JP5394722B2

JP5394722B2 - 基板処理装置

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Publication number: JP5394722B2
Application number: JP2008325199A
Authority: JP
Inventors: 潤一山越; 光郎井上; 佳彦松下; 義伸岡本; 栄史錦内; 和男上代; 拓人川上
Original assignee: Screen Holdings Co Ltd; Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Screen Holdings Co Ltd; Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 2008-12-22
Filing date: 2008-12-22
Publication date: 2014-01-22
Anticipated expiration: 2028-12-22
Also published as: JP2010144239A

Description

この発明は、液晶表示装置（ＬＣＤ）用、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）用、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）用、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）用、真空蛍光ディスプレイ（ＶＦＤ）用等のガラス基板、磁気／光ディスク用のガラス／セラミック基板、半導体ウエハ、電子デバイス基板等の各種の基板に対してエッチング処理を行う基板処理装置、特に、過酸化水素水を含むエッチング液を基板へ供給して、基板上に形成された銅を含む金属層をエッチングする基板処理装置に関する。

例えばＬＣＤ、ＰＤＰ等のデバイスの製造プロセスにおいては、基板を搬送しながらスプレーノズルから基板の主面へエッチング液を吐出して、基板の主面上に形成された金属層をエッチングする、といった処理が行われる。この場合、例えば基板の主面上に形成されたアルミニウム層をエッチングして配線パターンを形成する場合や、基板の主面上に形成されたＩＴＯ膜を所定パターンにエッチングする場合などには、エッチング液として一般に燐酸、硝酸、酢酸、蓚酸等が使用される。また、近年、単純な工程で配線形成が可能であり低抵抗で廉価な金属である銅（Ｃｕ）を従来のアルミニウムに代わって用いることが提案されているが、銅を含む金属層（銅層または銅合金層）のエッチングに、過酸化水素水を含むエッチング液を使用することが提案されている。この過酸化水素水を含むエッチング液を使用した銅のエッチングでは、
Ｃｕ＋Ｈ_２Ｏ_２→ＣｕＯ＋Ｈ_２Ｏ
といった化学反応により銅を含む金属層がエッチングされる（例えば、特許文献１参照。）。
特開２００２−３０２７８０号公報（第４−５頁）

銅を含む金属層のエッチングには、過酸化水素水を１％から１５％程度含むエッチング液が使用されるが、エッチング液は、下部タンク（貯液タンク）内から配管を通してスプレーノズルへ供給され、スプレーノズルから基板上へ吐出される。そして、使用後のエッチング液は、基板上から処理チャンバの内底部へ流下し、処理チャンバの内底部から配管を通して下部タンク内に回収される。このようにエッチング液は循環して使用されるが、エッチング液中のＣｕイオンの濃度が上昇すると、過酸化水素は、
２Ｈ_２Ｏ_２→２Ｈ_２Ｏ＋Ｏ_２
といった化学反応により異常分解（自己分解）を起こす可能性のあることが分かった。エッチング液中で過酸化水素の異常分解が起こり始めると、分解反応熱により下部タンク内のエッチング液の温度が急激に上昇して高温になる。エッチング液が高温になると、通常ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）で形成されている処理チャンバや下部タンク、配管などが熱変形を起こし、エッチング液の漏洩や飛散が起こって、装置が破損する、といった恐れがある。また、下部タンク内部や配管内部で過酸化水素の分解によって酸素が発生し、下部タンク内部や配管内部の圧力が上昇して下部タンクや配管が破裂し、エッチング液の漏洩や飛散が起こって、装置が破損する、といった恐れがある。

この発明は、以上のような事情に鑑みてなされたものであり、過酸化水素水を含むエッチング液を使用して銅を含む金属層を有する基板をエッチング処理する場合において、エッチング液中の過酸化水素の異常分解が原因となってエッチング液の漏洩や飛散が起こり装置が破損する、といったことを防止することができる基板処理装置を提供することを目的とする。

請求項１に係る発明は、基板を搬入および搬出するための基板搬入口および基板搬出口を有し、基板に対しエッチング液を吐出する吐出ノズル、および、基板を支持して搬送する基板搬送手段が内部に配設され、過酸化水素水を含むエッチング液を基板の主面へ供給して、基板の主面上に形成された銅を含む金属層のエッチングが行われる処理チャンバと、密閉され、過酸化水素水を含むエッチング液を貯留する貯液タンクと、この貯液タンク内から前記吐出ノズルへエッチング液を供給するためのエッチング液供給配管と、前記貯液タンク内から前記エッチング液供給配管を通して前記吐出ノズルへエッチング液を送給する送液手段と、前記処理チャンバの内底部に溜まるエッチング液を前記貯液タンク内に回収するためのエッチング液回収配管と、を備えた基板処理装置において、前記貯液タンク内に貯留されたエッチング液の温度を測定する温度測定手段と、純水供給源に流路接続され前記貯液タンクに連通接続されて開閉制御弁が介挿された純水供給配管と、前記温度測定手段によって測定されたエッチング液の温度が予め設定された温度を超えたときに、前記開閉制御弁を開いて、純水供給源から前記純水供給配管を通して前記貯液タンク内へ純水を供給するように制御する制御手段と、前記貯液タンクの内部空間に連通し貯液タンク内部の急激な圧力上昇を防止するための通気配管と、をさらに備えたことを特徴とする。

請求項２に係る発明は、請求項１に記載の基板処理装置において、処理チャンバに排気手段が設けられ、通気配管を、貯液タンクの内部空間と処理チャンバの内部空間とを連通させるように配設したことを特徴とする。

請求項３に係る発明は、請求項１または請求項２に記載の基板処理装置において、純水供給配管から分岐しエッチング液供給配管に連通接続されて開閉制御弁が介挿された純水供給分岐配管をさらに備え、温度測定手段によって測定されたエッチング液の温度が予め設定された温度を超えたときに、前記純水供給分岐配管に介挿された開閉制御弁を開いて、純水供給源から純水供給分岐配管を通して前記エッチング液供給配管内へ純水を供給するように、制御手段によって制御することを特徴とする。

請求項４に係る発明は、請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の基板処理装置において、貯液タンクの底部に、開閉制御弁が介挿されたドレン配管が設けられ、温度測定手段によって測定されたエッチング液の温度が予め設定された温度を超えたときに、前記ドレン配管に介挿された開閉制御弁を開いて、前記貯液タンク内からドレン配管を通してエッチング液を排出するように、制御手段によって制御することを特徴とする。

請求項５に係る発明は、請求項４に記載の基板処理装置において、貯液タンク内に貯留されているエッチング液の上位液面および下位液面をそれぞれ検知する上・下液面センサをさらに備え、温度測定手段によって測定されたエッチング液の温度が予め設定された温度を超えた後において、前記上・下液面センサからの検知信号に基づいて純水供給配管に介挿された開閉制御弁を、前記貯液タンク内のエッチング液の液面が上位液面に達した時に閉じ下位液面に達したときに開くように、制御手段によって制御することを特徴とする。

請求項６に係る発明は、請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の基板処理装置において、処理チャンバの基板搬入口および基板搬出口にそれぞれ開閉シャッタが設けられ、温度測定手段によって測定されたエッチング液の温度が予め設定された温度を超えたときに、前記各開閉シャッタによって前記基板搬入口および基板搬出口をそれぞれ閉塞するように、制御手段によって制御することを特徴とする。

請求項１に係る発明の基板処理装置においては、エッチング液中の過酸化水素の異常分解が起こって、その分解反応熱により貯液タンク内に貯留されたエッチング液の温度が上昇しても、貯液タンク内のエッチング液の温度が温度測定手段によって測定され、その測定温度が予め設定された温度を超えたときに、純水供給配管に介挿された開閉制御弁が開かれ、純水供給源から純水供給配管を通して貯液タンク内へ純水が供給される。この純水によって貯液タンク内のエッチング液が冷却され、エッチング液の温度が低下するので、処理チャンバや貯液タンク、配管などの熱変形が防止される。また、エッチング液中の過酸化水素の異常分解によって貯液タンク内部で酸素が発生しても、貯液タンク内のガスが通気配管を通って貯液タンク内から排出されるので、貯液タンク内部の急激な圧力上昇が未然に防止され、このため、貯液タンクや配管が破裂する心配が無い。
したがって、請求項１に係る発明の基板処理装置を使用すると、エッチング液中の過酸化水素の異常分解が原因となってエッチング液の漏洩や飛散が起こり装置が破損する、といったことを防止することができる。

請求項２に係る発明の基板処理装置では、エッチング液中の過酸化水素の異常分解によって貯液タンク内部で酸素が発生したときに、貯液タンク内のガスは、通気配管を通って貯液タンク内から処理チャンバ内へ流出し、処理チャンバ内から排気手段によって排出される。したがって、貯液タンク内部の急激な圧力上昇が確実に防止される。

請求項３に係る発明の基板処理装置では、エッチング液中の過酸化水素の異常分解による発熱によって貯液タンク内のエッチング液の温度と共にエッチング液供給配管内のエッチング液の温度が上昇したときに、上記したようにして貯液タンク内のエッチング液の温度が低下させられるとともに、純水供給分岐配管に介挿された開閉制御弁が開かれ、純水供給源から純水供給配管および純水供給分岐配管を通してエッチング液供給配管内へ純水が供給され、この純水によってエッチング液供給配管内のエッチング液が冷却され、エッチング液の温度が低下させられる。

請求項４に係る発明の基板処理装置では、エッチング液中の過酸化水素の異常分解による発熱によって貯液タンク内のエッチング液の温度が上昇し、温度測定手段によって測定されたエッチング液の温度が予め設定された温度を超えたときに、ドレン配管に介挿された開閉制御弁が開かれ、貯液タンク内からドレン配管を通してエッチング液が排出される。このように高温のエッチング液が貯液タンク内から排出され、一方、上記したように貯液タンク内へ純水が供給されるので、貯液タンク内のエッチング液が効率良く冷却され、エッチング液の温度がより速やかに低下する。

請求項５に係る発明の基板処理装置では、温度測定手段によって測定されたエッチング液の温度が予め設定された温度を超えた後において、上記したように貯液タンク内へ純水が供給されることにより、貯液タンク内のエッチング液の液面が上昇して上位液面に達した時に、純水供給配管に介挿された開閉制御弁が閉じられる。この後、上記したように貯液タンク内からドレン配管を通してエッチング液が排出されることにより、貯液タンク内のエッチング液の液面が低下して下位液面に達した時に、純水供給配管に介挿された開閉制御弁が開かれて、再び貯液タンク内へ純水が供給される。そして、貯液タンク内のエッチング液の液面が上昇して上位液面に達した時に、純水供給配管に介挿された開閉制御弁が再び閉じられ、以上の動作が繰り返される。したがって、貯液タンク内へ純水を過剰に供給することなく、貯液タンク内のエッチング液を純水によって効果的に冷却し、エッチング液の温度を確実に低下させることができる。

請求項６に係る発明の基板処理装置では、温度測定手段によって測定されたエッチング液の温度が予め設定された温度を超えたときに、開閉シャッタによって処理チャンバの基板搬入口および基板搬出口がそれぞれ閉塞されることにより、処理チャンバ内から基板搬入口および基板搬出口を通ってガスや高温のミストなどが漏れ出たりすることが防止される。

以下、この発明の最良の実施形態について図面を参照しながら説明する。
図１は、この発明の実施形態の１例を示し、基板処理装置の概略構成を模式的に配管系と共に示す側面図である。

