JP5280057B2 - X線散乱用のx線回折機器 - Google Patents
X線散乱用のx線回折機器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5280057B2 JP5280057B2 JP2008009212A JP2008009212A JP5280057B2 JP 5280057 B2 JP5280057 B2 JP 5280057B2 JP 2008009212 A JP2008009212 A JP 2008009212A JP 2008009212 A JP2008009212 A JP 2008009212A JP 5280057 B2 JP5280057 B2 JP 5280057B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- chamber
- sample
- measurement position
- scattering chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000333 X-ray scattering Methods 0.000 title claims description 37
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 title claims description 18
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 14
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 claims 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 49
- 238000000235 small-angle X-ray scattering Methods 0.000 description 36
- 238000004736 wide-angle X-ray diffraction Methods 0.000 description 7
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000002050 diffraction method Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/20008—Constructional details of analysers, e.g. characterised by X-ray source, detector or optical system; Accessories therefor; Preparing specimens therefor
- G01N23/20025—Sample holders or supports therefor
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/201—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials by measuring small-angle scattering
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/207—Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
4 X線検出器
5 アーム
6 ゴニオメータ
7 取り付け手段
8 第1のサンプルホルダ
10 一次光学素子
12 X線散乱チャンバ
14 気密ハウジング
16 第2のサンプルホルダ
18 入口窓
20 出口窓
22、23 ビーム調整器
24 ビーム停止手段
Claims (12)
- 入射X線をサンプル測定位置まで誘導するX線源と、
前記サンプル測定位置からの出力X線を検出するX線検出器と、
前記X線源、検出器および前記サンプルのうち少なくとも一つの位置を調整するゴニオメータと、
取り外し可能なX線散乱チャンバと、
を有するX線回折器であって、
前記X線散乱チャンバは、前記X線源からの入射X線を受光するx線入力窓、および散乱X線を前記X線検出器の方に通すX線出力窓を有する気密ハウジングと、
前記x線入力窓とサンプル測定位置の間の少なくとも一つのビーム調整器、および
前記サンプル測定位置と前記X線出力窓の間の少なくとも一つのビーム停止手段と、
前記チャンバを取り外し可能に設置する取り付け手段と、
を有し、
前記少なくとも一つのビーム調整器および前記ビーム停止手段は、前記チャンバの前記気密ハウジング内に取り付けられ、前記チャンバを取り外し除去した際に、前記少なくとも一つのビーム調整器および前記ビーム停止手段は、前記サンプル測定位置に対して揃えられたままであることを特徴とするX線回折器。 - 複数の交換可能なサンプルホルダを有し、該サンプルホルダは、
前記X線散乱チャンバを取り外した場合、前記サンプル測定位置にサンプルを保持する第1のサンプルホルダと、
前記X線散乱チャンバを取り付けた場合、前記X線散乱チャンバ内の前記サンプル測定位置にサンプルを保持するため、前記X線散乱チャンバに取り付けられた、第2のサンプルホルダと、
を有することを特徴とする請求項1に記載のX線回折器。 - 前記検出器は、前記ゴニオメータに設置されることを特徴とする請求項1または2に記載のX線回折器。
- 前記入力窓と前記サンプル測定位置の間の、前記X線散乱チャンバ内のビーム調整器は、少なくとも一つのスリットを有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一つに記載のX線回折器。
- 前記X線散乱チャンバは、前記測定位置のサンプルにより、所定の角度以下の角度で散乱されたX線の経路を提供するように定形され、前記所定の角度は、10゜から140゜の範囲であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一つに記載のX線回折器。
- さらに、前記X線源と前記X線散乱チャンバの間に、一次ビーム光学素子を有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一つに記載のX線回折器。
- 前記一次ビーム光学素子は、X線ミラーおよび/または水晶単色光分光器を有することを特徴とする請求項6に記載のX線回折器。
