JP5401255B2 - 洗浄装置、洗浄方法、および記憶媒体 - Google Patents
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Description
また、そのような洗浄方法を実行するためのプログラムが記憶された記憶媒体を提供することを目的とする。
図1は本発明の一実施形態に係る洗浄装置の概略構成を示す断面図、図2はその概略平面図である。この洗浄装置1は、被処理基板としての半導体ウエハ(以下、単にウエハと記す)の表面に付着したパーティクルやコンタミネーション等を除去する洗浄処理を行うものである。
まず、洗浄すべきウエハWを搬入し、スピンチャック3に装着する(工程1)。
ウエハWのIPA乾燥処理を行いながら、最初に、図6に示すように、開閉バルブ35を閉成し、開閉バルブ34を開成した状態で、開閉バルブ37を開成し、洗浄液である純水を洗浄液供給源38から洗浄液配管36を介して排液カップ6内に吐出する。これにより吐出された純水が回転している回転プレート11の旋回力により排液カップ6内を旋回し、純水中にIPAを溶解させて排液カップ6内を洗浄し、IPAを溶解した純水を排液配管31に流し、排液配管31も洗浄する。
上記実施形態では、洗浄液供給機構39を、排液配管31を介して排液カップ6内部の底部近傍位置まで達するように設けられた洗浄配管36を有するものとし、そのような洗浄配管36のウエハWの回転方向に沿って水平方向に屈曲した部分から、ウエハWの回転方向に沿った方向に洗浄液である純水を吐出するように構成したが、本例では、図10の部分断面図および図11の概略平面図に示すように、外部から直接、排液カップ6の底部6b近傍かつ排液口6a近傍位置へ、ウエハWの回転方向に沿った方向に洗浄液としての純水が吐出されるように挿入される洗浄液配管36′を有するものとしている。これにより、より簡易な配管構成により、ウエハWの回転方向に沿った方向に純水を吐出することができ、吐出した純水を、排液カップ6を一周した後に排液口6aから排出することができる。
2;ベースプレート
3;スピンチャック
4;モータ
5;ノズルヘッド
5a;薬液ノズル
5b;純水ノズル
5c;IPAノズル
6;排液カップ
6a;排液口
6b;底部
6c;傾斜
7;回転カップ
11;回転プレート
12;回転軸
13;保持ピン
15;ノズルアーム
18;駆動機構
21;薬液供給配管
22,25,28,34,35,37;開閉バルブ
23;薬液タンク
24;純水供給配管
26;純水供給源
27;IPA配管
29;IPA供給源
31;排液配管
32;回収配管
36,36′;洗浄配管
38;洗浄液供給源
39;洗浄機構
40;制御部
41;コントローラ
42;ユーザーインターフェース
43;記憶部
W;半導体ウエハ
Claims (18)
- 基板を回転可能に保持する保持機構と、
前記保持機構を回転させる回転機構と、
前記保持機構に保持された基板に洗浄用の薬液を供給する薬液供給機構と、
前記保持機構に保持された基板に洗浄後のリンス処理を行うためのリンス液を供給するリンス液供給機構と、
前記保持機構に保持された基板にリンス後の乾燥処理を行うための乾燥用溶剤を供給する乾燥用溶剤供給機構と、
前記保持機構に保持された基板の周縁部を囲繞し、基板から振り切られた薬液、リンス液、乾燥用溶剤の排液を受け止める排液カップと、
前記排液カップに受け止められた薬液、リンス液、乾燥用溶剤を前記排液カップの排液口を経て排液する排液配管と、
前記排液カップおよび前記排液配管を洗浄するための洗浄液を、基板に供給されない状態で、前記排液カップに供給する洗浄液供給機構と、
前記回転機構、前記薬液供給機構、前記リンス液供給機構、前記乾燥用溶剤供給機構、前記洗浄液供給機構を制御する制御部と
を具備し、
前記制御部は、
基板を回転させながら、薬液による基板の洗浄処理、その後のリンス液によるリンス処理を実施させた後、基板を回転させながら基板に乾燥用溶剤を供給させて基板の乾燥処理を行わせ、乾燥処理が実施されているタイミングで洗浄液を前記排液カップに供給させるように制御し、
前記洗浄液供給機構は、前記排液カップの下方からその底部近傍に達する洗浄液配管を有し、その洗浄液配管を介して排液カップ内に洗浄液を供給し、
前記洗浄液配管は、基板の回転方向に沿った方向に洗浄液が吐出されるように構成されることを特徴とする洗浄装置。 - 基板を回転可能に保持する保持機構と、
前記保持機構を回転させる回転機構と、
前記保持機構に保持された基板に洗浄用の薬液を供給する薬液供給機構と、
前記保持機構に保持された基板に洗浄後のリンス処理を行うためのリンス液を供給するリンス液供給機構と、
前記保持機構に保持された基板にリンス後の乾燥処理を行うための乾燥用溶剤を供給する乾燥用溶剤供給機構と、
前記保持機構に保持された基板の周縁部を囲繞し、基板から振り切られた薬液、リンス液、乾燥用溶剤の排液を受け止める排液カップと、
前記排液カップに受け止められた薬液、リンス液、乾燥用溶剤を前記排液カップの排液口を経て排液する排液配管と、
前記排液カップおよび前記排液配管を洗浄するための洗浄液を、基板に供給されない状態で、前記排液カップに供給する洗浄液供給機構と、
前記回転機構、前記薬液供給機構、前記リンス液供給機構、前記乾燥用溶剤供給機構、前記洗浄液供給機構を制御する制御部と
を具備し、
前記制御部は、
基板を回転させながら、薬液による基板の洗浄処理、その後のリンス液によるリンス処理を実施させた後、基板を回転させながら基板に乾燥用溶剤を供給させて基板の乾燥処理を行わせ、乾燥処理が実施されているタイミングで洗浄液を前記排液カップに供給させるように制御し、
前記洗浄液供給機構は、前記排液カップの外部から、前記排液カップの底部近傍かつ前記排液口近傍位置へ、基板の回転方向に沿った方向に洗浄液が吐出されるように挿入される洗浄液配管を有することを特徴とする洗浄装置。 - 前記制御部は、基板に対する乾燥用溶剤の供給を停止してから次の基板へ交換するまでの所定期間、洗浄液を前記排液カップに供給させるように制御することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の洗浄装置。
- 前記洗浄液配管から吐出された洗浄液は、前記排液カップを一周して前記排液口から排出されることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の洗浄装置。
- 前記制御部は、前記排液配管から排液を流しながら、前記洗浄液供給機構により前記排液カップに洗浄液を供給させることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の洗浄装置。
- 前記排液配管にはバルブが設けられ、前記制御部は、前記バルブを閉成させて、前記洗浄液供給機構により排液カップに洗浄液を供給して排液カップおよび排液配管に洗浄液を溜めることと、前記バルブを開成させて排液カップおよび排液配管に溜めた洗浄液を排出することを交互に行わせることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の洗浄装置。
- 前記排液配管にはバルブが設けられ、
前記制御部は、前記排液配管から排液を流しながら、前記洗浄液供給機構により前記排液カップに洗浄液を供給させ、
その後、前記バルブを閉成させて、前記洗浄液供給機構により排液カップに洗浄液を供給して排液カップおよび排液配管に洗浄液を溜めることと、前記バルブを開成させて排液カップおよび排液配管に溜めた洗浄液を排出することを交互に行わせることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の洗浄装置。 - 前記保持機構に保持された基板を囲繞し、基板とともに回転可能な回転カップをさらに具備し、
前記制御部は、薬液による基板の洗浄処理に先立って、基板を回転させながらリンス液によるリンス処理を実施させ、前記回転カップの内面を洗浄させることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の洗浄装置。 - 基板を保持機構により回転可能に保持し、前記保持機構に保持された基板の周縁部を囲繞するように、基板から振り切られた排液を受け止める排液カップを配置し、前記排液カップにその中の排液を排出する排液配管を設けた状態で基板に洗浄処理を施す洗浄方法であって、
基板を回転させながら基板に薬液を供給して基板を洗浄する工程と、
前記洗浄工程の後、基板を回転させながら基板にリンス液を供給して基板のリンス処理を行う工程と、
前記リンス工程の後、基板を回転させながら基板に乾燥用溶剤を供給して基板の乾燥を行う工程と、
前記乾燥工程を行っているタイミングで、洗浄液供給機構から洗浄液を、基板に供給されない状態で、前記排液カップに供給して、前記排液カップおよび前記排液配管を洗浄する工程と
を含み、
前記排液カップおよび前記排液配管を洗浄する工程は、基板の回転方向に沿った方向に洗浄液を吐出することにより行われることを特徴とする洗浄方法。 - 基板を保持機構により回転可能に保持し、前記保持機構に保持された基板の周縁部を囲繞するように、基板から振り切られた排液を受け止める排液カップを配置し、前記排液カップにその中の排液を排出する排液配管を設けた状態で基板に洗浄処理を施す洗浄方法であって、
基板を回転させながら基板に薬液を供給して基板を洗浄する工程と、
前記洗浄工程の後、基板を回転させながら基板にリンス液を供給して基板のリンス処理を行う工程と、
前記リンス工程の後、基板を回転させながら基板に乾燥用溶剤を供給して基板の乾燥を行う工程と、
前記乾燥工程を行っているタイミングで、洗浄液供給機構から洗浄液を、基板に供給されない状態で、前記排液カップに供給して、前記排液カップおよび前記排液配管を洗浄する工程と
を含み、
前記排液カップおよび前記排液配管を洗浄する工程は、前記排液カップに洗浄液を吐出した後、洗浄液が前記排液カップを一周して排出されるように行われることを特徴とする洗浄方法。 - 前記排液カップおよび前記排液配管を洗浄する工程は、前記排液カップに洗浄液を吐出した後、洗浄液が前記排液カップを一周して排出されるように行われることを特徴とする請求項9に記載の洗浄方法。
- 前記排液カップおよび前記排液配管を洗浄する工程は、基板に対する乾燥用溶剤の供給を停止してから次の基板へ交換するまでの所定期間、洗浄液を前記排液カップに供給することを特徴とする請求項9から請求項11のいずれか1項に記載の洗浄方法。
- 前記排液カップおよび前記排液配管を洗浄する工程は、前記リンス処理を行う工程の所定期間、洗浄液を前記排液カップに供給することを特徴とする請求項9から請求項12のいずれか1項に記載の洗浄方法。
- 前記排液カップおよび前記排液配管を洗浄する工程は、前記排液配管から排液を流しながら、前記洗浄液供給機構から前記排液カップに洗浄液を供給することを特徴とする請求項9から請求項13のいずれか1項に記載の洗浄方法。
- 前記排液配管にはバルブが設けられ、前記排液カップおよび前記排液配管を洗浄する工程は、前記バルブを閉成して、前記洗浄液供給機構により排液カップに洗浄液を供給して排液カップおよび排液配管に洗浄液を溜めることと、前記バルブを開成して排液カップおよび排液配管に溜めた洗浄液を排出することを交互に行うことを特徴とする請求項9から請求項13のいずれか1項に記載の洗浄方法。
- 前記排液配管にはバルブが設けられ、
前記排液カップおよび前記排液配管を洗浄する工程は、
前記排液配管から排液を流しながら、前記洗浄液供給機構により前記排液カップに洗浄液を供給し、
その後、前記バルブを閉成して、前記洗浄液供給機構により排液カップに洗浄液を供給して排液カップおよび排液配管に洗浄液を溜めることと、前記バルブを開成して排液カップおよび排液配管に溜めた洗浄液を排出することを交互に行うことを特徴とする請求項9から請求項13のいずれか1項に記載の洗浄方法。 - 前記保持機構に保持された基板を囲繞し、基板とともに回転可能な回転カップを配置し、
薬液による基板の洗浄処理に先立って、基板を回転させながらリンス液によるリンス処理を実施して、前記回転カップの内面を洗浄する工程をさらに有することを特徴とする請求項9から請求項16のいずれか1項に記載の洗浄方法。 - コンピュータ上で動作し、洗浄装置を制御するためのプログラムが記憶されたコンピュータ読取可能な記憶媒体であって、
前記プログラムは、実行時に、請求項9から請求項17のいずれかに記載の洗浄方法が行われるように、コンピュータに前記洗浄装置を制御させることを特徴とする記憶媒体。
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