-06-09 2018-01-16 X-Celeprint Limited Crystalline color-conversion device
US10133426B2 (en) 2015-06-18 2018-11-20 X-Celeprint Limited Display with micro-LED front light
US11061276B2 (en) 2015-06-18 2021-07-13 X Display Company Technology Limited Laser array display
KR20160149905A (ko) * 2015-06-19 2016-12-28 에스케이하이닉스 주식회사 슬라이딩 접속 구조를 포함하는 반도체 패키지
US10886250B2 (en) 2015-07-10 2021-01-05 Invensas Corporation Structures and methods for low temperature bonding using nanoparticles
US9633971B2 (en) 2015-07-10 2017-04-25 Invensas Corporation Structures and methods for low temperature bonding using nanoparticles
US9704821B2 (en) 2015-08-11 2017-07-11 X-Celeprint Limited Stamp with structured posts
US10468363B2 (en) 2015-08-10 2019-11-05 X-Celeprint Limited Chiplets with connection posts
US9543277B1 (en) * 2015-08-20 2017-01-10 Invensas Corporation Wafer level packages with mechanically decoupled fan-in and fan-out areas
US10380930B2 (en) 2015-08-24 2019-08-13 X-Celeprint Limited Heterogeneous light emitter display system
US10230048B2 (en) 2015-09-29 2019-03-12 X-Celeprint Limited OLEDs for micro transfer printing
US10490528B2 (en) 2015-10-12 2019-11-26 Invensas Corporation Embedded wire bond wires
US9490222B1 (en) 2015-10-12 2016-11-08 Invensas Corporation Wire bond wires for interference shielding
US10332854B2 (en) 2015-10-23 2019-06-25 Invensas Corporation Anchoring structure of fine pitch bva
US10181457B2 (en) 2015-10-26 2019-01-15 Invensas Corporation Microelectronic package for wafer-level chip scale packaging with fan-out
US9911718B2 (en) 2015-11-17 2018-03-06 Invensas Corporation ‘RDL-First’ packaged microelectronic device for a package-on-package device
US9659848B1 (en) 2015-11-18 2017-05-23 Invensas Corporation Stiffened wires for offset BVA
WO2017085669A2 (en) * 2015-11-20 2017-05-26 Idex Asa Electronic sensor supported on rigid substrate
US10066819B2 (en) 2015-12-09 2018-09-04 X-Celeprint Limited Micro-light-emitting diode backlight system
US9786646B2 (en) 2015-12-23 2017-10-10 X-Celeprint Limited Matrix addressed device repair
US9984992B2 (en) 2015-12-30 2018-05-29 Invensas Corporation Embedded wire bond wires for vertical integration with separate surface mount and wire bond mounting surfaces
WO2017144573A1 (en) 2016-02-25 2017-08-31 X-Celeprint Limited Efficiently micro-transfer printing micro-scale devices onto large-format substrates
US10193025B2 (en) 2016-02-29 2019-01-29 X-Celeprint Limited Inorganic LED pixel structure
US10153257B2 (en) 2016-03-03 2018-12-11 X-Celeprint Limited Micro-printed display
US10153256B2 (en) 2016-03-03 2018-12-11 X-Celeprint Limited Micro-transfer printable electronic component
US10103069B2 (en) 2016-04-01 2018-10-16 X-Celeprint Limited Pressure-activated electrical interconnection by micro-transfer printing
US10199546B2 (en) 2016-04-05 2019-02-05 X-Celeprint Limited Color-filter device
US10008483B2 (en) 2016-04-05 2018-06-26 X-Celeprint Limited Micro-transfer printed LED and color filter structure
US9997501B2 (en) 2016-06-01 2018-06-12 X-Celeprint Limited Micro-transfer-printed light-emitting diode device
US11137641B2 (en) 2016-06-10 2021-10-05 X Display Company Technology Limited LED structure with polarized light emission
US10222698B2 (en) 2016-07-28 2019-03-05 X-Celeprint Limited Chiplets with wicking posts
US9935075B2 (en) 2016-07-29 2018-04-03 Invensas Corporation Wire bonding method and apparatus for electromagnetic interference shielding
US11064609B2 (en) 2016-08-04 2021-07-13 X Display Company Technology Limited Printable 3D electronic structure
US9980341B2 (en) 2016-09-22 2018-05-22 X-Celeprint Limited Multi-LED components
TWI822659B (zh) 2016-10-27 2023-11-21 美商艾德亞半導體科技有限責任公司 用於低溫接合的結構和方法
US10782002B2 (en) 2016-10-28 2020-09-22 X Display Company Technology Limited LED optical components
