JP3519292B2 - 微小部x線回折測定方法及び微小部x線回折装置 - Google Patents
微小部x線回折測定方法及び微小部x線回折装置Info
- Publication number
- JP3519292B2 JP3519292B2 JP32353898A JP32353898A JP3519292B2 JP 3519292 B2 JP3519292 B2 JP 3519292B2 JP 32353898 A JP32353898 A JP 32353898A JP 32353898 A JP32353898 A JP 32353898A JP 3519292 B2 JP3519292 B2 JP 3519292B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- sample
- dimensional
- ray detector
- rays
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/20008—Constructional details of analysers, e.g. characterised by X-ray source, detector or optical system; Accessories therefor; Preparing specimens therefor
- G01N23/20025—Sample holders or supports therefor
Description
線を照射して該微小部に発生する回折X線を検出する微
小部X線回折測定方法及びその装置に関する。
る試料すなわち多結晶試料にビーム径の大きいX線を照
射する場合を考えると、その場合にはX線照射領域すな
わち照射野の中に多数の結晶粒が存在することになるの
で、回折条件を満足する結晶粒の数も多くなり、さらに
所定位置に配置したX線検出器へ回折X線を向わせるこ
とのできる結晶粒も多数存在することになる。よってそ
の場合には、一定位置に置いたX線検出器によって回折
X線を検出できる。
結晶試料の微小領域例えば100μm以下の領域等(こ
れ以降、これらの領域を試料の微小部という)について
の回折X線情報を知りたいということがある。このよう
な場合には、X線照射野が狭くなり、その中に含まれる
結晶粒の数が少なくなるので、いずれかの結晶粒でX線
の回折が生じる場合でも、一定の位置に配置したX線検
出器ではその回折X線を検出できないという事態が大き
な頻度で発生する。
る場合もあり、この場合は正に単結晶状態であり、回折
X線は特定の回折角度だけで発生する。単結晶状態の場
合も含めてX線照射野中に存在する結晶粒が少ない場合
には、試料を揺動しないと回折X線が形成するデバイ環
を観測できない。
するX線回折測定を可能とするX線回折装置であって、
具体的には、X線の照射点で交差する少なくとも2つの
軸線(通常は、χ軸線及びφ軸線と呼ぶことが多い)を
中心としてそれぞれ独自に回転する回転系を設け、それ
らの回転系によって試料を支持し、試料の微小部にX線
を照射する間、それらの回転系によって試料を直交2軸
線のまわりに独自に回転させる。
結晶粒の結晶格子面の方向分布を無秩序化でき、その結
果、試料のX線照射領域中に少数の結晶粒しか存在しな
い場合でも、それらの結晶粒で回折するX線を一定位置
に配置したX線検出器によって漏れなく検出できるよう
にする。
示すように構成できる。この図では、X線Rの光軸X0
に一致させてχ(カイ)軸線をとり、そのχ軸線上にχ
回転装置51を配置する。このχ回転装置51はχ軸線
を中心としてχアーム52を回転駆動する。χアーム5
2はω回転装置53を支持し、そのω回転装置53はω
軸線を中心としてωアーム54を回転駆動する。ω軸線
はχ軸線すなわちX線光軸X0に直交する軸線である。
そのφ回転装置56はφ軸線を中心として試料Sを回転
駆動すなわち面内回転駆動する。φ軸線は、X線光軸X
0を含むと共にω軸線に直交する面に含まれ、さらにω
軸線とχ軸線の交点を通る軸線である。試料Sは、χ軸
線、ω軸線及びφ軸線の各軸線の交点に配置されること
により、X線Rの照射位置に配置される。
は、X線検出器としての湾曲PSPC(Position Sensi
tive Proportional Counter:位置敏感型比例計数管)
57が配置される。このPSPC57は、PC(比例計
数管)の芯線の両端に生じるパルスの時間差を検出する
ことにより、PCの芯線方向すなわち直線方向に位置分
解能を持たせたものである。図3の場合は、ω軸線と直
交する面内で直線方向の位置分解能を持たせてあり、こ
れにより、その直線方向に沿った異なる回折角度のX線
を同時に検出できる。
