JP5560862B2 - 炭化珪素単結晶インゴットの製造装置 - Google Patents
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Description
炭化珪素単結晶の作製法の一つに昇華再結晶法(レーリー法)がある。昇華再結晶法は、2000℃を超える高温において炭化珪素粉末を昇華させ、その昇華ガスを低温部に再結晶化させることにより、炭化珪素結晶を製造する方法である。炭化珪素単結晶からなる種結晶を用いて、炭化珪素単結晶を製造する方法は、特に改良レーリー法と呼ばれ(非特許文献1)、バルク状の炭化珪素単結晶の製造に利用されている。改良レーリー法では、種結晶を用いているため結晶の核形成過程が制御でき、また不活性ガスによる雰囲気圧力を10Paから15kPa程度に制御することにより、結晶の成長速度等を再現性良くコントロールできる。一般に、原料と結晶の温度差を適切に制御して、炭化珪素単結晶の成長が行われている。得られた炭化珪素単結晶は基板としての規格の形状にするために、研削、切断、研磨といった加工が施され、電子材料の基板として利用される。
実施例1においては、図2に示す製造装置S1において、外径が130mmであって、内部の結晶成長空間の直径が105mmの大きさの坩堝1を用意し、この坩堝1と断熱材5との間の空隙6の大きさを10mmに設定し、接続部7についてはねじ結合により連結した。
また、断熱材には昇華ガスからの析出物の付着が少なく(従来に比べて、1/10程度の付着量)、結晶成長の間、断熱性能が維持されていたことが観察された。
実施例2においては、図3に示す製造装置S2において、外径が130mmであって結晶成長空間の直径が105mmの大きさを有し、また、接続部7がねじ結合により連結された坩堝1を用意し、実施例1の場合と同様にして、この坩堝1内に原料2と種結晶3を配置した。また、この坩堝1の外側には、前記実施例1の場合と同様にして坩堝1と断熱材5を調整し、坩堝1と断熱材5との間に15mmの大きさの空隙6を形成し、また、上部貫通孔8a及び下部貫通孔8bを形成し、更に、切欠き孔9を形成した。
また、断熱材には昇華ガスからの析出物の付着が少なく、結晶成長の間、断熱性能が維持されていたことが観察された。
実施例3においては、図6に示す製造装置S5において、外径が100mmであって結晶成長空間の直径が80mmの大きさを有し、また、接続部7がねじ結合により連結された坩堝1を用意し、実施例1の場合と同様にして、この坩堝1内に原料2と口径80mmの(0001)面を有する4Hポリタイプの炭化珪素単結晶ウェハからなる種結晶3とを配置した。
また、断熱材には昇華ガスからの析出物の付着が少なく、結晶成長の間、断熱性能が維持されていたことが観察された。
実施例1と比較するために、図2に示す製造装置S1において、坩堝側面に空隙を設けることなく断熱材を坩堝側面に密着するように配置したこと以外は、前記実施例1と同様にして、炭化珪素単結晶インゴットの製造を行った。
得られた単結晶インゴットは、その口径が105mm程度で高さが25mm程度であった。
図3に示す製造装置S2において、坩堝と断熱材との間に4mmの大きさの空隙を設定した以外は、前記実施例2と同様にして、炭化珪素単結晶インゴットの製造を行った。
得られた単結晶インゴットは、その口径が105mm程度で高さが30mm程度であった。
図6に示す製造装置S5において、坩堝と断熱材との間に50mmの大きさの空隙を設定した以外は、前記実施例3と同様にして、炭化珪素単結晶インゴットの製造を行った。
Claims (3)
- 昇華再結晶法により炭化珪素単結晶インゴットを製造する装置であり、坩堝とその蓋部上面、周壁部外側面、及び底壁部外面を含む坩堝の外面を覆う断熱材とを備え、前記坩堝と前記周壁部外側面を覆う断熱材との間に空隙を有し、該空隙が軸対称な坩堝径方向に5〜40mmの幅寸法を有すると共に、前記坩堝の蓋部上方において断熱材の上部に形成された上下方向に貫通する貫通孔を介して断熱材外部に連通することを特徴とする炭化珪素単結晶インゴットの製造装置。
- 前記断熱材外部に連通する貫通孔が、断熱材の上部に形成された貫通孔に加えて、断熱材の下部に設けられている請求項1に記載の炭化珪素単結晶の製造装置。
- 前記貫通孔の断面積が、坩堝側面に設けられた空隙の断面積の50〜150%の範囲内であることを特徴とする請求項1又は2に記載の炭化珪素単結晶の製造装置。
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