TWI679718B - 基板處理系統 - Google Patents

Abstract

一種基板處理系統，包括處理裝置、回收槽、排液管路以及冷卻液供應單元。處理裝置使用處理液對基板進行處理。回收槽用以容置處理液。排液管路連通於回收槽。冷卻液供應單元連通於排液管路，並用以供應冷卻液至排液管路，以使冷卻液與處理液混合成混合液，其中排液管路用以將混合液以及回收槽內的處理液排出至外部端。

Description

基板處理系統

本發明是有關一種基板處理系統，尤其是有關一種使用處理液的基板處理系統。

目前的半導體元件製造方法須進行多種濕製程，例如蝕刻、清洗及電鍍。當進行這些濕製程時，會使用多種處理液來處理基板，其中處理液例如是蝕刻液、清洗液以及電鍍液。處理液在產線中通常會循環，並重複使用，而在處理液的循環中，處理液會存放在回收槽內，其中回收槽能收集使用過的處理液，並將可使用的處理液輸出至濕製程機台，以進行濕製程。

在某些濕製程中，處理液的溫度會上升。例如，有的蝕刻製程是使用熱磷酸來蝕刻氮化矽。當處理液的溫度上升到一定的程度時，處理液可能會進入沸騰狀態。有時候，處理液的溫度雖然足以進入沸騰狀態，但因為處理液的內部分子仍未氣化，所以還不會沸騰，直到處理液受到擾動，才會突然發生沸騰，產生大量的氣體。這種突然發生沸騰的現象稱為突沸。由於沸騰會產生大量的氣體，所以容易發生爆炸的危險。此外，突沸通常會產生大量的熱能，並使處理液噴濺，導致人員可能受到燙傷，或是被具腐蝕性的處理液傷害。

本發明提供一種基板處理系統，其利用冷卻液供應單元所供應的冷卻液來降低處理液的溫度，以避免突沸的發生。

本發明另提供一種基板處理系統，其能幫助防止突沸的發生。

本發明一實施例提出一種基板處理系統，其包括處理裝置、回收槽、排液管路以及冷卻液供應單元。處理裝置使用處理液對基板進行處理。回收槽用以容置處理液。排液管路連通於回收槽，並用以將回收槽內的處理液排出至外部端。冷卻液供應單元連通於排液管路，並用以供應冷卻液至排液管路，以使冷卻液與處理液混合成混合液，其中排液管路用以將混合液排出至外部端。

在本發明的一實施例中，上述的基板處理系統還包括連接排液管路的溫度監測單元，其用以監測排液管路內流向外部端的混合液的排液溫度。當溫度監測單元監測到排液溫度大於停止門檻值時，排液管路停止排出混合液至外部端。

在本發明的一實施例中，上述的基板處理系統還包括連接回收槽的異常溫度監測單元，其用以監測回收槽內處理液的溫度。冷卻液供應單元更連通於回收槽。當異常溫度監測單元監測到回收槽內的處理液溫度大於或等於異常溫度值時，冷卻液供應單元供應冷卻液至回收槽內的處理液。

在本發明的一實施例中，當異常溫度監測單元監測到回收槽內的處理液溫度大於或等於異常溫度值時，溫度監測單元停止監測排液溫度，且排液管路將回收槽內的處理液排出至外部端。

在本發明的一實施例中，上述的基板處理系統還包括排氣裝置，其連通於回收槽。當異常溫度監測單元監測到回收槽內的處理液溫度大於或等於異常溫度值時，排氣裝置對回收槽進行排氣（exhausting）。

本發明另一實施例提出一種基板處理系統，其包括處理裝置、回收槽、異常溫度監測單元、排液管路、排氣裝置以及冷卻液供應單元。處理裝置使用處理液對基板進行處理。回收槽用以容置處理液。異常溫度監測單元用以監測回收槽內處理液的溫度。排液管路連通於回收槽，並用以將回收槽內的處理液排出至外部端。排氣裝置連通於回收槽，並用以對回收槽進行排氣。冷卻液供應單元連通於回收槽，並用以供應冷卻液。當異常溫度監測單元監測到回收槽內的處理液溫度大於或等於異常溫度值時，排氣裝置對回收槽進行排氣，而冷卻液供應單元供應冷卻液至回收槽內的處理液，以使冷卻液與處理液混合成混合液，排液管路將混合液排出至外部端。

在本發明的一實施例中，當異常溫度監測單元監測到回收槽內處理液的溫度小於異常溫度值時，排氣裝置以第一排氣量排氣。當異常溫度監測單元監測到回收槽內處理液的溫度大於或等於異常溫度值時，排氣裝置以第二排氣量排氣，其中第二排氣量大於第一排氣量。

在本發明的一實施例中，當異常溫度監測單元監測到回收槽內的處理液溫度大於或等於異常溫度值時，冷卻液供應單元供應冷卻液至回收槽與排液管路，以在回收槽與排液管路內形成混合液，而排液管路將混合液排出至外部端。

在本發明的一實施例中，更包括控制冷卻液供應單元供應冷卻液至排液管路的流量以及排液管路將回收槽內的混合液排出的流量兩者的比值，其中此比值介於2:1至5:1之間。

在本發明的一實施例中，上述的回收槽包括處理液容置區以及氣體緩衝區。處理液容置於處理液容置區，而處理液所產生的氣體釋放至氣體緩衝區。

在本發明的一實施例中，上述的基板處理系統更包括殼體以及漏液偵測單元，其中回收槽與至少一部分排液管路配置於殼體內，而漏液監測單元連接殼體。當漏液偵測單元偵測殼體外出現漏液時，排液管路停止排出處理液至外部端。

基於上述，冷卻液供應單元所供應的冷卻液不僅能對處理液降溫，排除處理液發生突沸的條件，以降低突沸的發生機率。如此，本發明能保護現場人員免於遭受突沸與爆炸的危險。

為讓本發明的特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下。

圖1為本發明一實施例的基板處理系統的示意圖。請參閱圖1，基板處理系統10包括處理裝置100、回收槽200、排液管路300（圖1中以斜線區域表示）以及冷卻液供應單元400。基板處理系統10可應用於半導體製程，而處理裝置100能使用處理液L1對基板（圖未示）進行處理，其中此基板例如是晶圓，但不限於此。上述基板可為基板形式、載板形式、晶圓形式、晶片形式等，並且可為圓型或方型，並不以此為限。處理裝置100可應用於濕製程，例如蝕刻、清洗或電鍍，而處理液L1可為蝕刻液、清洗液或電鍍液。所以，處理裝置100可為蝕刻、清洗或電鍍設備。處理裝置100還可應用於單基板濕製程、多基板濕製程、單一方晶片錫球下金屬蝕刻、薄化晶圓支撐/剝離、貼合/剝離製程、碳化矽再生晶圓或再生矽晶圓，但不以此為限。

回收槽200能容置處理液L1，並且可以包括處理液容置區210以及氣體緩衝區220。處理液L1容納於處理液容置區210，其中處理液L1所產生的氣體會釋放至氣體緩衝區220，而設置氣體緩衝區220有助於當處理液L1產生大量氣體時之緩衝空間。當可能發生突沸條件時，氣體緩衝區220有助於回收槽200的設備安全，其中處理液L1所產生的氣體是由蒸發而產生。換句話說，處理液L1在回收槽200內所佔據的空間定義為處理液容置區210，而由處理液L1產生的氣體在回收槽200內所佔據的空間定義為氣體緩衝區220，其中處理液容置區210與氣體緩衝區220會隨著回收槽200內處理液L1的量而有所改變。由此可知，處理液L1只有佔據回收槽200內的一部分空間，並不充滿整個回收槽200。

排液管路300連通於回收槽200，並能將處理液L1從基板處理系統10排出至外部端20。例如，排液管路300能將回收槽200內的處理液L1排出至外部端20。排液管路300可具有開關閥310，其位於回收槽200與外部端20之間的處理液L1輸送路徑，其中開關閥310可以是電磁閥。當開關閥310關閉時，回收槽200內的處理液L1不會排出至外部端20。當開關閥310開啟時，回收槽200內的處理液L1能排出至外部端20。此外，外部端20可以是工廠的廢液處理設備，以使工廠能妥善處理處理液L1而不影響環境保護及不造成工安危險。