軸線及びφ軸線のそれぞれを中心として独立して回転さ
せることにより、X線Rの照射点に試料Sの任意の微小
部分を持ち運ぶことができ、これにより、試料Sからの
回折X線を漏れなくPSPC57によって検出できる。
Sへ入射するX線の入射角度を調節するために行われる
ものであり、その入射角度が所定値、例えば20°〜3
0°程度に設定された後は、そのω軸線まわりの試料S
の位置は固定される。
X0に一致するように設定し、さらにχ軸回転系の上に
ω軸回転系を載せる構造とした。しかしながら従来の微
小部X線回折装置はそのような構造に限られず、図4に
示すように、ω軸回転系の上にχ軸回転系を載せること
により、χ軸線が必ずしもX線光軸X0に一致しない構
造とすることもできる。
装置は上記のような構造であったため、測定に当たって
少なくともφ軸回転系及びχ軸回転系の2つの回転系が
必要となり、それ故、構造が複雑であった。
されない場合、すなわち交差誤差が生じる場合には、試
料Sに対するX線の照射野が広がって微小部測定の意味
がなくなるので、それら2軸線の位置関係は厳格に調整
されなければならず、その調整が非常に難しかった。
るため、試料Sからの回折X線を検出するために、どう
してもχ軸線を中心として試料Sを回転させなければな
らず、それ故、測定時間が長くかかっていた。
ものであって、微小部X線回折測定において従来行われ
ていた2軸回転のうちの1軸分を省略することにより、
2軸線の交差誤差に起因する測定精度の低下を回避し、
装置の構造を簡単にし、さらに測定時間を短縮すること
を目的とする。
成するため、本発明に係る微小部X線回折測定方法は、
試料の微小部にX線を照射して該微小部に発生する回折
X線を検出する微小部X線回折測定方法において、試料
の回りに円筒状の2次元X線検出器を配置し、前記試料
から試料面接線方向に沿って出る回折X線及び試料面垂
直方向に沿って出る回折X線の両方が前記2次元X線検
出器によって同時に検知できるように、前記試料の試料
面を前記2次元X線検出器に対して傾斜させることを特
徴とする。
Counter:比例計数管)、SC(Scintillation Counte
r:シンチレーション計数管)等のようにX線を点状に
取り込む構造の、いわゆる0次元X線検出器や、PSP
CのようにX線を直線状に取り込む構造の、いわゆる1
次元X線検出器等がある。上記構成における2次元X線
検出器とは、それらの0次元X線検出器や1次元X線検
出器と異なって、平面内の任意の点においてX線を検出
できるX線検出器のことである。このような2次元X線
検出器としては、例えば、X線フィルム、輝尽性蛍光体
等が考えられる。
ば、X線検出器として2次元X線検出器を用い、さらに
上記の特定条件下で試料面を傾斜させるようにしたの
で、従来の微小部X線回折測定方法におけるχ軸回転を
行うことなく、試料を面内回転すなわちφ軸回転させる
だけで試料の微小部からの回折X線を漏れなく検出でき
る。
χ軸線及びφ軸線の2軸線の回りに回転させなければな
らず、それら2軸線の交差誤差に起因して試料における
X線の照射野の広がりが大きくなってしまうことが多
く、微小部領域をX線によって精度高く照射することに
関して不十分であった。これに対し、χ軸線が不要であ
る本発明によれば、X線の照射野の広がりによる測定精
度の低下を回避できる。
できるので、装置の構造を簡単にできる。さらに、2次
元X線検出器を用いるので、0次元X線検出器及び1次
元X線検出器を用いる場合に比べて測定時間を短縮する
ことができる。
法において、前記2次元X線検出器は輝尽性蛍光体であ
ることが望ましい。この輝尽性蛍光体はエネルギ蓄積型
の放射線検出器であり、輝尽性蛍光物質、例えばBaF
Br:Er2+ の微結晶を可撓性フィルム、平板状フィ
ルム、その他の部材の表面に塗布等によって成膜したも
のである。この輝尽性蛍光体は、X線等をエネルギの形
で蓄積することができ、さらにレーザ光等といった輝尽
励起光の照射によりそのエネルギを外部に光として放出
できる性質を有する物体である。
と、その照射された部分に対応する輝尽性蛍光体の内部
にエネルギが潜像として蓄積され、さらにその輝尽性蛍
光体にレーザ光等といった輝尽励起光を照射すると上記
潜像エネルギが光となって外部へ放出される。この放出
された光を光電管等によって検出することにより、潜像
の形成に寄与したX線の回折角度及び強度を測定でき
る。この輝尽性蛍光体は従来のX線フィルムに対して1
0〜60倍の感度を有し、さらに105 〜106に及ぶ
広いダイナミックレンジを有する。
法において、前記試料の試料面は、前記2次元X線検出
器の中心軸線に対して略45°傾斜することが望まし
い。こうすれば、試料から試料面接線方向に沿って出る
回折X線及び試料面垂直方向に沿って出る回折X線の両
方を2次元X線検出器によって確実に検知できるように
なる。
する現象として、回折X線の発生及び蛍光X線の発生が
ある。回折X線は、試料の結晶格子面で反射したX線の
うち特定条件、いわゆるブラッグの回折条件を満たすも
のが増大し、それ以外のものは互いにうち消し合って観
測されなくなることによって発生するX線である。この
回折X線は、結晶等といった原子の配列構造に関連して
発生するものである。
の殻電子順位を持っている。このような物質にX線、γ
線、電子線等といった放射線を照射すると、その物質か
ら原子特有の性質を持つX線、通常は特性X線が発生す
る。このX線が、通常、蛍光X線と呼ばれるものであ
る。この蛍光X線は、試料の結晶構造とは関係なくその
試料の内部に存在する原子の種類及び量に関連して発生
するものである。
は、X線検出器として円筒形状の2次元X線検出器を用
いるので、その2次元X線検出器の端部に開放部を形成
することができ、その開放部に半導体X線検出器を配設
することにより、X線回折測定と同時に蛍光X線測定を
行うことができる。これにより、試料の結晶構造の分析
に加えて、試料に含まれる原子に関する分析を行うこと
ができる。
る開放部に半導体X線検出器を配設することにすれば、
半導体X線検出器のX線取り込み部を試料の直近位置で
あって、しかも試料面法線に対して低角度位置に配置で
きるので、大きな発散角の範囲で蛍光X線を取り込むこ
とができる。また、試料内部でのX線の経路も短くなる
ので、吸収の影響も減り、効率良く蛍光X線分析を行う
ことができる。
いわゆるSSD(Solid-State Detector)によって構成
できる。電離箱、PC(Proportional Counter)等とい
ったX線検出器は放射線による気体のイオン化作用(す
なわち、電離作用)を利用するものであるのに対し、S
SDは固体(すなわち、半導体)のイオン化作用を利用
するものである。
線が入射すると、イオン対(すなわち、電子と正孔)が
作られる。イオン対の数は入射X線光量子のエネルギに
比例する。これらの電子と正孔は、電圧が与えられた両
極に分離して、パルス電流となる。このパルス電流は入
射X線のエネルギ量に対応したパルス波高を有し、よっ
て、このパルス電流により入射X線のエネルギ量、すな
わちX線の波長を測定することができる。
器の出力端子にエネルギ分布測定器、例えばMCA(Mu
lti-Channel Pulse Height Analyzer:多重波高分析
器)を接続する。通常知られている単一波高分析器(Si
ngle Channel Pulse Height Analyzer)では、入力パル
スの波高が所定幅のウインドウ内に入るか否かによって
信号を分析する。上記のMCAは、そのような単一波高
分析器を異なるウインド幅で多重に配列したものであ
り、入力したX線をエネルギ量ごとに、すなわち波長ご
とに分類するものである。
折装置は、試料の微小部にX線を照射して該微小部に発
生する回折X線を検出する微小部X線回折装置におい
て、試料のまわりに円筒状に配置される2次元X線検出
器と、試料を面内回転させるφ回転手段と、前記試料の
試料面を前記2次元X線検出器に対して傾斜移動させる
傾斜移動手段と、前記試料に対するX線入射角度を変化
させるためにその試料を回転させるω回転手段とを有す
ることを特徴とする。
出器として2次元X線検出器を用い、さらに上記の特定
条件下で試料面を傾斜させるようにしたので、従来の微
小部X線回折装置におけるχ軸回転を行うことなく、試
料を面内回転すなわちφ軸回転させるだけで試料の微小
部からの回折X線を漏れなく検出できる。
χ軸線及びφ軸線の2軸線の回りに回転させなければな
らず、それら2軸線の交差誤差に起因して試料における
X線の照射野の広がりが大きくなってしまうことが多
く、微小部領域をX線によって精度高く照射することに
関して不十分であった。これに対し、χ軸線が不要であ
る本発明によれば、X線の照射野の広がりによる測定精
度の低下を回避できる。
できるので、装置の構造を簡単にできる。さらに、2次
元X線検出器を用いるので、0次元X線検出器及び1次
元X線検出器を用いる場合に比べて測定時間を短縮する
ことができる。
て、前記2次元X線検出器は輝尽性蛍光体によって形成
することが望ましい。
おいて、前記傾斜移動手段は、前記試料の試料面を前記
輝尽性蛍光体の中心軸線に対して略45°傾斜させるこ
とが望ましい。こうすれば、試料から試料面接線方向に
沿って出る回折X線及び試料面垂直方向に沿って出る回
折X線の両方を2次元X線検出器によって確実に検知で
きるようになる。
装置に関しては、前記円筒状の2次元X線検出器は円筒
の端部に開放部を設け、蛍光X線を取り込んでその蛍光
X線のエネルギ量に対応した信号を出力する半導体X線
