JP5402915B2 - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の第1の参考例の半導体装置およびその製造方法を図1から図5を用いて説明する。
本発明の実施の形態1の半導体装置およびその製造方法を図6から図11を用いて説明する。
2、102、202 基板本体部
3、103、203 基板表面部
4、104、204 第1の絶縁層
5、105、205 溝
6、110、210 第2の絶縁層
7、111、211 埋込層
8 フォトレジストあるいは窒化珪素膜あるいは酸化珪素膜
9、121、221 MOSトランジスタ
10、217 酸化珪素層
12、112、212 第3の絶縁層
108、113 フォトレジスト
114、214 ゲート酸化膜
115、215 ゲート電極
116、216 不純物拡散層
218 窒化珪素層
219 酸化膜層
220 第4の絶縁層
Claims (2)
- 基板表面部が第1の絶縁層により基板本体部から電気的に絶縁分離されている半導体基板と、素子分離領域において前記半導体基板の前記基板表面部に設けられた、前記基板表面部を貫通し前記第1の絶縁層に達する深さまで形成された複数の溝と、前記溝の側面を酸化することによって形成される酸化膜層および前記酸化膜層を被覆するように前記酸化膜層の膜厚より厚い膜厚を有する第4の絶縁層からなる第2の絶縁層と、前記溝の内側に前記第2の絶縁層を介して埋め込み形成された埋込層と、前記埋込層を被覆する第3の絶縁層とを備えた半導体装置であって、
前記酸化膜層の厚さが2ナノメートル以上50ナノメートル以下であり、
前記第4の絶縁層の最上面の高さは、前記埋込層の最上面の高さに比べて低く、
前記素子分離領域における前記基板表面部の最表面には、酸化珪素層が形成されており、前記酸化珪素層の下に前記第2の絶縁層を構成する前記酸化膜層が配置され、
前記酸化珪素層と前記酸化膜層とが接触していることを特徴とする半導体装置。 - 前記第3の絶縁層は、前記酸化珪素層の上にまで形成されており、
前記第4の絶縁層と前記第3の絶縁層とが接触する接触面の高さは、前記酸化珪素層と前記第3の絶縁層とが接触する接触面の高さに比べて低いことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
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