US10347168B2 (en) 2016-11-10 2019-07-09 X-Celeprint Limited Spatially dithered high-resolution
US10600671B2 (en) 2016-11-15 2020-03-24 X-Celeprint Limited Micro-transfer-printable flip-chip structures and methods
US10395966B2 (en) 2016-11-15 2019-08-27 X-Celeprint Limited Micro-transfer-printable flip-chip structures and methods
US10224231B2 (en) 2016-11-15 2019-03-05 X-Celeprint Limited Micro-transfer-printable flip-chip structures and methods
US10438859B2 (en) 2016-12-19 2019-10-08 X-Celeprint Limited Transfer printed device repair
US10299368B2 (en) 2016-12-21 2019-05-21 Invensas Corporation Surface integrated waveguides and circuit structures therefor
US10396137B2 (en) 2017-03-10 2019-08-27 X-Celeprint Limited Testing transfer-print micro-devices on wafer
US11024608B2 (en) 2017-03-28 2021-06-01 X Display Company Technology Limited Structures and methods for electrical connection of micro-devices and substrates
FR3083920A1 (fr) * 2018-07-13 2020-01-17 Linxens Holding Procede de fabrication de boitiers de composant electronique et boitier de composant electronique obtenu par ce procede
US10796971B2 (en) 2018-08-13 2020-10-06 X Display Company Technology Limited Pressure-activated electrical interconnection with additive repair
US11652031B2 (en) * 2018-12-13 2023-05-16 Intel Corporation Shrinkable package assembly
US10748793B1 (en) 2019-02-13 2020-08-18 X Display Company Technology Limited Printing component arrays with different orientations
US11062936B1 (en) 2019-12-19 2021-07-13 X Display Company Technology Limited Transfer stamps with multiple separate pedestals
US20230187850A1 (en) * 2021-12-13 2023-06-15 Intel Corporation Liquid metal connection device and method

Family Cites Families (131)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US518029A (en) * 1894-04-10 Goire feomholt
US3465435A (en) * 1967-05-08 1969-09-09 Ibm Method of forming an interconnecting multilayer circuitry
JPS5146904B2 (ja) * 1971-09-30 1976-12-11
GB1487945A (en) * 1974-11-20 1977-10-05 Ibm Semiconductor integrated circuit devices
US4067104A (en) * 1977-02-24 1978-01-10 Rockwell International Corporation Method of fabricating an array of flexible metallic interconnects for coupling microelectronics components
US4258382A (en) * 1978-07-03 1981-03-24 National Semiconductor Corporation Expanded pad structure
DE3047886A1 (de) * 1979-12-20 1981-10-29 The Fujikura Cable Works, Ltd., Tokyo Verfahren zur herstellung eines stanzwerkzeugs und nach diesem verfahren hergestelltes stanzwerkzeug
US4280458A (en) * 1980-09-02 1981-07-28 Shell Oil Company Antiknock component
US4466184A (en) * 1981-04-21 1984-08-21 General Dynamics, Pomona Division Method of making pressure point contact system
US4666735A (en) * 1983-04-15 1987-05-19 Polyonics Corporation Process for producing product having patterned metal layer
CA1243690A (en) * 1984-03-27 1988-10-25 Duncan Seddon Production of gasoline
US4642889A (en) * 1985-04-29 1987-02-17 Amp Incorporated Compliant interconnection and method therefor
US4716049A (en) 1985-12-20 1987-12-29 Hughes Aircraft Company Compressive pedestal for microminiature connections
US4695870A (en) * 1986-03-27 1987-09-22 Hughes Aircraft Company Inverted chip carrier
JPH07112041B2 (ja) * 1986-12-03 1995-11-29 シャープ株式会社 半導体装置の製造方法
US4955523A (en) * 1986-12-17 1990-09-11 Raychem Corporation Interconnection of electronic components
US4942140A (en) * 1987-03-25 1990-07-17 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Method of packaging semiconductor device
JPS63240096A (ja) * 1987-03-27 1988-10-05 富士通株式会社 グリ−ンシ−ト多層法
US4804132A (en) * 1987-08-28 1989-02-14 Difrancesco Louis Method for cold bonding
US4783594A (en) * 1987-11-20 1988-11-08 Santa Barbara Research Center Reticular detector array
ES2027447T3 (es) * 1988-02-11 1992-06-01 Wellep International (Uk) Limited Sistema angular de ensamble y bastidor para una silla de montar.
US5225771A (en) * 1988-05-16 1993-07-06 Dri Technology Corp. Making and testing an integrated circuit using high density probe points
US4878990A (en) 1988-05-23 1989-11-07 General Dynamics Corp., Pomona Division Electroformed and chemical milled bumped tape process
JPH01313969A (ja) 1988-06-13 1989-12-19 Hitachi Ltd 半導体装置
JPH02310941A (ja) * 1989-05-26 1990-12-26 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd バンプを有するプリント回路基板およびバンプの形成方法
US4969827A (en) 1989-06-12 1990-11-13 Motorola, Inc. Modular interconnecting electronic circuit blocks
US4961259A (en) * 1989-06-16 1990-10-09 Hughes Aircraft Company Method of forming an interconnection by an excimer laser
US5200362A (en) 1989-09-06 1993-04-06 Motorola, Inc. Method of attaching conductive traces to an encapsulated semiconductor die using a removable transfer film
JP2753746B2 (ja) * 1989-11-06 1998-05-20 日本メクトロン株式会社 Ic搭載用可撓性回路基板及びその製造法
US5077598A (en) * 1989-11-08 1991-12-31 Hewlett-Packard Company Strain relief flip-chip integrated circuit assembly with test fixturing
CA2030865C (en) * 1989-11-30 1993-01-12 Kenichi Fuse Method of forming a solder layer on pads of a circuit board and method of mounting an electronic part on a circuit board
US5074947A (en) * 1989-12-18 1991-12-24 Epoxy Technology, Inc. Flip chip technology using electrically conductive polymers and dielectrics
US5278429A (en) * 1989-12-19 1994-01-11 Fujitsu Limited Semiconductor device having improved adhesive structure and method of producing same
CA2034700A1 (en) * 1990-01-23 1991-07-24 Masanori Nishiguchi Substrate for packaging a semiconductor device
AU645283B2 (en) * 1990-01-23 1994-01-13 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Substrate for packaging a semiconductor device
US4989069A (en) * 1990-01-29 1991-01-29 Motorola, Inc. Semiconductor package having leads that break-away from supports
US5083697A (en) * 1990-02-14 1992-01-28 Difrancesco Louis Particle-enhanced joining of metal surfaces
US4975079A (en) * 1990-02-23 1990-12-04 International Business Machines Corp. Connector assembly for chip testing
US5399903A (en) * 1990-08-15 1995-03-21 Lsi Logic Corporation Semiconductor device having an universal die size inner lead layout
US5679977A (en) * 1990-09-24 1997-10-21 Tessera, Inc. Semiconductor chip assemblies, methods of making same and components for same
US5148265A (en) * 1990-09-24 1992-09-15 Ist Associates, Inc. Semiconductor chip assemblies with fan-in leads
US5148266A (en) * 1990-09-24 1992-09-15 Ist Associates, Inc. Semiconductor chip assemblies having interposer and flexible lead
US5072520A (en) 1990-10-23 1991-12-17 Rogers Corporation Method of manufacturing an interconnect device having coplanar contact bumps
US5216278A (en) * 1990-12-04 1993-06-01 Motorola, Inc. Semiconductor device having a pad array carrier package
US5241133A (en) * 1990-12-21 1993-08-31 Motorola, Inc. Leadless pad array chip carrier
US5285382A (en) * 1991-02-25 1994-02-08 Keyosk Corporation System and method for processing credit and debit card validity and funds transactions from vending machines and similar terminals
US5338900A (en) * 1991-03-06 1994-08-16 International Business Machines Corporation Structures for electrically conductive decals filled with inorganic insulator material
US5296649A (en) * 1991-03-26 1994-03-22 The Furukawa Electric Co., Ltd. Solder-coated printed circuit board and method of manufacturing the same
US5239746A (en) * 1991-06-07 1993-08-31 Norton Company Method of fabricating electronic circuits
US5316788A (en) * 1991-07-26 1994-05-31 International Business Machines Corporation Applying solder to high density substrates
US5160409A (en) 1991-08-05 1992-11-03 Motorola, Inc. Solder plate reflow method for forming a solder bump on a circuit trace intersection
US5203075A (en) * 1991-08-12 1993-04-20 Inernational Business Machines Method of bonding flexible circuit to cicuitized substrate to provide electrical connection therebetween using different solders
US5133495A (en) * 1991-08-12 1992-07-28 International Business Machines Corporation Method of bonding flexible circuit to circuitized substrate to provide electrical connection therebetween
WO1993004375A1 (en) * 1991-08-23 1993-03-04 Nchip, Inc. Burn-in technologies for unpackaged integrated circuits
JPH07105420B2 (ja) * 1991-08-26 1995-11-13 ヒューズ・エアクラフト・カンパニー 成形された接点をもった電気接続
US5281684A (en) * 1992-04-30 1994-01-25 Motorola, Inc. Solder bumping of integrated circuit die
US5213676A (en) * 1992-05-11 1993-05-25 Eastman Kodak Company Method of generating a substrate electrode for flip chip and other applications
US5652461A (en) * 1992-06-03 1997-07-29 Seiko Epson Corporation Semiconductor device with a convex heat sink
US5285352A (en) * 1992-07-15 1994-02-08 Motorola, Inc. Pad array semiconductor device with thermal conductor and process for making the same
US5251455A (en) * 1992-08-14 1993-10-12 Whirlpool Corporation Energy efficient insulation system for refrigerator/freezer
US5334804A (en) * 1992-11-17 1994-08-02 Fujitsu Limited Wire interconnect structures for connecting an integrated circuit to a substrate
US5545589A (en) * 1993-01-28 1996-08-13 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method of forming a bump having a rugged side, a semiconductor device having the bump, and a method of mounting a semiconductor unit and a semiconductor device
JP2716336B2 (ja) 1993-03-10 1998-02-18 日本電気株式会社 集積回路装置
US5414298A (en) * 1993-03-26 1995-05-09 Tessera, Inc. Semiconductor chip assemblies and components with pressure contact
JP3215991B2 (ja) 1993-03-26 2001-10-09 日本酸素株式会社 物品の凍結装置
US5329423A (en) * 1993-04-13 1994-07-12 Scholz Kenneth D Compressive bump-and-socket interconnection scheme for integrated circuits
KR970000214B1 (ko) * 1993-11-18 1997-01-06 삼성전자 주식회사 반도체 장치 및 그 제조방법
JPH07221104A (ja) 1994-01-28 1995-08-18 Fujitsu Ltd 半導体装置の製造方法及び半導体装置及び電極ピン形成用マスク及び電極ピン形成用マスクを用いた試験方法
US5455390A (en) * 1994-02-01 1995-10-03 Tessera, Inc. Microelectronics unit mounting with multiple lead bonding
US5821457A (en) * 1994-03-11 1998-10-13 The Panda Project Semiconductor die carrier having a dielectric epoxy between adjacent leads
US5431328A (en) * 1994-05-06 1995-07-11 Industrial Technology Research Institute Composite bump flip chip bonding
US5802699A (en) * 1994-06-07 1998-09-08 Tessera, Inc. Methods of assembling microelectronic assembly with socket for engaging bump leads
US5518964A (en) * 1994-07-07 1996-05-21 Tessera, Inc. Microelectronic mounting with multiple lead deformation and bonding
US6177636B1 (en) * 1994-12-29 2001-01-23 Tessera, Inc. Connection components with posts
JPH08115989A (ja) * 1994-08-24 1996-05-07 Fujitsu Ltd 半導体装置及びその製造方法
US5656550A (en) * 1994-08-24 1997-08-12 Fujitsu Limited Method of producing a semicondutor device having a lead portion with outer connecting terminal
JP2003332491A (ja) * 1994-08-24 2003-11-21 Fujitsu Ltd 半導体装置
US5659952A (en) * 1994-09-20 1997-08-26 Tessera, Inc. Method of fabricating compliant interface for semiconductor chip
JPH08167630A (ja) * 1994-12-15 1996-06-25 Hitachi Ltd チップ接続構造
US6826827B1 (en) 1994-12-29 2004-12-07 Tessera, Inc. Forming conductive posts by selective removal of conductive material
US5810609A (en) * 1995-08-28 1998-09-22 Tessera, Inc. Socket for engaging bump leads on a microelectronic device and methods therefor
JP3176542B2 (ja) * 1995-10-25 2001-06-18 シャープ株式会社 半導体装置及びその製造方法
US5866939A (en) 1996-01-21 1999-02-02 Anam Semiconductor Inc. Lead end grid array semiconductor package
US5731709A (en) * 1996-01-26 1998-03-24 Motorola, Inc. Method for testing a ball grid array semiconductor device and a device for such testing
US5847458A (en) * 1996-05-21 1998-12-08 Shinko Electric Industries Co., Ltd. Semiconductor package and device having heads coupled with insulating material
JP3617504B2 (ja) * 1996-10-08 2005-02-09 日立化成工業株式会社 半導体素子搭載用接着フィルム
US6127724A (en) * 1996-10-31 2000-10-03 Tessera, Inc. Packaged microelectronic elements with enhanced thermal conduction
JP3269977B2 (ja) 1996-11-13 2002-04-02 アルプス電気株式会社 フラットケーブルの接続構造、及びこのフラットケーブルの接続構造を用いた回転コネクタ
CN1145206C (zh) * 1997-01-23 2004-04-07 精工爱普生株式会社 膜载带、半导体组装体、半导体装置及其制造方法、安装基板
JPH10330983A (ja) * 1997-05-30 1998-12-15 Fukuda Metal Foil & Powder Co Ltd 電解銅箔及びその製造方法
JPH1154658A (ja) * 1997-07-30 1999-02-26 Hitachi Ltd 半導体装置及びその製造方法並びにフレーム構造体
US5840598A (en) * 1997-08-14 1998-11-24 Micron Technology, Inc. LOC semiconductor assembled with room temperature adhesive
EP1030369B1 (en) 1997-08-19 2007-12-12 Hitachi, Ltd. Multichip module structure and method for manufacturing the same
WO1999021224A1 (fr) 1997-10-17 1999-04-29 Ibiden Co., Ltd. Substrat d'un boitier
JP3443095B2 (ja) 1997-12-04 2003-09-02 ロシュ ダイアグノスティックス コーポレーション 器 具
JPH11288973A (ja) * 1998-04-01 1999-10-19 Canon Inc 半導体の接続構造と半導体の接続方法及び半導体デバイス
US6927491B1 (en) * 1998-12-04 2005-08-09 Nec Corporation Back electrode type electronic part and electronic assembly with the same mounted on printed circuit board
JP3914654B2 (ja) * 1999-03-17 2007-05-16 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置
US6258625B1 (en) * 1999-05-18 2001-07-10 International Business Machines Corporation Method of interconnecting electronic components using a plurality of conductive studs
US6782610B1 (en) * 1999-05-21 2004-08-31 North Corporation Method for fabricating a wiring substrate by electroplating a wiring film on a metal base
KR100298827B1 (ko) * 1999-07-09 2001-11-01 윤종용 재배선 기판을 사용한 웨이퍼 레벨 칩 스케일 패키지 제조방법
US6216278B1 (en) * 1999-11-12 2001-04-17 Le Nguyen Protective hair covering for use when tanning