検出器を前記2次元X線検出器の開放部に設け、さら
に、その半導体X線検出器の出力信号を入力して前記蛍
光X線のエネルギ分布を求めるエネルギ分布測定器を設
けることができる。
半導体X線検出器を用いて蛍光X線測定を行うことがで
きる。これにより、試料の結晶構造の分析に加えて、試
料に含まれる原子に関する分析を行うことができる。
る開放部に半導体X線検出器を配設することにすれば、
半導体X線検出器のX線取り込み部を試料の直近位置で
あって、しかも試料面法線に対して低角度位置に配置で
きるので、大きな発散角の範囲で蛍光X線を取り込むこ
とができる。また、試料内部でのX線の経路も短くなる
ので、吸収の影響も減り、効率良く蛍光X線分析を行う
ことができる。
に係る微小部X線回折装置の一実施形態を示している。
この微小部X線回折装置は、X線を放射するX線源すな
わちX線焦点Fと、X線焦点Fから放射されるX線を単
色化するモノクロメータ3と、モノクロメータ3で単色
化されたX線を微小断面径の平行X線ビームとして取り
出すコリメータ4と、試料Sを支持する試料支持装置1
と、そして、試料Sのまわりに円筒状に配置された2次
元X線検出器としての輝尽性蛍光体2とを有する。
してあるが、実際には、より小さいものである。また、
X線焦点Fは、例えばポイントフォーカスのX線焦点と
して形成される。また、モノクロメータ3は、例えば平
板グラファイト結晶によって構成される。また、コリメ
ータ4は、例えば断面径が10〜100μmの平行X線
ビームを形成する。また、輝尽性蛍光体2はその内面が
蛍光面となっている。
として回転すなわち面内回転させるφ回転装置6と、試
料Sを試料中心Xの回りにアーク回転させるアーク揺動
機構7と、そして試料Sをω軸線を中心として回転させ
るω回転装置8とを有する。本実施形態の場合は、ω回
転装置8の上にアーク揺動機構7が載り、そのアーク揺
動機構7の上にφ回転装置6が載っている。
置の動作について説明する。まず、円筒状の輝尽性蛍光
体2をその中心軸線がω軸線に一致するように設置す
る。また、試料支持装置1のφ回転装置6の所定位置に
試料Sを取り付ける。この取り付け方法は従来から知ら
れた通常の方法を採用できる。次に、図2に示すよう
に、ω回転装置8を作動して試料Sに対するX線の入射
角度θ0を所定角度、例えば20°〜30°に設定す
る。
作動して試料Sの試料面が輝尽性蛍光体2の中心軸線従
ってω軸線に対して傾斜角度θ1、例えば略45°とな
るように調整する。この調整は、本実施形態では手動に
よって行うことにするが、アーク揺動機構7にモータそ
の他の駆動源を付設することによって自動的に行うこと
もできる。
して略45°で傾斜させるのは、試料Sから試料面接線
方向に沿って出る回折X線R3及び試料垂直方向に沿っ
て出る回折X線R4の両方が輝尽性蛍光体2によって検
知できるようにするためである。よって、輝尽性蛍光体
2の軸線方向(図の上下方向)の長さが長い等の理由に
より、試料Sの傾斜角度が45°からずれる場合でも接
線方向回折線R3及び垂直方向回折線R4の両方を輝尽
性蛍光体2で検知できる場合には、必ずしも正確に45
°に設定しなくても良い。
して試料Sをφ軸線を中心として回転すなわち面内回転
させながら、X線焦点Fから放射されてモノクロメータ
3及びコリメータ4を通過したX線を面内回転する試料
Sの微小部へ入射させる。このとき、入射したX線と試
料Sの結晶格子面との間でブラッグの回折条件が満足さ
れると試料SでX線の回折が生じる。
ので、その照射野に含まれる結晶粒は数が少ない。それ
故、それらの結晶粒から発生する回折X線は特定の回折
角度方向へ進むことになり、よって、SC(シンチレー
ション計数管)等といった0次元X線検出器や、PSP
C(位置敏感型比例計数管)等といった1次元X線検出
器ではそれらの回折X線を取り込むためにそれらのX線
検出器を走査移動、すなわちχ軸回転させなければなら
ない。これに対し、本実施形態によれば、試料Sをχ軸
回転させることなくφ軸回転させるだけで、従来のχ軸
及びφ軸の2軸線に関する回転と同様の測定を行うこと
ができる。
ればならない従来の方法では、それら2軸線の交差誤差
に起因して試料におけるX線の照射野の広がりが大きく
なってしまうことが多く、微小部領域をX線によって精
度高く照射することに関して不十分であった。これに対
し、χ軸線が不要である本実施形態によれば、X線の照
射野の広がりによる測定精度の低下を回避できる。
駆動系を1つ省略できるので、装置の構造を簡単にでき
る。さらに、2次元X線検出器を用いるので、0次元X
線検出器及び1次元X線検出器を用いる場合に比べて測
定時間を短縮することができる。
小部X線回折装置の他の実施形態を示している。この実
施形態が図1に示した実施形態と異なる点は、円筒形状
