JP6128646B2 - 単結晶成長装置 - Google Patents
単結晶成長装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6128646B2 JP6128646B2 JP2013226863A JP2013226863A JP6128646B2 JP 6128646 B2 JP6128646 B2 JP 6128646B2 JP 2013226863 A JP2013226863 A JP 2013226863A JP 2013226863 A JP2013226863 A JP 2013226863A JP 6128646 B2 JP6128646 B2 JP 6128646B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crucible
- heat insulating
- insulating material
- single crystal
- opening
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
2Al(g)+N2(g) → 2AlN(s) …(2)
実施例1では、実施形態において説明した図1及び図2に示す製造装置1を用いて種結晶5上に窒化アルミニウム単結晶6を成長させた。
実施例2〜5では、第2の空間224の高さh2をそれぞれ25[mm],30[mm],35[mm],40[mm]としたことを除いて、実施例1と同様の条件で窒化アルミニウム単結晶を製造し、当該製造装置1の第2の窓部34への昇華ガスの析出の有無を確認することで、昇華ガスの漏洩の有無の判定を行った。表1に示すように、実施例2〜5においても、第2の開口223を介した第2の空間224から外部への昇華ガスの漏洩がなかった
比較例1〜3では、第2の空間224の高さh2をそれぞれ5[mm],10[mm],15[mm]としたことを除いて、実施例1と同様の条件で窒化アルミニウム単結晶を製造し、当該製造装置1の第2の窓部34への昇華ガスの析出の有無を確認することで、昇華ガスの漏洩の有無の判定を行った。表1に示すように、この比較例1〜3では、昇華ガスが第2の開口223を介して第2の空間224から外部に漏洩していた。
2…原料
5…種結晶
6…窒化アルミニウム単結晶
10…坩堝
11…容器本体
12…蓋体
20…断熱材
21…第1の断熱材
211…第1の筒部
212…第1の底部
213…開口
214…第1の蓋部
215…第1の開口
216…第1の空間
22…第2の断熱材
221…第2の筒部
222…第2の蓋部
223…第2の開口
224…第2の空間
30…結晶成長炉
33,34…窓部
40…ガス供給装置
50…減圧装置
60…誘導コイル
71,72…温度計
Claims (3)
- 昇華再結晶法によって単結晶を製造する単結晶製造装置であって、
原料を収容する容器本体と、前記容器本体の上部開口を覆うと共に前記原料に対向するように種結晶を保持する蓋体と、を有する坩堝と、
前記坩堝を覆うと共に、第1の開口を有する第1の断熱材と、
前記第1の断熱材の上部に設けられていると共に、第2の開口を有する第2の断熱材と、
前記坩堝、前記第1の断熱材、及び前記第2の断熱材を収容すると共に、温度計測用の窓部を有する結晶成長炉と、
前記結晶成長炉の外側に設けられ、前記第1の開口、前記第2の開口、及び前記窓部を介して、前記坩堝の温度を計測する温度計測手段と、を備えており、
前記蓋体と前記第1の断熱材との間に第1の空間が形成され、
前記第1の断熱材と前記第2の断熱材との間に第2の空間が形成されていることを特徴とする単結晶製造装置。 - 請求項1に記載の単結晶製造装置であって、
前記第2の空間の高さは、20[mm]以上であることを特徴とする単結晶製造装置。 - 請求項1又は2に記載の単結晶製造装置であって、
前記第2の断熱材は、
前記第1の断熱材の上部から上方に向かって延在する円筒形状の筒部と、
前記筒部の上端に設けられ、前記第2の開口が形成された蓋部と、を有することを特徴とする単結晶製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013226863A JP6128646B2 (ja) | 2013-10-31 | 2013-10-31 | 単結晶成長装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013226863A JP6128646B2 (ja) | 2013-10-31 | 2013-10-31 | 単結晶成長装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015086115A JP2015086115A (ja) | 2015-05-07 |
JP6128646B2 true JP6128646B2 (ja) | 2017-05-17 |
Family
ID=53049299
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013226863A Active JP6128646B2 (ja) | 2013-10-31 | 2013-10-31 | 単結晶成長装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6128646B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7494468B2 (ja) * | 2019-12-26 | 2024-06-04 | 株式会社レゾナック | 坩堝および単結晶製造装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3491430B2 (ja) * | 1996-02-15 | 2004-01-26 | 株式会社デンソー | 単結晶製造装置 |
WO2007038710A2 (en) * | 2005-09-28 | 2007-04-05 | Ii-Vi Incorporated | Intra-cavity gettering of nitrogen in sic crystal growth |
JP2007204309A (ja) * | 2006-02-01 | 2007-08-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 単結晶成長装置及び単結晶成長方法 |
JP2008074653A (ja) * | 2006-09-20 | 2008-04-03 | Bridgestone Corp | 炭化ケイ素単結晶製造装置 |
JP4831128B2 (ja) * | 2008-05-26 | 2011-12-07 | パナソニック株式会社 | 結晶成長用坩堝 |
JP5560862B2 (ja) * | 2010-04-07 | 2014-07-30 | 新日鐵住金株式会社 | 炭化珪素単結晶インゴットの製造装置 |
-
2013
- 2013-10-31 JP JP2013226863A patent/JP6128646B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015086115A (ja) | 2015-05-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN109943885B (zh) | 碳化硅单晶基板和碳化硅外延基板 | |
US9777400B2 (en) | Method for producing single crystal | |
JP2021011423A (ja) | 高品質半導体単結晶の水平成長のためのシステム、およびそれを製造する方法 | |
US9777401B2 (en) | Method for producing single crystal | |
CN112708933B (zh) | 一种晶体制备方法 | |
JP7076487B2 (ja) | 複数の高品質半導体単結晶を効率的に製造するシステム、およびそれを製造する方法 | |
US20160155808A1 (en) | Method of manufacturing silicon carbide single crystal and silicon carbide single crystal substrate | |
JP6128646B2 (ja) | 単結晶成長装置 | |
JP6180024B2 (ja) | 単結晶製造装置及び単結晶の製造方法 | |
JP2014201498A (ja) | 炭化珪素単結晶の製造方法 | |
KR101842487B1 (ko) | 도가니 및 단결정 육성 장치 및 단결정 육성 방법 | |
CN110878423B (zh) | 晶体生长装置 | |
JP2015229608A (ja) | 単結晶製造装置 | |
JP6861557B2 (ja) | 炭化珪素単結晶インゴットの製造装置及び炭化珪素単結晶インゴットの製造方法 | |
JP2015171976A (ja) | 単結晶製造装置 | |
JP2015054799A (ja) | 窒化アルミニウム単結晶の製造装置 | |
JP6214038B2 (ja) | 窒化アルミニウム単結晶の製造方法 | |
JP2008280206A (ja) | 単結晶成長装置 | |
JP2015166298A (ja) | 単結晶製造装置及び単結晶製造方法 | |
JP2015086114A (ja) | 単結晶製造装置及び単結晶の製造方法 | |
JP2015168600A (ja) | Iii族窒化物単結晶製造装置及び製造方法 | |
JP5573753B2 (ja) | SiC成長装置 | |
JP2016020286A (ja) | AlN単結晶の製造方法及びAlN単結晶を成長させるための基材 | |
JP2010090013A (ja) | 炭化珪素単結晶の製造方法 | |
JP6474670B2 (ja) | 単結晶の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160621 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160617 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170309 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170321 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170407 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6128646 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |