JP5290387B2 - 高純度カルシウムの製造方法 - Google Patents
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Description
塩化カルシウムを主成分とする溶融塩電解で純度94〜98%まで上げ、さらに真空蒸留により、純度99.9%まで精製することができる。
精製したカルシウムは、銀白色の柔らかい金属で、常温で立方細密構造、250°C以上で六方細密構造、450°C以上で体心立方構造をとる。融点839°C、沸点1480°C、密度1.55g/cm3(20°C)であり、常温で酸素、ハロゲンと直接結合し、高温では水素、炭素、窒素とも反応する。用途としては、還元剤、金属の脱酸剤、高真空用ゲッターとして使用される(理化学辞典参照)。
ランタン金属は精製時に酸化し易いという問題があるため、高純度化が難しい材料であり、高純度製品は存在していなかった。また、ランタン金属を空気中に放置した場合には短時間で酸化し黒色に変色するので、取り扱いが容易でないという問題がある。
最近、次世代のMOSFETにおけるゲート絶縁膜として薄膜化が要求されているが、これまでゲート絶縁膜として使用されてきたSiO2では、トンネル効果によるリーク電流が増加し、正常動作が難しくなってきた。
しかし、この場合に、還元工程で使用するカルシウムを高純度化して、製造工程中の不純物を低減する必要がある。カルシウム中に不純物が多いと、結果として、希土類元素中の不純物が増加するという問題を生ずるからである。
しかし、この程度のカルシウム純度では、充分とは言えない。また、Cuの不純物量の規定(記載)がないが、液体状態のカルシウムの取り扱いには水冷Cuの使用は欠かせないので、Cuの不純物が多量に含まれている可能性が大きい。
上記の通り、従来技術では、総合的な高純度化を達成できるカルシウムを製造するための有効な技術の開示がないと言える。
昇華精製する際の昇華容器内の真空度は、1×10−4Pa以上の高真空とし、昇華を促進させ、かつ気化し易いカルシウム内の不純物を除去する。
本発明の工程により、カルシウム原料からの収率80%以上を達成することができる。また、回収した高純度カルシウムに含有する各遷移金属元素を5ppm未満とすること、さらには、1ppm未満とすることができる。
表1に示す不純物を含有する純度99.9%(3N)のカルシウム原料3.5kgを、図1に示す縦型の昇華容器の底部のルツボに装入した。なお、表1には、原料のばらつきも示す。昇華容器内の真空度は1×10−4Pa台とした。この真空処理はロータリーポンプによる粗引き及びクライオポンプによる本引きを行った。ルツボの加熱は下記の範囲で調節した。
第1回目の昇華残渣は0.25kgであり、ロスは0.25kgであった。第1回目の昇華残渣の分析値も、表1に示す。これによれば、Mg<0.05wtppm、Fe:64wtppm、Cu380wtppmであり、銅の残渣が多量にあった。なお、第1回目の昇華は、原料形状が安定せず、昇華速度も安定しないという傾向があった。
第2回目のカルシウムの不純物量を、同様に表1に示す。この表1に示す不純物量から明らかなように、高純度カルシウムを得ることができた。
表1に示すように、原料でのカルシウム中に存在するCu量のばらつきが大きいので、2回の昇華精製が必要であることが分かる。なお、カルシウムの分析値で、SrとBaは、比較的高い値になっているが、これらはカルシウムと性質が似ているために、カルシウム還元剤等として使用する場合には、特に問題となるものではない。
なお、第1回目と第2回目の昇華条件は同じとした。
実施例1と同一のカルシウム原料を用い、温度750°C、昇華速度0.50g/cm2/hで、1回のみの昇華によって昇華容器内の側壁に蒸着物を得た。他の条件は、実施例1と同一である。この結果、表2の分析結果に示すように、全体的に、前記実施例に比べて不純物量は多く、特にFe、Cuの不純物量が多く、本願発明の目的を達成することができなかった。
実施例1と同一のカルシウム原料を用い、第1回目の加熱温度850°C、昇華速度(蒸発速度)4.0g/cm2/hの1回の昇華によって昇華容器内の側壁に蒸着物を得た。他の条件は、実施例1と同一である。この結果、表3の左側の分析結果に示すように、全体的に、前記実施例に比べて不純物量は多く、特にSi、Ti、Mn、Fe、Cu、As、Sr、Baの不純物量が多くなり、本願発明の目的を達成することができなかった。
実施例1と同一のカルシウム原料を用い、第1回目の加熱温度850°C、昇華速度(蒸発速度)4.0g/cm2/hで、第2回目の加熱温度850°C、昇華速度(蒸発速度)3.7g/cm2/hで2回の昇華によって昇華容器内の側壁に蒸着物を得た。他の条件は、実施例1と同一である。この結果、表3の右側の分析結果に示すように、全体的に、前記実施例に比べて不純物量は多く、特にMg、Al、Si、Fe、Cu、Pbの不純物量が多く、本願発明の目的を達成することができなかった。
Claims (9)
- ガス成分を除く純度が4N以下であるカルシウムの原料を、昇華容器のルツボに装入し、これを750°C〜800°Cに加熱して昇華させ、これを昇華容器内の側壁に付着(蒸着)させて第1回目の昇華精製を行い、次にこの第1回目で昇華精製したカルシウムを回収した後、このカルシウムを再度昇華容器のルツボに装入し、750°C〜800°Cに加熱して第2回目の昇華精製を行い、同様に昇華容器内の側壁に付着(蒸着)させて純度4N5以上のカルシウムを回収することを特徴とする高純度カルシウムの製造方法。
- カルシウムの昇華速度を0.25g/cm2/h〜0.75g/cm2/hとすることを特徴とする請求項1記載の高純度カルシウムの製造方法。
- 昇華精製する際の昇華容器内の真空度を1×10−4Pa以上の高真空とすることを特徴とする請求項1〜2のいずれか一項に記載の高純度カルシウムの製造方法。
- カルシウム原料からの収率を80%以上とすることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の高純度カルシウムの製造方法。
- 回収した高純度カルシウムに含有する各遷移金属元素を5ppm未満とすることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の高純度カルシウムの製造方法。
- 回収した高純度カルシウムに含有する各遷移金属元素の含有量を1ppm未満とすることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の高純度カルシウムの製造方法。
- カルシウムの純度が4N5以上であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法によって製造された高純度カルシウム。
- 高純度カルシウムに含有する各遷移金属元素が5ppm未満であることを特徴とする請求項7記載の高純度カルシウム。
- 高純度カルシウムに含有する各遷移金属元素の含有量が1ppm未満であることを特徴とする請求項7記載の高純度カルシウム。
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