の輝尽性蛍光体2の両端部に形成された開放部のうちの
図の上側部分EにX線検出器ユニット9を配設したこと
である。
及び円筒形状の検出部12を有し、検出部12の先端に
はSSD13が配設される。本体部11の内部には、S
SD13の出力信号を増幅するためのプリアンプや、そ
のプリアンプの出力信号を外部へ導出するためのコネク
タ部や、SSD13を冷却するための冷却装置等が収納
される。SSD13等を冷却するのは、主に、熱雑音の
発生を防止するためである。
ら出て試料Sへ向かうX線及びR3,R4等といった回
折X線を遮らない位置に設置される。また、SSD13
は、できるだけ試料Sの試料面の直近位置であって、し
かも、できるだけ試料面に垂直な角度位置の所に配設さ
れる。これにより、広い発散角度範囲内の蛍光X線をS
SD13に取り込むことができる。
線を取り込んで、その蛍光X線のエネルギ量に対応した
波高のパルス信号を出力する。SSD13の出力側には
MCA14が接続される。このMCA14は、SSD1
3から出力されるパルス信号を波高ごと、すなわちエネ
ルギごとに分類して測定する。これにより、試料Sから
発生する蛍光X線のエネルギ分布が測定され、これに基
づいて、試料Sの内部に存在する原子の種類及び量を測
定することができる。
線検出器として円筒形状の輝尽性蛍光体2を用いたの
で、その円筒形状の端部の開放部EにX線検出器ユニッ
ト9を配設して試料Sの近くにSSD13を配設するこ
とにより、輝尽性蛍光体2を用いたX線回折測定と同時
に、SSD13を用いた蛍光X線測定を行うことができ
る。これにより、試料の結晶構造の分析に加えて、試料
に含まれる原子に関する分析を行うことができる。
開放部EにX線検出器ユニット9を配設することにすれ
ば、SSD13のX線取り込み部を試料Sの直近位置で
あって、しかも試料面法線に対して低角度位置に配置で
きるので、大きな発散角の範囲で蛍光X線を取り込むこ
とができる。また、試料Sの内部でのX線の経路も短く
なるので、吸収の影響も減り、効率良く蛍光X線分析を
行うことができる。
形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形
態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明
の範囲内で種々に改変できる。例えば、図1に示した試
料支持装置1は単なる一例であり、これ以外の任意の構
造によって試料支持装置を構成できることはもちろんで
ある。
び微小部X線回折装置によれば、X線検出器として2次
元X線検出器を用い、さらに試料面を傾斜させるように
したので、従来の微小部X線回折測定方法におけるχ軸
回転を行うことなく、試料を面内回転すなわちφ軸回転
させるだけで試料の微小部からの回折X線を漏れなく検
出できる。
χ軸線及びφ軸線の2軸線の回りに回転させなければな
らず、それら2軸線の交差誤差に起因して試料における
X線の照射野の広がりが大きくなるという問題があった
が、本発明によればχ軸線回りの回転が不要であるの
で、X線の照射野の広がりによる測定精度の低下を回避
できる。
できるので、装置の構造を簡単にできる。さらに、2次
元X線検出器を用いるので、0次元X線検出器及び1次
元X線検出器を用いる場合に比べて測定時間を短縮する
ことができる。
を一部破断して示す斜視図である。
である。
視図である。
態を一部破断して示す斜視図である。
Claims (8)
- 【請求項1】 試料の微小部にX線を照射して該微小部
に発生する回折X線を検出する微小部X線回折測定方法
において、 試料の回りに円筒状の2次元X線検出器を配置し、 前記試料から試料面接線方向に沿って出る回折X線及び
試料面垂直方向に沿って出る回折X線の両方が前記2次
元X線検出器によって同時に検知できるように、前記試
料の試料面を前記2次元X線検出器に対して傾斜させる
ことを特徴とする微小部X線回折測定方法。 - 【請求項2】 請求項1において、前記2次元X線検出
器は輝尽性蛍光体によって形成されることを特徴とする
微小部X線回折測定方法。 - 【請求項3】 請求項1又は請求項2において、前記試
料の試料面は、前記2次元X線検出器の中心軸線に対し
て略45°傾斜することを特徴とする微小部X線回折測
定方法。 - 【請求項4】 請求項1から請求項3のいずれか1つに
おいて、前記円筒状の2次元X線検出器は円筒の端部に
開放部を有し、その開放部に半導体X線検出器を配置
し、前記試料から発生する蛍光X線をその半導体X線検
出器によって検出し、検出した蛍光X線に基づいて前記
試料に関する分析を行うことを特徴とするX線回折測定
方法。 - 【請求項5】 試料の微小部にX線を照射して該微小部
に発生する回折X線を検出する微小部X線回折装置にお
いて、 試料のまわりに円筒状に配置される2次元X線検出器
と、 試料を面内回転させるφ回転手段と、 前記試料の試料面を前記2次元X線検出器に対して傾斜
移動させる傾斜移動手段と、 前記試料に対するX線入射角度を変化させるためにその
試料を回転させるω回転手段とを有することを特徴とす
る微小部X線回折装置。 - 【請求項6】 請求項5において、前記2次元X線検出
器は輝尽性蛍光体によって形成されることを特徴とする
微小部X線回折装置。 - 【請求項7】 請求項5又は請求項6において、前記傾
斜移動手段は、前記試料の試料面を前記2次元X線検出
器の中心軸線に対して略45°傾斜させることを特徴と
する微小部X線回折装置。 - 【請求項8】 請求項5から請求項7のいずれか1つに
おいて、 前記円筒状の2次元X線検出器は円筒の端部に開放部を
有し、 蛍光X線を取り込んでその蛍光X線のエネルギ量に対応
した信号を出力する半導体X線検出器を前記2次元X線
検出器の開放部に設け、さらにその半導体X線検出器の
出力信号を入力して前記蛍光X線のエネルギ分布を求め
るエネルギ分布測定器を有することを特徴とする微小部
X線回折装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32353898A JP3519292B2 (ja) | 1998-11-13 | 1998-11-13 | 微小部x線回折測定方法及び微小部x線回折装置 |
GB9925325A GB2343825B (en) | 1998-11-13 | 1999-10-26 | Method for X-ray micro-diffraction measurement and X-ray micro-diffraction apparatus |
US09/427,618 US6285736B1 (en) | 1998-11-13 | 1999-10-27 | Method for X-ray micro-diffraction measurement and X-ray micro-diffraction apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32353898A JP3519292B2 (ja) | 1998-11-13 | 1998-11-13 | 微小部x線回折測定方法及び微小部x線回折装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000146871A JP2000146871A (ja) | 2000-05-26 |
JP3519292B2 true JP3519292B2 (ja) | 2004-04-12 |
Family
ID=18155826
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32353898A Expired - Fee Related JP3519292B2 (ja) | 1998-11-13 | 1998-11-13 | 微小部x線回折測定方法及び微小部x線回折装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6285736B1 (ja) |
JP (1) | JP3519292B2 (ja) |
GB (1) | GB2343825B (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6751287B1 (en) * | 1998-05-15 | 2004-06-15 | The Trustees Of The Stevens Institute Of Technology | Method and apparatus for x-ray analysis of particle size (XAPS) |
JP3027361B2 (ja) * | 1998-07-17 | 2000-04-04 | 科学技術振興事業団 | イメージングプレートx線回折装置 |
AUPR728901A0 (en) * | 2001-08-27 | 2001-09-20 | Unisearch Limited | Method and system for introducing an ion into a substrate |
US6888920B2 (en) * | 2002-09-03 | 2005-05-03 | Basil Eric Blank | Low-cost, high precision goniometric stage for x-ray diffractography |
JP3706110B2 (ja) | 2003-02-07 | 2005-10-12 | 株式会社リガク | X線分析装置及びx線分析方法 |
JP3928656B2 (ja) * | 2003-07-11 | 2007-06-13 | 学校法人早稲田大学 | エネルギー分散型エックス線回折・分光装置 |
JP2006292661A (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Japan Synchrotron Radiation Research Inst | 超微細構造体のx線迅速構造解析装置 |
JP5347001B2 (ja) | 2011-08-18 | 2013-11-20 | 日立Geニュークリア・エナジー株式会社 | X線回折装置 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3394255A (en) * | 1965-06-28 | 1968-07-23 | Picker Corp | Diffraction mechanism in which a monochromator diffracts the X-ray beam in planes transverse to an axis of specimen rotation |
US3564240A (en) * | 1969-07-22 | 1971-02-16 | Charles Supper Co Inc | Goniometer head for x-ray diffraction apparatus with improved z-motion mechanism |
US4076981A (en) * | 1976-07-29 | 1978-02-28 | Syntex (U.S.A.) Inc. | Position sensitive area detector for use with X-ray diffractometer or X-ray camera |
US4217493A (en) * | 1979-06-04 | 1980-08-12 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Hemispherical Laue camera |
US4412345A (en) * | 1981-08-03 | 1983-10-25 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Apparatus and method for precise determinations of crystallographic orientation in crystalline substances |
GB8325544D0 (en) * | 1983-09-23 | 1983-10-26 | Howe S H | Orienting crystals |
DE4121149A1 (de) * | 1991-06-26 | 1993-01-07 | Siemens Ag | Anordnung zur analyse der kristallstruktur einer proobe mit roentgenstrahlen |
GB9122085D0 (en) * | 1991-10-17 | 1991-11-27 | Cambridge Surface Analytics | X-ray diffractometer |
US5359640A (en) * | 1993-08-10 | 1994-10-25 | Siemens Industrial Automation, Inc. | X-ray micro diffractometer sample positioner |
JPH0961380A (ja) * | 1995-08-23 | 1997-03-07 | Rigaku Corp | 二次元x線検出器を用いたx線装置 |
-
1998
- 1998-11-13 JP JP32353898A patent/JP3519292B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-10-26 GB GB9925325A patent/GB2343825B/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-10-27 US US09/427,618 patent/US6285736B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2343825A (en) | 2000-05-17 |
US6285736B1 (en) | 2001-09-04 |
JP2000146871A (ja) | 2000-05-26 |
GB9925325D0 (en) | 1999-12-29 |