基板處理系統10還可包括回收管路150a與供液管路150b，其中回收管路150a與供液管路150b連通於處理裝置100與回收槽200，以使處理液L1可經由回收管路150a與供液管路150b而在回收槽200與處理裝置100之間輸送。處理裝置100內的處理液L1可經由回收管路150a輸送至回收槽200，而回收槽200內的處理液L1可經由供液管路150b輸送至處理裝置100。如此，處理液L1可在處理裝置100與回收槽200之間循環與傳輸，以供應處理液L1給處理裝置100，並充分利用處理液L1。

在圖1所示的實施例中，基板處理系統10還可包括藥液供應單元700，其連通於回收槽200。藥液供應單元700能供應處理液L1給回收槽200，以補充處理液L1。在回收槽200內的舊處理液L1全部排放到外部端20之後，藥液供應單元700能供應新的處理液L1給回收槽200，以取代舊處理液L1。另外，須說明的是，在其他實施例中，基板處理系統10也可不包括藥液供應單元700，而整個回收槽200可以替換成新的回收槽200。例如，回收槽200可以是供應商所提供原先容置處理液L1的容器，即供應商是將處理液L1與裝有此處理液L1的回收槽200一起提供，所以回收槽200也可以被替換。因此，圖1所示的藥液供應單元700僅供舉例說明，並非限定基板處理系統10一定要包括藥液供應單元700。

冷卻液供應單元400連通於排液管路300，並能供應冷卻液至排液管路300，以使冷卻液與排液管路300內的處理液L1混合成混合液。冷卻液可與處理液L1產生化學反應，以降低處理液L1的毒性。或者，冷卻液與處理液L1之間也可不產生化學反應，僅進行冷卻降溫。以此為例，冷卻液可為去離子水而冷卻液供應單元400可連接於廠房的去離子水來源或裝有冷卻液的儲液槽。

冷卻液供應單元400可具有冷卻液管路410a與開關閥420，其中冷卻液管路410a連通於排液管路300，而開關閥420裝設於冷卻液管路410a與排液管路300之間。當開關閥420開啟時，冷卻液供應單元400能經由冷卻液管路410a供應冷卻液至排液管路300。當開關閥420關閉時，冷卻液供應單元400會停止供應冷卻液至排液管路300。

在冷卻液與處理液L1混合以前，冷卻液的溫度可以低於處理液L1，以使上述混合液的溫度能低於處理液L1的溫度。所以，冷卻液能降低處理液L1的溫度，從而防止處理液L1發生突沸後溫度過高，影響排液管路300及外部端20的安全。由於冷卻液供應單元400連通於排液管路300，因此排液管路300也能將上述混合液排出至外部端20。也就是說，排液管路300會排出已降低溫度的混合液給工廠進行後續廢液處理。

基板處理系統10還包括連接排液管路300的溫度監測單元510，其用以監測排液管路300內流向外部端20的處理液L1的排液溫度。所以，溫度監測單元510會監測外部端20所收到的處理液L1的溫度。溫度監測單元510實質上為溫度計，並具有用來進行溫度量測的探測部。在本實施例中，溫度監測單元510實質上可為電子式溫度計，並具有用來量測液體（例如處理液L1或混合液）溫度的金屬探針。排液管路300可具有開關閥320，其中開關閥320可位於溫度監測單元510與外部端20之間的輸送路徑，並位於排液管路300的尾段。因此，開關閥320可作為排液管路300排放至外部端20的最後閥門，即排液管路300內的液體（例如混合液或處理液L1）最後是否排放到外部端20會由開關閥320決定。

圖2為圖1中的溫度監測單元的運作流程示意圖。請參閱圖1與圖2，在溫度監測單元510的運作流程中，首先，執行步驟S101，啟動溫度監測單元510來監測排液管路300內流向外部端20的處理液L1的排液溫度。也就是說，啟動後的溫度監測單元510會不中斷地量測排液管路300內流向外部端20的處理液L1溫度（即排液溫度）。接著，執行步驟S102，監測處理液L1的排液溫度是否大於停止門檻值。

