JP3521425B2 - Ｘ線分析装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、試料中に含まれる
元素の種類、量、分布状態の分析に用いられるＸ線分析
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】Ｘ線分析装置は、試料に対して一次Ｘ線
を照射し、発生する蛍光Ｘ線や散乱Ｘ線等の二次Ｘ線を
Ｘ線検出器で検出し、この検出信号に基づいて試料の構
成元素や内部構造等を解析することができるものであ
り、例えば、蛍光Ｘ線分析装置やＸ線顕微鏡が知られて
いる。

【０００３】このＸ線分析装置を用いて元素分析を行う
方法として、試料が設置され一次Ｘ線が照射されるＸ線
照射領域を大気圧にした状態で測定する方法、当該Ｘ線
照射領域を測定室等で囲むことによって大気から遮断
し、測定室内において真空雰囲気状態あるいは一次Ｘ線
や二次Ｘ線の吸収が大気に比べて少ないガス（例えば、
ヘリウムガス）雰囲気状態で測定する方法がある。

【０００４】しかしながら、大気中で蛍光Ｘ線分析を行
う場合には、例えば、Ｎａ，Ｍｇ，Ａｌといった大気に
よる吸収の大きな軽元素は検出が困難であるという問題
がある。一方、真空中あるいはヘリウムガス中で蛍光Ｘ
線分析を行う場合には、試料の交換毎に測定室内の排気
やガス置換を行う必要があり、測定のための準備時間を
長く要し、トータルの分析時間が長くなるという問題が
ある。また、生体を生きたままで測定することができな
いという問題もある。

【０００５】上記のような問題を考慮したＸ線分析装置
として、開放型装置と薄膜型装置（例えば、特開平８−
１５１８７号）が知られている。開放型装置は、開放さ
れた開口部を測定室に設けて、この開口部をＸ線照射領
域として測定を行うものである。この開放型装置では、
開口部を開放する構成によって、大気状態での測定、あ
るいは測定室内から大気に向けてヘリウムガスを流出さ
せることによってＸ線行路の一部をヘリウムガス雰囲気
とした状態で測定し、試料交換を容易なものとしてい
る。

【０００６】また、薄膜型装置は、測定室に設けた開口
部にＸ線吸収率の低い薄膜を張設し、この薄膜によっ
て、Ｘ線源やＸ線検出器が設けられる第一空間と試料ス
テージが設けられる第二空間に区分し、第一空間を大気
状態、真空雰囲気状態、あるいはガス雰囲気状態として
測定するものであり、大気の吸収による影響を低減し、
試料交換を容易なものとし、Ｎａ，Ｍｇ，Ａｌといった
軽元素の検出を確実なものとしている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、開放型
装置は、一次Ｘ線や二次Ｘ線が通過するＸ線行路を真空
雰囲気状態にすることができず、大気状態での測定、あ
るいはヘリウムガス雰囲気状態での測定に止まる。その
ため、大気状態での測定ではＮａ，Ｍｇ，Ａｌといった
大気による吸収の大きい軽元素の検出ができないという
問題があり、ヘリウムガス雰囲気状態での測定では、大
気状態からヘリウムガス状態への移行に伴ってヘリウム
ガスと大気との混合比が変動するため、検出される蛍光
Ｘ線強度が大きく変動するという問題がある。

【０００８】薄膜型装置では、大気状態、真空雰囲気状
態、ヘリウムガス雰囲気状態の何れの状態とすることが
できるため、大気による吸収が大きな軽元素についても
測定することができるが、開口部に張設した薄膜による
一次Ｘ線や二次Ｘ線の吸収があるため、ＮａやＭｇ等の
元素による二次Ｘ線のＸ線強度が低下するという問題が
ある。さらに、大気状態で測定する場合には、検出器ま
での行路が短ければＳｉ，Ｐ，Ｓなどは測定可能である
が、薄膜によって吸収されるため、薄膜を備えない開放
型装置と比較してＸ線強度が低下するという問題があ
る。

【０００９】また、薄膜によるＸ線の吸収率の低下の問
題や薄膜から発生する蛍光Ｘ線による影響の問題は、薄
膜自体の組成の他、薄膜を生成する際に使用する触媒等
の不純物の組成によっても生じ、また、薄膜によってＸ
線が散乱するという問題もある。そのため、開口部に固
設された薄膜を構成要素する前記薄膜型装置では、大気
状態での測定において、薄膜を備えない開放型装置と比
較して分析性能が低下するということになる。さらに、
薄膜型装置では、薄膜部分は大気圧と真空との圧力差に
耐えるために、薄膜を固設する開口部の口径を小さくす
る必要がある。そのため、この開口部を通して目視ある
いは光学顕微鏡で観察する際、観察範囲が狭くなるとい
う問題もある。

【００１０】したがって、従来知られているＸ線分析装
置では、一台の装置では大気状態、真空雰囲気状態、及
びヘリウムガス雰囲気状態の測定ができないか、あるい
は、一台の装置で各状態を測定できたとしても、大気状
態及びヘリウムガス雰囲気状態におけるＸ線強度の低下
や変動や二次Ｘ線特性のノイズ分による分析性能の低
下、あるいは試料観察における狭い観察範囲等において
問題がある。

【００１１】そこで、本発明は前記した従来の問題点を
解決し、一台の装置で大気状態、真空雰囲気状態、及び
ヘリウムガス雰囲気状態の測定を良好に行うことができ
るＸ線分析装置を提供することを目的とし、さらに詳細
には、大気状態及びヘリウムガス雰囲気状態で測定する
場合においては、Ｘ線強度の低下や変動を低減し、薄膜
自体から発生する二次Ｘ線による影響を低減し、また、
試料観察においては、広い観察範囲を得ることができる
Ｘ線分析装置を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明は、測定室の開口
部を開放状態と薄膜で閉じた状態との両状態を選択可能
な構成とし、これら各状態を選択あるいは組み合わせる
ことによって、一台の装置によって大気状態の測定、真
空雰囲気状態の測定、ガス雰囲気状態の測定、あるいは
試料観察の各測定及び観察を良好に行うものである。

【００１３】本発明の蛍光Ｘ線分析装置は、測定部と可
動部とを備えた構成であり、測定部は、第一開口部を有
した測定室、第一開口部に向けて一次Ｘ線を照射するＸ
線源、二次Ｘ線を検出するＸ線検出器、及び測定室内を
吸排気する吸排気手段を備え、一方、可動部は、開放さ
れた第二開口部、薄膜を張設した第三開口部を有し、第
二開口部及び第三開口部を測定部の第一開口部に対して
個別に位置合わせすることができる。そして、この可動
部は、第二開口部あるいは第三開口部を測定部の第一開
口部に対して個別に位置合わせすることによって、大気
状態、真空雰囲気状態、あるいはガス雰囲気状態の各状
態で測定を行うことができる。

【００１４】大気状態の測定あるいは試料を観察する場
合には、第二開口部を測定部の第一開口部に位置合わせ
することによって測定室内を大気状態とし、一次Ｘ線及
び二次Ｘ線を大気状態で測定し、また、大気状態で目視
あるいは光学顕微鏡によって試料観察を行う。この大気
状態の測定によれば、薄膜によるＸ線強度の低下はノイ
ズ分等の影響を除くことができ、また、薄膜設置に伴う
開口部の小径化による観察範囲の制限を除くことができ
る。

【００１５】真空雰囲気状態の測定を行う場合には、第
三開口部を第一開口部に位置合わせすることによって測
定室内を外気と遮断し、吸排気手段によって測定室を排
気して真空雰囲気状態とし、一次Ｘ線及び二次Ｘ線を少
なくとも測定室内においては真空雰囲気状態で測定す
る。

【００１６】ガス雰囲気状態の測定を行う場合には、第
二開口部及び第三開口部を第一開口部に対して順に位置
合わせて行い、先ず、第三開口部を第一開口部に位置合
わせすることによって測定室内を外気と遮断し、吸排気
手段によって測定室を排気して真空雰囲気状態とした
後、別に設けたガス導入手段によって測定室内にガスを
導入してガス雰囲気状態とし、次に、第二開口部を第一
開口部に位置合わせすることによって測定室内と外気と
を通じさせ、第一開口部及び第二開口部を通して測定室
内からガスが流出する状態で測定する。このガス雰囲気
状態の測定によれば、測定室内をいったん真空雰囲気状
態とすることで大気成分を排除しガス成分のみとするた
め、従来のように大気状態からガス雰囲気状態に移行す
る際に生じる、ガスと大気との混合比の変動による検出
Ｘ線強度の変動を除くことができる。

【００１７】また、本発明のＸ線分析装置の可動部は、
第二開口部及び第三開口部に加えて、測定室の第一開口
部に対して位置合わせすることができるＸ線遮蔽部を備
える。このＸ線遮蔽部を測定室の第一開口部に位置合わ
せすることによって、非測定時において、Ｘ線源が照射
する一次Ｘ線が測定室外に漏洩することを防止すること
ができる。また、これによって、非測定時における一次
Ｘ線の漏洩を防止するためにＸ線源を停止する必要がな
く、Ｘ線源の駆動・停止の繰り返しによる一次Ｘ線の強
度変化を防止し、安定した一次Ｘ線の強度を得ることが
できる。

【００１８】

【発明の実施の形態】 以下、本発明の実施の形態を、
図を参照しながら詳細に説明する。図１は本発明のＸ線
分析装置の概要を説明するための概略図である。Ｘ線分
析装置１は、試料ステージ４上に配置された試料Ｓに一
次Ｘ線を照射し、試料Ｓから放出された蛍光Ｘ線等の二
次Ｘ線を測定する測定部２、及び測定部２に対して開口
部や薄膜を選択的な位置合わせを行う可動部３を備え
る。

【００１９】測定部２は、試料ＳのＸ線分析を行う測定
機構として、一次Ｘ線を照射するＸ線源２ｃ、Ｘ線源２
ｃと試料Ｓの照射位置との間に設置するＸ線導入機構２
ｄ、一次Ｘ線の照射によって試料Ｓから発生した蛍光Ｘ
線等の二次Ｘ線を検出するＸ線検出器２ｅ、及び試料Ｓ
を光学的に観察するためのＣＣＤカメラ２ｆ等の光学機
器などを備える。なお、Ｘ線導入機構２ｄとして、一次
Ｘ線の照射径を制限するコリメータ、Ｘ線を集光するＸ
線導管あるいはポリキャピラとすることができる。

【００２０】 上記測定機構は、測定室２ａに取り付け
られる。測定室２ａは、外部へのＸ線漏洩を遮蔽し内部
を真空としたとき大気圧に耐える壁を備え、該壁の試料
Ｓへの照射位置には一次Ｘ線及び二次Ｘ線を通過させる
ための第一開口部２ｂが形成される。また、測定室２ａ
は、測定室２ａ内を排気して真空雰囲気状態とするため
の真空排気機構２ｈ及び測定室２ａ内を大気でパージす
るための大気パージ機構２ｉによって測定室２ａ内を吸
排気するための吸排気手段２ｇ、測定室２ａ内にヘリウ
ムガス等のガスを導入するためのガス導入手段２ｊを備
える。

【００２１】可動部３は、開放された第二開口部３ａ及
び薄膜３ｃを張設した第三開口部３ｂと、この第二開口
部３ａ及び第三開口部３ｂを駆動する駆動手段３ｄとを
備え、駆動手段３ｄによって第二開口部３ａ及び第三開
口部３ｂを移動させることによって、第二開口部３ａあ
るいは第三開口部３ｂを前記第一開口部２ｂに対して個
別に位置合わせする。なお、駆動手段３ｄは、図示しな
い制御手段によって移動制御を行うことができ、直線移
動あるいは回転移動のいずれの移動形態とすることもで
きる。

【００２２】第二開口部３ａは開放されて形成されてお
り、測定室２ａ側の第一開口部２ｂと位置合わせするこ
とによって、両開口部を通して一次Ｘ線及び二次Ｘ線を
通過させることができる。また、第三開口部３ｂには薄
膜３ｃが張設される。薄膜３ｃは、一次Ｘ線や二次Ｘ線
などのＸ線の吸収率が低く、膜自体の組成によって蛍光
Ｘ線を発生しないと共に、大気圧程度の圧力に耐える強
度を備える素材が望ましい。このような素材の薄膜とし
て、例えばポリエステル樹脂膜が知られており、数μｍ
程度の厚みとすることができる。

【００２３】また、測定室２ａの第一開口部２ｂの周辺
には当該第一開口部２ｂを囲むようにＯリング２ｋが設
けられ、少なくとも第三開口部３ｂａと位置合わせした
場合には、第三開口部３ｂに張設した薄膜３ｃ及びＯリ
ング２ｋによって第一開口部２ｂを閉じ、測定室２ａ内
を密閉状態に保持する。なお、Ｏリングは、可動部３側
において少なくとも第三開口部３ｂａを囲むように設け
る構成とすることもできる。

【００２４】試料ステージ４は可動部３の下方に設けら
れ、試料Ｓを第一開口部２ｂに面した位置に配置する。
また、試料ステージ４はステージ面を移動可能な構成と
し、ステージ面上に支持した試料Ｓを位置することによ
って、一次Ｘ線の照射位置を調節することができる。上
記構成により、本発明のＸ線分析装置１は、可動部３を
駆動することによって、測定室２ａを開放した状態ある
いは閉じた状態に切り換えることができ、大気状態の測
定、真空雰囲気状態の測定、あるいはガス雰囲気状態の
測定を一台の装置で行うことができる。

【００２５】次に、図２を用いて、大気状態の測定、真
空雰囲気状態の測定、ガス雰囲気状態の測定の各測定動
作について説明する。はじめに、大気状態の測定につい
て図２（ａ）を用いて説明する。大気状態で測定する場
合には、大気パージ機構２ｉによって、測定室２ａの内
部に大気を導入し、可動部３の駆動手段３ｄを駆動して
第二開口部３ａを測定室２ａ側の第一開口部２ｂに位置
合わせする。第二開口部３ａを第一開口部２ｂに位置合
わせすることによって、測定室２ａの内部は第一開口部
２ｂ及び第二開口部３ａを通して大気と連通状態とな
る。

【００２６】この大気状態によれば、ＣＣＤカメラ２ｆ
や目視等の光学観察系によって、試料Ｓの表面を光学的
に観察することができる。可動部３側が備える開放され
た第二開口部３ａの口径は、薄膜３ｃを張設するために
小径とする必要がないため、光学的な観察に十分大きな
ものとすることができ、少なくとも第一開口部２ｂと同
等程度の口径とすることができる。

【００２７】 また、この大気状態において、Ｘ線源２
ｃで発生した一次Ｘ線は、Ｘ線導入機構２ｄを通り、第
一開口部２ｂ及び第二開口部３ａを通過して試料Ｓに照
射される。このとき、第二開口部３ａには薄膜３ｃが張
設されていないため、一次Ｘ線は薄膜吸収によってＸ線
強度が低減されることなく試料Ｓに照射される。また、
試料Ｓから発生した蛍光Ｘ線等の二次Ｘ線も、薄膜吸収
による一次Ｘ線のＸ線強度の低減を受けることなくＸ線
検出器２ｅで検出することができる。

【００２８】次に、真空雰囲気状態の測定について図２
（ｂ）を用いて説明する。真空雰囲気状態で測定する場
合には、可動部３の駆動手段３ｄを駆動し、薄膜３ｃが
張設された第三開口部３ｂを測定室２ａ側の第一開口部
２ｂに位置合わせする。これによって、測定室２ａの第
一開口部２ｂは、薄膜３ｃ及びＯリング２によって、大
気側と遮断され密閉状態に保持される。測定室２ａを密
閉状態とした後、真空排気機構２ｈによって測定室２ａ
の内部を真空引きする。これによって、測定室２ａ内は
真空雰囲気状態となる。

【００２９】この真空雰囲気状態において、Ｘ線源２ｃ
で発生した一次Ｘ線は、Ｘ線導入機構２ｄを通り、第一
開口部２ｂ及び薄膜３ｃを通過して試料Ｓに照射され
る。このとき、Ｘ線源２ｃから第一開口部２ｂまでは真
空状態であるため、一次Ｘ線のＸ線強度の低減は、第一
開口部２ｂと薄膜３ｃとの間の大気部分、薄膜３ｃ、及
び薄膜３ｃと試料Ｓとの間の大気部分となり、測定室２
ａ内を通過する経路上でのＸ線強度の低減を防ぐことが
できる。

【００３０】また、試料Ｓから発生した蛍光Ｘ線等の二
次Ｘ線は、薄膜３ｃ及び第一開口部２ｂを通過してＸ線
検出器２ｅで測定される。このとき、第一開口部２ｂか
らＸ線検出器２ｅまで真空状態であるため、二次Ｘ線の
Ｘ線強度の低減は、試料Ｓと薄膜３ｃとの間の大気部
分、薄膜３ｃ、及び薄膜３ｃと第一開口部２ｂとの間の
大気部分となり、測定室２ａ内を通過する経路上での二
次Ｘ線のＸ線強度の低減を防ぐことができる。

【００３１】次に、ガス雰囲気状態の測定について図２
（ｂ），（ｃ）を用いて説明する。図２（ｂ）におい
て、ガス雰囲気状態で測定する場合には、可動部３の駆
動手段３ｄを駆動し、薄膜３ｃが張設された第三開口部
３ｂを測定室２ａ側の第一開口部２ｂに位置合わせする
ことによって、測定室２ａの第一開口部２ｂを、薄膜３
ｃ及びＯリング２によって大気側と遮断し、密閉状態に
保持する。測定室２ａを密閉状態とした後、真空排気機
構２ｈによって測定室２ａの内部を真空引きして、測定
室２ａ内を真空雰囲気状態とする。これによって、測定
室２ａ内から大気の組成成分を除去することができる。

【００３２】次に、図２（ｃ）において、測定室２ａ内
を真空雰囲気状態とした後、真空排気機構２ｈを停止
し、ガス導入手段２ｊからヘリウムガス等のガスを測定
室２ａ内に導入する。測定室２ａ内のガス圧が少なくと
も大気圧に達した後、可動部３の駆動手段３ｄを駆動
し、開放された第二開口部３ａを測定室２ａ側の第一開
口部２ｂに位置合わせする。第二開口部３ａは開放され
ており、測定室２ａ内のガス圧は少なくとも大気圧であ
るため、ガス導入手段２ｊから測定室２ａ内に導入され
たガスは、第一開口部２ｂ及び第二開口部３ａを通過し
て測定室２ａ外に流出する。これによって、測定室２ａ
内、第一開口部２ｂ及び第二開口部３ａ付近、及び試料
Ｓの付近のＸ線行路上をガス雰囲気状態とすることがで
きる。

【００３３】測定室２ａ内を真空雰囲気状態とした後に
ガス雰囲気状態とし、Ｘ線行路が通る開口部分に常にガ
スを流すことによって、Ｘ線行路におけるガスと大気と
の混合比は、常に安定に維持することができる。このガ
ス雰囲気状態において、Ｘ線源２ｃで発生した一次Ｘ線
は、Ｘ線導入機構２ｄを通り、第一開口部２ｂ及び第二
開口部３ａを通過して試料Ｓに照射される。また、試料
Ｓから発生した蛍光Ｘ線等の二次Ｘ線は、第二開口部３
ａ及び第一開口部２ｂを通過してＸ線検出器２ｅで測定
される。このとき、Ｘ線源２ｃから試料Ｓまで、及び試
料ＳからＸ線検出器２ｅまではガス雰囲気状態であり、
このガス雰囲気状態は、ガスと大気との混合比が常に安
定しているであるため、Ｎａ、Ｍｇ，Ａｌ等の大気によ
る吸収が大きな軽元素の蛍光Ｘ線のＸ線強度を安定にか
つ感度よく測定することができる。

【００３４】 次に、本発明のＸ線分析装置が備える可
動部の他の構成について図３を用いて説明する。可動部
３は、前記した開放された第二開口部３ａ、薄膜３ｃが
張設された第三開口部３ｂに加えて、Ｘ線遮蔽部３ｅを
第一開口部２ｂに対して位置合わせ可能に備える。な
お、図３に示す構成は、Ｘ線遮蔽部３ｅ以外は前記図１
に示す構成と共通しているため、ここではＸ線遮蔽部３
ｅについてのみ説明する。Ｘ線遮蔽部３ｅは、第二開口
部３ａ及び薄膜３ｃが張設された第三開口部３ｂと同様
に、駆動手段３ｄによって移動可能であり、選択的に測
定室２ａ側の位置合わせすることができる。

【００３５】Ｘ線遮蔽部３ｅを第一開口部２ｂに位置合
わせすることによって、測定室２ａは外部とＸ線遮蔽さ
れた状態となり、Ｘ線源２ｃから放出された一次Ｘ線の
測定室２ａ外部への漏洩を防止することができる。Ｘ線
遮蔽部３ｅによって第一開口部２ｂを閉じることによ
り、試料Ｓの交換等の測定時以外においてＸ線の漏洩を
防ぐことができる。また、Ｘ線源２ｃの駆動、停止を繰
り返すことによってＸ線漏洩を防止する場合には、発生
する一次Ｘ線のＸ線強度が経時変化し、測定値が不安定
となるおそれがあるが、本発明のＸ線遮蔽部３ｅを備え
る可動部によれば、Ｘ線源を駆動した状態を維持するこ
とができるため、一次Ｘ線のＸ線強度を安定化すること
ができる。

【００３６】なお、Ｘ線遮蔽部３ｅは可動部３において
第二開口部３ａや第三開口部３ｂを支持する支持部材に
Ｘ線遮蔽材を貼り付ける構成、前記支持部材自体をＸ線
遮蔽材で形成する構成、あるいは、第四開口部（図示し
ていない）を設けて該開口部にＸ線遮蔽材をはめ込む構
成とすることができる。

【００３７】前記構成例では、Ｏリングは測定室２ａ側
に設けているが、可動部３側に設ける構成とすることも
できる。図４はＯリングの設置を説明するための図であ
る。

【００３８】図４（ａ）は、第二開口部３ａと薄膜３を
張設した第三開口部３ｂを備える可動部３の例であり、
Ｏリング２ｋは第三開口部３ｂを囲むように配置され
る。これによって、第三開口部３ｂを第一開口部２ｂに
対向する位置に位置合わせした場合には、測定室２ａは
Ｏリング２ｋ及び薄膜３ｃとによって密閉状態となる。

【００３９】図４（ｂ）は、第二開口部３ａと薄膜３ｃ
を張設した第三開口部３ｂとＸ線遮蔽部３ｅを備える可
動部３の例であり、Ｏリング２ｋは第三開口部３ｂ及び
Ｘ線遮蔽部３ｅを囲むように配置される。これによっ
て、第三開口部３ｂあるいはＸ線遮蔽部３ｅを第一開口
部２ｂに対向する位置に位置合わせした場合には、測定
室２ａはＯリング２ｋ、薄膜３ｃ及びＸ線遮蔽部３ｅに
よって密閉状態となる。

【００４０】本発明の可動部が備える第三開口部は一個
に限らず複数個とすることができ、各第三開口部に組成
の異なる薄膜を張設することによって吸収される元素種
を変える構成とすることができ、分析する試料の応じて
変更することができる。また、本発明のＸ線分析装置
は、蛍光Ｘ線分析装置やＸ線顕微鏡等の試料に一次Ｘ線
を照射することで分析を行う分析装置に適用することが
できる。

【００４１】本発明のＸ線分析装置によれば、従来の開
放型装置のようにＳｉ，Ｐ，Ｓなどの大気状態で測定可
能な元素までを、薄膜の吸収がない最大感度で測定する
ことができ、また、真空雰囲気状態の測定の場合には、
薄膜型装置と同じように、測定室内を真空状態あるいは
ガス雰囲気状態とすることができるため、一台の装置で
両方の測定を行うことができる。

【００４２】また、本発明のＸ線分析装置によれば、Ｘ
線行路をほとんどガス雰囲気状態とし、当該ガスと大気
との混合比の変動を少なくすることができ、また、薄膜
の吸収が無いため、Ｎａ，Ｍｇ，Ａｌなど大気による吸
収の大きい軽元素の蛍光Ｘ線のＸ線強度を安定かつ感度
よく検出することができる。

【００４３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の蛍光Ｘ線
分析装置によれば、一台の装置で大気状態、真空雰囲気
状態、及びヘリウムガス雰囲気状態の測定を良好に行う
ことができる。さらに、大気状態及びヘリウムガス雰囲
気状態で測定する場合においては、Ｘ線強度の低下や変
動を低減し、薄膜自体から発生する二次Ｘ線による影響
を低減することができ、また、試料観察においては、広
い観察範囲を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の蛍光Ｘ線分析装置の概要を説明するた
めの概略図である。

【図２】本発明の蛍光Ｘ線分析装置によって、大気状態
の測定、真空雰囲気状態の測定、ガス雰囲気状態の測定
の各測定動作を説明するための図である。

【図３】本発明のＸ線分析装置が備える可動部の他の構
成を説明するための図である。

【図４】本発明のＸ線分析装置において、Ｏリングの設
置を説明するための図である。

【符号の説明】

１…Ｘ線分析装置、２…測定部、２ａ…測定室、２ｂ…
第一開口部、２ｃ…Ｘ線源、２ｄ…Ｘ線導入機構、２ｅ
…Ｘ線検出器、２ｆ…ＣＣＤカメラ、２ｇ…給排気手
段、２ｈ…真空排気機構、２ｉ…大気パージ機構、２ｊ
…ガス導入手段、２ｋ…Ｏリング、３…可動部、３ａ…
第二開口部、３ｂ…第三開口部３ａ、３ｃ…薄膜、３ｄ
…駆動手段。

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 第一開口部を有した測定室、当該第一開
   口部に向けて一次Ｘ線を照射するＸ線源、二次Ｘ線を検
   出するＸ線検出器、前記測定室内を吸排気する吸排気手
   段、及びガス導入手段を備える測定部と、 開放された第二開口部、薄膜を張設した第三開口部を有
   し、前記第二開口部及び前記第三開口部を前記第一開口
   部に対して個別に位置合わせする可動部とを備え、 前記可動部は、 第二開口部を第一開口部に位置合わせすることによる大
   気状態の測定、試料観察、 第三開口部を第一開口部に位置合わせすることによる真
   空雰囲気状態の測定、 第三開口部を第一開口部に位置合わせして、前記吸排気
   手段による真空雰囲気状態、前記ガス導入手段による当
   該真空雰囲気状態からガス雰囲気状態への切り換え、及
   びその後の第二開口部を第一開口部に位置合わせするこ
   とによる第一開口部でのガス雰囲気状態の測定、 の各測定及び観察を前記開口部に対する位置合わせによ
   り切り換え自在とすることを特徴とするＸ線分析装置。
2. 【請求項２】 前記可動部は、Ｘ線遮蔽部を前記第一開
   口部に対して位置合わせ可能に有することを特徴とする
   請求項１記載のＸ線分析装置。