GB2343825B (en) | 2003-05-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5280057B2 (ja) | X線散乱用のx線回折機器 | |
JP3519292B2 (ja) | 微小部x線回折測定方法及び微小部x線回折装置 | |
US6442236B1 (en) | X-ray analysis | |
US7860217B2 (en) | X-ray diffraction measuring apparatus having debye-scherrer optical system therein, and an X-ray diffraction measuring method for the same | |
JP2003149177A (ja) | X線装置用アタッチメント、試料高温装置及びx線装置 | |
JP6009156B2 (ja) | 回折装置 | |
US3344274A (en) | Ray analysis apparatus having both diffraction amd spectrometer tubes mounted on a common housing | |
JP2000504422A (ja) | 2つのコリメータマスクを有するx線分析装置 | |
JP2000314708A (ja) | X線トポグラフィ装置 | |
WO2006095467A1 (ja) | X線回折分析方法およびx線回折分析装置 | |
JP2000206061A (ja) | 蛍光x線測定装置 | |
EP0697109B1 (en) | X-ray spectrometer with a grazing take-off angle | |
JP2002250704A (ja) | X線測定装置及びx線測定方法 | |
JPH1144662A (ja) | 微小部x線分析装置 | |
JP2000258366A (ja) | 微小部x線回折装置 | |
JP3755034B2 (ja) | 全反射蛍光x線分析法およびその装置 | |
JP3498689B2 (ja) | モノクロ線源励起用モノクロメータ及び蛍光x線分析装置 | |
JP4359116B2 (ja) | X線回折装置の微小部x線照射装置及び微小部x線照射方法 | |
JP2000258364A (ja) | X線装置及びx線測定方法 | |
JP6862710B2 (ja) | X線回折装置 | |
JPH1151883A (ja) | 蛍光x線分析装置および方法 | |
JPH1114566A (ja) | X線回折測定及び蛍光x線測定のためのx線装置 | |
JP2001311706A (ja) | X線回折装置 | |
JP3712622B2 (ja) | X線装置 | |
JP2000180388A (ja) | X線回折装置及びx線回折測定方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040107 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040128 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090206 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090206 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100206 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100206 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110206 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110206 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120206 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130206 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130206 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140206 Year of fee payment: 10 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |