JP5535530B2 - アレイ基板及びアレイ基板の断線修復方法 - Google Patents
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Description
ステップ11:基板にゲート金属層を堆積し、パターニング工程によりゲート金属層に対してパターニングを行い、基板にゲートラインとゲート電極パターンを形成するとともに、一つの画素の行において2つの隣接する画素領域の間に、少なくとも1つの第1クロススティックパターンを形成し、前記第1クロススティックは、一端が左側の形成する画素電極と重なり、他端が右側の形成する画素電極と重なり、中部が形成するデータラインと重なる。
ステップ12:ステップ11を経た基板にゲート絶縁層と、半導体層と、ドップ半導体層とを連続に堆積し、パターニング工程により半導体層とドップ半導体層に対してパターニングを行い、ゲート電極に活性層パターンを形成する。
ステップ13:ステップ12を経た基板にソースドレイン金属層を堆積し、パターニング工程によりソースドレイン金属層に対してパターニングを行い、データラインと、ソース電極と、ドレイン電極と、TFTチャネル領域パターンとを形成するとともに、一つの画素の列において2つの隣接する画素領域の間に少なくとも1つの第2クロススティックパターンを形成し、前記第2クロススティックは、一端が上側の形成する画素電極と重なり、他端が下側の形成する画素電極と重なり、中部がゲートラインと重なる。
ステップ14:ステップ13を経た基板にパッシベーション層を堆積し、パターニング工程によりパッシベーション層に対してパターニングを行い、ドレイン電極の位置にパッシベーション層のビアーホールを形成する。
ステップ15:ステップ14を経た基板に透明導電層を堆積し、パターニング工程により透明導電層に対してパターニングを行って画素電極を形成し、画素電極はパッシベーション層のビアーホールを介してドレイン電極と連結する。
ステップ21:基板にゲート金属層を堆積し、パターニング工程によりゲート金属層に対してパターニングを行い、基板にゲートラインとゲート電極パターンを形成するとともに、一つの画素の行において2つ隣接する画素領域の間に、少なくとも2つの第1クロススティックパターンを形成し、前記第1クロススティックは、一端が左側の形成する画素電極と重なり、他端が右側の形成する画素電極と重なり、中部が形成するデータラインと重なる。
ステップ22:ステップ21を経た基板にゲート絶縁層と、半導体層と、ドップ半導体層とを連続に堆積し、パターニング工程により半導体層とドップ半導体層に対してパターニングを行い、ゲート電極に活性層パターンを形成する。
ステップ23:ステップ22を経た基板にソースドレイン金属層を堆積し、パターニング工程によりソースドレイン金属層に対してパターニングを行い、データラインと、ソース電極と、ドレイン電極と、TFTチャネル領域パターンとを形成する。
ステップ24:ステップ23を経た基板にパッシベーション層を堆積し、パターニング工程によりパッシベーション層に対してパターニングを行い、ドレイン電極の位置にパッシベーション層のビアーホールを形成する。
ステップ25:ステップ24を経た基板に透明導電層を堆積し、パターニング工程により透明導電層に対してパターニングを行って画素電極を形成し、画素電極はパッシベーション層のビアーホールを介してドレイン電極と連結する。
ステップ31:基板にゲート金属層を堆積し、パターニング工程によりゲート金属層に対してパターニングを行い、基板にゲートラインとゲート電極パターンを形成する。
ステップ32:ステップ31を経た基板にゲート絶縁層と、半導体層と、ドップ半導体層とを連続に堆積し、パターニング工程により半導体層とドップ半導体層に対してパターニングを行い、ゲート電極に活性層パターンを形成する。
