JPH09270376A - 回転塗布装置および回転塗布方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 カップ内に飛沫塗布液が付着することを防止
できる回転塗布装置および回転塗布方法の提供。 【解決手段】 回転塗布装置（コーター１）において、
塗布液の飛散を防止するカップ５内に塗布液を溶解する
洗浄液を貯溜させる。洗浄液はカップ５の内壁に沿って
供給され、この洗浄液が貯溜される。洗浄液の貯溜は一
時的に行われ、所定量の洗浄液が貯溜されると洗浄液は
溶解された塗布液とともに排出される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、回転塗布装置およ
び回転塗布方法に関し、特に塗布液の洗浄機構を備えた
回転塗布装置およびこの回転塗布装置において洗浄を伴
う回転塗布方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置の液晶用ガラス基板（以
下、単に基板という。）の基板表面には回転塗布装置い
わゆるコーターによりフォトレジスト薄膜が塗布され
る。フォトレジスト薄膜は基板表面に形成される導電性
パターンや絶縁性パターンをパターンニングするエッチ
ングマスクとして使用される。コーターにおいては、回
転台上に基板が保持され、基板が回転していない静止状
態において基板表面に流動性のフォトレジストが滴下さ
れる。このフォトレジストの滴下が完了すると、回転台
が回転しこの回転にともない基板の基板表面が水平に支
持された状態において回転する。基板表面に滴下された
フォトレジストは基板の回転で発生する遠心力により基
板表面上に均一な膜厚で引き伸ばされ、薄膜化され、フ
ォトレジスト薄膜として形成される。フォトレジストは
基板表面上にフォトレジスト薄膜を形成するために基板
表面上に滴下されるが、基板表面の全面に万遍なくフォ
トレジスト薄膜を形成する必要があり、余分にフォトレ
ジストが滴下される。このため、余分なフォトレジスト
は飛沫フォトレジストとして基板の回転にともなう遠心
力により周囲に飛散する。通常、コーターには回転台の
周囲を覆う飛散防止用カップが配設され、このカップは
コーターの外部への飛沫フォトレジストの飛散を防止す
る。

【０００３】本願出願人により先に出願された特開平６
−１０６１２６号公報に開示されるように、コーターに
は洗浄機構が配設される。回転台、カップ内壁などに飛
散した飛沫フォトレジストが付着し乾燥固化すると、こ
の乾燥固化した飛沫フォトレジストは回転台の振動や飛
散する飛沫フォトレジストの衝撃により剥離し、パーテ
ィクルとして基板表面、フォトレジスト薄膜の表面など
に付着する。このパーティクルの付着により基板は不良
品となる。そこで、１枚の基板、また所定枚数の基板
（通常、基板カセットに収納された複数枚の基板）の基
板表面にフォトレジスト薄膜を塗布した後に、洗浄機構
により飛沫フォトレジストの除去を目的とした洗浄が行
われる。洗浄液にはフォトレジストを溶解する溶解液が
使用され、回転台（基板を保持するチャック内部および
チャック裏面）、カップ内壁のそれぞれが洗浄される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
コーターにおいては以下の点の配慮がなされていない。
カラー型液晶表示装置においては基板の基板表面上にカ
ラーフィルタが形成される。カラーフィルタは赤色、緑
色、青色、黒色の４色のカラーレジスト薄膜により形成
される。このカラーレジスト薄膜には着色のために顔料
が含まれ、この顔料はフォトレジストを溶解する洗浄液
に対して溶解されにくい性質を有する。このため、コー
ターにより基板の基板表面にカラーレジスト薄膜を塗布
した後、回転台、カップ内壁に付着する飛沫カラーレジ
ストを洗浄液で洗浄しても顔料成分が残存し、この顔料
成分を排除することができない。従って、この排除でき
ない顔料成分がパーティクルになり、不良品が発生する
という問題があった。不良品の発生は生産性を低下させ
る。

【０００５】さらに、上記顔料成分の排除には人手作業
によるメンテナンスに頼るしかなく、メンテナンスにお
いてはカップ、回転台などを取り外し物理的に顔料成分
をこすり落とす作業が行われている。このため、洗浄作
業自体が大変であり、洗浄後に回転台の取り付け作業お
よび調整作業に手間がかかるので、メンテナンスの作業
労力が増大するだけでなくメンテナンスに長時間が必要
になるという問題があった。しかも、メンテナンスには
顔料成分を取り除く溶剤が長時間使用されるので、メン
テナンス作業者の健康上好ましくない。メンテナンスが
行われているときにはカラーフォトレジスト薄膜が塗布
できないので、メンテナンスが長期化すれば当然のこと
ながら生産性が低下する。

【０００６】本発明は上記課題を解決するためになされ
たものである。従って、本発明は、塗布液がカップに付
着することを防止できる回転塗布装置の提供を目的とす
る。さらに、本発明は、塗布液がカップに付着すること
が防止でき、かつカップに付着された塗布液が確実に除
去できる回転塗布装置の提供を目的とする。さらに、本
発明は、上記目的を達成し、生産性が向上できる回転塗
布方法の提供を目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１に記載された発明は、基板の上面に塗布液
を塗布する回転塗布装置において、前記基板を水平支持
した状態で回転させる回転台と、前記回転台を取り囲む
ように配置され、前記塗布液の飛散を防止するカップ
と、前記カップ内に前記塗布液を溶解する洗浄液を貯溜
させる洗浄液貯溜手段と、を備えたことを特徴とする。

【０００８】請求項２に記載された発明は、請求項１に
記載の回転塗布装置において、前記洗浄液貯溜手段によ
りカップ内に貯溜された洗浄液をカップ外へ排出する洗
浄液排出手段を備えたことを特徴とする。

【０００９】請求項３に記載された発明は、請求項１ま
たは請求項２に記載の回転塗布装置において、前記カッ
プの内壁に前記洗浄液を供給する洗浄液供給手段を備え
たことを特徴とする。

【００１０】請求項４に記載された発明は、請求項３に
記載の回転塗布装置において、前記洗浄液供給手段は、
洗浄液がカップの内壁に沿って流れ落ちるように洗浄液
を供給することを特徴とする。

【００１１】請求項５に記載された発明は、請求項３ま
たは請求項４に記載の回転塗布装置において、少なくと
も前記回転台が回転しているときに、洗浄液供給手段に
より洗浄液を供給させる制御手段を備えたことを特徴と
する。

【００１２】請求項６に記載された発明は、基板の上面
に塗布液を塗布する回転塗布方法において、前記基板が
水平に支持された回転台を回転させつつ基板の上面に塗
布液の薄膜を形成する薄膜形成工程と、前記回転台を取
り囲むように配置され前記塗布液の飛散を防止するカッ
プ内に塗布液を溶解する洗浄液を貯溜させる洗浄液貯溜
工程と、を含むことを特徴とする。

【００１３】請求項７に記載された発明は、請求項６に
記載の回転塗布方法において、前記洗浄液貯溜工程によ
りカップ内に貯溜された洗浄液をカップ外へ排出する洗
浄液排出工程を含むことを特徴とする。

【００１４】請求項８に記載された発明は、請求項６ま
たは請求項７に記載の回転塗布方法において、前記カッ
プの内壁に洗浄液を供給する洗浄液供給工程を含むこと
を特徴とする。

【００１５】請求項９に記載された発明は、請求項８に
記載の回転塗布方法において、前記洗浄液供給工程は、
洗浄液がカップの内壁に沿って流れ落ちるように洗浄液
を供給する工程であることを特徴とする。

【００１６】請求項１０に記載された発明は、請求項８
または請求項９に記載の回転塗布方法において、少なく
とも前記薄膜形成工程で回転台が回転しているときに、
前記洗浄液供給工程が実行されることを特徴とする。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態である
回転塗布装置（コーター）について説明する。図１は本
発明の実施形態に係るコーターの概略断面図、図２はコ
ーターの概略平面図である。本実施形態に係るコーター
１は回転台（チャック）２および飛沫フォトレジストの
外部への飛散を防止するカップ５を備える。

【００１８】前記コーター１の回転台２は下側回転板２
Ａ、リングスペーサー２Ｂおよび上側回転板２Ｃを備
え、下側回転板２Ａ、リングスペーサー２Ｂおよび上側
回転板２Ｃで形成される収納スペース内に基板（液晶用
ガラス基板）８が保持される。下側回転板２Ａは回転軸
３を介して回転駆動装置３１に連結され、この回転駆動
装置により下側回転板２Ａを回転させることができる。
下側回転板２Ａと回転軸３との間には連結ボス４が配設
され、この連結ボス４により双方の連結が行われる。上
側回転板２Ｃは開閉可能な機構を備える。すなわち、上
側回転板２Ｃは、塗布液供給管１２Ａが待機位置（カッ
プ５の外方位置）と下側回転板２Ａに保持された基板８
の中央上方の滴下位置との間を移動する際に、上方に向
かって開く。そして、上側回転板２Ｃは、下側回転板２
Ａに保持された静止状態の基板８の基板表面の中央に塗
布液供給管１２Ａからフォトレジストが滴下された後
に、下方に向かって閉まる。リングスペーサー２Ｂは、
下側回転板２Ａと上側回転板２Ｃとの間において下側回
転板２Ａの周辺部分に配設され、基板８を収納する収納
スペースを形成する。リングスペーサー２Ｂは上側回転
板２Ｃが閉じた際にこの上側回転板２Ｃを固定保持す
る。リングスペーサー２Ｂと下側回転板２Ａとの間には
排出用スペース（特に拡大図としての図４（Ａ）参照）
２Ｓが確保されており、この排出用スペース２Ｓにおい
ては基板８に塗布されるフォトレジストのうち余分でか
つ飛散した飛沫フォトレジストが回転台２の内部から外
部に排出できる。

【００１９】前記回転台２に保持される基板８において
は、基板８の裏面が下側回転板２Ａに配設された複数本
の支持ピン２Ｄにより支持され、基板８のそれぞれのコ
ーナー部分が複数本の係合ピン２Ｅにより保持される。
このように回転台２に保持された基板８は、水平に支持
された状態において、下側回転板２Ａ（回転台２）の回
転とともに基板表面を回転面として回転する。

【００２０】前記回転台２に保持された基板８の基板表
面には、回転が行われていない静止状態において上方か
ら塗布液供給管１２Ａにより塗布液としての流動性のフ
ォトレジストが滴下される。塗布液供給管１２Ａは塗布
液供給部１２Ｂに連結され、この塗布液供給部１２Ｂか
ら流動性のフォトレジストが供給される。本実施形態に
係るコーター１においては、塗布液供給部１２Ｂからカ
ラーフィルタを形成するカラーレジスト（赤色、緑色、
青色、黒色のいずれかの顔料成分を含むフォトレジス
ト）が供給される。なお、塗布液供給部１２Ｂは導電性
パターンや絶縁性パターンのエッチングを行うマスクと
して使用される通常のフォトレジスト（ポジティブタイ
プまたはネガティブタイプのフォトレジスト）の供給も
行える。さらに、塗布液供給部１２Ｂはカラーフィルタ
層の表面上に形成される保護膜としてのオーバーコート
材の供給も行える。また、塗布液供給部１２Ｂは、塗布
液供給管１２Ａの管内洗浄を行う際にフォトレジストを
溶解する洗浄液としての有機溶剤の供給も行える。

【００２１】前記回転台２の周囲にはこの回転台２の周
囲を取り囲みかつ周囲を覆うカップ５が配設される。カ
ップ５は下側カップ５Ａおよび上側カップ５Ｂを備え
る。下側カップ５Ａは回転台２の下側回転板２Ａの下側
に沿って配設されこの下側回転板２Ａを主に覆う。下側
カップ５Ａには底部分において排気管６および廃液管７
がそれぞれ連結される。排気管６は塗布液から蒸発した
溶剤ガス、塗布液ミストなどを排気する。廃液管７は洗
浄液、この洗浄液で洗い流された飛沫フォトレジストを
含む洗浄液などの廃液を排出する。上側カップ５Ｂは回
転台２の側面部分に沿って配設されこの回転台２の側面
（下側回転板２Ａ、リングスペーサー２Ｂおよび上側回
転板２Ｃのそれぞれの側面）を主に覆う。上側カップ５
Ｂはメンテナンス作業などの際に下側カップ５Ａから取
り外せる。

【００２２】このように構成されるコーター１は、回転
台２に保持された基板８の裏面を洗浄する基板裏面洗浄
装置、回転台２の洗浄を行う回転台洗浄装置およびカッ
プ５の洗浄を行うカップ洗浄装置を備える。

【００２３】基板裏面洗浄装置は、図１および図２に示
すように、下側回転板２Ａの表面上に配設された基板裏
面洗浄用ノズル１１Ｂ、回転軸３に埋設された洗浄液供
給管１０および洗浄液供給部１５を備える。基板裏面洗
浄装置は、下側回転板２Ａに保持された基板８の基板裏
面に向かって基板裏面洗浄用ノズル１１Ｂから洗浄液を
噴出し、基板８の基板裏面を洗浄する。基板裏面洗浄用
ノズル１１Ｂには洗浄液供給管１０を通して洗浄液供給
部１５から洗浄液が供給される。基板８の基板裏面の洗
浄は基板表面にフォトレジスト薄膜を塗布する前、塗布
中および塗布後に行われる。