この基板処理装置は、過酸化水素水を１％から１５％程度含むエッチング液を基板の主面へ供給し基板の主面上に形成された銅を含む金属層のエッチングを行う２つの処理チャンバ１０ａ、１０ｂを連設して構成されている。処理チャンバ１０ａ、１０ｂは、詳細を図示していないが、基板を搬入および搬出するための基板搬入口および基板搬出口を有し、前段の処理チャンバ１０ａの基板搬入口および後段の処理チャンバ１０ｂの基板搬出口には、それぞれ開閉シャッタが設けられている。処理チャンバ１０ａ、１０ｂの内部には、基板を支持して搬送するローラコンベアが配設され、また、基板に対しエッチング液を吐出するスプレーノズル１２が設けられている。さらに、処理チャンバ１０ａ、１０ｂの基板搬入口付近にスリットノズル１４が配設されている。処理チャンバ１０ａ、１０ｂの天井部には、ダンパ１８が介挿された排気用配管１６が設けられている。

処理チャンバ１０ａ、１０ｂの下方には、密閉された下部タンク（貯液タンク）２０が設置されている。この下部タンク２０内に、過酸化水素水を含むエッチング液２２が貯留される。下部タンク２０の底部には、エッチング液供給配管２４が連通接続されており、エッチング液供給配管２４には、開閉制御弁２６、送液ポンプ２８、逆止弁３０、フィルタ３２および開閉制御弁３４が順にそれぞれ介挿されている。エッチング液供給配管２４は、スプレーノズル１２に流路接続されており、また、その途中で分岐して、開閉制御弁３８が介挿されたエッチング液供給分岐配管３６がスリットノズル１４に流路接続されている。また、下部タンク２０の底部には、開閉制御弁４２が介挿されたドレン配管４０が設けられている。さらに、下部タンク２０には、液循環ポンプ４６が介挿され下部タンク２０内のエッチング液２２を循環させる液循環用配管４４が設けられている。また、処理チャンバ１０ａ、１０ｂの内底部に溜まるエッチング液を回収するために、処理チャンバ１０ａ、１０ｂの底部にエッチング液回収配管４８が設けられていて、そのエッチング液回収配管４８の先端部が下部タンク２０の内部に挿入されている。

さらに、この基板処理装置には、純水供給源に流路接続され下部タンク２０に連通接続された純水供給配管５０が設けられている。純水供給配管５０には、開閉制御弁５２、圧力計５４および開閉弁５６がそれぞれ介挿されている。圧力計５４は、純水供給源から供給される純水の元圧を検知するためのものであって、元圧に異常があったときには、純水の供給が行われない。純水供給配管５０は、その途中で分岐して、開閉制御弁６０が介挿された純水供給分岐配管５８が、エッチング液供給配管２４の逆止弁３０とフィルタ３２との間に連通接続されている。また、貯液タンク２０の内部空間と処理チャンバ１０ａ、１０ｂの内部空間とを相互に連通させるように通気配管６２が配設されている。

下部タンク２０には、その下部タンク２０内に貯留されたエッチング液２２の温度を測定する温度センサ６４が付設されており、また、下部タンク２０内に貯留されているエッチング液２２の上位液面および下位液面をそれぞれ検知する上位液面センサ６６ａおよび下位液面センサ６６ｂ、ならびに、エッチング液２２の下限液面を検知する下限液面センサ６８がそれぞれ付設されている。そして、温度センサ６４および各液面センサ６６ａ、６６ｂ、６８からの検知信号に基づいて開閉制御弁５２を制御し、また、温度センサ６４からの検知信号を受けて各開閉制御弁２６、３４、３８、４２、６０ならびに処理チャンバ１０ａの基板搬入口および処理チャンバ１０ｂの基板搬出口に設けられた各開閉シャッタを制御する制御回路（図示せず）を備えている。エッチング液２２中の過酸化水素の異常分解の検出は、制御回路において、温度センサ６４による検知温度と予め設定された温度、例えば４０℃とを比較し、検知温度が４０℃を超えた時点をもって異常分解の発生と判定することにより行われる。また、制御回路は、過酸化水素の異常分解が発生したときに、オペレータが誤って装置の非常停止スイッチを押しても適切な安全対策が実行されるようにするプログラムを有してる。

