JP2002299333A - ガス温調器,その制御方法および熱処理装置 - Google Patents

ガス温調器,その制御方法および熱処理装置

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JP2002299333A JP2001098048A JP2001098048A JP2002299333A JP 2002299333 A JP2002299333 A JP 2002299333A JP 2001098048 A JP2001098048 A JP 2001098048A JP 2001098048 A JP2001098048 A JP 2001098048A JP 2002299333 A JP2002299333 A JP 2002299333A
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安藤  武
Akira Shiroichi
明 城市
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 安全かつ正確な条件の元で簡便に熱処理を行
うためのガス温調器,その制御方法および熱処理装置を
提供する。 【解決手段】 熱処理装置1に処理ガスを供給するガス
供給系に介装されて処理ガスの温調を行うガス温調器2
を制御するガス温調器コントローラ100に,危険因子
の状態を把握する冷却水流量監視センサ220,冷却水
漏水検知センサ212,作業扉開検知センサ212およ
び温度の測定および異常上昇を検出する温度センサ21
4および216を設け,それら危険因子の変動が予め設
定された危険条件に合致した場合に,ガス温調器2に対
する電源供給を遮断してインターロック状態にシフトす
るインターロック手段を備えるガス温調器,その制御方
法および熱処理装置を構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はガス温調器,その制
御方法および熱処理装置にかかり,特に熱処理装置に処
理ガスを供給するガス供給系に介装されて処理ガスの温
調を行うガス温調器,その制御方法および熱処理装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】近年,電子機器などに用いられる様々な
素子および装置などを製造する際に,熱処理装置が用い
られている。このような熱処理装置においては,人体に
とって有毒な処理ガスを用いたり,製品の質を向上させ
るために処理ガスの温度,あるいは処理室内の温度等を
正確に制御する必要があるなど,危険あるいは複雑な作
業を強いられる場合があった。
【0003】例えば,半導体装置を例に説明すると,半
導体ウエハ(以下ウエハという)上のシリコン膜を酸化
してシリコン酸化膜(SiO)を形成する方法とし
て,酸素ガスおよび塩化水素ガスを用いるドライ酸化法
を行う場合,熱処理装置が用いられる。
【0004】ドライ酸化法は,酸素ガスによりシリコン
膜を酸化する一方,塩素のゲッタリング効果により表面
の不純物が除去される。具体的には例えば,多数枚のウ
エハをボートに棚上に保持させて縦型の反応管内に搬入
し,反応管を囲むヒータにより処理雰囲気を加熱した
後,常温の酸素ガスおよび塩化水素ガスを反応管内の天
井部から反応管内に供給し,下方から排気することによ
り行われる。
【0005】ところが,ウエハの大口径化が進んでいる
ことと相俟って,プロセス温度条件,ウエハの保持され
る位置等により,ウエハ間,あるいは,ウエハ内におい
て,膜厚の均一性が悪くなる場合がある。
【0006】この問題を解決するために,特願2000
−162950において,酸素ガス,塩化水素ガスなど
の処理ガスを,反応管内に供給する前に例えばガス供給
管に設けられたガス温調器(加熱部)にて加熱して微量
な水分を生成するようにした,酸化処理方法および装置
が提供されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記,特願2000−
162950において提供された酸化処理方法および装
置によれば,ウエハ間およびウエハ内の膜厚の均一性は
改善された。しかし一方で,処理ガスを加熱する上記ガ
ス温調器のヒータの温度,あるいは冷却する冷却水の流
量の監視等複雑な作業を強いられるといった問題が生じ
た。また,処理ガスとして,人体に有害なもの,危険を
伴うものを扱わねばならず,安全を確保するためには,
人力のみでは限界があるという問題もあった。
【0008】本発明は,従来のガス温調器,その制御方
法および熱処理装置が有する上記問題に鑑みてなされた
ものであり,本発明の目的は,安全かつ正確な条件の元
で簡便に熱処理を行うためのガス温調器,その制御方法
および熱処理装置を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め,本発明によれば,熱処理装置に処理ガスを供給する
ガス供給系に介装されて処理ガスの温調を行うガス温調
器であって,危険因子の変動を検出する検出手段と,危
険因子の変動が予め設定された危険条件に合致した場合
にガス温調器に対する電源供給を遮断してインターロッ
ク状態にシフトするインターロック手段とを備えたガス
温調器が提供される。
【0010】危険因子は,冷却水流量,冷却水漏水,作
業扉の開状態および温度の異常上昇から成る群から選択
される一または二以上の因子とすることができる。さら
に,インターロック状態に関するすべての危険因子が正
常状態に復帰した場合に可能化されて,インターロック
状態を能動的に解除するインターロックリセット手段が
設けられることが望ましい。また,上記ガス温調器の制
御方法および上記ガス温調器を備えた熱処理装置が提供
される。
【0011】かかる構成によれば,作業員を危険な状態
に曝すことなく,安定した処理条件でガスの温調および
熱処理を行うことが可能である。
【0012】また,ここでの危険条件は,危険因子の変
動が予め設定された危険値に到達した場合,あるいは危
険因子の変動が予め設定された危険値に到達した時間が
所定時間累積された場合であるように設定できる。
【0013】かかる構成によれば,冷却水量の一時的な
変動などにより,不必要に電源の供給が停止されるよう
な事態を避けることができ,ガス温調器のより適切な制
御が可能となる。
【0014】
【発明の実施の形態】以下に添付図面を参照しながら,
本発明にかかるガス温調器,その制御方法および熱処理
装置の好適な実施の形態について詳細に説明する。な
お,本明細書及び図面において,実質的に同一の機能構
成を有する構成要素については,同一の符号を付するこ
とにより重複説明を省略する。
【0015】図1は,本発明の一実施の形態にかかる熱
処理装置(酸化処理装置)の構成を示す図である。この
熱処理装置は,縦型熱処理装置1と,この縦型熱処理装
置1に処理ガスを導入する前に処理ガスを加熱するため
のガス温調器2とを備えている。
【0016】縦型熱処理装置1は,縦型の熱処理炉3,
ウエハボート4,ボートエレベータ40,ガス供給管5
および排気管30等を備えている。ウエハボート4は,
熱処理されるウエハを保持する。ボートエレベータ40
は,ウエハボート4を昇降させる。ガス供給管5および
排気管30は,熱処理炉3に接続されている。
【0017】縦型の熱処理炉3は,反応管31,ヒータ
32,断熱体34,均熱用容器33等を備えている。反
応管31は,たとえば石英からなる反応容器である。ヒ
ータ32は,反応管31を囲むように設けられた抵抗発
熱体などからなる加熱手段である。均熱用容器33は,
反応管31およびヒータ32の間にて断熱体34に支持
されて設けられている。
【0018】反応管31は,下端が開口するとともに,
上面31aの少し下方側に,多数のガス穴31bを有す
るガス拡散板31cが設けられている。ガス供給管5
は,断熱体34を外から貫通して配管されるとともに,
断熱体34の内側でL字に屈曲されて反応管31と均熱
用容器33との間で垂直に立ち上げられ,反応管31の
上面31aと,ガス拡散板31cとの間の空間に突入さ
れている。
【0019】ウエハボート4は,反応管31の下端の開
口部35を開閉する蓋体44の上に,保温部である例え
ば保温筒45を介して載置され,ボートエレベータ40
が昇降することにより,熱処理炉3に対して,ウエハボ
ート4の搬入出が行われる。
【0020】図2は,ガス温調器2の構造の一例を示す
図である。図2に示すように,ガス温調器2は,縦型熱
処理装置1の外においてガス供給管5の途中に設けられ
ている。ガス温調器2は,加熱管21,ヒータ部22,
断熱体23,冷却水路24等を備えている。
【0021】加熱管21は加熱室を形成し,例えば透明
石英からなる。ヒータ部22は,加熱管21の外側に,
らせん状に形成される。断熱体23は,ヒータ部22を
覆う筒状のものである。冷却水路24は,断熱体23内
に形成され,冷媒例えば冷却水を通流させる。
【0022】加熱管21の中には,通気抵抗体である,
例えば多数の透明石英ガラスビーズ20が充填されてい
る。通気抵抗体を設けることにより,ガスの滞留時間を
長くするとともに,通気抵抗体が加熱されてガスがこれ
に接触しながら流れることにより,ガスが効率よく加熱
される。
【0023】ヒータ部22は,例えば金属不純物の少な
い金属,例えば高純度のカーボンからなるファイバの束
を複数束編み上げて紐状体を形成し,この紐状体をセラ
ミックス体,例えば石英管の中に封入して螺旋状に形成
したものであり,電力供給線25により通電されて発熱
する。また,温度センサ26は,熱電対からなるセンサ
である。
【0024】図1における分岐管51および52は,ガ
ス供給管5の下流側にバルブV0を介して設けられ,お
のおのに,例えば酸素ガス源53および塩化水素ガス源
54が接続されている。酸素ガス源53および塩化水素
ガス源54にはさらにおのおの,バルブV1,V2,お
よびガス流量部であるマスフローコントローラMF1,
MF2を介在させている。
【0025】上記のように縦型熱処理装置1およびガス
温調器2を構成し,ガス温調器2の加熱管21内を縦型
熱処理装置1内の温度よりも高い例えば1000℃の加
熱雰囲気にしておき,処理ガスを加熱管21内に通流さ
せる。これにより,酸素ガスおよび塩化水素ガスが反応
して微量の水蒸気が予め生成され,縦型熱処理装置1内
にほぼ均一に拡散するため,ウエハ上に,均一性のよい
酸化膜を形成することができる。
【0026】図3は,本実施の形態にかかるガス温調器
2を制御するコントローラ(以下ガス温調器コントロー
ラという)の構成を示すブロック図,図4は,本実施の
形態にかかるガス温調器コントローラの信号ブロック図
である。
【0027】図3および図4に示すように,ガス温調器
コントローラ100は,例えばガス温調器2一台に対
し,一台で対応する。ガス温調器コントローラ100
は,システムコントローラ300,ガス温調器2などと
接続され,電源400からの電力供給を受けて動作す
る。
【0028】ガス温調器コントローラ100は,温度調
節器110,電磁接触器114,SSR(Solid
State Relay)116,異常加熱監視器12
0,インターロック制御部130等を有している。シス
テムコントローラ300は,ガス温調器コントローラ1
00から現在のガス温調器2内の温度や,アラーム要因
に関するデータを入力され,それに基づきガス温調器コ
ントローラ100に所定の信号を送ることが可能であ
る。ガス温調器コントローラ100は,システムコント
ローラ300から指定された指定温度に,ガス温調器2
の内部ヒータの温度を制御する。
【0029】また,ガス温調器コントローラ100は,
ガス温調器2から,冷却水の漏水検知センサ210,ド
ア(作業扉)開検知センサ212,温度センサ214お
よび216等の情報を受け,システムコントローラ30
0に通知し指令を受け,温度調節器110によりヒータ
218に与える電力を制御したり,作業者の危険を避け
るため電源の供給を遮断するなど,各危険要因の検知と
安全のための対処を行う。
【0030】以下,図3および図4を参照しながらガス
温調器コントローラ100の各機能を説明する。
【0031】(ヒータ温度制御機能およびシステムコン
トローラ300との通信機能)例えば温度センサ214
として設置された熱電対によりガス温調器ヒータ218
の温度計側をし,温度調節器110によりガス温調器ヒ
ータ218を指定された温度および必要制御範囲内に保
つよう,SSR116を介してガス温調器ヒータ218
への供給電力制御を行う。温度センサ214は,温度セ
ンサ26として設けることができるが,ガス温調器ヒー
タ218の温度が正確に測定可能な他の場所に設けても
よい。
【0032】また,システムコントローラ300との間
においては,ガス温調器ヒータ218の温度設定値をシ
ステムコントローラ300より受け取り,この設定にな
るように温度調節器110により制御を行う。逆に,温
度センサ214が計測しているガス温調器ヒータ218