【００２４】回転台洗浄装置は、カップ５の下側カップ
５Ａに配設された回転台裏面洗浄用ノズル１４、この回
転台裏面洗浄用ノズル１４に連結された洗浄供給部１
５、回転台側面洗浄用ノズル１３およびこの回転台側面
洗浄用ノズル１３に連結された洗浄液供給部１６を備え
る。回転台洗浄装置の回転台裏面洗浄用ノズル１４は、
図４（Ａ）に示すように回転台２の下側回転板２Ａの裏
面に向かって洗浄液を噴出し、この下側回転板２Ａの裏
面を洗浄する。本実施形態において回転台裏面洗浄用ノ
ズル１４は対向する部分に２箇所配設されており、回転
台２を回転させながら回転台裏面洗浄用ノズル１４から
洗浄液を噴出することにより、下側回転板２Ａの裏面周
辺全域が万遍なく洗浄できる。回転台裏面洗浄用ノズル
１４には洗浄液供給部１５から洗浄液が供給される。洗
浄液にはフォトレジストを溶解する有機溶剤等が使用さ
れる。回転台洗浄装置の回転台側面洗浄用ノズル１３
は、図４（Ａ）に示すように回転台２の側面部分に向か
って洗浄液を噴出し、この回転台２の側面を洗浄する。
また、回転台側面洗浄用ノズル１３はカップ洗浄装置と
しても使用され、回転台側面洗浄用ノズル１３から噴出
される洗浄液は回転台２の側面部分において跳ね返され
飛散しカップ５の内壁を洗浄する。本実施形態において
回転台側面洗浄用ノズル１３は対向する部分に２箇所配
設されており、回転台２を回転させながら回転台側面洗
浄用ノズル１３から洗浄液を噴出することにより、回転
台２の側面部分の全域およびカップ５の内壁の全域が万
遍なく洗浄できる。回転台側面洗浄用ノズル１３には洗
浄液供給部１６から洗浄液が供給される。回転台２の裏
面、側面の洗浄はいずれも基板８の基板表面にフォトレ
ジスト薄膜を塗布した後に行われる。また、回転台２の
洗浄は、基板搬送に使用される基板カセットに収納され
た複数枚の基板８の基板表面にすべてフォトレジスト薄
膜を塗布した後に行われる（ロット単位ごと。１ロット
は例えば２０枚の基板８を有する）。

【００２５】カップ洗浄装置は、前述の回転台洗浄装置
と同様に基板８または複数枚の基板８の基板表面にフォ
トレジスト薄膜を塗布した後に洗浄を行うカップ洗浄装
置と、基板８にフォトレジスト薄膜を塗布している最中
に洗浄を行う連続カップ洗浄装置とを備える。前者のカ
ップ洗浄装置は、図１および図２に示すように、前述の
回転台側面洗浄用ノズル１３、洗浄液供給部１６、カッ
プ側面洗浄用ノズル１１Ａ、洗浄液供給管１０および洗
浄液供給部１５を備える。カップ洗浄装置としての回転
台側面洗浄用ノズル１３から噴出される洗浄液は、回転
台２の側面部分に向かって噴出され跳ね返され飛散しカ
ップ５の内壁を洗浄する。カップ洗浄装置のカップ側面
洗浄用ノズル１１Ａは、図４（Ａ）に示すように回転台
２の下側回転板２Ａの裏面から下側カップ５Ａの側面内
壁（回転軸３側）に向かって洗浄液を供給し、この下側
カップ５Ａの内壁を洗浄する。本実施形態においてカッ
プ側面洗浄用ノズル１１Ａは下側回転板２Ａの裏面にお
いて対向する部分に２箇所配設されており、回転台２を
回転させながらカップ側面洗浄用ノズル１１Ａから洗浄
液を供給することにより、下側カップ５Ａの内壁の全域
が万遍なく洗浄できる。カップ側面洗浄用ノズル１１Ａ
には洗浄液供給部１５から洗浄液が供給される。

【００２６】後者の連続カップ洗浄装置は、図１、図
２、図３および図４（Ａ）に示すように、カップ側面連
続洗浄用ノズル１７、連続洗浄液供給部１８、制御装置
２５、シーケンシャルダンパー２１、ダンパー制御部２
２、フロートセンサー１９およびフロートセンサー判定
部２０を備える。前記カップ側面連続洗浄用ノズル１７
はカップ５の側面内壁（外側）、換言すれば基板８の基
板表面に滴下されるフォトレジストのうち余剰でかつ飛
散する飛沫フォトレジストが付着する領域に洗浄液を噴
出する。カップ側面連続洗浄用ノズル１７から噴出され
る洗浄液はフォトレジスト薄膜の回転塗布が行われてい
る際にカップ５の内壁に沿って連続的に流し続けられ
る。カップ側面連続洗浄用ノズル１７は、飛沫フォトレ
ジストを流し落とすことを目的として配設されるので、
回転台２の下側回転板２Ａとリングスペーサー２Ｂとの
間の排出用スペース（図４（Ａ）参照）２Ｓよりも上側
においてカップ５に形成される。本実施形態おいて、カ
ップ側面連続洗浄用ノズル１７は上側カップ５Ｂに配設
される。カップ側面連続洗浄用ノズル１７は図２および
図３に示すように回転台２の側面部分をすべて取り囲
み、カップ側面連続洗浄用ノズル１７の平面形状はリン
グ形状において形成される。図３に示すように、カップ
側面連続洗浄用ノズル１７は、洗浄液を供給する洗浄液
供給管１７Ａと、カップ５の内側において洗浄液供給管
１７Ａの底部に規則的にかつ連続的に配列された複数の
供給口１７Ｂとを備えて構成される。カップ側面連続洗
浄用ノズル１７は図１に示すように連続洗浄液供給部１
８に連結され、この連続洗浄液供給部１８からカップ側
面連続洗浄用ノズル１７に洗浄液が連続的に供給され
る。連続洗浄液供給部１８は制御装置２５を介在し回転
駆動装置３１に接続され、回転駆動装置３１により回転
台２が回転しているときに、制御装置２５は連続洗浄液
供給部１８からカップ側面連続洗浄用ノズル１７に洗浄
液を連続的に供給する制御を行う。

【００２７】図４（Ａ）に示すように、カップ側面連続
洗浄用ノズル１７から噴出された洗浄液はカップ５の上
側カップ５Ｂの側面内壁、下側カップ５Ａの側面内壁に
沿って流れ（回転塗布中は常時流れ続け）、この洗浄液
は下側カップ５Ａの底部に貯溜される。この貯溜された
洗浄液は廃液管７を通して廃液として排出される。カッ
プ側面連続洗浄用ノズル１７からカップ５の内壁に洗浄
液を流し続けるので、回転台２の排出用スペース２Ｓか
らカップ５の内壁に向かって飛散する飛沫フォトレジス
トはカップ５の内壁に付着する前に洗浄液により流し落
とされる（洗い落とされる）。特にカラーフィルタとし
て使用されるカラーレジストにおいては顔料が含まれ、
この顔料はカップ５の内壁に一旦付着してしまうと洗浄
液では簡単に洗い落とすことができない。ところが、本
実施形態に係るコーター１においては、予め洗浄液を流
し続けることにより、カップ５の内壁に飛沫カラーフォ
トレジストが付着する前に顔料とともに飛沫カラーフォ
トレジストが流し落せる。カップ５の内壁にすでに付着
した飛沫フォトレジストにおいては、表面が洗浄液で覆
われるので、これ以上飛沫フォトレジストが付着堆積す
ることがなくなる。

【００２８】前記連続カップ洗浄装置のシーケンシャル
ダンパー２１は図１および図４（Ａ）に示すように下側
カップ５Ａの底部と廃液管７との連結部分において開閉
自在に配設される。このシーケンシャルダンパー２１
は、カップ側面連続洗浄用ノズル１７から噴出されカッ
プ５の内壁に沿って流れ落ちる洗浄液をカップ５の底部
に貯溜し、この貯溜した洗浄液の液面が所定の高さに達
するとこの洗浄液を廃液管７を通して排出できる。シー
ケンシャルダンパー２１においてはダンパー制御部２２
により開閉動作の制御および開閉動作の駆動が行われ
る。ダンパー制御部２２においては、フロートセンサー
１９により洗浄液の液面を検知した後、フロートセンサ
ー判定部２０により洗浄液の液面の高低が判断され、こ
の判断された結果に基づき、開閉動作の制御が行われ
る。フロートセンサー１９はカップ５の内部に配設され
た下側フロートセンサー１９Ａと上側フロートセンサー
１９Ｂとを備える。下側フロートセンサー１９Ａはカッ
プ５の底部に貯溜された洗浄液の液面の低い方を検出
し、この検出に基づきシーケンシャルダンパー２１の閉
動作の制御が行われる。上側フロートセンサー１９Ｂは
カップ５の底部に貯溜された洗浄液の液面の高い方を検
出し、この検出に基づきシーケンシャルダンパー２１の
開動作の制御が行われる。

【００２９】このシーケンシャルダンパー２１、フロー
トセンサー１９などを含む連続カップ洗浄装置において
は、カップ５内に洗浄液を貯溜することによりカップ内
の隅々まで洗浄液を万遍なくいきわたらすことができる
ので、この洗浄液が貯溜された部分での飛沫フォトレジ
ストの付着が防止できる。貯溜された洗浄液は例えばカ
ップ５内に一杯になるとシーケンシャルダンパー２１が
開き廃液管７から排出される。

【００３０】次に、このように洗浄装置を備えたコータ
ー１の回転塗布動作および洗浄動作について説明する。

【００３１】（１）図１および図２に示すように、回転
台２の上側回転板２Ｃが開状態において、下側回転板２
Ａに配設された支持ピン２Ｄ上に未処理（未塗布）の基
板８が載置され、係合ピン２Ｅにより基板８が保持され
る。つまり、回転台２に基板８が保持される。

【００３２】（２）前記回転台２に保持された基板８の
基板表面の中央上方に待機位置（待避位置）から塗布液
供給管１２Ａが移動し、この中央部分において塗布液供
給部１２Ｂから塗布液供給管１２Ａを通して静止状態の
基板８の基板表面上に流動性を有するカラーレジストが
滴下される。

【００３３】（３）カラーレジストの滴下が完了すると
塗布液供給管１２Ａが中央部分から待機位置に移動し、
塗布液供給管１２Ａの待機位置への移動が完了した後に
上側回転板２Ｃが下降しこの上側回転板２Ｃがリングス
ペーサー２Ｂに固定される。つまり、下側回転板２Ａと
上側回転板２Ｂとが閉止状態になり、回転台２の収納ス
ペース内部に基板８が収納される。

【００３４】（４）次に、回転駆動装置３１により回転
軸３を介して回転台２が回転するとともに、この回転台
２の回転に連動し連続カップ洗浄装置が起動される。前
記回転台２が回転するとこの回転台２の回転にともない
基板８が基板表面を回転面として回転する。基板８の基
板表面は本実施形態において水平面と一致する。基板８
の回転にともない、基板表面上に滴下された流動性を有
するカラーレジストが基板８の回転により発生する遠心
力によって基板表面上に均一な膜厚において引き伸ばさ
れ、カラーレジスト薄膜が形成される。

【００３５】一方、連続カップ洗浄装置の起動により、
図４（Ａ）に示すように、連続洗浄液供給部１８からカ
ップ側面連続洗浄用ノズル１７に洗浄液が供給され、こ
のカップ側面連続洗浄用ノズル１７から洗浄液が噴出さ
れる。洗浄液はカップ５の側面内壁に沿って全域に万遍
なく流し続けられる。連続カップ洗浄装置の起動は、制
御装置２５により回転駆動装置３１の動作が検出され、
この検出に基づき実行される。

【００３６】さらに、フロートセンサー１９の下側フロ
ートセンサー１９Ａはカップ５の内部の洗浄液の存在を
検出し、フロートセンサー判定部２０においてカップ５
の底部に洗浄液が貯溜されていないこと、また洗浄液が
低い液面において貯溜されていることが判定される。こ
の判定結果はダンパー制御部２２に送信され、このダン
パー制御部２２においてシーケンシャルダンパー２１が
閉止状態に制御される。従って、カップ側面連続洗浄用
ノズル１７から噴出される洗浄液はカップ５の側面内壁
に沿って流し続けられ、この流し続けられた洗浄液はカ
ップ５の底部に貯溜される。

【００３７】前記回転台２の回転にともない、基板８に
滴下されたカラーレジストのうち余分なカラーレジスト
は回転台２の排出用スペース２Ｓを通して回転台２の外
周囲に飛沫カラーレジストとして飛散する。この飛沫カ
ラーレジストはカップ５の内壁に付着しようとするが、
カップ５の内壁には洗浄液が流し続けられているので、
飛沫カラーレジストは付着する前に洗浄液により流し落
とされる。従って、飛沫カラーレジストに含まれる顔料
も同時に流し落とされる。