當溫度監測單元510監測到排液溫度大於停止門檻值時，執行步驟S103，令排液管路300停止排出處理液L1至外部端20，即開關閥320會關閉，讓排液管路300內的處理液L1停止排放到外部端20。當溫度監測單元510監測到排液溫度小於停止門檻值時，執行步驟S104，令排液管路300排出處理液L1至外部端20，即開關閥320會開啟，讓處理液L1排放到外部端20。如此，外部端20所輸出的處理液L1溫度不會大於停止門檻值，從而有利於工廠進行廢液處理。

此外，溫度監測單元510可具有微處理器，其儲存停止門檻值，而開關閥320可為電磁閥，並電連接溫度監測單元510的微處理器，以使溫度監測單元510能控制開關閥320關閉及開啟。因此，圖2所示的步驟S101至S104可由溫度監測單元510的微處理器來執行。此外，微處理器還可以設定停止門檻值來配合不同種類的處理液L1。

特別一提的是，在其他實施例中，在溫度監測單元510進行監測的期間，冷卻液供應單元400可以經由冷卻液管路410a供應冷卻液至排液管路300，以形成混合液，而溫度監測單元510會監測排液管路300內流向外部端20的混合液的排液溫度。與圖2所示的溫度監測單元510運作流程相似，當溫度監測單元510監測到上述混合液的排液溫度大於停止門檻值時，排液管路300會停止排出混合液至外部端20。由此可知，在溫度監測單元510進行監測的期間，冷卻液供應單元400可以供應或不供應冷卻液至排液管路300，以使溫度監測單元510監測排液管路300內流向外部端20的混合液或處理液L1的排液溫度。

溫度監測單元510會在基板處理系統10處於正常狀態時進行監測。一旦基板處理系統10處於異常狀態，例如回收槽200內的處理液L1溫度過高時，溫度監測單元510會停止監測處理液L1的排液溫度，而排液管路300會將回收槽200內的處理液L1排出至外部端20，以避免回收槽200內的高溫處理液L1危害到現場人員。詳細而言，基板處理系統10還包括連接回收槽200的異常溫度監測單元520，其用以監測回收槽200內處理液L1的溫度，以決定是否將回收槽200內溫度過高的處理液L1排出至外部端20。此外，異常溫度監測單元520實質上為溫度計（例如電子式溫度計），並具有用來進行溫度量測的探測部，像是用來量測液體溫度的金屬探針。

圖3是圖1中的異常溫度監測單元的運作流程示意圖。請參閱圖1與圖3，在異常溫度監測單元520的運作流程中，執行步驟S201，啟動異常溫度監測單元520監測回收槽200內處理液L1的溫度。換句話說，啟動後的異常溫度監測單元520會不中斷地量測回收槽200內處理液L1的溫度。接著，執行步驟S202，監測回收槽200內處理液L1的溫度是否大於或等於異常溫度值，其中異常溫度值會大於停止門檻值，且異常溫度值所對應的溫度能讓處理液L1進入沸騰狀態或是即將進入沸騰狀態的警戒溫度。換句話說，當處理液L1的溫度處於異常溫度值對應的溫度時，處理液L1可能會發生突沸。

當異常溫度監測單元520監測到回收槽200內的處理液L1溫度大於或等於異常溫度值時，表示回收槽200內的處理液L1溫度過高，很可能會發生突沸而導致工安事故。此時，會立刻執行步驟S203與步驟S204，即停止溫度監測單元510監測排液溫度，並令排液管路300將回收槽200內的處理液L1排出至外部端20，以避免現場人員遭到高溫的處理液L1傷害，並且防止回收槽200發生爆炸。此外，基板處理系統10還可包括裝設於排液管路300的幫浦155，其中幫浦155能抽取回收槽200內的處理液L1，從而有助於將處理液L1排出至外部端20。

冷卻液供應單元400更連通於回收槽200，並且能供應冷卻液至回收槽200。具體而言，冷卻液供應單元400還可具有冷卻液管路410b與開關閥430，其中冷卻液管路410b連通於回收槽200，而開關閥430裝設於冷卻液管路410b。當開關閥430開啟時，冷卻液供應單元400能經由冷卻液管路410b供應冷卻液至回收槽200。當開關閥430關閉時，冷卻液供應單元400停止供應冷卻液至回收槽200。

在執行步驟S204之前，可以令冷卻液供應單元400供應冷卻液至回收槽200內的處理液L1，即開啟開關閥430讓冷卻液輸送至回收槽200，以使冷卻液與處理液L1混合成混合液，進而降低回收槽200內處理液L1的溫度。在執行步驟S204中，排液管路300會將上述包括處理液L1的混合液排出至外部端20。如此，可以降低回收槽200內處理液L1的溫度，以減少發生突沸的機率或是降低發生突沸後對回收槽200之設備危害，而且也讓溫度較低的混合液排放到外部端20，從而有利於工廠進行廢液處理。

值得一提的是，冷卻液供應單元400連通於排液管路300，所以冷卻液供應單元400不僅能供應冷卻液至回收槽200，而且也能供應冷卻液至排液管路300。因此，在冷卻液供應單元400供應冷卻液至回收槽200的期間，開關閥420會開啟，以使冷卻液供應單元400也能供應冷卻液至排液管路300，讓在回收槽200與排液管路300內形成混合液。之後，排液管路300會將排液管路300內與回收槽200內的混合液排出至外部端20。在一實施例中，還包括控制冷卻液供應單元400供應冷卻液至排液管路300的流量以及排液管路300將回收槽200內的混合液排出的流量兩者的比值，其中此比值可以介於2:1至5:1之間。

當異常溫度監測單元520監測到回收槽200內的處理液L1溫度沒有大於或等於（即小於）異常溫度值時，表示處理液L1溫度沒有過熱，不會發生突沸，而基板處理系統10處於正常狀態。此時，執行步驟S205，維持溫度監測單元510監測排液溫度，而開關閥420與430皆被關閉，以使冷卻液供應單元400不供應冷卻液。

須說明的是，在圖1所示的實施例中，冷卻液供應單元400連通於排液管路300以及回收槽200，但在其他實施例中，冷卻液供應單元400可以僅連通於排液管路300與回收槽200其中一者，所以冷卻液供應單元400可以只供應冷卻液至回收槽200或排液管路300。因此，冷卻液供應單元400不限定一定要皆連通回收槽200與排液管路300。換句話說，冷卻液供應單元400可以只供應冷卻液給回收槽200或排液管路300。

基板處理系統10還可包括排氣裝置600，其連通於回收槽200。排氣裝置600能對回收槽200進行排氣（exhausting），以釋放氣體緩衝區220內的氣體，從而降低回收槽200內的壓力。當異常溫度監測單元520監測到回收槽200內的處理液L1溫度大於或等於異常溫度值時，不僅執行圖2中的步驟S203與S204，令冷卻液供應單元400供應冷卻液給回收槽200與排液管路300其中至少一者，而且還令排氣裝置600對回收槽200進行排氣，以降低回收槽200內的壓力，從而減少回收槽200發生爆炸的機率。

排氣裝置600可包括閥件及/或抽風機，並且能以不同的排氣量來對回收槽200排氣，以調節回收槽200內的壓力，其中上述閥件例如是蝴蝶閥或球閥。排氣裝置600能依據異常溫度監測單元520所監測到的處理液L1溫度來調整排氣量。當異常溫度監測單元520監測到回收槽200內處理液L1的溫度小於異常溫度值時，排氣裝置600會以第一排氣量來排氣。或者，排氣裝置600也可以不排氣。當異常溫度監測單元520所測得的回收槽200內處理液L1的溫度大於或等於異常溫度值時，排氣裝置600會以第二排氣量來排氣，其中第二排氣量大於第一排氣量，以使回收槽200內的壓力能有效降低，防止回收槽200損害，進而讓現場人員避免受到傷害。