次に、上記した構成を備えた基板処理装置における異常時の制御動作の１例を、図２および図３に示したフローチャートに基づいて説明する。
エッチング液中の過酸化水素が異常分解を起こして、温度センサ６４による検知温度が設定温度である４０℃を超えた時に、制御回路からの制御信号により、ドレン配管４０に介挿された開閉制御弁４２が開かれ、下部タンク２０内からドレン配管４０を通してエッチング液２２の排出が開始され、また、純水供給配管５０に介挿された開閉制御弁５２が開かれ、純水供給源から純水供給配管５０を通して純水が下部タンク２０内へ供給される。この際、下部タンク２０内への純水の供給流量は、下部タンク２０内からの排液流量よりも多くされ、例えば７００Ｌ／ｍｉｎの流量の純水が下部タンク２０内へ供給される。そして、制御回路において液面センサ６６ａ、６６ｂからの検知信号に基づいて開閉制御弁５２の開・閉動作を制御することにより、下部タンク２０内の液面が上位液面に達すると下部タンク２０内への純水の供給を止め、下部タンク２０内からの排液によって下部タンク２０内の液面が下位液面まで低下すると下部タンク２０内への純水の供給を再開するようにし、この純水供給・停止の動作が繰り返される。また、純水供給分岐配管５８に介挿された開閉制御弁６０が開かれ、純水供給源から純水供給分岐配管５８を通して純水がエッチング液供給配管２４内の途中に供給される。これにより、エッチング液供給配管２４内のエッチング液も冷却され、エッチング液の温度が低下する。そして、下部タンク２０内のエッチング液と純水の混合液の温度が、適正な温度、例えば３０℃以下になったことが温度センサ６４によって検知されると、下部タンク２０内への純水の供給が最終的に停止され、併せて、エッチング液供給配管２４内への純水の供給も停止される。

上記動作と同時に、エッチング液供給配管２４に介挿された各開閉制御弁２６、３４およびエッチング液供給分岐配管３６に介挿された開閉制御弁３８がそれぞれ開かれ、送液ポンプ２８が駆動して、エッチング液供給配管２４およびエッチング液供給分岐配管３６、スプレーノズル１２およびスリットノズル１４、処理チャンバ１０ａ、１０ｂの内底部、エッチング液回収配管４８ならびに下部タンク２０内を介してエッチング液を循環させることにより、下部タンク２０内へ供給された純水とエッチング液とが攪拌される。また、各開閉制御弁２６、３４、３８がそれぞれ開かれることにより、エッチング液供給配管２４およびエッチング液供給分岐配管３６に閉塞部分が無くなるようにされる。

また、エッチング液中の過酸化水素の異常分解が起こると、下部タンク２０の内部や配管２４、３６の内部で過酸化水素の分解によって酸素が発生し、下部タンク２０内部や配管２４、３６内部の圧力が上昇することになるが、貯液タンク２０の内部空間と処理チャンバ１０ａ、１０ｂの内部空間とは通気配管６２を介して相互に連通しているので、下部タンク２０内のガスは、通気配管６２を通って下部タンク２０内から処理チャンバ１０ａ、１０ｂ内へ流出する。したがって、下部タンク２０の内部の急激な圧力上昇が防止される。また、上記したように、エッチング液供給配管２４およびエッチング液供給分岐配管３６には閉塞部分が無くなるようにされるので、配管２４、３６の内部の急激な圧力上昇も防止される。さらに、処理チャンバ１０ａの基板搬入口および処理チャンバ１０ｂの基板搬出口に設けられた各開閉シャッタがそれぞれ閉塞される。これにより、処理チャンバ１０ａ、１０ｂ内から基板搬入口および基板搬出口を通ってガスや高温のミストなどが漏れ出たりすることが防止され、処理チャンバ１０ａ、１０ｂ内のガスやミストは、排気用配管１６を通って排出される。

そして、上記したように、下部タンク２０内のエッチング液と純水の混合液の温度が３０℃以下となって、下部タンク２０内への純水の供給が最終的に停止された後、下部タンク２０内からの排液によって液面が下位液面よりさらに低下し、下限液面センサ６８によって液面が下限液面まで達したことが検知されると、ドレン配管４０に介挿された開閉制御弁４２が閉じられて、排液が停止する。また、同時に、エッチング液供給配管２４に設けられた送液ポンプ２８が停止させられ、エッチング液の循環が止まる。

一方、過酸化水素の異常分解が発生して、温度センサ６４による検知温度が４０℃を超え、オペレータが警報を聞くなどして装置の非常停止スイッチを押した場合には、以下のような制御動作が行われる。
オペレータによって非常停止スイッチが押されると、上記と同様に、ドレン配管４０に介挿された開閉制御弁４２が開かれ、下部タンク２０内からドレン配管４０を通してエッチング液２２の排出が開始される。また、純水供給配管５０に介挿された開閉制御弁５２が開かれ、純水供給源から純水供給配管５０を通して純水が下部タンク２０内へ供給される。そして、液面センサ６６ａ、６６ｂからの検知信号に基づいて開閉制御弁５２の開・閉動作が制御され、下部タンク２０内の液面が上位液面に達すると下部タンク２０内への純水の供給が止まり、下部タンク２０内からの排液によって下部タンク２０内の液面が下位液面まで低下すると下部タンク２０内への純水の供給が再開されて、この純水供給・停止の動作が繰り返される。また、純水供給分岐配管５８に介挿された開閉制御弁６０が開かれ、純水供給源から純水供給分岐配管５８を通して純水がエッチング液供給配管２４内の途中に供給される。そして、下部タンク２０内のエッチング液と純水の混合液の温度が、３０℃以下になったことが温度センサ６４によって検知されると、下部タンク２０内への純水の供給が最終的に停止され、併せて、エッチング液供給配管２４内への純水の供給も停止される。また、各開閉制御弁２６、３４、３８がそれぞれ開かれることにより、エッチング液供給配管２４およびエッチング液供給分岐配管３６に閉塞部分が無くなるようにされる。

さらに、エッチング液中の過酸化水素の異常分解によって発生した酸素により下部タンク２０内部や配管２４、３６内部の圧力が上昇することになるが、下部タンク２０内のガスは、通気配管６２を通って下部タンク２０内から処理チャンバ１０ａ、１０ｂ内へ流出するので、下部タンク２０の内部の急激な圧力上昇が防止される。また、エッチング液供給配管２４およびエッチング液供給分岐配管３６には閉塞部分が無くなるようにされるので、配管２４、３６の内部の急激な圧力上昇も防止される。さらに、処理チャンバ１０ａの基板搬入口および処理チャンバ１０ｂの基板搬出口に設けられた各開閉シャッタがそれぞれ閉塞され、これにより、処理チャンバ１０ａ、１０ｂ内から基板搬入口および基板搬出口を通ってガスや高温のミストなどが漏れ出たりすることが防止される。そして、以上の各動作が継続したまま、下部タンク２０内の液量が０となる。

この発明の実施形態の１例を示し、基板処理装置の概略構成を模式的に配管系と共に示す側面図である。図１に示した基板処理装置における異常時の制御動作の１例を説明するためのフローチャートである。同じく、異常時の制御動作の１例を説明するためのフローチャートである。

符号の説明

１０ａ、１０ｂ処理チャンバ
１２スプレーノズル
１４スリットノズル
１６排気用配管
２０下部タンク（貯液タンク）
２２過酸化水素水を含むエッチング液
２４エッチング液供給配管
２６、３４、３８、４２、５２、６０開閉制御弁
２８送液ポンプ
３６エッチング液供給分岐配管
４０ドレン配管
４４液循環用配管
４８エッチング液回収配管
５０純水供給配管
５４圧力計
５８純水供給分岐配管
６２通気配管
６４温度センサ
６６ａ上位液面センサ
６６ｂ下位液面センサ
６８下限液面センサ

Claims

基板を搬入および搬出するための基板搬入口および基板搬出口を有し、基板に対しエッチング液を吐出する吐出ノズル、および、基板を支持して搬送する基板搬送手段が内部に配設され、過酸化水素水を含むエッチング液を基板の主面へ供給して、基板の主面上に形成された銅を含む金属層のエッチングが行われる処理チャンバと、
密閉され、過酸化水素水を含むエッチング液を貯留する貯液タンクと、
この貯液タンク内から前記吐出ノズルへエッチング液を供給するためのエッチング液供給配管と、
前記貯液タンク内から前記エッチング液供給配管を通して前記吐出ノズルへエッチング液を送給する送液手段と、
前記処理チャンバの内底部に溜まるエッチング液を前記貯液タンク内に回収するためのエッチング液回収配管と、
を備えた基板処理装置において、
前記貯液タンク内に貯留されたエッチング液の温度を測定する温度測定手段と、
純水供給源に流路接続され前記貯液タンクに連通接続されて開閉制御弁が介挿された純水供給配管と、
前記温度測定手段によって測定されたエッチング液の温度が予め設定された温度を超えたときに、前記開閉制御弁を開いて、純水供給源から前記純水供給配管を通して前記貯液タンク内へ純水を供給するように制御する制御手段と、
前記貯液タンクの内部空間に連通し貯液タンク内部の急激な圧力上昇を防止するための通気配管と、
をさらに備えたことを特徴とする基板処理装置。
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記処理チャンバに排気手段が設けられ、前記通気配管が、前記貯液タンクの内部空間と前記処理チャンバの内部空間とを連通させるように配設されたことを特徴とする基板処理装置。
請求項１または請求項２に記載の基板処理装置において、
前記純水供給配管から分岐し前記エッチング液供給配管に連通接続されて開閉制御弁が介挿された純水供給分岐配管をさらに備え、前記制御手段は、前記温度測定手段によって測定されたエッチング液の温度が予め設定された温度を超えたときに、前記純水供給分岐配管に介挿された開閉制御弁を開いて、純水供給源から純水供給分岐配管を通して前記エッチング液供給配管内へ純水を供給するように制御することを特徴とする基板処理装置。
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記貯液タンクの底部に、開閉制御弁が介挿されたドレン配管が設けられ、前記制御手段は、前記温度測定手段によって測定されたエッチング液の温度が予め設定された温度を超えたときに、前記ドレン配管に介挿された開閉制御弁を開いて、前記貯液タンク内からドレン配管を通してエッチング液を排出するように制御することを特徴とする基板処理装置。
請求項４に記載の基板処理装置において、
前記貯液タンク内に貯留されているエッチング液の上位液面および下位液面をそれぞれ検知する上・下液面センサをさらに備え、前記制御手段は、前記温度測定手段によって測定されたエッチング液の温度が予め設定された温度を超えた後において、前記上・下液面センサからの検知信号に基づいて前記純水供給配管に介挿された開閉制御弁を、前記貯液タンク内のエッチング液の液面が上位液面に達した時に閉じ下位液面に達したときに開くように制御することを特徴とする基板処理装置。
請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記処理チャンバの基板搬入口および基板搬出口にそれぞれ開閉シャッタが設けられ、前記制御手段は、前記温度測定手段によって測定されたエッチング液の温度が予め設定された温度を超えたときに、前記各開閉シャッタによって前記基板搬入口および基板搬出口をそれぞれ閉塞するように制御することを特徴とする基板処理装置。