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- 相互に平行する複数の第1信号ラインと、相互に平行する複数の第2信号ラインとを備えるアレイ基板であって、
前記複数の第1信号ラインと複数の第2信号ラインとは交差して幾つかの画素領域を限定し、各画素領域にスイッチデバイスとする薄膜トランジスタと画素電極が形成され、各薄膜トランジスタは1本の第1信号ラインと連結した第1端と、1本の第2信号ラインと連結した第2端と、前記画素電極と連結した第3端とを有し、
前記第2信号ラインの延伸方向に隣接する2つの画素領域の間に少なくとも1つの第1クロススティックが形成されており、前記第1クロススティックは、両端がそれぞれ前記2つの画素領域における画素電極と重なり、中部が前記2つの画素領域の間の第1信号ラインと重なり、
前記第1信号ラインの延伸方向に隣接する2つの画素領域の間に少なくとも1つの第2クロススティックが形成されており、前記第2クロススティックは、両端がそれぞれ前記2つの画素領域における画素電極と重なり、中部が前記2つの画素領域の間の第2信号ラインと重なることを特徴とするTFT−LCDアレイ基板。 - 前記第1クロススティックは前記第2信号ラインと同一の層に形成されることを特徴とする請求項1に記載のアレイ基板。
- 前記第2クロススティックは前記第1信号ラインと同一の層に形成されることを特徴とする請求項1又は2に記載のアレイ基板。
- 前記第1クロススティックと前記第2クロススティックとの幅は5μmよりも大きいことを特徴とする請求項1に記載のアレイ基板。
- アレイ基板の製造方法であって、
前記アレイ基板は相互に平行する複数の第1信号ラインと、相互に平行する複数の第2信号ラインとを備え、前記複数の第1信号ラインと複数の第2信号ラインとは交差して幾つかの画素領域を限定し、各画素領域にスイッチデバイスとする薄膜トランジスタと画素電極が形成され、各薄膜トランジスタは1本の第1信号ラインと連結した第1端と、1本の第2信号ラインと連結した第2端と、前記画素電極と連結した第3端とを有し、
前記方法は、前記第2信号ラインの延伸方向に隣接する2つの画素領域の間に少なくとも1つの第1クロススティックを形成し、前記第1クロススティックは、両端がそれぞれ前記2つの画素領域における画素電極と重なり、中部が前記2つの画素領域の間の第1信号ラインと重なるように形成するステップと、
前記第1信号ラインの延伸方向に隣接する2つの画素領域の間に少なくとも1つの第2クロススティックを形成し、前記第2クロススティックは、両端がそれぞれ前記2つの画素領域における画素電極と重なり、中部が前記2つの画素領域の間の第2信号ラインと重なるように形成するステップとを有することを特徴とするTFT−LCDアレイ基板の製造方法。 - 前記第1クロススティックは前記第2信号ラインと同一の層に同じ導電材料層で形成されることを特徴とする請求項5に記載のTFT−LCDアレイ基板の製造方法。
- 前記第2クロススティックは前記第2信号ラインと同一の層に同じ導電材料層で形成されることを特徴とする請求項5又は6に記載のTFT−LCDアレイ基板の製造方法。
- アレイ基板における断線を修復する方法であって、
前記アレイ基板は相互に平行する複数の第1信号ラインと、相互に平行する複数の第2信号ラインとを備え、前記複数の第1信号ラインと複数の第2信号ラインとは交差して幾つかの画素領域を限定し、各画素領域にスイッチデバイスとする薄膜トランジスタと画素電極が形成され、各薄膜トランジスタは1本の第1信号ラインと連結した第1端と、1本の第2信号ラインと連結した第2端と、前記画素電極と連結した第3端とを有し、
前記第2信号ラインの延伸方向に隣接する2つの画素領域の間に少なくとも1つの第1クロススティックを形成し、前記第1クロススティックは、両端がそれぞれ前記2つの画素領域における画素電極と重なり、中部が前記2つの画素領域の間の第1信号ラインと重なり、
前記第1信号ラインの延伸方向に隣接する2つの画素領域の間に少なくとも1つの第2クロススティックを形成し、前記第2クロススティックは、両端がそれぞれ前記2つの画素領域における画素電極と重なり、中部が前記2つの画素領域の間の第2信号ラインと重なり、
前記方法は、断線が発生する第1信号ライン、又は第2信号ラインにおける断点の位置を確定するステップと、
第1信号ラインに断線が発生した場合、レーザ溶接方法により、前記断点の両側の、前記断点に隣接する2つの第1クロススティックをそれぞれ断線が発生した第1信号ラインの同側における対応する2つの画素電極に連結し、断線が発生した第1信号ラインに連結し、更に、対応する2つの画素電極をその間の第2クロススティックを介して連結し、その後、レーザ切断方法により、対応する2つの画素電極に対応する薄膜トランジスタを失効させるステップと、又は、
第2信号ラインに断線が発生した場合、レーザ溶接方法により、前記断点の両側の、前記断点に隣接する2つの第2クロススティックをそれぞれ断線が発生した第2信号ラインの同側における対応する2つの画素電極に連結し、断線が発生した第2信号ラインに連結し、更に、対応する2つの画素電極をその間の第1クロススティックを介して連結し、その後、レーザ切断方法により、対応する2つの画素電極に対応する薄膜トランジスタを失効させるステップとを有することを特徴とする断線修復の方法。 - 対応する2つの画素電極に対応する薄膜トランジスタを失効させる工程は、前記薄膜トランジスタの端部と対応する1本の第1信号ライン、1本の第2信号ライン、又は画素電極との連結を切断するステップを有することを特徴とする請求項8に記載の断線修復の方法。
- 相互に平行する複数の第1信号ラインと、相互に平行する複数の第2信号ラインとを備えるアレイ基板であって、
前記複数の第1信号ラインと複数の第2信号ラインとは交差して幾つかの画素領域を限定し、各画素領域にスイッチデバイスとする薄膜トランジスタと画素電極が形成され、各薄膜トランジスタは1本の第1信号ラインと連結した第1端と、1本の第2信号ラインと連結した第2端と、前記画素電極と連結した第3端とを有し、
前記第2信号ラインの延伸方向に隣接する2つの画素領域の間に少なくとも2つの第1クロススティックが形成されており、前記第1クロススティックは、両端がそれぞれ前記2つの画素領域における画素電極と重なり、中部が前記2つの画素領域の間の第1信号ラインと重なることを特徴とするTFT−LCDアレイ基板。 - 前記第1信号ラインの延伸方向に隣接する2つの画素領域の間に少なくとも1つの第2クロススティックが形成されており、前記第2クロススティックは、両端がそれぞれ前記2つの画素領域における画素電極と重なり、中部が前記2つの画素領域の間の第2信号ラインと重なることを特徴とする請求項10に記載のアレイ基板。
- 前記第1クロススティックは前記第2信号ラインと同一の層に形成されることを特徴とする請求項10又は11に記載のアレイ基板。
- 前記第2クロススティックは前記第1信号ラインと同一の層に形成されることを特徴とする請求項11に記載のアレイ基板。
- 前記第1クロススティックと前記第2クロススティックとの幅は5μmよりも大きいことを特徴とする請求項10又は11に記載のアレイ基板。
- アレイ基板の製造方法であって、
前記アレイ基板は相互に平行する複数の第1信号ラインと、相互に平行する複数の第2信号ラインとを備え、前記複数の第1信号ラインと複数の第2信号ラインとは交差して幾つかの画素領域を限定し、各画素領域にスイッチデバイスとする薄膜トランジスタと画素電極が形成され、各薄膜トランジスタは1本の第1信号ラインと連結した第1端と、1本の第2信号ラインと連結した第2端と、前記画素電極と連結した第3端とを有し、
前記方法は、前記第2信号ラインの延伸方向に隣接する2つの画素領域の間に少なくとも2つの第1クロススティックを形成し、前記第1クロススティックは、両端がそれぞれ前記2つの画素領域における画素電極と重なり、中部が前記2つの画素領域の間の第1信号ラインと重なるステップを有することを特徴とするTFT−LCDアレイ基板の製造方法。 - 前記第1信号ラインの延伸方向に隣接する2つの画素領域の間に少なくとも1つの第2クロススティックを形成し、前記第2クロススティックは、両端がそれぞれ前記2つの画素領域における画素電極と重なり、中部が前記2つの画素領域の間の第2信号ラインと重なるように形成することを特徴とする請求項15に記載のTFT−LCDアレイ基板の製造方法。
- 前記第1クロススティックは前記第2信号ラインと同一の層に同じ導電材料層で形成されることを特徴とする請求項15又は16に記載のTFT−LCDアレイ基板の製造方法。
- 前記第2クロススティックは前記第1信号ラインと同一の層に同じ導電材料層で形成されることを特徴とする請求項16に記載のTFT−LCDアレイ基板の製造方法。
- アレイ基板における断線を修復する方法であって、
前記アレイ基板は相互に平行する複数の第1信号ラインと、相互に平行する複数の第2信号ラインとを備え、前記複数の第1信号ラインと複数の第2信号ラインとは交差して幾つかの画素領域を限定し、各画素領域にスイッチデバイスとする薄膜トランジスタと画素電極が形成され、各薄膜トランジスタは1本の第1信号ラインと連結した第1端と、1本の第2信号ラインと連結した第2端と、前記画素電極と連結した第3端とを有し、
前記第2信号ラインの延伸方向に隣接する2つの画素領域の間に少なくとも2つの第1クロススティックを形成し、前記第1クロススティックは、両端がそれぞれ前記2つの画素領域における画素電極と重なり、中部が前記2つの画素領域の間の第1信号ラインと重なり、
前記方法は、断線が発生する第1信号ラインにおける断点が同一の画素領域の前記第2信号ラインの延伸方向に隣接する2つの第1クロススティックの間に位置することを確定するステップと、
レーザ溶接方法により、前記断点の両側の、前記断点に隣接する2つの第1クロススティックを断線が発生した第1信号ラインの同側における対応する画素電極に連結し、断線が発生した第1信号ラインに連結し、その後、レーザ切断方法により、前記画素電極に対応する薄膜トランジスタを失効させるステップとを有することを特徴とする断線修復の方法。 - 前記画素電極に対応する薄膜トランジスタを失効させる工程は、薄膜トランジスタの端部と対応する1本の第1信号ライン、1本の第2信号ライン、又は画素電極との連結を切断するステップを有することを特徴とする請求項19に記載の断線修復の方法。
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CN102509720B (zh) * | 2011-12-15 | 2014-07-02 | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 | 一种有源矩阵有机发光显示器阵列基板数据线的修复方法 |
CN102402943A (zh) * | 2011-12-15 | 2012-04-04 | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 | 有源矩阵有机发光显示器的像素电路及其修补方法 |
US20130335662A1 (en) * | 2012-06-18 | 2013-12-19 | Tsunglung Chang | Hotspot Repair Method for LCD Panel and LCD Panel after Hotspot Repair |
CN102707467B (zh) * | 2012-06-18 | 2015-02-11 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶面板的亮点修补方法以及经亮点修补后的液晶面板 |
CN102914888B (zh) * | 2012-11-12 | 2015-02-11 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种修补液晶显示阵列基板断线的方法及装置 |
CN104460148B (zh) * | 2014-11-20 | 2017-09-01 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 提升不良检出率的像素结构及检测方法 |
CN104597640B (zh) * | 2015-02-12 | 2017-06-27 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 阵列基板及其断线修补方法 |
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KR102523911B1 (ko) * | 2016-02-05 | 2023-04-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
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Family Cites Families (15)
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JPH0786619B2 (ja) * | 1989-04-26 | 1995-09-20 | シャープ株式会社 | アクティブマトリクス表示装置 |
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KR100623989B1 (ko) * | 2000-05-23 | 2006-09-13 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판 및 그의 수리 방법 |
JP2002278476A (ja) * | 2001-03-14 | 2002-09-27 | Display Technologies Inc | 点欠陥を矯正したアレイ基板、及び、その製造方法 |
CN1159694C (zh) * | 2001-05-10 | 2004-07-28 | 友达光电股份有限公司 | 液晶显示器的数据线的修补方法 |
TW594161B (en) * | 2003-02-18 | 2004-06-21 | Au Optronics Corp | Flat panel display with repairable defects for data lines and the repairing method |
JP4491205B2 (ja) * | 2003-07-22 | 2010-06-30 | Nec液晶テクノロジー株式会社 | スイッチング素子アレイ基板の修復方法 |
TWI240108B (en) * | 2004-04-09 | 2005-09-21 | Quanta Display Inc | Structure of LCD panel and method of manufacturing the same |
JP4535791B2 (ja) * | 2004-06-28 | 2010-09-01 | Nec液晶テクノロジー株式会社 | 液晶表示装置用基板及び該基板の補修方法 |
CN100504515C (zh) * | 2006-03-13 | 2009-06-24 | 瀚宇彩晶股份有限公司 | 液晶显示器的修补结构以及修补方法 |
KR101238337B1 (ko) * | 2006-05-12 | 2013-03-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 어레이 기판 및 이를 갖는 액정표시장치 |
US7884364B2 (en) * | 2006-12-12 | 2011-02-08 | Lg Display Co., Ltd. | Array substrate, method of manufacturing the same, and method of repairing line in the same |
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