の現在の温度を,システムコントローラ300に送信す
る。ガス温調器ヒータ218は,ヒータ部22に設ける
ことができるが,加熱管21を効率よく加熱できる他の
場所および構成でもよい。
【0033】また,ガス温調器コントローラ100が取
り込んだガス温調器2の状態を示すステータス(詳しく
は後述)は,全てシステムコントローラ300に通達さ
れる。また,ガス温調器インターロックが発生する異常
事態については,インターロックにより電源が遮断され
た場合にも通信信号はラッチ134によりラッチされ,
要因が全て解除されるまで保持される。
【0034】また,インターロック制御部130は,ガ
ス温調器ヒータ218への出力がオン状態であるかオフ
状態であるかをシステムコントローラ300に通知す
る。後述する,ガス温調器コントローラ100内部の切
り替えスイッチ132にて設定するリモート/ローカル
モード設定状態を,システムコントローラ300に通知
する。さらに,後述するガス温調器インターロック機能
のオン/オフ状態を,システムコントローラ300に通
知する。
【0035】(ガス温調器状態監視機能)ガス温調器コ
ントローラ100において監視すべきガス温調器のステ
ータスを以下に示す。これらは,温度調節器110およ
びインターロック制御部130により監視され,異常状
態を検知した場合,システムコントローラ300へ通知
を行い,ステータスの状況によって,インターロック処
理を行う。
【0036】インターロック制御部130は,ガス温調
器ドア開信号(ガス温調器 DOOR OPEN)とし
て,ガス温調器2の作業扉に設置されているリミットセ
ンサであるドア開検知センサ212からの接点信号を取
り込む。また,冷却水量低下1st信号(ガス温調器
WATER LOW 1st)として,ガス温調器冷却
水ライン24に設置されたフローメータである冷却水量
監視センサ220が,指定した流量以下になった場合に
作動する接点信号を取り込む。
【0037】このとき,搭載装置によりフローメータが
1接点出力方式もしくは2接点出力方式の場合がある。
原則として,ガス温調器冷却水ラインには,一個のみフ
ローメータが設置される。
【0038】なお,1設定出力方式のフローメータ使用
時にはその接点出力を,2接点方式のフローメータ使用
時には,1つめの出力接点をDIポート,“WATER
LOW 1st”にて取り込み,どちらの場合でもガ
ス温調器コントローラ100内では接点信号をそのまま
スルーし“ガス温調器 WATER LOW 1st”
としてシステムコントローラ300へ出力する。
【0039】また,インターロック制御部130は,冷
却水量低下2nd信号(ガス温調器WATER LOW
2nd)として,ガス温調器冷却水ライン24に設置
されたフローメータが,指定した流量以下になった場合
に作動する接点信号を取り込む。
【0040】ここで,1接点出力方式のフローメータ使
用時には,前述したDIポート“WATER LOW
1st”にて取り込んだ信号を,また,2接点出力方式
を使用時には,フローメータの2つ目の出力接点をDI
ポート“WATER LOW2nd”にて取り込み,こ
の信号が連続して一定時間,例えば60秒以上継続した
時点で動作するガス温調器コントローラ100内蔵のタ
イマー出力を“ガス温調器 WATER LOW 2n
d”信号として,システムコントローラ300に出力す
る。このように,使用するフローメータの出力接点方式
にかかわらず対応可能とする。
【0041】インターロック制御部130は,冷却水漏
水信号(ガス温調器 WATERLEAK)としては,
ガス温調器2に設置されている冷却水漏水検知センサ2
10からの接点信号を取り込む。また,ヒータ異常加熱
信号(ガス温調器 OVER TEMP)として,温度
調節機110とは別系統の温度監視器と熱電対である温
度センサ216により,ガス温調器ヒータ218の温度
を計測する。温度調節器110暴走の際にガス温調器ヒ
ータ218温度が異常に上昇し,設定温度値を超えた場
合,監視器の出力接点が動作する。
【0042】また,ヒータ到達温度および安定信号(上
下限偏差警報)(ガス温調器 TEMP REATCH
ING and STABILITY)として,ガス温
調器ヒータ218の設定温度に対して,測定温度が指定
した安定度の範囲内であるか否かを温度調節器110の
出力接点(上下限偏差警報)により出力する。
【0043】ヒータ到達温度および安定−2信号(上下
限偏差警報)(ガス温調器 TEMP REATCHI
NG and STABILITY−2)信号は,上述
したヒータ到達温度および安定信号(上下限偏差警報)
を,システムコントローラ300で監視したいタイミン
グで出力するものである。よって,システムコントロー
ラ300により出力される監視許可信号(本信号の出力
イネーブル)用のDIポートを同時に設ける。
【0044】ガス温調器 READY TEMP到達信
号(下限偏差警報)(ガス温調器READY TEM
P)としては,ガス温調器ヒータ218の設定温度値に
対し,温度センサ214の測定温度がREADY TE
MP(=設定プロセス温度に対し下限側に一定の偏差幅
を設け,このしきい値以上の温度)以上であるか否か
を,温度調節器110の出力接点(下限偏差警報)によ
り出力する。
【0045】さらに,ガス温調器 CTRL OVER
HEAT信号(ガス温調器 CTRL O/H)とし
て,ガス温調器コントローラ100の内部温度が,定格
温度以上に温度上昇したことを,ガス温調器コントロー
ラ100内部に設置したサーモスタット(T/S)11
2により検知する。
【0046】(インターロック機能)次に,作業者を危
険から保護するため,ガス温調器の異常を検知し,異常
の内容に伴った危険回避のための対処を行う機能であ
る,インターロック機能について説明する。
【0047】前述した各ステータスのなかより,下記に
抜粋した内の1つでも発生した場合,インターロックが
動作するものとする。すなわち,ガス温調器ドア開,冷
却水流量低下2nd,冷却水漏水,ガス温調器ヒータ2
18の異常加熱,ガス温調器の温度異常上昇である。
【0048】上述したいずれの異常が発生した場合にも
下記のインターロック動作が行われる。特に,ガス温調
器ドア開の際は,処理ガスの供給を遮断する。また,イ
ンターロック時には,ガス温調器 HEATER PO
WER ON (電磁接触器114をON)できない。
【0049】インターロック動作は,HEATER P
OWER OFF (電磁接触器OFF),ガス温調器
INTLK ON 表示灯点灯,INTLK要因別表
示灯点灯,ガス温調器 CTRL INTLK ON接
点出力である。すなわち,ガス温調器ヒータ218をオ
フし,インターロック動作が行われていることおよびそ
の要因を表示することである。
【0050】インターロック動作後,再びガス温調器
HEATER POWER ONの状態(ガス温調器ヒ
ータ218に電力を供給する)にするためには,以下の
手順で操作を行い,インターロックを解除する必要があ
る。
【0051】すなわち,1.全ての異常要因を取り除
く,2.INTLK RESET 信号(INTLK
RESET SW接点)を入力する,3.2によりイン
ターロック解除する,4.システムコントローラ300
からのガス温調器 HEATER ON信号の入力によ
りガス温調器ヒータ218に電力を供給する,ことであ
る。
【0052】図5は,本実施の形態にかかるインターロ
ック動作を示すフローチャートであり,図6は,本実施
の形態にかかるインターロック解除動作を示すフローチ
ャートである。
【0053】図5に示すように,ガス温調器2の作業扉
が開いていないか否か,ガス温調器ドア開検知センサ2
12の出力より判断する(ステップ501)。開いてい
る場合は,危険を避けるため,ガス温調器コントローラ
100からの信号に応じて,システムコントローラ30
0は,処理ガスの供給を遮断し(ステップ506),ガ
ス温調器コントローラ100は,インターロック動作に
移行する。
【0054】また,冷却水水量が一定量を下回ると出力
される冷却水流量低下1st信号が,さらにガス温調器
コントローラ300内において,一定時間以上カウント
されて出力される冷却水流量低下2nd信号が出力され
ているか否か判断する(ステップ502)。出力されて
いる場合は,インターロック動作に移行する。
【0055】冷却水が漏水していないか否かは,冷却水
漏水検知センサ210の出力により判断する(ステップ
503)。漏水している場合は,インターロック動作に
移行する。
【0056】ガス温調器ヒータ218の温度を測定して
いる温度センサ216の出力により,ガス温調器ヒータ
218が異常加熱していないか否か判断する(ステップ
504)。異常加熱が認められる場合は,インターロッ
ク動作に移行する。
【0057】また,ガス温調器コントローラ100の内
部温度を一定範囲内に制御する温度調節器110が,異
常温度上昇しているか否かは,温度調節器110の内部
のサーモスタット112により判断される(ステップ5
05)。異常温度上昇が認められる場合,インターロッ
ク動作に移行する。ここで,ステップ501,502,
503,504および505は,必ずしもこの順に限定
されない。別の順序あるいは,並列処理でもよい。
【0058】インターロック動作は,ガス温調器ヒータ
218の電源をオフする(ステップ507),ガス温調
器 INTLK表示灯を点灯する(ステップ508),
INTLK要因別表示灯を点灯する(ステップ50
9),ガス温調器 CTRL INTLK信号をシステ
ムコントローラ300に出力する(ステップ510)で
ある。その後A段階へと進む。
【0059】図6に示すように,本実施の形態にかかる
ガス温調器コントローラ100は,インターロック動作
後の解除手段が備えられている。まず,インターロック
の原因となった全ての異常要因が取り除かれた否か判断
する(ステップ601)。
【0060】取り除かれない場合は,ステップ601を
繰り返す。取り除かれると,INTLK RESET信
号が入力されるのを待つ(ステップ602)。入力され
ると,ガス温調器ヒータ218の電源をオンする(ステ
ップ603)。以上によりインターロックは解除され
る。このようなインターロック機能を有することで,作
業の安全性を高める効果が得られる。
【0061】(その他の機能)上述した機能以外を次に
説明する。ガス温調器コントローラ100前面部には,
温度調節器110の表示器と設定キー,昇温監視器の表
示器と設定キー,ガス温調器ヒータON表示灯,ガス温
調器 INTLK ON表示灯(インターロック条件に
適合する場合に点灯),サーキットプロテクタ,ヒュー
ズホルダ(ヒューズ交換が前面より可能),各種インタ
ーロック要因表示灯等が設けられ,ガス温調器2の状況
を把握しやすくし,作業の容易性も向上させている。
【0062】ガス温調器コントローラ100の背面部に
は,各信号および電力の入出力のI/Fコネクタを備
え,装置本体との接続を行う。なお,作業工数,構成の
簡素化のため,コネクタ数は最小限に押さえられること
が好ましい。コネクタとしては,電源入力コネクタ,信
号入出力コネクタ,温度センサ入力コネクタ,ガス温調
器ヒータパワー出力コネクタ等が設けられる。
【0063】以上詳細に説明したように,本発明にかか
るガス温調器,その制御方法および熱処理装置によれ
ば,作業者の安全を確保しつつ,正確な加熱器によるガ
スの温度調節が可能であり,これにより安定した熱処理
が可能になる。
【0064】また,ガス温調器コントローラ前面に多数
の表示装置を設け,作業の容易性,確実性を高めるとと
もに,コネクタ類を最小限におさえて,作業の効率化を
計っている。
【0065】以上,添付図面を参照しながら本発明にか
かるガス温調器,その制御方法および熱処理装置の好適
な実施形態について説明したが,本発明はかかる例に限
定されない。当業者であれば,特許請求の範囲に記載さ
れた技術的思想の範疇内において各種の変更例または修
正例に想到し得ることは明らかであり,それらについて
も当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解され
る。
【0066】例えば,本実施の形態においては,処理ガ
スとして酸素および塩化水素を例に挙げたが,これに限
定されない。他のガス,例えば,NO,CCl
なども使用可能である。また,常圧および減圧プロセ
スにおける使用に適応できる。
【0067】ガス温調器(加熱器)の構成あるいは用途
についても,本実施の形態に述べた例に限定されない。
実質的に同様の機能を有するものであれば,ガス温調器
コントローラは,ガス温調器と一体型で構成する,ある
いは,後付で外部に別個に設ける,半導体装置の製造以
外の用途に使用するなど,様々な構成および用途に適用
することが可能である。
【0068】
【発明の効果】以上説明したように,本発明によれば,
作業者の安全を確保しながら正確な条件の元で簡便に熱
処理を行うためのガス温調器,その制御方法および熱処
理装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態にかかる熱処理装置(酸
化処理装置)の構成を示す図である。
【図2】本実施の形態にかかるガス温調器の構造の一例
を示す図である。
【図3】本実施の形態にかかるガス温調器コントローラ
の構成を示すブロック図である。
【図4】本実施の形態にかかるガス温調器コントローラ
の信号ブロック図である。
【図5】本実施の形態にかかるインターロック動作を示
すフローチャートである。
【図6】本実施の形態にかかるインターロック解除動作
を示すフローチャートである。
【符号の説明】
2 ガス温調器 100 ガス温調器コントローラ 110 温度調節器 210 冷却水漏水検知センサ 212 ドア開検知センサ 214,216 温度センサ 218 ガス温調器ヒータ 220 冷却水流量監視センサ 300 システムコントローラ 400 電源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石井 勝利 東京都港区赤坂5丁目3番6号 東京エレ クトロン株式会社内 Fターム(参考) 5F045 AA20 AC11 AC13 AF03 BB02 BB03 BB20 DP19 DQ05 EE02 EK01 GB15

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 熱処理装置に処理ガスを供給するガス供
    給系に介装されて処理ガスの温調を行うガス温調器であ
    って,危険因子の変動を検出する検出手段と,前記危険
    因子の変動が予め設定された危険条件に合致した場合に
    前記ガス温調器に対する電源供給を遮断してインターロ
    ック状態にシフトするインターロック手段とを備えたこ
    とを特徴とする,ガス温調器。
  2. 【請求項2】 前記危険因子は,冷却水流量,冷却水漏
    水,作業扉の開状態および温度の異常上昇から成る群か
    ら選択される一または二以上の因子であることを特徴と
    する,請求項1に記載のガス温調器。
  3. 【請求項3】 さらに,インターロック状態に関するす
    べての危険因子が正常状態に復帰した場合に可能化され
    て,インターロック状態を能動的に解除するインターロ
    ックリセット手段が設けられていることを特徴とする,
    請求項1または2に記載のガス温調器。
  4. 【請求項4】 請求項1,2または3のいずれかに記載
    のガス温調器を備えた熱処理装置。
  5. 【請求項5】 熱処理装置に処理ガスを供給するガス供
    給系に介装されて処理ガスの温調を行うガス温調器の制
    御方法であって,危険因子の変動を検出し,前記危険因
    子の変動が予め設定された危険条件に合致した場合に前
    記ガス温調器に対する電源供給を遮断してインターロッ
    ク状態にシフトすることを特徴とする,ガス温調器の制
    御方法。
  6. 【請求項6】 前記危険条件は,前記危険因子の変動が
    予め設定された危険値に到達した場合であることを特徴
    とする,請求項5に記載のガス温調器の制御方法。
  7. 【請求項7】 前記危険条件は,前記危険因子の変動が
    予め設定された危険値に到達した時間が所定時間累積さ
    れた場合であることを特徴とする,請求項5に記載のガ
    ス温調器の制御方法。
  8. 【請求項8】 さらに,インターロック状態に関するす
    べての危険因子が正常状態に復帰したことが確認された
    後に,インターロック状態を能動的に解除することが可
    能であることを特徴とする,請求項5,6または7のい
    ずれかに記載のガス温調器の制御方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US11177118B2 (en) 2018-08-02 2021-11-16 Tokyo Electron Limited Substrate processing apparatus and control method therefor

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