US6578754B1 (en) * 2000-04-27 2003-06-17 Advanpack Solutions Pte. Ltd. Pillar connections for semiconductor chips and method of manufacture
US7247932B1 (en) * 2000-05-19 2007-07-24 Megica Corporation Chip package with capacitor
US6462575B1 (en) * 2000-08-28 2002-10-08 Micron Technology, Inc. Method and system for wafer level testing and burning-in semiconductor components
JP3874062B2 (ja) * 2000-09-05 2007-01-31 セイコーエプソン株式会社 半導体装置
JP4613416B2 (ja) * 2000-11-28 2011-01-19 日本電気株式会社 半導体装置およびその実装方法
AU2002217987A1 (en) * 2000-12-01 2002-06-11 Broadcom Corporation Thermally and electrically enhanced ball grid array packaging
US6388322B1 (en) * 2001-01-17 2002-05-14 Aralight, Inc. Article comprising a mechanically compliant bump
US6551859B1 (en) * 2001-02-22 2003-04-22 National Semiconductor Corporation Chip scale and land grid array semiconductor packages
JP2002289749A (ja) * 2001-03-28 2002-10-04 Hitachi Metals Ltd 半導体素子搭載用配線板及びそれを用いた半導体素子搭載パッケージ
US6765287B1 (en) * 2001-07-27 2004-07-20 Charles W. C. Lin Three-dimensional stacked semiconductor package
US6451626B1 (en) * 2001-07-27 2002-09-17 Charles W.C. Lin Three-dimensional stacked semiconductor package
US6550666B2 (en) * 2001-08-21 2003-04-22 Advanpack Solutions Pte Ltd Method for forming a flip chip on leadframe semiconductor package
US6657296B2 (en) * 2001-09-25 2003-12-02 Siliconware Precision Industries Co., Ltd. Semicondctor package
JP4045143B2 (ja) * 2002-02-18 2008-02-13 テセラ・インターコネクト・マテリアルズ,インコーポレイテッド 配線膜間接続用部材の製造方法及び多層配線基板の製造方法
AU2003214579A1 (en) * 2002-04-11 2003-10-20 Koninklijke Philips Electronics N.V. Semiconductor device and method of manufacturing same
JP4196606B2 (ja) * 2002-07-29 2008-12-17 日立化成工業株式会社 配線板の製造方法
KR20040026530A (ko) * 2002-09-25 2004-03-31 삼성전자주식회사 반도체 패키지 및 그를 이용한 적층 패키지
JP3666749B2 (ja) * 2003-01-07 2005-06-29 沖電気工業株式会社 半導体装置
WO2004077525A2 (en) * 2003-02-25 2004-09-10 Tessera, Inc. Ball grid array with bumps
US6992380B2 (en) * 2003-08-29 2006-01-31 Texas Instruments Incorporated Package for semiconductor device having a device-supporting polymeric material covering a solder ball array area
US7462936B2 (en) * 2003-10-06 2008-12-09 Tessera, Inc. Formation of circuitry with modification of feature height
FR2861216B1 (fr) * 2003-10-21 2006-02-10 St Microelectronics Sa Boitier semi-conducteur a puce sur plaque-support
KR101218011B1 (ko) * 2003-11-08 2013-01-02 스태츠 칩팩, 엘티디. 플립 칩 인터커넥션 패드 레이아웃 반도체 패키지 및 그 생산 방법
US7709968B2 (en) * 2003-12-30 2010-05-04 Tessera, Inc. Micro pin grid array with pin motion isolation
US8207604B2 (en) * 2003-12-30 2012-06-26 Tessera, Inc. Microelectronic package comprising offset conductive posts on compliant layer
US7176043B2 (en) * 2003-12-30 2007-02-13 Tessera, Inc. Microelectronic packages and methods therefor
TWI253736B (en) * 2004-02-25 2006-04-21 Optimum Care Int Tech Inc Composition structure of high-density pin
US7453157B2 (en) 2004-06-25 2008-11-18 Tessera, Inc. Microelectronic packages and methods therefor
US7767497B2 (en) * 2007-07-12 2010-08-03 Tessera, Inc. Microelectronic package element and method of fabricating thereof

Also Published As

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