請參閱圖1，基板處理系統10還可包括殼體S1以及漏液偵測單元800。回收槽200與至少部分排液管路300配置於殼體S1內，以使殼體S1能保護回收槽200與至少部分排液管路300。以圖1為例，除了處理裝置100外，基板處理系統10的其他元件，例如溫度監測單元510以及異常溫度監測單元520，都配置於殼體S1內。如此，殼體S1能保護基板處理系統10大部分元件。漏液偵測單元800連接殼體S1，並能偵測出現於殼體S1外的漏液，例如處理液L1，其中漏液偵測單元800例如是漏液感測器或漏液檢測帶。當漏液偵測單元800偵測殼體S1外出現漏液時，排液管路300會停止排出處理液L1至外部端20，以保護現場人員。縱使異常溫度監測單元520已監測到回收槽200內的處理液L1溫度大於或等於異常溫度值，排液管路300仍停止排出處理液L1至外部端20，以保護現場人員不受處理液L1的傷害。

特別一提的是，基板處理系統10可通訊連接控制裝置90。控制裝置90例如是桌上型電腦或工業電腦，而基板處理系統10可電連接或無線連接控制裝置90。所以，基板處理系統10可利用有線網路或無線網路來通訊連接控制裝置90。也就是說，控制裝置90能經由有線網路或無線網路來控制基板處理系統10，例如遠端或近端控制基板處理系統10 。

換句話說，控制裝置90能以有線或無線的方式來通訊連接基板處理系統10的電性裝置：處理裝置100、幫浦155、開關閥310、420與430、排氣裝置600以及異常溫度監測單元520。利用控制裝置90，基板處理系統10能執行圖3中的步驟S201至S205，並控制開關閥420與430，讓冷卻液供應單元400供應冷卻液至回收槽200與排液管路300其中至少一者。此外，基板處理系統10還能利用控制裝置90來設定上述異常溫度值以及排氣裝置600的第一與第二排氣量。

另外，在本發明的其中一實施例中，溫度監測單元510可以不具有任何微處理器，而溫度監測單元510與開關閥320皆以有線或無線的方式來通訊連接控制裝置90，以使控制裝置90能控制溫度監測單元510與開關閥320，從而執行圖2中的步驟S101至S104。因此，圖2中的步驟S101至S104也可利用控制裝置90來執行，不限定只由溫度監測單元510的微處理器來執行。此外，基板處理系統10也可利用控制裝置90來設定上述停止門檻值，所以停止門檻值也不限定只由上述微處理器來設定。

綜上所述，冷卻液供應單元所供應的冷卻液不僅能對處理液降溫，排除處理液突沸的條件，以降低突沸發生機率及安全管控突沸發生後之排除機制，而且還能使排出至外部端的處理液具有較低的溫度。如此，不僅能保護現場人員免於遭受突沸與設備損害所引發的危險，而且也能減輕外部端（工廠）在廢液處理上的負擔。其次，本發明還利用異常溫度監測單元來監測回收槽內的處理液溫度，讓冷卻液供應單元可以適時地供應冷卻液至處理液，以防止突沸的發生及安全管控突沸發生後之排除機制。此外，本發明還利用排氣裝置來排出回收槽內的氣體，以避免回收槽損害。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，本發明所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，因此本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

10‧‧‧基板處理系統

20‧‧‧外部端

90‧‧‧控制裝置

100‧‧‧處理裝置

150a‧‧‧回收管路

150b‧‧‧供液管路

155‧‧‧幫浦

200‧‧‧回收槽

210‧‧‧處理液容置區

220‧‧‧氣體緩衝區

300‧‧‧排液管路

310、320、420、430‧‧‧開關閥

400‧‧‧冷卻液供應單元

410a、410b‧‧‧冷卻液管路

510‧‧‧溫度監測單元

520‧‧‧異常溫度監測單元

600‧‧‧排氣裝置

700‧‧‧藥液供應單元

800‧‧‧漏液偵測單元

L1‧‧‧處理液

S1‧‧‧殼體

S101~S104、S201~S205‧‧‧步驟

圖1為本發明一實施例的基板處理系統的示意圖。 圖2為圖1中的溫度監測單元的運作流程示意圖。 圖3是圖1中的異常溫度監測單元的運作流程示意圖。

Claims (10)

1. 一種基板處理系統，包括：一處理裝置，使用一處理液對一基板進行處理；一回收槽，用以容置該處理液；一排液管路，連通於該回收槽，並用以將該回收槽內的該處理液排出至一外部端；一冷卻液供應單元，連通於該排液管路，並用以供應一冷卻液至該排液管路，以使該冷卻液與該處理液混合成一混合液，其中該排液管路用以將該混合液排出至該外部端；以及一溫度監測單元，連接該排液管路，該溫度監測單元用以監測該排液管路內流向該外部端的該混合液的一排液溫度，當該溫度監測單元監測到該排液溫度大於一停止門檻值時，該排液管路停止排出該混合液至該外部端。
2. 如申請專利範圍第1項所述的基板處理系統，還包括一連接該回收槽的異常溫度監測單元，其用以監測該回收槽內該處理液的溫度，而該冷卻液供應單元更連通於該回收槽，當該異常溫度監測單元監測到該回收槽內的該處理液溫度大於或等於一異常溫度值時，該冷卻液供應單元供應該冷卻液至該回收槽內的該處理液。
3. 如申請專利範圍第2項所述的基板處理系統，其中當該異常溫度監測單元監測到該回收槽內的該處理液溫度大於或等於該異常溫度值時，該溫度監測單元停止監測該排液溫度，且該排液管路將該回收槽內的該處理液排出至該外部端。
4. 如申請專利範圍第2項所述的基板處理系統，還包括一排氣裝置，其連通於該回收槽，當該異常溫度監測單元監測到該回收槽內的該處理液溫度大於或等於該異常溫度值時，該排氣裝置對該回收槽進行排氣。
5. 一種基板處理系統，包括：一處理裝置，使用一處理液對一基板進行處理；一回收槽，用以容置該處理液；一異常溫度監測單元，用以監測該回收槽內該處理液的溫度；一排液管路，連通於該回收槽，並用以將該回收槽內的該處理液排出至一外部端；一排氣裝置，連通於該回收槽，並用以對該回收槽進行排氣；以及一冷卻液供應單元，連通於該回收槽，並用以供應一冷卻液；其中當該異常溫度監測單元監測到該回收槽內的該處理液溫度大於或等於一異常溫度值時，該排氣裝置對該回收槽進行排氣，而該冷卻液供應單元供應該冷卻液至該回收槽內的該處理液，以使該冷卻液與該處理液混合成一混合液，該排液管路將該混合液排出至該外部端。
6. 如申請專利範圍第4項或第5項所述的基板處理系統，其中當該異常溫度監測單元監測到該回收槽內該處理液的溫度小於該異常溫度值時，該排氣裝置以一第一排氣量來排氣；當該異常溫度監測單元監測到該回收槽內該處理液的溫度大於或等於該異常溫度值時，該排氣裝置以一第二排氣量來排氣，其中該第二排氣量大於該第一排氣量。
7. 如申請專利範圍第4項或第5項所述的基板處理系統，其中該回收槽包括一處理液容置區以及一氣體緩衝區，該處理液容置於該處理液容置區，而該處理液所產生的氣體釋放至該氣體緩衝區。
8. 如申請專利範圍第5項所述的基板處理系統，其中該冷卻液供應單元更連通於該排液管路，其中當該異常溫度監測單元監測到該回收槽內的該處理液溫度大於或等於該異常溫度值時，該冷卻液供應單元供應該冷卻液至該回收槽與該排液管路，以在該回收槽與該排液管路內形成該混合液，而該排液管路將該混合液排出至該外部端。
9. 如申請專利範圍第2項或第8項所述的基板處理系統，更包括控制該冷卻液供應單元供應該冷卻液至該排液管路的流量以及該排液管路將該回收槽內的該混合液排出的流量的兩者比值。
10. 如申請專利範圍第2項或第5項所述的基板處理系統，更包括：一殼體，其中該回收槽與至少一部分該排液管路配置於該殼體內；以及一漏液偵測單元，連接該殼體，當該漏液偵測單元偵測該殼體外出現漏液時，該排液管路停止排出該處理液至該外部端。