KR200248849Y1 - 반도체 공정 챔버의 히팅 장치 - Google Patents

반도체 공정 챔버의 히팅 장치 Download PDF

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KR200248849Y1
KR200248849Y1 KR2020010018051U KR20010018051U KR200248849Y1 KR 200248849 Y1 KR200248849 Y1 KR 200248849Y1 KR 2020010018051 U KR2020010018051 U KR 2020010018051U KR 20010018051 U KR20010018051 U KR 20010018051U KR 200248849 Y1 KR200248849 Y1 KR 200248849Y1
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Abstract

본 고안은 반도체 공정 챔버의 히팅 장치에 관한 것으로, 상부 챔버(Chamber)와 하부 챔버의 온도를 감지하는 제 1, 2 센서와, 상부 챔버와 하부 챔버를 개별적으로 히팅(Heating)하는 제 1, 2 히터와, 제 1, 2 센서의 온도 감지값 및 기 설정된 공정 조건에 따라 제어 신호를 출력함과 아울러 제 1, 2 센서의 온도 감지값과 기 설정된 인터락 조건과의 비교 결과에 따라 선택적으로 알람 신호를 출력하는 장비 제어기와, 장비 제어기의 제어 신호에 따라 제 1, 2 히터의 동작을 제어하는 히터 제어기와, 장비 제어기의 알람 신호에 따라 알람 화면을 표시하는 모니터와, 장비 제어기의 알람 신호에 따라 경보 음향을 송출하는 경보기로 구성되며, 작업자가 모니터의 알람 화면 또는 경보기의 경보 음향을 통하여 상부 챔버 또는 하부 챔버의 이상 상황을 쉽게 인지할 수 있으므로 공정 챔버의 온도가 정해진 값 이하로 떨어져 파티클(Particle)이 발생될 우려가 방지되므로 불필요하게 세정 작업을 수행할 필요가 없으므로 장비의 가동율이 증가되어 생산성이 향상되며, 반도체 장비의 신뢰성이 향상되는 이점이 있다.

Description

반도체 공정 챔버의 히팅 장치{HEATING APPARATUS FOR A SEMICONDUCTOR PROCESS CHAMBER}
본 고안은 반도체 공정 챔버의 히팅 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 상부 챔버와 하부 챔버를 개별적으로 히팅하는 반도체 공정 챔버에서 상부 챔버의 적정 온도에 대하여 인터락(Interlock)을 설정하여 모니터를 통하여 자동으로 표시하도록 한 반도체 공정 챔버의 히팅 장치에 관한 것이다.
반도체 장비의 제조공정에 있어서 여러 중요한 증착과 에치 과정은 공정 챔버 내에서 수행되며, 이러한 공정 챔버는 공정을 진행하기 위한 상부 챔버와 웨이퍼를 반송하기 위한 하부 챔버로 구성된다.
이러한 반도체 공정 챔버에서 온도에 가장 민감하게 반응하는 곳은 상부 챔버인데, 스탠다드 공정 챔버에는 상부 챔버를 히팅시켜줄 수 있는 별도의 히팅 구조가 마련되어 있지 않았으나 근래에는 스탠다드 공정 챔버에 별도의 히팅을 위한 시스템을 설치하여 세정 주기를 기존의 2배로 확장하였다.
상부 챔버를 위한 히팅 시스템이 설치된 공정 챔버는 사용자의 요구에 따라 온도를 세팅할 수 있도록 설계되어 사용하고 있다.
그러나, 이러한 반도체 공정 챔버는 온도가 세팅된 값에서 벗어날 경우에 이를 검출할 수 있는 기능이 부여되어 있지 않아 온도 변화를 모니터링하기 위하여 작업자가 일정한 주기로 온도 변화를 체크하여야 하는 불편함이 있었다.
특히, 작업자의 실수 등으로 온도 변화를 제대로 인지하지 못할 경우에 온도가 정해진 값 이하로 떨어져 파티클이 발생하면 이를 제거하기 위하여 챔버를 개방하여 세정 작업을 진행하여야 하므로 장비의 가동율이 저하되어 생산성이 저감될 수 있었으며, 이러한 파티클은 반도체 장비의 불량을 야기시키는 문제점이 있었다.
본 고안은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 제안한 것으로, 그 목적하는 바는 상부 챔버와 하부 챔버를 개별적으로 히팅하는 반도체 공정 챔버에서 상부 챔버의 적정 온도에 대하여 인터락을 설정하여 모니터를 통하여 자동으로 표시하도록 한 반도체 공정 챔버의 히팅 장치를 제공하는 데 있다.
이와 같은 목적을 실현하기 위한 본 고안에 따른 반도체 공정 챔버 히팅 장치는, 상부 챔버와 하부 챔버의 온도를 감지하는 각각의 센서와, 상기 상부 챔버와 하부 챔버를 개별적으로 히팅하는 각각의 히터와, 상기 센서의 온도 감지값 및 기 설정된 공정 조건에 따라 제어 신호를 출력하는 장비 제어기와, 상기 제어 신호에 따라 상기 히터의 동작을 제어하는 히터 제어기를 포함하는 반도체 공정 챔버의 히팅 장치에 있어서, 상기 장비 제어기는 상기 온도 감지값과 기 설정된 인터락(Interlock) 조건과의 비교 결과에 따라 선택적으로 알람 신호를 출력하며; 상기 알람 신호에 따라 알람 화면을 표시하는 모니터를 포함한다.
바람직하기로는, 상기 알람 신호에 따라 경보 음향을 송출하는 경보기를 더 포함한다.
도 1은 본 고안에 따른 반도체 공정 챔버 히팅 장치의 구성도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
11 : 상부 챔버 13 : 하부 챔버
21 : 제 1 센서 23 : 제 2 센서
31 : 제 1 히터 33 : 제 2 히터
40 : 장비 제어기 50 : 히터 제어기
60 : 모니터 70 : 경보기
본 고안의 실시예로는 다수개가 존재할 수 있으며, 이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 바람직한 실시예에 대하여 상세히 설명하기로 한다. 이 실시예를 통해 본 고안의 목적, 특징 및 이점들을 보다 잘 이해할 수 있게 된다.
도 1은 본 고안에 따른 반도체 공정 챔버 히팅 장치의 구성도이다.
이에 나타낸 바와 같이 본 고안의 챔버 히팅 장치는, 상부 챔버(11)와 하부 챔버(13)의 온도를 감지하는 제 1, 2 센서(21,23)와, 상부 챔버(11)와 하부 챔버(13)를 개별적으로 히팅하는 제 1, 2 히터(31,33)와, 제 1, 2 센서(21,23)의 온도 감지값 및 기 설정된 공정 조건에 따라 제어 신호를 출력함과 아울러 제 1, 2 센서(21,23)의 온도 감지값과 기 설정된 인터락 조건과의 비교 결과에 따라 선택적으로 알람 신호를 출력하는 장비 제어기(40)와, 장비 제어기(40)의 제어 신호에 따라 제 1, 2 히터(31,33)의 동작을 제어하는 히터 제어기(50)와, 장비 제어기(40)의 알람 신호에 따라 알람 화면을 표시하는 모니터(60)와, 장비 제어기(40)의 알람 신호에 따라 경보 음향을 송출하는 경보기(70)로 구성된다.
이와 같이 구성된 본 고안에 따른 반도체 공정 챔버 히팅 장치의 동작을 아래에서 상세히 설명하기로 한다.
먼저, 작업자는 공정 조건에 따라 입력장치(도시 생략됨)를 이용하여 상부 챔버(11) 및 하부 챔버(13)의 적정 온도를 설정한다. 이는 장비 제어기(40)에 인터락이 설정된 상태를 의미한다.
공정 진행 중에 제 1 센서(21)는 상부 챔버(11)의 내부 온도를 지속적으로 감지하여 온도 감지값을 장비 제어기(40)로 전달하며, 제 2 센서(23)는 하부 챔버(13)의 내부 온도를 지속적으로 감지하여 온도 감지값을 장비 제어기(40)로 전달한다.
장비 제어기(40)는 기 설정된 공정 조건에 따라 공정 제어 신호를 출력하며, 이 제어 신호에 의거하여 히터 제어기(50)는 제 1 히터(31) 및 제 2 히터(32)를 구동시킨다. 이로서 제 1 히터(31)는 상부 챔버(11)를 히팅시키며, 제 2 히터(33)는 하부 챔버(13)를 히팅시킨다.
한편, 장비 제어기(40)는 제 1 센서(21) 및 제 2 센서(23)의 온도 감지값과 기 설정된 인터락 조건을 지속적으로 비교하며, 상부 챔버(11) 또는 하부 챔버(13)의 내부 온도가 세팅된 값에서 벗어남이 판단되면 모니터(60) 및 경보기(70)로 알람 신호를 출력한다.
그러면, 모니터(60)는 장비 제어기(40)의 알람 신호에 따라 알람 화면을 표시하며, 경보기(70)는 장비 제어기(40)의 알람 신호에 따라 경보 음향을 송출한다.
따라서, 작업자는 공정 챔버의 온도 변화를 지속적으로 모니터링하지 않더라도 모니터(60)의 알람 화면 또는 경보기(70)의 경보 음향을 통해 상부 챔버(11) 또는 하부 챔버(13)의 이상 상황을 쉽게 인지할 수 있는 것이다.
전술한 바와 같이 본 고안은 작업자가 모니터의 알람 화면 또는 경보기의 경보 음향을 통하여 상부 챔버 또는 하부 챔버의 이상 상황을 쉽게 인지할 수 있다.
이로서, 공정 챔버의 온도가 정해진 값 이하로 떨어져 파티클이 발생될 우려가 방지되므로 불필요하게 세정 작업을 수행할 필요가 없으므로 장비의 가동율이 증가되어 생산성이 향상되며, 반도체 장비의 신뢰성이 향상되는 효과가 있다.

Claims (2)

  1. 상부 챔버(11)와 하부 챔버(13)의 온도를 감지하는 각각의 센서(21,23)와, 상기 상부 챔버(11)와 하부 챔버(13)를 개별적으로 히팅하는 각각의 히터(31,33)와, 상기 센서(21,23)의 온도 감지값 및 기 설정된 공정 조건에 따라 제어 신호를 출력하는 장비 제어기(40)와, 상기 제어 신호에 따라 상기 히터(31,33)의 동작을 제어하는 히터 제어기(50)를 포함하는 반도체 공정 챔버의 히팅 장치에 있어서,
    상기 장비 제어기(40)는 상기 온도 감지값과 기 설정된 인터락(Interlock) 조건과의 비교 결과에 따라 선택적으로 알람 신호를 출력하며;
    상기 알람 신호에 따라 알람 화면을 표시하는 모니터(60)를 포함하여 된 반도체 공정 챔버의 히팅 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 알람 신호에 따라 경보 음향을 송출하는 경보기(70)를 더 포함하여 된 반도체 공정 챔버의 히팅 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101460565B1 (ko) * 2011-05-31 2014-11-13 세메스 주식회사 베젤 온도 제어 장치
KR101985413B1 (ko) * 2018-06-14 2019-06-03 에이에스티엔지니어링(주) 버티컬 복층 베이킹 챔버장치

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