JPH09205066A - ガス発生装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体の拡散装置へ不純物を供給する不純物
供給装置であって、恒温槽の設定温度を室温より低く設
定したような場合であっても、恒温槽の内壁およびバブ
ラーの外壁に結露を生ぜずバブラー内の液量の検出が可
能な不純物供給装置を提供する。 【解決手段】 液体にキャリアガスを封入してガスを発
生するバブラ２と、バブラ２を所定の間隙を保って収納
し、バブラ２から所定量のガスＧが発生されるように温
度制御されている恒温槽１と、バブラ２と恒温槽１との
間の空間Ｃ内の湿度を所定以下に維持するガスＡを供給
するガス供給管３とを備えるものとした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、バブラを用いたガ
ス発生装置に関するものであり、特に、半導体の拡散装
置へ不純物ガスの供給を行うのに好適なガス発生装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体製造プロセスにおける不純物拡散
プロセスに用いられる拡散装置としては、例えば、図４
に示すようなものが知られている。図４に示す拡散装置
１０１において、耐熱性のある石英管内１０２に、石英
ボート１０３上に複数のＳｉウェハ１０４を並べたもの
を挿入し、これを電気炉で加熱し、精密に温度制御を行
う。

【０００３】この拡散装置への不純物ガスの添加方法は
種々知られているが、不純物がＰＯＣＬ₃ 、ＢＣＬ₃ 、
ＢＢｒ₃ 等の液体の場合には、例えば、図中右側に示す
ようなバブラ２および恒温槽１からなるガス発生装置が
用いられる。

【０００４】このガス発生装置は、バブラ２内に充填さ
れるＰＯＣＬ₃ 、ＢＣＬ₃ 、ＢＢｒ ₃ 等の不純物液体Ｌ
内にキャリアガス供給管Ｐ1 から、例えばＮ₂ ，Ｏ₂ の
ようなキャリアガスＫを封入する。このときバブラ２内
の空間に不純物液体Ｌが含有した不純物ガスＧが発生
し、この不純物ガスＧは排出管Ｐ2 および不純物ガス供
給管Ｐ3 を通じて石英管１０２内に供給される。石英管
１０２内においては、Ｓｉウェハ１０４に拡散が行われ
る。

【０００５】ここで、従来の半導体の拡散装置へ不純物
ガスを供給するガス発生装置は、例えば図５に示すよう
な構成となっている。図５に示すガス発生装置は、図６
に示す恒温槽１の内部に、恒温槽１の内壁１ａと図７に
示すバブラ２の外壁２ａとの間に間隙を保って収納した
ものである。

【０００６】このガス発生装置における恒温槽１は、設
定された所定の温度を維持するように温度制御されてお
り、これによりバブラ２内の温度を一定に保ち、不純物
ガスＧの発生量を一定に制御するものである。

【０００７】このようなガス発生装置においては、バブ
ラ２は石英ガラスから形成されており、このガラスを通
じて上記した不純物液体Ｌの液位を恒温槽１内の底部に
設置された光学センサ４によって不純物液体Ｌの液位を
検出し、管理している。

【０００８】この光学センサ４は、バブラ２を挟むかた
ちで発光部４ａと受光部４ｂとが対向して設けられてい
る。例えば、バブラ２内の不純物液体Ｌの液位が光学セ
ンサ４の設けられた高さレベルより下がると、この光学
センサ４の発光部４ａからの光Ｂをガラスを通じて受光
部４ｂが受光し、光学センサ４からは受光信号ＳＧがア
ラーム装置５に送出される。これにより液位が所定高さ
よりも低下を知らせるアラームが発報され、不純物液体
Ｌの補充の必要があることを検知することができる。例
えば、不純物液体Ｌの残量が１５％以下になると通常は
リモートレベルアラームが発報するようになっている。
なお、不純物液体Ｌの液位を検出し管理するのは、キャ
リアガスＫによって不純物液体Ｌを含有する不純物ガス
Ｇを発生させていくと、不純物液体Ｌはガス化されるた
め次第にバブラ２内の不純物液体Ｌの液位が下降し、つ
いにはバブラ２内のキャリアガス供給管Ｐ1 の下端部Ｐ
1eよりも下がった状態となる。この状態でキャリアガス
Ｋの供給をさらに続けると、不純物液体Ｌはガス化され
ず、キャリアガスＫのみが排出管Ｐ2 を通じて図４に示
した拡散装置の石英管１０２に供給されることになる。
したがって、拡散装置においては、Ｓｉウェハ１０４に
対する適切な拡散処理がおこなわれず、Ｓｉウェハ１０
４を使用することができなくなってしまう。このため不
純物液体Ｌの液位の管理は非常に重要なことである。

【０００９】ところで、このようなガス発生装置におい
ては、恒温槽１を温度制御して不純物液体Ｌの設定温度
を室温より低く設定したような場合、室内の湿度状況に
よっては、恒温槽１の内壁１ａおよびバブラ２の外壁２
ａに結露が生じることがある。

【００１０】このため、図５に示すように、光学センサ
４の発光部４ａから照射された光Ｂは、恒温槽１の内壁
１ａおよびバブラ２の外壁２ａに生じた露によって屈折
して、例えば図に示す屈折光Ｓのように光Ｂが屈折して
しまうことがある。

【００１１】このような発光部４ａから照射された光Ｂ
が結露によって屈折した場合には、不純物液体Ｌの液位
が所定のレベルより下がったとしても、光学センサ４に
よって当該液位が所定の高さ、例えばキャリアガス供給
管Ｐ1 の下端部Ｐ1eよりも下降したことを検出すること
ができない。そのため、上述したように、キャリアガス
Ｋのみが排出管Ｐ2 を通じて図４に示した拡散装置の石
英管１０２に供給されるため、Ｓｉウェハ１０４に対す
る適切な拡散処理が行われないことになる。

【００１２】このように恒温槽１の設定温度を室温以下
に設定したときに、結露の発生を防止する方法として、
乾燥空気を供給する方法が知られている。例えば、実開
平７−０２３２８８号公報に開示されたものがあり、こ
れを図８に示す。

【００１３】図８は、ＩＣ等の部品２０６を恒温槽２０
１内において温度試験をする際に、恒温槽２０１内に設
置されたコンタクトブロック２０２の第１外壁面２０２
ａに生ずる結露を防止するための構造を示している。図
８において、ソケット２０５に挿入された部品２０６
は、恒温槽２０１の内部に収容されるようにコンタクト
ブロック２０２に取り付けられており、ソケット５に接
続されたケーブル２０７は、恒温槽２０１の外部にとり
出されている。そして、ケーブル２０７から所定の試験
用信号を印加しながら恒温試験をする。

【００１４】このとき、ソケット２０５が取り付けられ
たコンタクトブロック２０２は、第１外壁面２０２ａと
第２外壁面２ｂに平行する中隔面２ｃにより、上下の２
室構成となっている。また、乾燥空気２０９の吹込口２
０８Ａと吹出口２０８Ｂとが第２外壁面２ｂに設けられ
ている。さらに、ケーブル２０７は、外壁面２０２ａ，
中隔面２ｃおよび第２外壁面２ｂに設けられた貫通孔を
通して外部に導出されている。

【００１５】このような構造において、ケーブル用第２
室２０４に乾燥空気２０９を吹込口２０８Ａから流入
し、吹出口２０８Ｂから流出させるため、ケーブル用第
１室２０３とケーブル用第２室２０４とはそれぞれ異な
った温度となる。例えば、ケーブル用第１室２０３が０
℃のとき、ケーブル用第２室２０４は２０℃となる。ま
た、コンタクトブロック２０２の材質は、通常、断熱性
の高いエポキシガラス性樹脂とするため、恒温槽１内の
部品２０６は、ケーブル用第２室２０４の熱影響を直接
受けないですむ。このため、ケーブル用第１室２０３と
ケーブル用第２室２０４内に結露が発生することを防止
できるとともに、恒温槽２０１内に位置するコンタクト
ブロック２０２の第１外壁面２０２ａが、乾燥空気２０
９の作用を受けて結露するという状態を回避することが
できる。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
たガス供給装置において、図８で説明したコンタクトブ
ロック２０２に代えてバブラ２に同様の構造を適用しよ
うとすると、バブラ２の内部に乾燥空気２０９を流入お
よび流出させる必要があり、バブル２の機能上図８に示
した構造を適用することは困難であるという問題があ
る。また、バブラ２の外壁２ａは、バブラ２の内部に液
体が充填されているため、熱容量の関係上図８に示した
コンタクトブロック２０２の第１外壁面２０２ａに生じ
る結露よりも多量の結露が生じやすく、図８に示した構
造のように、中隔壁面２ｃを設けて間接的に第１外壁面
２０２ａに生じる結露を防止する方法では、結露の発生
防止が十分でないという問題もある。

【００１７】本発明は、かかる従来の問題に鑑みてなさ
れたもので、ガス発生装置において、恒温槽の設定温度
を室温より低く設定したような場合であっても、恒温槽
の内壁およびバブラの外壁に結露を生ずることのないガ
ス発生装置を提供することを目的としている。

【００１８】

【課題を解決するための手段】本発明に係るガス発生装
置は、液体にキャリアガスを封入して前記液体の成分を
有するガスを発生するバブラと、前記バブラを所定の間
隙を保って収納し、前記バブラから所定量の前記液体の
成分を有するガスが発生されるように温度制御されてい
る恒温槽と、前記バブラと前記恒温槽との間の空間内を
所定以下の湿度に維持するガスを供給するガス供給手段
とを有する。

【００１９】また、本発明に係るガス発生装置は、前記
空間の湿度を検出する湿度検出センサを備え、前記ガス
供給手段は、前記湿度検出センサの検出した湿度が所定
の値以上になった場合に動作する。

【００２０】また、本発明に係るガス発生装置は、前記
恒温槽の対向する内壁に前記液体の液位を検出する光学
センサが設けられており、前記ガス供給手段は、前記光
学センサの設けられている近傍の空間の湿度を所定以下
にする。

【００２１】また、本発明に係るガス発生装置では、前
記ガス供給手段は、乾燥空気を供給する。

【００２２】また、本発明に係るガス発生装置では、前
記ガス供給手段は、不活性ガスを供給する。

【００２３】本発明に係るガス発生装置では、ガス供給
手段によって恒温槽の内壁とバブラの外壁とによって形
成される空間との間にガスを供給することにより、恒温
槽の内壁とバブラの外壁とによって形成される空間の湿
度が所定の値以下に保持されるため、恒温槽の設定温度
を室温より低く設定したような場合であっても、恒温槽
の内壁およびバブラの外壁に結露を生ずることがない。
したがって、光学センサでバブラ内の液位を検出したと
きの誤検出の発生が防止される。

【００２４】また、本発明に係るガス発生装置では、恒
温槽の内壁およびバブラの外壁に結露を生じるおそれの
ある湿度になる前に、湿度検出センサにより検出される
湿度が所定の値以上になると、自動的にガス供給手段に
よって恒温槽の内壁とバブラの外壁とによって形成され
る空間との間にガスが供給される。したがって、結露が
防止されることに加えて、当該空間の湿度が高まったと
きにのみガス供給手段は作動することから、不要なガス
を供給する必要がなく、コストが低減される。

【００２５】また、本発明に係るガス発生装置では、ガ
ス供給手段は、光学センサの設けられている近傍の空間
の湿度を所定以下にするため、他の部分については湿度
の管理を行わないことから、無駄なガスが必要なく、低
コストな装置となる。

【００２６】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係るガス発生装置
の実施形態を図面に基づいて説明する。

【００２７】図１は、本発明に係るガス発生装置を半導
体の拡散装置へ不純物ガスを供給するのに用いた場合の
一実施形態を示す説明図である。

【００２８】図１に示すガス発生装置は、不純物液体Ｌ
にキャリアガスＫを封入してガスＧを発生するバブラ２
と、バブラ２を所定の間隙を保って収納し、かつバブラ
２から所定量のガスＧが発生されるように温度制御され
ている恒温槽１と、バブラ２と恒温槽１との間の空間内
Ｃを所定以下の湿度に維持するガスＡを供給するガス供
給手段としてのガス供給管３とを備えている。

【００２９】バブラ２は、例えば石英ガラスから形成さ
れており、液体を充填可能な形状となっているととも
に、光が通過可能である。また、バブラ２内には、例え
ば、ＰＯＣＬ₃ 、ＢＣＬ₃ 、ＢＢｒ₃ 等の不純物液体Ｌ
が充填されている。

【００３０】また、恒温槽１は、例えばフレオン等の冷
媒の相変化によって冷却する冷却手段を備えており、恒
温槽１内を一定の温度に保持可能となっている。一方、
恒温槽１の温度制御は、例えば、恒温槽１内の温度を温
度計により検出し、恒温槽１の温度をフィードバックし
て設定された温度と比較して、温度偏差が存在する場合
には、これを打ち消すように恒温槽１に対して指令を送
り、この指令に基づいて冷却手段を作動させることによ
り行うことができる。

【００３１】さらに、恒温槽１の内側壁１ａには、バブ
ラ２を挟むかたちで発光部４ａと受光部４ｂとからなる
光学センサ４が対向して設けられており、発光部４ａか
らの光Ｂを受光部４ｂが検出することにより、発光部４
ａと受光部４ｂとの間に物質が存在するか否かを検出す
る。

【００３２】すなわち、バブラ２内に充填された不純物
液体Ｌの液位が光センサ４の設けられた高さレベルより
高い位置にある場合には、不純物液体Ｌにより光Ｂが遮
られ、受光部４ｂは光Ｂを受光しないことから、光セン
サ４の設けられた高さレベルの液位以上の不純物液体Ｌ
が残存していることがわかる。

【００３３】一方、不純物液体Ｌの液位が光センサ４の
設けられた高さレベルより低い位置にある場合には、受
光部４ｂは光Ｂを受光することから、光センサ４の設け
られた高さレベルの液位よりも低い液位の不純物液体Ｌ
しか残存していないことがわかる。

【００３４】そして、この光学センサ４はアラーム装置
５に接続されており、アラーム装置５は光学センサ４か
らの受光信号を受けて、液位が所定の高さよりも下がっ
たことを知らせるアラームを発する。

【００３５】次に、上記のように構成されるガス発生装
置の動作について説明する。

【００３６】バブラ２内の不純物液体Ｌにキャリアガス
供給管Ｐ1 を通じてキャリアガスＫ，例えば、Ｎ₂ ，Ｏ
₂ 等を封入する。そうすると、バブラ２内の不純物液体
Ｌが含有したガスＧが発生し、このガスＧが排出管Ｐ2
を通じて図４に示した拡散装置に供給される。

【００３７】このとき、バブラ２内の不純物液体Ｌの液
温は、恒温槽１によって所定量のガスが発生するように
温度制御されているため、ガスＧの図４に示した拡散装
置への供給はほぼ一定したものとなる。

【００３８】ここで、恒温槽１により制御される設定温
度が室温よりも低くなるように設定されていると、室内
の湿度状況によってはバブラ２の外壁および恒温槽１の
内壁に結露を生じることがある。例えば、室温が２０℃
のとき、液体不純物の温度を１０℃とするような場合で
ある。

【００３９】このため、恒温槽１の内壁１ａおよびバブ
ラ２の外壁２ａによって形成される空間Ｃ内の湿度を所
定以下に維持するガスＡをガス供給管３から供給する。
このガスＡには、例えば、乾燥空気や窒素、アルゴン等
の不活性ガスを用いる。

【００４０】ガスＡの供給によって、バブラ２の外壁２
ａと恒温槽１の内壁１ａとの間の空間ＣにはガスＡが満
たされるため、室内の湿度が高い場合であっても、バブ
ラ２の外壁と恒温槽１の内壁との間の空間の湿度は十分
低いものとなる。

【００４１】そのため、恒温槽１の温度を室温よりも低
くなるように設定していても、恒温槽１の内壁１ａおよ
びバブラ２の外壁２ａに結露が生ずることを防止するこ
とができる。また、空間Ｃ内の湿度を所定以下に維持す
るガスＡを空間Ｃに直接供給するため、結露の発生を十
分に防止することができ、かつ広範囲に防止することが
できる。

【００４２】したがって、不純物液体Ｌの液位が光学セ
ンサ４の設置されている高さレベルよりも下がった場合
には、確実に光学センサ４によって検出され、アラーム
装置５によって液位の低下が検知され、不純物液体Ｌが
不足していることがわかる。

【００４３】その結果、リモートレベルアラームが発報
せずに、拡散装置への不純物の適切な供給を行うことが
できないというトラブルの発生を防止することが可能に
なる。

【００４４】これにより、ガスＡが図４に示したＳｉウ
ェハが設置された拡散装置に供給され、これにより、拡
散装置においては、Ｓｉウェハに良好な拡散処理がなさ
れることになる。

【００４５】また、バブラ２内の不純物の設定温度を従
来に比べてさらに低くした場合であっても、結露を生じ
ることがないため、バブラ２の使用可能範囲を広げるこ
とができる。

【００４６】なお、乾燥空気を用いた場合には、低コス
トで実施可能であるが、不活性ガスを用いればより結露
の発生を確実に防止することが可能である。

【００４７】ここで、ガス供給管３から供給されたガス
Ａは、図１に示すガス発生装置においては、恒温槽１の
開口部より外部に放出する構成となっている．ガスＡと
して乾燥空気を用いた場合には、この構成で問題ない
が、不活性ガスを用いた場合には外部にそのまま放出す
ると問題があるので、例えば、恒温槽１の開口部にシー
ルドを設けるとともに、シールドに排出管を設けて、ガ
スＡが外部に放出するのを防ぎ、かつガスＡを排出管か
ら回収する構成とすればよい。

【００４８】次に、図２は本発明に係る他の実施形態を
示す説明図である。

【００４９】図２に示すガス発生装置は、図１に示した
ガス発生装置に湿度検出センサ６，これに接続される判
別装置７および判別装置７により開閉制御される開閉弁
８を設けたものである。

【００５０】すなわち、恒温槽１の内側壁１ａには、恒
温槽１の内壁１ａとバブラ２の外壁２ａとの間に形成さ
れる空間Ｃの湿度を検出する湿度検出センサ６が設置さ
れている。この湿度検出センサ６は、判別装置７に接続
されており、判別装置７は湿度検出センサ６からの出力
信号に基づいて、ガス供給管３の開閉を行う開閉弁８の
開閉制御を行う。

【００５１】そして、ガス供給管３から空間Ｃへのガス
Ａの供給は、上記した判別装置７により開閉弁８を制御
することによりおこなう。

【００５２】湿度検出センサ６の検出信号は、判別装置
７に常時入力されており、判別装置７では、検出信号に
基づく空間Ｃの湿度が所定以上の場合に開閉弁８を開く
ように制御する。例えば、恒温槽１の内壁１ａおよびバ
ブラ２の外壁２ａに結露を生じるときの恒温槽１の設定
温度と湿度との関係をあらかじめ求めておく。そして、
判別装置においては湿度検出センサ６の検出した湿度に
基づいて、上記の関係から結露を生じるおそれが有る場
合には、開閉弁８の弁を開いてガスＡを空間Ｃに供給す
るよう制御する。

【００５３】これにより、空間Ｃの湿度が恒温槽１の内
壁１ａおよびバブラ２の外壁２ａに結露を生じるおそれ
のあるときのみ、ガス供給管３からガスＡが供給される
ため、ガス発生装置にかかるコストを低下させることが
可能になる。

【００５４】次に、図３は、本発明に係るガス発生装置
のさらに他の実施形態を示す説明図である。

【００５５】図３に示すガス発生装置は、図２に示した
ガス発生装置の恒温槽１の内壁１ａとバブラ２の外壁２
ａとの間であって、光学センサ４および湿度検出センサ
６の近傍にシールド部材Ｈを設けたものである。

【００５６】これにより、恒温槽１の内壁１ａとバブラ
２の外壁２ａとの間の空間Ｃは、シールド部材Ｈによっ
て上下の空間に隔てられる。

【００５７】また、シールド部材Ｈには、上記の上下の
空間を連通する少なくとも一の貫通孔が形成されてい
る。

【００５８】そして、湿度検出センサ６の検出した湿度
が所定の値以上になって、ガス供給管３からガスＡが供
給されると、上記した下側の空間にガスＡが充満する。
この結果、光学センサ４の設けられている近傍の空間の
湿度を所定以下になりになって、結露の発生が防止され
ることになるとともに、供給されたガスＡは上記の貫通
孔から流出する。

【００５９】このような構成とすることにより、結露の
発生に必要なガスＡがシールド部材Ｈを設けない場合に
比較して少なくてすみ、より一層コストを削減すること
ができる。

【００６０】また、シールド部材Ｈが設置されているた
め、恒温槽１の内壁１ａおよびバブラ２の外壁２ａの上
方部において結露が発生しても、この結露による水滴が
光学センサ４に流れ込むことはなく、光Ｂを屈折させる
という不具合の発生がない。

【００６１】なお、以上のように説明した本発明に係る
ガス発生装置は、半導体の拡散装置へ不純物ガスを供給
する場合に限られず、他の液体をガス化するのにも用い
ることが可能である。

【００６２】

【発明の効果】本発明に係るガス発生装置によれば、供
給手段によって恒温槽とバブラとの間に乾燥空気または
不活性ガスが供給されるため、恒温槽の設定温度を室温
より低く設定したような場合であっても、恒温槽の内壁
およびバブラの外壁の結露の発生を防止することができ
る。したがって、光学センサによってバブラ内の液位を
確実に検出することができ、その結果、不純物の液位が
所定量よりも低下した場合に、光学センサからの光が結
露によって遮られてリモートレベルアラームが発報せず
に、拡散装置への不純物の適切な供給を行うことができ
ないというトラブルの発生を防止することが可能にな
る。

【００６３】また、バブラ内の不純物の設定温度を従来
に比べてさらに低くしたような場合においても結露を生
じることがないため、バブラの使用可能範囲を広げるこ
とができる。

【００６４】また、恒温槽の内壁およびバブラの外壁に
結露を生じるおそれのある湿度になる前に、湿度検出セ
ンサにより検出される湿度が所定の値以上になったとき
にのみ、自動的にガス供給手段によって恒温槽の内壁と
バブラの外壁とによって形成される空間との間にガスが
供給されるため、不要なガスを供給する必要がなく、コ
ストを低減することが可能となる

【００６５】また、ガス供給手段は、光学センサの設け
られている近傍の空間の湿度を所定以下にすることか
ら、他の部分については湿度の管理を行わないため、無
駄なガスが必要なく、低コストな装置とすることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るガス発生装置の一実施形態を示す
説明図である。

【図２】本発明に係るガス発生装置の他の実施形態を示
す説明図である。

【図３】本発明に係るガス発生装置のさらに他の実施形
態を示す説明図である。

【図４】拡散装置の一例を示す説明図である。

【図５】従来のガス発生装置の一例を示す説明図であ
る。

【図６】恒温槽の外観の一例を示す説明図である。

【図７】バブラの外観の一例を示す説明図である。

【図８】恒温槽内に設置されたコンタクトブロックの第
１外壁面に生ずる結露を防止するための構造を示めした
説明図である。

【符号の説明】

１ 恒温槽 １ａ 内壁 ２ バブラ ２ａ 外壁 ３ ガス供給管（ガス供給手段） ４ 光学センサ ４ａ 発光部 ４ｂ 受光部 ５ アラーム装置 ６ 湿度検出センサ ７ 判別装置 ８ 開閉弁 Ｇ 不純物ガス Ｌ 不純物液体 Ａ ガス Ｂ 光 Ｃ 空間 Ｋ キャリアガス Ｐ1 キャリアガス供給管 Ｐ2 排出管 Ｈ シールド部材

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 液体にキャリアガスを封入して前記液体
   の成分を有するガスを発生するバブラと、 前記バブラを所定の間隙を保って収納し、前記バブラか
   ら所定量の前記液体の成分を有するガスが発生されるよ
   うに温度制御されている恒温槽と、 前記バブラと前記恒温槽との間の空間内の湿度を所定以
   下に維持するガスを供給するガス供給手段とを有するガ
   ス発生装置。
2. 【請求項２】 前記空間の湿度を検出する湿度検出セン
   サを備え、 前記ガス供給手段は、前記湿度検出センサの検出した湿
   度が所定以上の場合に動作する請求項１記載のガス発生
   装置。
3. 【請求項３】 前記恒温槽の対向する内側壁に前記液体
   の液位を検出する光学センサが設けられており、 前記ガス供給手段は、前記光学センサの設けられている
   近傍の空間の湿度を所定以下にする請求項１記載のガス
   発生装置。
4. 【請求項４】 前記ガス供給手段は、乾燥空気を供給す
   る請求項１記載のガス発生装置。
5. 【請求項５】 前記ガス供給手段は、不活性ガスを供給
   する請求項１記載のガス発生装置。