【００３８】さらに、図４（Ａ）および図４（Ｂ）に示
すように、カップ側面連続洗浄用ノズル１７から噴出さ
れる洗浄液は常時供給されるので、カップ５の底部には
洗浄液が貯溜されてくる。つまり、カップ５の底部に洗
浄液が貯溜されることにより洗浄液が隅々までいきわた
り、この洗浄液が存在する部分すなわち洗浄液の液面よ
りも下側には飛沫カラーレジストが付着しにくいので、
カップ５の内壁に付着する飛沫カラーレジストおよびそ
れに含まれる顔料がさらに削減できる。

【００３９】（５）基板８の基板表面にカラーレジスト
薄膜が塗布されると回転台２の回転が停止し、回転台２
の上側回転板２Ｂが開状態になり基板８の保持が解除さ
れ、基板８が回転台２から取り出される。そして同様
に、新たに未処理の基板８の基板表面にカラーレジスト
薄膜が塗布される。

【００４０】（６）図４（Ｃ）に示すように、基板８の
基板表面にカラーレジスト薄膜を塗布している最中にカ
ップ５内部に貯溜している洗浄液の液面が所定の高さま
で上昇すると、この洗浄液の液面は上側フロートセンサ
ー１９Ｂで検出される。この検出に基づきシーケンシャ
ルダンパー２１が開放され、貯溜されていた洗浄液は廃
液管７を通して排出される。洗浄液に溶解されまた浮遊
するカラーレジストや顔料は洗浄液の排出とともに排出
される。

【００４１】なお、本実施形態においては、基板８の基
板表面上にカラーレジストを滴下するとともに同時進行
において連続カップ洗浄装置を起動することができる。
さらに、基板８の基板表面上にカラーレジストを滴下す
る前に予め連続カップ洗浄装置を起動することができ
る。すなわち、連続カップ洗浄装置の起動は、回転台２
の回転にともない飛沫カラーレジストが飛散する前段階
において予め実行されていればよい。

【００４２】変形例 なお、本発明は、液晶表示装置のカラーフィルタの回転
塗布を行うコーターに限定されない。通常の顔料を含ま
ないフォトレジストの滴下塗布を行う場合にも飛沫フォ
トレジストが効率良く流し落とせるので、本発明に係る
コーターは通常のフォトレジスト薄膜の塗布を行う場合
にも使用できる。

【００４３】さらに、本発明は、半導体基板（半導体ウ
エーハ）、プリント配線基板などの基板表面にフォトレ
ジスト薄膜、ガラス薄膜などの塗布液の塗布を行うコー
ターにも適用できる。

【００４４】

【発明の効果】請求項１に記載された発明においては、
洗浄液貯溜手段により、カップ内に洗浄液が貯溜される
ので、この洗浄液が貯溜された部分に塗布液が付着する
ことを防止できる。

【００４５】請求項２に記載された発明においては、洗
浄液排出手段により、溶解された塗布液や顔料を含むカ
ップ内に貯溜された洗浄液がカップ外に排出できる。

【００４６】請求項３に記載された発明においては、洗
浄液供給手段により、カップ内壁に付着した塗布液が除
去できる。

【００４７】請求項４に記載された発明においては、洗
浄液供給手段による洗浄液の供給がカップ内壁を流れ落
ちるように行われるので、カップ内壁に付着した塗布液
が確実に除去できる。

【００４８】請求項５に記載された発明は、洗浄液供給
手段による洗浄液の供給を回転台が回転しているときに
制御する制御手段により、回転台からカップ内壁に向か
って飛散する塗布液がカップ内壁に付着する前に洗浄液
で流し落とされるので、カップ内壁に塗布液が付着する
ことを確実に防止できる。さらに、カップ内壁に塗布液
が付着したとしても常時洗浄液がカップ内壁に供給され
るので、カップ内壁に付着した塗布液は乾燥固化する前
に迅速に除去することができる。

【００４９】請求項６に記載された発明においては、薄
膜形成工程と洗浄液貯溜工程とにより、カップ内に飛散
する塗布液に基づく不良品の発生が防止できるので、生
産性が向上できる。

【００５０】請求項７に記載された発明においては、洗
浄液排出工程により、溶解された塗布液や顔料を含むカ
ップ内に貯溜された洗浄液がカップ外に排出できるの
で、より不良品の発生が防止でき、生産性が向上でき
る。

【００５１】請求項８に記載された発明においては、洗
浄液供給工程により、カップ内壁に付着した塗布液が除
去できるので、より不良品の発生が防止でき、生産性が
向上できる。

【００５２】請求項９に記載された発明においては、洗
浄液供給手段による洗浄液の供給がカップ内壁を流れ落
ちるように行われ、カップ内壁に付着した塗布液が確実
に除去できるので、より不良品の発生が防止でき、生産
性が向上できる。

【００５３】請求項１０に記載された発明においては、
洗浄液の供給が回転台を回転しているときに行われ、回
転台からカップ内壁に向かって飛散する塗布液がカップ
内壁に付着する前に洗浄液で流し落とされ、カップ内壁
に塗布液が付着することを確実に防止できるので、より
不良品の発生が防止でき、生産性が向上できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の実施形態に係るコーターの概略断面
図である。

【図２】 前記コーターの概略平面図である。

【図３】 前記コーターの要部の拡大斜視図である。

【図４】（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）はそれぞれ前記コータ
ーの洗浄動作を工程ごとに示す要部の拡大断面図であ
る。

【符号の説明】

１ コーター、２ 回転台、２Ａ 下側回転板、２Ｂ
リングスペーサー、２Ｃ 上側回転板、２Ｓ 排出用ス
ペース、５ カップ、５Ａ 下側カップ、５Ｂ上側カッ
プ、６ 排気管、７ 廃液管、８ 基板、１１Ａ カッ
プ側面洗浄用ノズル、１１Ｂ 基板裏面洗浄用ノズル、
１２Ａ 塗布液供給管、１２Ｂ 塗布液供給部、１３
回転台側面洗浄用ノズル、１４ 回転台裏面洗浄用ノズ
ル、１５、１６ 洗浄液供給部、１７ カップ側面連続
洗浄用ノズル、１７Ａ 洗浄液供給管、１７Ｂ 供給
口、１８ 連続洗浄液供給部、１９ フロートセンサ
ー、１９Ａ 下側フロートセンサー、１９Ｂ 上側フロ
ートセンサー、２０ フロートセンサー判定部、２１
シーケンシャルダンパー、２２ ダンパー制御部、２５
制御装置、３１ 回転駆動装置。

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板の上面に塗布液を塗布する回転塗布
   装置において、 前記基板を水平支持した状態で回転させる回転台と、 前記回転台を取り囲むように配置され、前記塗布液の飛
   散を防止するカップと、 前記カップ内に前記塗布液を溶解する洗浄液を貯溜させ
   る洗浄液貯溜手段と、 を備えたことを特徴とする回転塗布装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の回転塗布装置におい
   て、 前記洗浄液貯溜手段によりカップ内に貯溜された洗浄液
   をカップ外へ排出する洗浄液排出手段を備えたことを特
   徴とする回転塗布装置。
3. 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の回転塗
   布装置において、 前記カップの内壁に前記洗浄液を供給する洗浄液供給手
   段を備えたことを特徴とする回転塗布装置。
4. 【請求項４】 請求項３に記載の回転塗布装置におい
   て、 前記洗浄液供給手段は、洗浄液がカップの内壁に沿って
   流れ落ちるように洗浄液を供給することを特徴とする回
   転塗布装置。
5. 【請求項５】 請求項３または請求項４に記載の回転塗
   布装置において、 少なくとも前記回転台が回転しているときに、洗浄液供
   給手段により洗浄液を供給させる制御手段を備えたこと
   を特徴とする回転塗布装置。
6. 【請求項６】 基板の上面に塗布液を塗布する回転塗布
   方法において、 前記基板が水平に支持された回転台を回転させつつ基板
   の上面に塗布液の薄膜を形成する薄膜形成工程と、 前記回転台を取り囲むように配置され前記塗布液の飛散
   を防止するカップ内に塗布液を溶解する洗浄液を貯溜さ
   せる洗浄液貯溜工程と、 を含むことを特徴とする回転塗布方法。
7. 【請求項７】 請求項６に記載の回転塗布方法におい
   て、 前記洗浄液貯溜工程によりカップ内に貯溜された洗浄液
   をカップ外へ排出する洗浄液排出工程を含むことを特徴
   とする回転塗布方法。
8. 【請求項８】 請求項６または請求項７に記載の回転塗
   布方法において、 前記カップの内壁に洗浄液を供給する洗浄液供給工程を
   含むことを特徴とする回転塗布方法。
9. 【請求項９】 請求項８に記載の回転塗布方法におい
   て、 前記洗浄液供給工程は、洗浄液がカップの内壁に沿って
   流れ落ちるように洗浄液を供給する工程であることを特
   徴とする回転塗布方法。
10. 【請求項１０】 請求項８または請求項９に記載の回転
    塗布方法において、少なくとも前記薄膜形成工程で回転
    台が回転しているときに、前記洗浄液供給工程が実行さ
    れることを特徴とする回転塗布方法。