ステップ33:ステップ32を経た基板にソースドレイン金属層を堆積し、パターニング工程によりソースドレイン金属層に対してパターニングを行い、データラインと、ソース電極と、ドレイン電極と、TFTチャネル領域パターンとを形成するとともに、一つの画素の列において2つの隣接する画素領域の間に、少なくとも2つの第2クロススティックパターンを形成し、前記第2クロススティックは、一端が上側の形成する画素電極と重なり、他端が下側の形成する画素電極と重なり、中部がゲートラインと重なる。
ステップ34:ステップ33を経た基板にパッシベーション層を堆積し、パターニング工程によりパッシベーション層に対してパターニングを行い、ドレイン電極の位置にパッシベーション層のビアーホールを形成する。
ステップ35:ステップ34を経た基板に透明導電層を堆積し、パターニング工程により透明導電層に対してパターニングを行って画素電極を形成し、画素電極はパッシベーション層のビアーホールを介してドレイン電極と連結する。
ステップ111:データライン断点の位置を確定する。
ステップ112:前記データライン断点の位置に基づき、一つの画素の列において第1画素領域、第2画素領域という2つの隣接する画素領域を選択し、前記2つの画素領域はいずれも前記データラインの同一側に位置する。
ステップ113:レーザ溶接方法により、前記第1画素領域に位置する画素電極を第1クロススティックと溶接し、且つ前記第1クロススティックを前記データライン断点の片側のデータラインと溶接し、データライン断点の片側のデータラインと第1画素領域内の画素電極との連結を設ける。
ステップ114:レーザ溶接方法により、前記第2画素領域に位置する画素電極を第1クロススティックと溶接し、且つ前記第1クロススティックを前記データライン断点の他側のデータラインと溶接し、データライン断点の他側のデータラインと第2画素領域内の画素電極との連結を設ける。
ステップ115:レーザ溶接方法により、前記第1画素領域に位置する画素電極を第2クロススティックと溶接し、前記第2画素領域に位置する画素電極を同一の第2クロススティックと溶接し、2つの画素領域内の画素電極の連結を設ける。
ステップ116:レーザ切断方法により、前記第1画素領域と第2画素領域内のTFTを失効させる。
ステップ121:ゲートライン断点の位置を確定する。
ステップ122:前記ゲートライン断点の位置に基づき、一つの画素の行において第1画素領域、第2画素領域という2つの隣接する画素領域を選択し、前記2つの画素領域はいずれも前記ゲートラインの同一側に位置する。
ステップ123:レーザ溶接方法により、前記第1画素領域に位置する画素電極を第2クロススティックと溶接し、且つ前記第2クロススティックを前記ゲートライン断点の片側のゲートラインと溶接し、ゲートライン断点の片側のゲートラインと第1画素領域内の画素電極との連結を設ける。
ステップ124:レーザ溶接方法により、前記第2画素領域に位置する画素電極を第2クロススティックと溶接し、且つ前記第2クロススティックを前記ゲートライン断点の他側のゲートラインと溶接し、ゲートライン断点の他側のゲートラインと第2画素領域内の画素電極との連結を設ける。
ステップ125:レーザ溶接方法により、前記第1画素領域に位置する画素電極を第1クロススティックと溶接し、前記第2画素領域に位置する画素電極を同一の第1クロススティックと溶接し、2つの画素領域内の画素電極の連結を設ける。
ステップ126:レーザ切断方法により、前記第1画素領域と第2画素領域内のTFTを失効させる。
ステップ131:データライン断点の位置を確定する。
ステップ132:前記データライン断点の位置に基づき、データライン断点が位置する断点画素領域を選択する。
ステップ133:レーザ溶接方法により、前記データライン断点の片側のデータラインを当該側に位置する第1クロススティックと溶接し、且つ前記第1クロススティックを前記断点画素領域に位置する画素電極と溶接する。レーザ溶接方法により、前記データライン断点の他側のデータラインを当該側に位置する第1クロススティックと溶接し、且つ前記第1クロススティックを前記断点画素領域に位置する画素電極と溶接する。データライン断点の両側のデータラインと同一の画素電極との連結を設ける。
ステップ134:レーザ切断方法により、前記断点画素領域内のTFTを失効させる。
ステップ141:ゲートライン断点の位置を確定する。
ステップ142:前記ゲートライン断点の位置に基づき、ゲートライン断点が位置する断点画素領域を選択する。
ステップ143:レーザ溶接方法により、前記ゲートライン断点の片側のゲートラインを当該側に位置する第2クロススティックと溶接し、且つ前記第2クロススティックを前記断点画素領域に位置する画素電極と溶接する。レーザ溶接方法により、前記ゲートライン断点の他側のゲートラインを当該側に位置する第2クロススティックと溶接し、且つ前記第2クロススティックを前記断点画素領域に位置する画素電極と溶接する。ゲートライン断点の両側のゲートラインと同一の画素電極との連結を設ける。
ステップ144:レーザ切断方法により、前記断点画素領域内のTFTを失効させる。
ステップ151:データライン断点の位置を確定する。
ステップ152:データライン断点は同一の画素電極の2つの第1クロススティックの間に位置するか否かを判断し、その間に位置する場合はステップ153を行い、位置しない場合はステップ154を行う。
ステップ153:断線修復方法の第3実施例におけるステップ132〜134を行う。
ステップ154:断線修復方法の第1実施例におけるステップ112〜116を行う。
ステップ161:ゲートライン断点の位置を確定する。
ステップ162:データライン断点は同一の画素電極の2つの第2クロススティックの間に位置するか否かを判断し、その間に位置する場合はステップ163を行い、位置しない場合はステップ164を行う。
ステップ163:断線修復方法の第4実施例におけるステップ142〜144を行う。
ステップ164:断線修復方法の第2実施例におけるステップ122〜126を行う。
2 データライン
3 画素電極
4 第1クロススティック
5 第2クロススティック
6 データライン断点
7 ゲートライン断点
Claims (20)
- 相互に平行する複数の第1信号ラインと、相互に平行する複数の第2信号ラインとを備えるアレイ基板であって、
前記複数の第1信号ラインと複数の第2信号ラインとは交差して幾つかの画素領域を限定し、各画素領域にスイッチデバイスとする薄膜トランジスタと画素電極が形成され、各薄膜トランジスタは1本の第1信号ラインと連結した第1端と、1本の第2信号ラインと連結した第2端と、前記画素電極と連結した第3端とを有し、
前記第2信号ラインの延伸方向に隣接する2つの画素領域の間に少なくとも1つの第1クロススティックが形成されており、前記第1クロススティックは、両端がそれぞれ前記2つの画素領域における画素電極と重なり、中部が前記2つの画素領域の間の第1信号ラインと重なり、
前記第1信号ラインの延伸方向に隣接する2つの画素領域の間に少なくとも1つの第2クロススティックが形成されており、前記第2クロススティックは、両端がそれぞれ前記2つの画素領域における画素電極と重なり、中部が前記2つの画素領域の間の第2信号ラインと重なることを特徴とするTFT−LCDアレイ基板。 - 前記第1クロススティックは前記第2信号ラインと同一の層に形成されることを特徴とする請求項1に記載のアレイ基板。
- 前記第2クロススティックは前記第1信号ラインと同一の層に形成されることを特徴とする請求項1又は2に記載のアレイ基板。
- 前記第1クロススティックと前記第2クロススティックとの幅は5μmよりも大きいことを特徴とする請求項1に記載のアレイ基板。
- アレイ基板の製造方法であって、
前記アレイ基板は相互に平行する複数の第1信号ラインと、相互に平行する複数の第2信号ラインとを備え、前記複数の第1信号ラインと複数の第2信号ラインとは交差して幾つかの画素領域を限定し、各画素領域にスイッチデバイスとする薄膜トランジスタと画素電極が形成され、各薄膜トランジスタは1本の第1信号ラインと連結した第1端と、1本の第2信号ラインと連結した第2端と、前記画素電極と連結した第3端とを有し、
前記方法は、前記第2信号ラインの延伸方向に隣接する2つの画素領域の間に少なくとも1つの第1クロススティックを形成し、前記第1クロススティックは、両端がそれぞれ前記2つの画素領域における画素電極と重なり、中部が前記2つの画素領域の間の第1信号ラインと重なるように形成するステップと、
前記第1信号ラインの延伸方向に隣接する2つの画素領域の間に少なくとも1つの第2クロススティックを形成し、前記第2クロススティックは、両端がそれぞれ前記2つの画素領域における画素電極と重なり、中部が前記2つの画素領域の間の第2信号ラインと重なるように形成するステップとを有することを特徴とするTFT−LCDアレイ基板の製造方法。 - 前記第1クロススティックは前記第2信号ラインと同一の層に同じ導電材料層で形成されることを特徴とする請求項5に記載のTFT−LCDアレイ基板の製造方法。
- 前記第2クロススティックは前記第1信号ラインと同一の層に同じ導電材料層で形成されることを特徴とする請求項5又は6に記載のTFT−LCDアレイ基板の製造方法。
- アレイ基板における断線を修復する方法であって、
前記アレイ基板は相互に平行する複数の第1信号ラインと、相互に平行する複数の第2信号ラインとを備え、前記複数の第1信号ラインと複数の第2信号ラインとは交差して幾つかの画素領域を限定し、各画素領域にスイッチデバイスとする薄膜トランジスタと画素電極が形成され、各薄膜トランジスタは1本の第1信号ラインと連結した第1端と、1本の第2信号ラインと連結した第2端と、前記画素電極と連結した第3端とを有し、
前記第2信号ラインの延伸方向に隣接する2つの画素領域の間に少なくとも1つの第1クロススティックを形成し、前記第1クロススティックは、両端がそれぞれ前記2つの画素領域における画素電極と重なり、中部が前記2つの画素領域の間の第1信号ラインと重なり、
前記第1信号ラインの延伸方向に隣接する2つの画素領域の間に少なくとも1つの第2クロススティックを形成し、前記第2クロススティックは、両端がそれぞれ前記2つの画素領域における画素電極と重なり、中部が前記2つの画素領域の間の第2信号ラインと重なり、
前記方法は、断線が発生する第1信号ライン、又は第2信号ラインにおける断点の位置を確定するステップと、
第1信号ラインに断線が発生した場合には、レーザ溶接方法により、前記断点の両側の、前記断点に隣接する2つの第1クロススティックをそれぞれ断線が発生した第1信号ラインの同側における対応する2つの画素電極に連結し、断線が発生した第1信号ラインに連結し、更に、対応する2つの画素電極をその間の第2クロススティックを介して連結し、その後、レーザ切断方法により、対応する2つの画素電極に対応する薄膜トランジスタを失効させ、
第2信号ラインに断線が発生した場合には、レーザ溶接方法により、前記断点の両側の、前記断点に隣接する2つの第2クロススティックをそれぞれ断線が発生した第2信号ラインの同側における対応する2つの画素電極に連結し、断線が発生した第2信号ラインに連結し、更に、対応する2つの画素電極をその間の第1クロススティックを介して連結し、その後、レーザ切断方法により、対応する2つの画素電極に対応する薄膜トランジスタを失効させるステップと、を有することを特徴とする断線修復の方法。 - 対応する2つの画素電極に対応する薄膜トランジスタを失効させる工程は、前記薄膜トランジスタの端部と対応する1本の第1信号ライン、1本の第2信号ライン、又は画素電極との連結を切断するステップを有することを特徴とする請求項8に記載の断線修復の方法。
- 相互に平行する複数の第1信号ラインと、相互に平行する複数の第2信号ラインとを備えるアレイ基板であって、
前記複数の第1信号ラインと複数の第2信号ラインとは交差して幾つかの画素領域を限定し、各画素領域にスイッチデバイスとする薄膜トランジスタと画素電極が形成され、各薄膜トランジスタは1本の第1信号ラインと連結した第1端と、1本の第2信号ラインと連結した第2端と、前記画素電極と連結した第3端とを有し、
前記第2信号ラインの延伸方向に隣接する2つの画素領域の間に少なくとも2つの第1クロススティックが形成されており、前記第1クロススティックは、両端がそれぞれ前記2つの画素領域における画素電極と重なり、中部が前記2つの画素領域の間の第1信号ラインと重なることを特徴とするTFT−LCDアレイ基板。 - 前記第1信号ラインの延伸方向に隣接する2つの画素領域の間に少なくとも1つの第2クロススティックが形成されており、前記第2クロススティックは、両端がそれぞれ前記2つの画素領域における画素電極と重なり、中部が前記2つの画素領域の間の第2信号ラインと重なることを特徴とする請求項10に記載のアレイ基板。
- 前記第1クロススティックは前記第2信号ラインと同一の層に形成されることを特徴とする請求項10又は11に記載のアレイ基板。
- 前記第2クロススティックは前記第1信号ラインと同一の層に形成されることを特徴とする請求項11に記載のアレイ基板。
- 前記第1クロススティックと前記第2クロススティックとの幅は5μmよりも大きいことを特徴とする請求項10又は11に記載のアレイ基板。
- アレイ基板の製造方法であって、
前記アレイ基板は相互に平行する複数の第1信号ラインと、相互に平行する複数の第2信号ラインとを備え、前記複数の第1信号ラインと複数の第2信号ラインとは交差して幾つかの画素領域を限定し、各画素領域にスイッチデバイスとする薄膜トランジスタと画素電極が形成され、各薄膜トランジスタは1本の第1信号ラインと連結した第1端と、1本の第2信号ラインと連結した第2端と、前記画素電極と連結した第3端とを有し、
前記方法は、前記第2信号ラインの延伸方向に隣接する2つの画素領域の間に少なくとも2つの第1クロススティックを形成し、前記第1クロススティックは、両端がそれぞれ前記2つの画素領域における画素電極と重なり、中部が前記2つの画素領域の間の第1信号ラインと重なるステップを有することを特徴とするTFT−LCDアレイ基板の製造方法。 - 前記第1信号ラインの延伸方向に隣接する2つの画素領域の間に少なくとも1つの第2クロススティックを形成し、前記第2クロススティックは、両端がそれぞれ前記2つの画素領域における画素電極と重なり、中部が前記2つの画素領域の間の第2信号ラインと重なるように形成することを特徴とする請求項15に記載のTFT−LCDアレイ基板の製造方法。
- 前記第1クロススティックは前記第2信号ラインと同一の層に同じ導電材料層で形成されることを特徴とする請求項15又は16に記載のTFT−LCDアレイ基板の製造方法。
- 前記第2クロススティックは前記第1信号ラインと同一の層に同じ導電材料層で形成されることを特徴とする請求項16に記載のTFT−LCDアレイ基板の製造方法。
- アレイ基板における断線を修復する方法であって、
前記アレイ基板は相互に平行する複数の第1信号ラインと、相互に平行する複数の第2信号ラインとを備え、前記複数の第1信号ラインと複数の第2信号ラインとは交差して幾つかの画素領域を限定し、各画素領域にスイッチデバイスとする薄膜トランジスタと画素電極が形成され、各薄膜トランジスタは1本の第1信号ラインと連結した第1端と、1本の第2信号ラインと連結した第2端と、前記画素電極と連結した第3端とを有し、
前記第2信号ラインの延伸方向に隣接する2つの画素領域の間に少なくとも2つの第1クロススティックを形成し、前記第1クロススティックは、両端がそれぞれ前記2つの画素領域における画素電極と重なり、中部が前記2つの画素領域の間の第1信号ラインと重なり、
前記方法は、断線が発生する第1信号ラインにおける断点が同一の画素領域の前記第2信号ラインの延伸方向に隣接する2つの第1クロススティックの間に位置することを確定するステップと、
レーザ溶接方法により、前記断点の両側の、前記断点に隣接する2つの第1クロススティックを断線が発生した第1信号ラインの同側における対応する画素電極に連結し、断線が発生した第1信号ラインに連結し、その後、レーザ切断方法により、前記画素電極に対応する薄膜トランジスタを失効させるステップとを有することを特徴とする断線修復の方法。 - 前記画素電極に対応する薄膜トランジスタを失効させる工程は、薄膜トランジスタの端部と対応する1本の第1信号ライン、1本の第2信号ライン、又は画素電極との連結を切断するステップを有することを特徴とする請求項19に記載の断線修復の方法。
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