- X線源と、X線検出器と、サンプル測定位置の周囲で、前記X線源および検出器のうち少なくとも一つの位置を調整するゴニオメータとを有するX線回折器に取り付けられるように適合された、X線散乱チャンバであって、
当該チャンバの除去および配置の再生が可能なマウントと、
前記X線源からのX線を受光するX線入力窓、および散乱出力X線を前記X線検出器の方に通すX線出力窓を有する気密ハウジングと、
前記X線入力窓と前記サンプル測定位置の間の、前記入力ビームを調整する少なくとも一つのビーム調整器、および前記サンプル測定位置と前記X線出力窓の間の、前記出力X線を調整する少なくとも一つのビーム停止手段と、
を有し、
前記少なくとも一つのビーム調整器および前記ビーム停止手段は、当該チャンバの前記気密ハウジング内に取り付けられ、当該チャンバを取り外し除去した際に、前記少なくとも一つのビーム調整器および前記ビーム停止手段は、前記サンプル測定位置に対して揃えられたままであることを特徴とするX線散乱チャンバ。 - 前記ビーム調整器は、前記ビーム停止手段と協働して、前記サンプル測定位置でサンプルにより散乱されなかったX線が、前記検出器に到達することを抑止するように適合され、測定が実施されることを特徴とする請求項8に記載のX線散乱チャンバ。
- 当該X線散乱チャンバは、前記測定位置のサンプルにより、所定の角度以下の角度で散乱されたX線の経路を提供するように定形され、前記所定の角度は、10゜から140゜の範囲であることを特徴とする請求項8または9に記載のX線散乱チャンバ。
- さらに、流入管の形態のサンプルホルダを有することを特徴とする請求項8に記載のX線散乱チャンバ。
- X線散乱チャンバを作動させる方法であって、
前記X線散乱チャンバは、
前記チャンバの除去および配置の再生が可能なマウントと、
X線源からのX線を受光するX線入力窓、および散乱出力X線をX線検出器の方に通すX線出力窓を有する気密ハウジングと、
前記X線入力窓とサンプル測定位置の間の、前記入力ビームを調整する少なくとも一つのビーム調整器、および前記サンプル測定位置と前記X線出力窓の間の、前記出力X線を調整する少なくとも一つのビーム停止手段と、
を有し、
前記少なくとも一つのビーム調整器および前記ビーム停止手段は、前記チャンバの前記気密ハウジング内に取り付けられ、前記チャンバを取り外し除去した際に、前記少なくとも一つのビーム調整器および前記ビーム停止手段は、前記サンプル測定位置に対して揃えられたままであり、
当該方法は、
X線回折機器に、前記X線散乱チャンバを取り外し可能に取り付けるステップと、
X線散乱カメラを用いて、サンプルの測定を実施するステップと、
前記X線回折機器から、前記X線散乱チャンバを取り外すステップと、
を有する方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP07100858.5A EP1947448B1 (en) | 2007-01-19 | 2007-01-19 | X-ray diffraction equipment for X-ray scattering |
EP07100858.5 | 2007-01-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008175820A JP2008175820A (ja) | 2008-07-31 |
JP5280057B2 true JP5280057B2 (ja) | 2013-09-04 |
Family
ID=38294123
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008009212A Active JP5280057B2 (ja) | 2007-01-19 | 2008-01-18 | X線散乱用のx線回折機器 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7542547B2 (ja) |
EP (1) | EP1947448B1 (ja) |
JP (1) | JP5280057B2 (ja) |
CN (1) | CN101256160B (ja) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2934372B1 (fr) * | 2008-07-22 | 2010-09-03 | Commissariat Energie Atomique | Procede d'obtention du facteur de structure d'un materiau amorphe, notamment d'un verre amorphe |
ES2378045B1 (es) * | 2009-04-13 | 2013-02-15 | Consejo Superior De Investigaciones Científicas (Csic) | Dispositivo para alojar una muestra en el interior de una cámara de dispersion o difracción de rayos x. |
KR101008349B1 (ko) * | 2009-05-20 | 2011-01-13 | 포항공과대학교 산학협력단 | 더블 멀티레이어 모노크로미터 |
US8204174B2 (en) | 2009-06-04 | 2012-06-19 | Nextray, Inc. | Systems and methods for detecting an image of an object by use of X-ray beams generated by multiple small area sources and by use of facing sides of adjacent monochromator crystals |
WO2010141735A2 (en) | 2009-06-04 | 2010-12-09 | Nextray, Inc. | Strain matching of crystals and horizontally-spaced monochromator and analyzer crystal arrays in diffraction enhanced imaging systems and related methods |
