JP6739803B2 - 純度が向上したシリコンの製造方法 - Google Patents
純度が向上したシリコンの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6739803B2 JP6739803B2 JP2017540034A JP2017540034A JP6739803B2 JP 6739803 B2 JP6739803 B2 JP 6739803B2 JP 2017540034 A JP2017540034 A JP 2017540034A JP 2017540034 A JP2017540034 A JP 2017540034A JP 6739803 B2 JP6739803 B2 JP 6739803B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicon
- metal
- liquid
- alloy
- salt
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims description 232
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims description 223
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 50
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 232
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 111
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 104
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 94
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 84
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 84
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 67
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 34
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 31
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 30
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 22
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 22
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 15
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 15
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 14
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 9
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 7
- 239000011133 lead Substances 0.000 claims description 7
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims description 7
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910001615 alkaline earth metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 39
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 27
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 23
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 19
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 18
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 17
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 17
- 235000011148 calcium chloride Nutrition 0.000 description 17
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 14
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 14
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 12
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 9
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 8
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 8
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 7
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N Calcium oxide Chemical compound [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000905 alloy phase Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 3
- LGERWORIZMAZTA-UHFFFAOYSA-N silicon zinc Chemical compound [Si].[Zn] LGERWORIZMAZTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 2
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001036 glow-discharge mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 2
- 238000005204 segregation Methods 0.000 description 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical class [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000528 Na alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006776 Si—Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001514 alkali metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001617 alkaline earth metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N alumanylidynesilicon Chemical compound [Al].[Si] CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 239000006023 eutectic alloy Substances 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910021471 metal-silicon alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002843 nonmetals Chemical class 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000011863 silicon-based powder Substances 0.000 description 1
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/02—Silicon
- C01B33/037—Purification
- C01B33/039—Purification by conversion of the silicon into a compound, optional purification of the compound, and reconversion into silicon
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
特許文献2は、固体シリコンの表面処理をすることで精製するので、必ずしも固体シリコンの内部まで十分に精製されているといえない。
特許文献3は、小型のシリコン結晶を種結晶として用いてシリコンを再結晶する方法といえる。
特許文献4は、シリコンの種結晶を用いて、シリコンインゴットを引き上げる、いわゆる引き上げ法によって、シリコンを精製する方法である。
特許文献3と4は、その液体から結晶化への温度制御が煩雑である。更に、特許文献4の引き上げ法は、装置の振動も制御することが必要である。
一般に、溶融したシリコンからシリコンを析出させると、鉄・ニッケル・マンガン等の不純物として存在する金属元素の偏析係数は、約10−5〜約10−6であるから、その不純物である金属元素の含有率は大きく減少し得ることが知られている。それに対し、不純物として存在するB、C、O及びP等の非金属元素の偏析係数は、シリコンの融点で各々約0.8、約0.07、約1.25及び約0.35であるから、不純物の非金属元素の含有率はあまり減少しないことも知られている。それどころか、Oについては、含有率が上昇し得え、かえって不純物として酸素が増加することも知られている。
ゆえに、非金属元素の含有率を低下させるためには、単にシリコンを析出させることでは不十分で有り、何らかの工夫を要することが明らかである。特許文献1〜4は、いずれもそのような工夫が提案されていることが理解できる。
(1)塩、金属及びシリコンを加熱して溶融して、溶融塩の上層と液体合金の下層を得ること;及び
(2)液体合金を冷却して、シリコンを析出させること
を含む、純度が向上したシリコンの製造方法である。
本発明の好ましい態様において、金属は、シリコンと液体金属を形成し、亜鉛、マグネシウム、ナトリウムから選択される少なくとも一種を含む、製造方法を提供する。
(a)入口を有する導入部を有し、回収部を有し得る容器を準備すること;
(b)入口から、金属及び原料シリコンを導入部に入れて、導入部で原料シリコンと金属を溶かして液体合金を製造すること;
(c)導入部の液面を除く(又は導入部の液面を含まない)液体合金の一部を、容器の回収部又は外部の回収部に移動すること;及び
(d)回収部で液体合金からシリコンを析出させること
を含む、純度が向上したシリコンの製造方法である。
(1)塩、金属及びシリコンを加熱して溶融して、溶融塩の上層と液体合金の下層を得ること;及び
(2)液体合金を冷却して、シリコンを析出させること
を含むので、
特別な装置及び設備等を必要とせず、容易かつ簡便に、例えば、リン等の非金属元素及び金属元素に由来する不純物が減少して、純度が向上したシリコンを製造することができる。
塩は、アルカリ金属の酸化物、アルカリ土類金属の酸化物及びシリコンの酸化物から選択される少なくとも一種を含む場合、シリコン中の例えば、ホウ素、炭素、酸素、リン等の非金属元素に由来する不純物及び金属に由来する不純物の溶融塩相への移行効率が向上し、より高純度のシリコンを得ることができる。
(a)入口を有する導入部を有し、回収部を有し得る容器を準備すること;
(b)入口から、金属及び原料シリコンを導入部に入れて、導入部で原料シリコンと金属を溶かして液体合金を製造すること;
(c)導入部の液体合金の液面を除く液体合金の一部を、(容器が回収部を有する場合)容器の回収部又は外部の回収部に移動すること;及び
(d)回収部で液体合金からシリコンを析出させることを含むので、
特別な装置及び設備等を必要とせず、容易かつ簡便に、例えば、ホウ素、炭素及び酸素等の非金属元素に由来する不純物が減少し、純度が向上したシリコンを製造することができる。
(1)塩、金属及び原料シリコンを加熱して溶融して、溶融塩の上層と液体合金の下層を得ること;及び
(2)液体合金を冷却して、シリコンを析出させること
を含む、純度が向上したシリコンの製造方法である。
原料シリコンは、市販品を使用することができる。例えば、シグマ・アルドリッチ社製のシリコン粉末325メッシュ等を例示することができる。
「塩」は、純度が高いことが好ましい。通常、不純物は、100ppm以下であることが好ましく、50ppm以下であることがより好ましく、10ppm以下であることが特に好ましい。
更に塩は、その塩が溶融する温度より50℃高い温度(溶融する温度+50℃)での密度が、3.0g/cm3以上であることが好ましく、2.5g/cm3以上であることがより好ましく、2.3g/cm3以上であることが更に好ましい。
塩は、市販品を使用することができる。
塩は、アルカリ金属のハロゲン化物及びアルカリ土類金属のハロゲン化物から選択される少なくとも一種を含む場合、液体合金中の成分の揮発をより抑えることができる。
塩は、アルカリ金属の酸化物、アルカリ土類金属の酸化物及びシリコンの酸化物から選択される少なくとも一種を含む場合、シリコン中の例えばリン等の非金属に由来する不純物及び金属元素に由来する不純物の溶融塩相への移行効率が向上し、より高純度のシリコンを得ることができる。
塩は、単独で又は組み合わせて使用することができる。
「金属」は、純度が高いことが好ましい。通常、不純物は、100ppm以下であることが好ましく、50ppm以下であることがより好ましく、10ppm以下であることが特に好ましい。
更に金属は、シリコンと形成した液体合金の密度が、溶融した塩の密度より、0.2g/cm3以上大きいことが好ましく、0.5g/cm3以上大きいことがより好ましく、1.0g/cm3以上大きいことが更に好ましい。ここで、シリコンと形成した液体合金の密度は、その溶融塩が溶融する温度より50℃高い温度での密度をいう。
金属は、市販品を使用することができる。
金属は、シリコンと液体合金を形成し、アルミニウム、銅、鉄、スズ、亜鉛、鉛、マグネシウム、及びナトリウムから選択される少なくとも一種を含む場合、シリコン中の例えばリン等の非金属元素に由来する不純物及び金属元素に由来する不純物の液体合金相への移行効率が向上するので、より純度の高いシリコンを得ることができる。
蒸気圧の高い金属を使用すると、純度が向上されたシリコン中に残留する金属は、より高い蒸気圧を有することとなりえる。そのため、純度が向上されたシリコン中に残留することが想定される金属の除去が、より容易になり、より好ましい。
金属は、単独で又は組み合わせて使用することができる。
図1−1に示すような、反応容器1を準備し、その内部を、例えば、アルゴン等の不活性ガスで置換する。金属(M)11、原料シリコン12及び塩13を加えて、反応容器1の温度を、金属(M)11、原料シリコン12及び塩13が融解する温度に加熱して、その温度を維持する。完全に融解して、金属とシリコンとの合金の液体を形成させる。
(1)塩、金属及びシリコンを加熱して溶融して、溶融塩の上層と液体合金の下層をえること;及び
(2)液体合金を冷却して、シリコンを析出させること
を含む。
本発明の一の形態の製造方法について記載した事項は、本発明の一の形態の精製方法に適宜適用することができる。
(a)入口を有する導入部を有し、回収部を有し得る容器を準備すること;
(b)入口から、金属及び原料シリコンを導入部に入れて、導入部で原料シリコンと金属を溶かして液体合金を製造すること;
(c)導入部の液体合金の液面を除く(又は導入部の液体合金の液面を含まない)液体合金の一部を、容器が回収部を有する場合容器の回収部又は外部の回収部に移動すること;及び
(d)回収部で液体合金からシリコンを析出させること
を含む、純度が向上したシリコンの製造方法である。
合金の液面及びその近傍は、合金への溶解度が低い軽元素又は非金属元素(例えば、ホウ素、炭素及び酸素など)に由来する不純物の濃度が高いと考えられる。
液面の影響を受け難い位置に、接続部分を配置すると、そのような不純物を取り込む可能性が低くなり、シリコンの純度の向上のために好ましい。
本発明の他の形態の製造方法は、上述の金属及び原料シリコン等に悪影響を与えない不活性な雰囲気下で行うことが好ましい。例えば、アルゴン及びヘリウム等の不活性な雰囲気下で行うことがより好ましい。
本発明の一の形態の製造方法について記載した事項、態様及び/又は形態等は、本発明の他の形態の製造方法に適宜適用し、好ましく組み合わせることができる。
図2−1に示すような、その内部が壁で導入部41と回収部51に区切られた反応容器2を準備する。壁の下部には、スリットが設けられている。反応容器2の内部を、例えば、アルゴン等の不活性ガスで置換する。金属11、原料シリコン12を加えて、反応容器2の温度を、金属11及び原料シリコン12が、液体合金として融解する温度に加熱して、その温度を維持する。完全に融解させて、金属とシリコンとの合金の液体を形成させる。
(a)入口を有する導入部を有し、回収部を有し得る容器を準備すること;
(b)入口から、金属及び原料シリコンを導入部に入れて、導入部で原料シリコンと金属を溶かして液体合金を製造すること;
(c)導入部の液面を除く(又は含まない)液体合金の一部を、(容器が回収部を有する場合)容器の回収部又は外部の回収部に移動すること;及び
(d)回収部で液体合金からシリコンを析出させること
を含む。
本発明の一の形態の製造方法について記載した事項、態様及び/又は形態等は、本発明の他の形態の精製方法に適宜適用し、好ましく組み合わせることができる。
石英製円筒容器とステンレス蓋からなる気密容器内に、石英インナーホルダーを設置し、その底部に内径90mmのカーボンるつぼを配置した。円筒容器内は、流量100ml/minのArガスを流通することで、Ar雰囲気に保った。塩化カルシウム200gを、カーボンるつぼ内に入れて、カーボンるつぼの温度を850℃に保持した。塩化カルシウムの融解を確認後、亜鉛580gを加えて融解し、シリコン(原料)12gを加えて融解した。この融解物を50時間かけて室温まで冷却した。冷却物を取り出して観察すると、固化した塩化カルシウムの上層と、(純度が向上した)シリコンの中層と、固化した亜鉛の下層の三層構造であった。従って、上述の融解物は、溶融した塩化カルシウムの上層と、亜鉛とシリコンの液体合金の下層の二層になった後、液体合金の下層が、シリコンの中層と亜鉛金属の下層に分かれたと考えられる。(純度が向上した)シリコンの中層を取り出して、硝酸に溶解することで、亜鉛を除去して、実施例1のシリコンを得た。
尚、塩化カルシウム(無水物)の融点は、約772℃であり、約822℃での、その密度は、約2.1g/cm3である。実施例1に記載の亜鉛とシリコンの合金の密度は、約822℃で、約5.9g/cm3である。
実施例1と同様の方法を用いたが、塩化カルシウム200gを用いないで、比較例1のシリコンを製造した。そのため、50時間かけて室温まで冷却中に、亜鉛が全て蒸発して、シリコンの層になった。シリコンの層を取り出して、硝酸に溶解することで、存在し得る亜鉛を除去して、比較例1のシリコンを得た。
実施例1と同様にして、比較例1のシリコンの不純物量を分析した。結果は、表1に示した。
塩とその量、金属とその量を、表1のように変えたほかは、実施例1に記載の方法と同様の方法を用いて、実施例2〜4を行った。結果は、表1に示した。
尚、実施例2に記載の亜鉛、マグネシウムとシリコンの合金の密度は、約822℃で、約5.9g/cm3である。
実施例3に記載の亜鉛、ナトリウムとシリコンの合金の密度は、約822℃で、約5.9g/cm3である。
実施例4に記載の塩化カルシウムと酸化ケイ素の塩の混合物の融点は約780℃であり、50℃上の約830℃での、その密度は、約2.05g/cm3である。実施例4の亜鉛とシリコンの合金の約830℃での密度は、約5.9g/cm3である。
石英製円筒容器とステンレス蓋からなる気密容器内に、石英インナーホルダーを設置し、その底部に内径90mmのカーボンるつぼを配置した。石英円筒容器内は、流量100ml/minのArガスを流通することで、Ar雰囲気に保った。るつぼ内に塩化カルシウム200gを入れ、カーボンるつぼの温度を850℃に保持した。塩化カルシウムの溶融を確認後、カーボン管(内径22mm)を溶融塩化カルシウム内に差し込んだ。尚、カーボンるつぼと接する、カーボン管の端部に、スリットを設けた。カーボン管の内側に亜鉛580gを加え溶融後、シリコン(原料)を入れて溶融した。この溶融物を50時間かけて室温まで冷却した。冷却物を取り出して観察すると、固化した塩化カルシウムの上層と、(純度が向上した)シリコンの中層と、固化した亜鉛の下層の三層構造を有していた。従って、上述の溶融物は、溶融した塩化カルシウムの上層と、亜鉛とシリコンの液体合金の下層の二層になった後、液体合金の下層が、シリコンの中層と亜鉛金属の下層に分かれたと考えられる。(純度が向上した)シリコンの中層を取り出し、硝酸に溶解することで、表面に付着した亜鉛を除去して、実施例5のシリコンを得た。尚、実施例5では、カーボン管の内側は、導入部と考えられ、カーボンるつぼとカーボン管の間(カーボン管の外側)は、回収部と考えられる。
得られたシリコンの不純物の量を、実施例1に記載の方法と同様な方法で分析した。結果は、表1に示した。
シリコンの量を、表1のように変えたほかは、実施例5に記載の方法と同様の方法を用いて、実施例6を行った。結果は、表1に示した。実施例6に記載の亜鉛とケイ素の合金の密度は、約822℃で、約5.9g/cm3である。
実施例1〜6を、参考例1の原料シリコンと比較すると、いずれの不純物も濃度が低下していることがわかる。これは、マグネシウム及びナトリウムを含み得る亜鉛相と、酸化ケイ素を含み得る塩化カルシウム相に、原料シリコンの不純物が移動したからであると考えられる。金属元素以外に、B、C、O、P等の非金属元素についても含有率が低下していることが認められた。特に、含有量が増加することさえ考えられた酸素でさえ、半分以下になるという驚くべき結果を得た。
11:金属(M)、12:原料シリコン、13:塩、
21:合金の液体、23:溶融した塩、
31:固体の金属、32:純度が向上したシリコン、33:固化した塩
41:導入部、51:回収部、61:壁、62:通路、63:円筒状の壁、
64:円筒状の容器、65:管、66:バルブ
Claims (4)
- (a)入口を有する導入部を有し、回収部を有し得る容器を準備すること;
(b)入口から、金属及び原料シリコンを導入部に入れて、導入部で原料シリコンと金属を溶かして液体合金を製造すること;
(c)導入部の液面を除く又は導入部の液面を含まない液体合金の一部を、容器が回収部を有する場合容器の回収部に又は外部の回収部に移動すること;及び
(d)回収部で液体合金からシリコンを析出させること
を含む、純度が向上したシリコンの製造方法であり、
入口から、金属及び原料シリコンを導入部に入れる前、入れると同時又は入れた後で、塩を加えて、導入部で塩を溶かして、液体合金層の上に、溶融した塩の層を形成することを含む、製造方法。 - 塩は、アルカリ金属のハロゲン化物及びアルカリ土類金属のハロゲン化物から選択される少なくとも一種を含み、アルカリ金属の酸化物、アルカリ土類金属の酸化物及びシリコンの酸化物から選択される少なくとも一種を含むことができる、請求項1に記載の製造方法。
- 金属は、シリコンと液体合金を形成し、アルミニウム、銅、鉄、スズ、亜鉛、鉛、マグネシウム、及びナトリウムから選択される少なくとも一種を含む、請求項1又は2に記載の製造方法。
- 金属は、シリコンと液体金属を形成し、亜鉛、マグネシウム、ナトリウムから選択される少なくとも一種を含む、請求項1〜3のいずれかに記載の製造方法。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015184164 | 2015-09-17 | ||
JP2015184165 | 2015-09-17 | ||
JP2015184165 | 2015-09-17 | ||
JP2015184164 | 2015-09-17 | ||
PCT/JP2016/077566 WO2017047798A1 (ja) | 2015-09-17 | 2016-09-16 | 純度が向上したシリコンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2017047798A1 JPWO2017047798A1 (ja) | 2018-07-19 |
JP6739803B2 true JP6739803B2 (ja) | 2020-08-12 |
Family
ID=58289416
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017540034A Active JP6739803B2 (ja) | 2015-09-17 | 2016-09-16 | 純度が向上したシリコンの製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6739803B2 (ja) |
WO (1) | WO2017047798A1 (ja) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07247108A (ja) * | 1994-01-21 | 1995-09-26 | Sumitomo Chem Co Ltd | ケイ素の精製方法 |
JP2003012317A (ja) * | 2001-06-27 | 2003-01-15 | Daido Steel Co Ltd | シリコンの精製方法 |
WO2007127482A2 (en) * | 2006-04-28 | 2007-11-08 | Sri International | Methods for producing consolidated and purified materials |
JP2011121848A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 高純度シリコンの製造方法 |
JP2013212962A (ja) * | 2012-04-03 | 2013-10-17 | Mitsubishi Chemicals Corp | シリコンの製造方法、シリコンウェハー及び太陽電池用パネル |
-
2016
- 2016-09-16 WO PCT/JP2016/077566 patent/WO2017047798A1/ja active Application Filing
- 2016-09-16 JP JP2017540034A patent/JP6739803B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2017047798A1 (ja) | 2018-07-19 |
WO2017047798A1 (ja) | 2017-03-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Johnston et al. | High-temperature refining of metallurgical-grade silicon: A review | |
CN101070598B (zh) | 一种熔盐电解法制备太阳级硅材料的方法 | |
JP4899167B2 (ja) | 液体金属を用いたGeCl4の還元によるGeの製造方法 | |
US8157885B2 (en) | Continuous production of metallic titanium and titanium-based alloys | |
US20090202415A1 (en) | Process for producing high-purity silicon and apparatus | |
JP5768714B2 (ja) | シリコンの製造方法 | |
US9422611B2 (en) | Al—Sc alloy manufacturing method | |
US11780734B2 (en) | Process for the production of commercial grade silicon | |
JP5290387B2 (ja) | 高純度カルシウムの製造方法 | |
JP4132526B2 (ja) | 粉末状チタンの製造方法 | |
JP6739803B2 (ja) | 純度が向上したシリコンの製造方法 | |
JP4295823B2 (ja) | マグネトロン容量結合型プラズマによる気化性金属化合物からの高純度金属の還元精製方法及びそのための装置 | |
JP2011121848A (ja) | 高純度シリコンの製造方法 | |
JP5217162B2 (ja) | 多結晶シリコンの製造方法 | |
JP5759037B2 (ja) | α線量が少ないインジウム又はインジウムを含有する合金 | |
JP3214836B2 (ja) | 高純度シリコン及び高純度チタンの製造法 | |
JP2008081387A (ja) | 高純度シリコンの製造方法 | |
JP2006274340A (ja) | Ti又はTi合金の製造方法 | |
JPS63140096A (ja) | 高純度金属リチウムの製造方法 | |
JP5829843B2 (ja) | 多結晶シリコンの製造方法及び多結晶シリコンの製造方法に用いられる還元・電解炉 | |
JP2010248042A (ja) | 高純度シリコンの製造方法 | |
JP2012162402A (ja) | フラックスの不純物除去方法 | |
JP2008290908A (ja) | 固体シリコンの製造方法 | |
JP2011230972A (ja) | シリコンの精製方法 | |
JP2008156208A (ja) | シリコンの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180404 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190820 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200519 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200603 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200630 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200716 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6739803 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |