JP5314233B2 - 制御された導電率を有する半導体材料および半導体デバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
(発明の分野)
本発明は、ドーパントパッシベーション(dopant passivation)の影響を受ける、ドープされた半導体材料において所望の導電率を達成するための方法に関する。特に、本発明は、半導体成長プロセス中のドーピング種(species)パッシベーションを防止しまたは低減し、その場所または他の場所でのアニーリング工程の必要性を除く、パッシベーションバリア層の製造方法を教示する。
半導体材料は、発光ダイオード(LED)、レーザダイオード(LD)、および他の光電子および電子デバイスの製造には欠くことができない。材料の電気的および光学的特性が、組成および構造変化によって制御することができるためである。この制御を達成するために、不必要な不純物のない半導体材料を製造することが重要である。窒化ガリウム(GaN)は、青、紫、および紫外線(UV)LEDおよびLD、ならびに他の電子デバイスへの適用に関して、最も有望な半導体材料の1つである。
本発明は、水素原子によるドーピング種のパッシベーションを受けた、ドープされた半導体材料における所望の導電率を達成する新規な方法に提供する。パッシベーションは、ドーピング種に関連して半導体材料に組み込まれた水素によって引き起こされる。
本発明は、原子水素によって半導体材料におけるドーパント種のパッシベーションを防ぐ新規な方法である。半導体材料の成長直後で、反応装置冷却の前または冷却の間に、または半導体材料の成長温度より低い温度で、バリア層を成長させる。バリア層は、半導体への水素の拡散に対する濃度の高いバリアとして機能する。また、バリア層は、化学的に水素を結合するゲッタリング層として働く。両方の場合、ドーピング種のパッシベーションが防止されるかまたは低減される。反応装置冷却に続いて、材料のさらなる処理の前に、バリア層は、エッチングなどの既知の処理によって取り除かれる。
Claims (10)
- 半導体材料におけるアクセプタおよびドナー種のパッシベーションを前記半導体材料の成長後に低減する方法であって、
成長温度の反応装置(10)内で前記半導体材料(30、50)を成長させることと、 成長ソースガスを排気することと、
前記成長ソースガスの排気後であって、かつ、前記反応装置の冷却前又は冷却中に、前記半導体材料が前記反応装置(10)にある間に、前記半導体材料(30、50)上にパッシベーションバリア層(32)を堆積することとを備え、
ここで前記パッシベーションバリア層は、前記半導体材料(30、50)内に捕らえられた水素を化学的に結合し、水素が前記半導体材料中へ拡散することを防止することができることを特徴とする方法。
- 前記パッシベーションバリア層(32、52)は、有機金属化学的気相蒸着法、プラズマ化学的気相蒸着法、ホットフィラメント化学的気相蒸着法または物理的気相蒸着法によって堆積されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記パッシベーションバリア層(32、52)は、Si、Ge、MgOx、MgNx、ZnO、SiNx、SiOx及びこれらの混合物から選択されたものであるからなることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記パッシベーションバリア層(32、52)は、少なくとも2つの層を備え、各々の前記層は、Si、Ge、MgOx、ZnO、SiNx、MgNx、SiOx及びこれらの混合物から選択されたものから作られることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記パッシベーションバリア層(32、52)は、ゲッタリング層であり、前記ゲッタリング層が、前記半導体材料(30、50)内に捕らえられた水素を化学的に結合し、前記半導体材料(30、50)内への水素の拡散を遮断することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記ゲッタリング層(32、52)は、水素とアクセプタまたはドナー材料との間の結合エネルギーより高い、水素原子との結合エネルギーを有する成分を含むことを特徴とする請求項5に記載の方法。
- 前記反応装置(10)は、前記パッシベーションバリア層(32、52)の形成後に雰囲気ガスを含み、前記雰囲気ガスは、非反応性ガス(29)であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記反応装置(10)は、前記パッシベーションバリア層の形成後に雰囲気ガスを含み、前記雰囲気ガスは、反応性ガスであることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 反応装置において半導体材料(30、50)におけるアクセプタおよびドナー種のパッシベーションを前記半導体材料の成長後に低減する方法であって、
前記半導体材料(30、50)の成長のために、前記反応装置(10)内に有機金属化合物を含むキャリアガス(16)及び窒素を含むガス(26)を流すことと、
前記窒素を含むガス(26)のフローを維持したまま、前記有機金属化合物を含むキャリアガス(16)のフローを停止することと、
有機金属化合物を含むキャリアガス(16)及び窒素を含むガス(26)を排気することと、
有機金属化合物を含むキャリアガス(16)及び窒素を含むガス(26)の排気後であって、かつ、前記反応装置の冷却前又は冷却中に、パッシベーションバリア層キャリアガス(16)を前記反応装置(10)内に噴射して、前記半導体材料(30、50)上にパッシベーションバリア層を堆積することと、ここで、前記パッシベーションバリア層(32、52)は、ゲッタリング層であり、前記ゲッタリング層が、前記半導体材料(30、50)内に捕らえられた水素を化学的に結合し、前記半導体材料(30、50)内への水素の拡散を遮断し、
前記反応装置の冷却後に前記パッシベーションバリア層(32、52)を取り除いて、前記半導体材料(30、50)をさらに処理することと
を備えたことを特徴とする方法。
- 半導体材料におけるアクセプタおよびドナー種のパッシベーションを前記半導体材料の成長後に低減する方法であって、
前記半導体材料の成長に使用した成長ソースガスを排気することと、
前記成長ソースガスの排気後であって、かつ、前記反応装置の冷却前又は冷却中に、MOCVD反応装置(10)内で前記半導体材料(30、50)上に不活性パッシベーションバリア層(32、52)を堆積することと、
前記不活性パッシベーションバリア層(32、52)の堆積中又は堆積後に、前記反応装置(10)を冷却することとを備え、
ここで前記パッシベーションバリア層は、前記半導体材料(30、50)内に捕らえられた水素を化学的に結合し、水素が前記半導体材料中へ拡散することを防止することができることを特徴とする方法。
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