FR2955391B1 (fr) * | 2010-01-18 | 2012-03-16 | Xenocs | Systeme compact d'analyse par rayons-x |
KR101079170B1 (ko) | 2010-03-03 | 2011-11-02 | 남정대 | 고니오미터 연결형 커넥터 |
CN103597343B (zh) * | 2011-04-15 | 2016-04-27 | 美国科技工程公司 | 具有可变尺寸检测器阵列的反向散射系统 |
WO2013025737A1 (en) | 2011-08-17 | 2013-02-21 | Rigaku Innovative Technologies, Inc. | Sealed detector array for the collection of both wide angle and small angle x-ray scattering |
JP6202684B2 (ja) * | 2014-06-05 | 2017-09-27 | 株式会社リガク | X線回折装置 |
US10161887B2 (en) | 2015-01-20 | 2018-12-25 | United Technologies Corporation | Systems and methods for materials analysis |
EP3246695B1 (en) * | 2016-05-20 | 2020-12-16 | Xenocs SAS | X-ray scattering apparatus |
US10359376B2 (en) * | 2016-07-20 | 2019-07-23 | Malvern Panalytical B.V. | Sample holder for X-ray analysis |
EP3553508A3 (en) * | 2018-04-13 | 2019-12-04 | Malvern Panalytical B.V. | X-ray analysis apparatus and method |
CN109709119A (zh) * | 2018-12-29 | 2019-05-03 | 邢台学院 | 一种同步辐射用碳纤维石墨化x射线散射原位测量装置 |
DE102019208834B3 (de) * | 2019-06-18 | 2020-10-01 | Bruker Axs Gmbh | Vorrichtung zum Justieren und Wechseln von Strahlfängern |
CN110243848B (zh) * | 2019-06-20 | 2022-04-01 | 中国科学院上海高等研究院 | 一种x射线光束挡光器及其使用方法 |
CN110567997A (zh) * | 2019-10-11 | 2019-12-13 | 中国科学院上海应用物理研究所 | 一种用于散射实验站的真空腔体组件 |
AT523121B1 (de) * | 2019-10-21 | 2021-12-15 | Anton Paar Gmbh | Röntgenvorrichtung mit mehreren Strahlpfaden |
AT525137B1 (de) | 2021-05-27 | 2024-05-15 | Anton Paar Gmbh | Röntgenuntersuchungsvorrichtung |
CN117740753A (zh) * | 2023-12-05 | 2024-03-22 | 北京中研环科科技有限公司 | 拉曼衍射联用原位表征系统及检测方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4263510A (en) * | 1979-07-30 | 1981-04-21 | General Electric Company | Combined x-ray diffraction and fluorescence spectroscopy apparatus with environmentally controllable chamber |
JPH06186175A (ja) * | 1992-12-16 | 1994-07-08 | Jeol Ltd | 液体中の試料x線測定装置 |
JP3376073B2 (ja) * | 1994-02-15 | 2003-02-10 | 理学電機株式会社 | X線回折装置の試料回転治具及び試料保持装置 |
JP3584264B2 (ja) * | 1994-11-11 | 2004-11-04 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | X線回折試料極低温冷却装置 |
JP3519208B2 (ja) * | 1996-03-29 | 2004-04-12 | 理学電機株式会社 | 真空チャンバを備えたx線小角散乱装置 |
GB9702418D0 (en) * | 1997-02-06 | 1997-03-26 | Council Cent Lab Res Councils | Flow cell |
AU1129500A (en) | 1998-10-21 | 2000-05-08 | Glaxo Group Limited | Environmentally controllable sample holder for x-ray diffractometer (xrd) |
US6330301B1 (en) * | 1999-12-17 | 2001-12-11 | Osmic, Inc. | Optical scheme for high flux low-background two-dimensional small angle x-ray scattering |
JP2002031523A (ja) * | 2000-05-10 | 2002-01-31 | Rigaku Corp | 薄膜測定装置、薄膜測定方法、および薄膜形成システム |
JP2003215068A (ja) * | 2002-01-29 | 2003-07-30 | Sumitomo Chem Co Ltd | X線測定方法 |
US6968037B2 (en) * | 2002-04-10 | 2005-11-22 | Bristol-Myers Squibb Co. | High throughput X-ray diffraction filter sample holder |
CN2856997Y (zh) * | 2005-05-30 | 2007-01-10 | 北京有色金属研究总院 | 电子背散射衍射系统气动推进装置 |
-
2007
- 2007-01-19 EP EP07100858.5A patent/EP1947448B1/en active Active
-
2008
- 2008-01-15 US US12/014,437 patent/US7542547B2/en active Active
- 2008-01-17 CN CN2008100951618A patent/CN101256160B/zh active Active
- 2008-01-18 JP JP2008009212A patent/JP5280057B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1947448B1 (en) | 2013-07-03 |
CN101256160A (zh) | 2008-09-03 |
CN101256160B (zh) | 2011-07-27 |
US7542547B2 (en) | 2009-06-02 |
JP2008175820A (ja) | 2008-07-31 |
US20080175352A1 (en) | 2008-07-24 |
EP1947448A1 (en) | 2008-07-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5280057B2 (ja) | X線散乱用のx線回折機器 | |
US8548123B2 (en) | Method and apparatus for using an area X-ray detector as a point detector in an X-ray diffractometer | |
RU2397481C1 (ru) | Рентгеновский спектрометр | |
JP5116014B2 (ja) | 小角広角x線測定装置 | |
US11346794B2 (en) | Mounting system and sample holder for X-ray diffraction apparatus | |
US9601308B2 (en) | Spectroscopic element and charged particle beam device using the same | |
BR112020021461A2 (pt) | Analisador de fluorescência de raios x, e método para realizar análise de fluorescência de raios x | |
JP3519292B2 (ja) | 微小部x線回折測定方法及び微小部x線回折装置 | |
JP2000504422A (ja) | 2つのコリメータマスクを有するx線分析装置 | |
JP3583485B2 (ja) | 全反射蛍光x線分析装置 | |
US6310937B1 (en) | X-ray diffraction apparatus with an x-ray optical reference channel | |
JP5090134B2 (ja) | 紫外・可視・近赤外吸収スペクトル測定用試料ホルダー | |
WO2006095467A1 (ja) | X線回折分析方法およびx線回折分析装置 | |
WO2015163792A1 (ru) | Устройство для рентгенофлуоресцентного анализа материалов с формированием потока возбуждения плоским рентгеновским волноводом-резонатором | |
JP5684032B2 (ja) | 荷電粒子線分析装置および分析方法 | |
JP3521425B2 (ja) | X線分析装置 | |
Bjeoumikhov et al. | New developments and applications of X‐ray capillary optics | |
JP3197104B2 (ja) | X線解析装置 | |
RU2315981C1 (ru) | Устройство для рентгенофлуоресцентного анализа с полным внешним отражением первичного излучения | |
US20230273134A1 (en) | Transmission x-ray diffraction apparatus and related method | |
JPH1114566A (ja) | X線回折測定及び蛍光x線測定のためのx線装置 | |
JPH09257726A (ja) | X線分析装置および蛍光x線分析用アタッチメント | |
JP6862710B2 (ja) | X線回折装置 | |
JPH09119905A (ja) | X線小角散乱装置 | |
SU1226210A1 (ru) | Устройство дл исследовани совершенства структуры монокристаллических слоев |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20101208 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120727 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120731 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121024 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130423 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130522 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5280057 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |