JP5567330B2 - 生分解性キレート剤を含む予想外の洗浄性能を有する組成物 - Google Patents
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Description
各R′は、個別に、水素、非置換又は不活性(inertly)置換されたアルキル基、カルボニル含有アルキル基、カルボキシレート含有アルキル基、ヒドロキシアルキル基及びアルコキシ基からなる群から選択され、
R″は、1〜約10個の炭素原子を有し、非置換若しくは不活性置換されたアルキル基、カルボニル置換アルキル基、カルボキシレート含有アルキル基、ヒドロキシアルキル基及びアルコキシ基、又は水素からなる群から選択され、
M1及びM2は、個別に、Li+、Na+、K+、及びCs+、好ましくはK+及びNa+からなる群から選択され、ここでx+y=nであり、M1のモル分率は、0.70よりも大きく、1であってもよく、ここでM1はM2よりも大きな原子量を有する。ある種の混合物は、M1とM2が均等であるような一定量の構造を含んでいてもよい(例えば、ある種のジナトリウム種又はジカリウム種が存在していてもよい。)
を有する30重量%〜80重量%の第一成分、並びに、
b)20重量%〜70重量%の極性溶媒。
ここで、前記重量%は、前記第一成分と前記極性溶媒の合計量を基準とする。
Na2HEIDAを適量の水で希釈することにより、25重量%のNa2HEIDAを含む混合物を調製する。工場での装置と手順をシミュレートするために、ステンレス鋼製の遠心ポンプ、ステンレス製ライン及び取付部品(fitting)、及び10μmの濾材を備えた実験装置を、取付部品及びバルブを用いて組み立てる。前記組成物の一部を、約10℃、0℃及び−10℃でそれぞれ処理し、次いで−12℃の冷凍装置に12時間置くことにより、結晶化又は凍結について試験する。冷凍装置内に維持した後の各組成物についての試験の結果、かなりの量の固体が生成している。
Na2HEIDAを適量の水で希釈することにより、40重量%のNa2HEIDAを含む混合物を調製する。工場での装置と手順をシミュレートするために、ステンレス鋼製の遠心ポンプ、ステンレス製ライン及び取付部品、及び10μmの濾材を備えた実験装置を、取付部品及びバルブを用いて組み立てる。前記組成物の一部を、約10℃、0℃及び−10℃で処理し、次いで−12℃の冷凍装置に12時間置くことにより、結晶化又は凍結について試験する。冷凍装置内に維持した後の組成物についての試験の結果、かなりの量の固体が生成している。
Na2HEIDAを適量の水で希釈することにより、55重量%のNa2HEIDAを含む混合物を調製する。工場での装置と手順をシミュレートするために、ステンレス鋼製の遠心ポンプ、ステンレス製ライン及び取付部品、及び10μmの濾材を備えた実験装置を、取付部品及びバルブを用いて組み立てる。前記組成物の一部を、約10℃、0℃及び−10℃で処理する。0℃及び−10℃で処理する場合には、溶液にポンプを使用することはできない。10℃で処理する溶液には、実験装置内でポンプを使用することができる。10℃、0℃及び−10℃で処理した溶液は、次いで−12℃の冷凍装置に12時間置くことにより、固体の生成について試験する。冷凍装置内に維持した後の組成物についての試験の結果、かなりの量の固体が生成している。
15.54重量%のK2HEIDAと9.46重量%のNa2HEIDAを水と混合することにより、式(K)1.2(Na)0.8(HEIDA)のHEIDA種25重量%を含む組成物を調製する。組成物は、比較例7〜9に記載するのと実質的に同様の方法により−10℃で処理する。−12℃で12時間保管した後には、前記組成物はかなりの量の固体を形成している。
17.97重量%のK2HEIDAと7.03重量%のNa2HEIDAを水と混合することにより、式(K)1.4(Na)0.6(HEIDA)のHEIDA種25重量%を含む組成物を調製する。組成物は、比較例7〜9に上記するのと実質的に同様の方法により−10℃で処理する。−12℃で12時間保管した後には、前記組成物はかなりの量の固体を形成している。
20.35重量%のK2HEIDAと4.65重量%のNa2HEIDAを水と混合することにより、式(K)1.6(Na)0.4(HEIDA)のHEIDA種25重量%を含む組成物を調製する。組成物は、比較例7〜9に上記するのと実質的に同様の方法により−10℃で処理する。−12℃で12時間保管した後には、前記組成物はかなりの量の固体を形成している。
22.70重量%のK2HEIDAと2.30重量%のNa2HEIDAを水と混合することにより、式(K)1.8(Na)0.2(HEIDA)のHEIDA種25重量%を含む組成物を調製する。組成物は、比較例7〜9に上記するのと実質的に同様の方法により−10℃で処理する。−12℃で12時間保管した後には、前記組成物はかなりの量の固体を形成している。
25.0重量%のK2HEIDAを水と混合することにより、25重量%のK2HEIDAを含む組成物を調製する。組成物は、比較例7〜9に上記するのと実質的に同様の方法により−10℃で処理する。−12℃で12時間保管した後には、前記組成物はかなりの量の固体を形成している。
24.86重量%のK2HEIDAと15.14重量%のNa2HEIDAを水と混合することにより、式(K)1.2(Na)0.8(HEIDA)のHEIDA種40重量%を含む組成物を調製する。組成物は、比較例7〜9に上記するのと実質的に同様の方法により−10℃で処理する。−12℃で12時間保管した後には、前記組成物は固体を形成している。
28.75重量%のK2HEIDAと11.25重量%のNa2HEIDAを水と混合することにより、式(K)1.4(Na)0.6(HEIDA)のHEIDA種40重量%を含む組成物を調製する。組成物は、比較例7〜9に上記するのと実質的に同様の方法により−10℃で処理する。−12℃で12時間保管した後には、前記組成物は固体を形成している。
32.57重量%のK2HEIDAと7.43重量%のNa2HEIDAを水と混合することにより、式(K)1.6(Na)0.4(HEIDA)のHEIDA種40重量%を含む組成物を調製する。組成物は、比較例7〜9に上記するのと実質的に同様の方法により−10℃で処理する。−12℃で12時間保管した後には、前記組成物は固体を形成していなかった。
36.32重量%のK2HEIDAと3.68重量%のNa2HEIDAを水と混合することにより、式(K)1.8(Na)0.2(HEIDA)のHEIDA種40重量%を含む組成物を調製する。組成物は、比較例7〜9に上記するのと実質的に同様の方法により−10℃で処理する。−12℃で12時間保管した後には、前記組成物は固体を形成していなかった。
40.0重量%のK2HEIDAを水と混合することにより、40重量%のK2HEIDAを含む組成物を調製する。組成物は、比較例7〜9に上記するのと実質的に同様の方法により−10℃で処理する。−12℃で12時間保管した後には、前記組成物は固体を形成していなかった。
34.19重量%のK2HEIDAと20.81重量%のNa2HEIDAを水と混合することにより、式(K)1.2(Na)0.8(HEIDA)のHEIDA種55重量%を含む組成物を調製する。組成物は、比較例7〜9に上記するのと実質的に同様の方法により−10℃で処理する。−12℃で12時間保管した後には、前記組成物は固体を形成している。
39.53重量%のK2HEIDAと15.47重量%のNa2HEIDAを水と混合することにより、式(K)1.4(Na)0.6(HEIDA)のHEIDA種55重量%を含む組成物を調製する。組成物は、比較例7〜9に上記するのと実質的に同様の方法により−10℃で処理する。−12℃で12時間保管した後には、前記組成物は固体を形成している。
44.78重量%のK2HEIDAと10.22重量%のNa2HEIDAを水と混合することにより、式(K)1.6(Na)0.4(HEIDA)のHEIDA種55重量%を含む組成物を調製する。組成物は、比較例7〜9に上記するのと実質的に同様の方法により−10℃で処理する。−12℃で12時間保管した後には、前記組成物は固体を形成している。
49.93重量%のK2HEIDAと5.07重量%のNa2HEIDAを水と混合することにより、式(K)1.8(Na)0.2(HEIDA)のHEIDA種55重量%を含む組成物を調製する。組成物は、比較例7〜9に上記するのと実質的に同様の方法により−10℃で処理する。−12℃で12時間保管した後には、前記組成物は固体を形成していなかった。
55.0重量%のK2HEIDAを水と混合することにより、55重量%のK2HEIDAを含む組成物を調製する。組成物は、比較例7〜9に上記するのと実質的に同様の方法により−10℃で処理する。−12℃で12時間保管した後には、前記組成物は固体を形成していなかった。
式(M1)x(M2)y(HOCH2CH2N(R)(CH2COO))-n中、(ただし、M1のモル分率が0.8であり、Rは主に−CH2COOであり、Rのわずかな部分は水素でもある。)を有するHEIDA種を約39〜40%含む組成物を以下のように調製する。 61.09gのヒドロキシエチルアミンと201.97gの45%KOH、32.88gの50%NaOH、及び約250gの脱イオン水をステンレススチール製の反応器中で混合する。約100℃の温度で撹拌及び加熱する間、グリコロニトリル水溶液(約285g、40%活性)をゆっくりと添加する。アンモニア副生物の除去を促進するために、反応溶液中に空気を散布(sparge)する。適切な液体体積を維持するのに必要な量の水を添加する。反応終了後溶液を冷却し、脱イオン水を添加して、(K)1.6(Na)0.4(HEIDA)約39重量%と(K)0.8(Na)0.2(HOCH2CH2N(H)(CH2COO)約1重量%の最終濃度を達成した。M1のモル分率が0.7よりも大きくなるような範囲のモル比を有する生成物を、適量のアルカリ金属源を使用することにより、上記と同様の方法で調製する。式(M1)x(M2)y(HOCH2CH2N(R)(CH2COO))-n(式中、Rは−(CH2COO)又は水素であり、Rは主に(−CH2COO)であるか、又はRは基本的に全て(−CH2COO)である)中、M1の最終的なモル分率が0.7よりも大きい限り、前記アルカリ金属の成分は、別々に又は混合物として添加してもよく、追加的に(incrementally)又は連続的に添加してもよい。
Consumer Specialties Manufacturers Association DCC−16(CSMA Detergents Division Test Methods Compendium−第3版−1995年5月−第I−51〜I−55頁)「Guidelines for Evaluating the Efficacy of Bathroom Cleaners,Part2:Scrubber Test for Measuring the Removal of Lime Soap.」に記載された操作手順に従い、黒のセラミックタイル(ANSI標準A371.1を満たす。4.25平方インチ)に汚れを付ける。タイル洗浄試験で使用する汚れ混合物中に主に存在する金属は、カルシウム、次いでマグネシウムであり、不溶性の著しいステアリン酸塩(せっけんかす)として存在する。洗浄溶液の組成物は、先の実施例に記載したように調製される。洗浄装置内の汚れたタイルの表面に、1gの洗浄溶液をスプレーし、30秒間放置する。次いでタイルを、予め湿らせたスポンジを用い454gの力で6サイクルこする(汚れたタイル上を合計12回通過)。その後タイルを水で洗い流し、風乾させる。パネリストにより、タイルの清浄度が0〜5の段階で判定(「0」は完全に汚れている状態であり、「5」は完全に洗浄された状態)され、観察結果は平均化される。結果を以下の表4に示す。
Claims (4)
- キレート化組成物であって、
a)極性溶媒20重量%〜70重量%、及び
b)式
各R′は、個別に、水素、非置換又は不活性置換されたアルキル基、カルボニル含有アルキル基、カルボキシレート含有アルキル基、ヒドロキシアルキル基及びアルコキシ基からなる群から選択され、
R″は、1〜10個の炭素原子を有し、非置換若しくは不活性置換されたアルキル基、カルボニル置換アルキル基、カルボキシレート含有アルキル基、ヒドロキシアルキル基及びアルコキシ基、又は水素からなる群から選択され、
M1及びM2は、個別に、Na+及びK+からなる群から選択され、ここでM1はM2よりも大きな原子量を有し、
式中、x+y=nであり、M1のモル分率は0.85〜1である。)
を有する第一成分30重量%〜80重量%(ただし、重量%は、前記第一成分および前記極性溶媒の量を基準とする。)
を含む組成物。 - 前記M1のモル分率が0.85〜0.95である、請求項1に記載の組成物。
- 水性の硬表面洗浄用組成物であって、
(a)陰イオン性、非イオン性、陽イオン性、もしくは両性の界面活性剤、又はそれらの混合物(ただし、第四級アンモニウム界面活性剤を含んでいてもよく、前記界面活性剤の合計量が洗浄用組成物の0.05〜15重量%である。)、
(b)25℃で少なくとも0.001mmHgの蒸気圧を有する少なくとも1種の水溶性又は分散性有機溶媒(ただし、前記少なくとも1種の有機溶媒が洗浄用組成物の1〜50重量%の量で存在する。)、
(c)式
各R′は、個別に、水素、非置換又は不活性置換されたアルキル基、カルボニル含有アルキル基、カルボキシレート含有アルキル基、ヒドロキシアルキル基及びアルコキシ基からなる群から選択され、
R″は、1〜10個の炭素原子を有し、非置換若しくは不活性置換されたアルキル基、カルボニル置換アルキル基、カルボキシレート含有アルキル基、ヒドロキシアルキル基及びアルコキシ基、又は水素からなる群から選択され、
M1及びM2は、個別に、Na+及びK+からなる群から選択され、ここでM1はM2よりも大きな原子量を有し、
式中、x+y=nであり、M1のモル分率は0.85〜1である。)
を有する1種又は2種以上の成分に由来するキレート化剤(ただし、キレート化剤は、キレート化剤と水の合計量を基準として30〜80重量%の量で存在する。)、並びに
(d)水
を含む洗浄用組成物。 - (a)表面を請求項3に記載の洗浄用組成物と接触させること、及び
(b)前記表面から前記組成物を除去すること
を含む、表面を洗浄する方法。
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