JP2003149177A - Ｘ線装置用アタッチメント、試料高温装置及びｘ線装置 - Google Patents
Ｘ線装置用アタッチメント、試料高温装置及びｘ線装置Info
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- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 試料以外の所から発生する不要なＸ線がＸ線
検出器に取り込まれることを防止する。 【解決手段】 Ｘ線装置１の試料支持部２に装着される
Ｘ線装置用アタッチメント３である。試料Ｓを包囲する
カバー９と、カバー９と試料Ｓとの間に設けられる散乱
線除去カバー８とを有する。散乱線除去カバー８は壁１
６によって箱型に形成され、この壁１６はカバー９側に
面積の大きい開口１４ａを有し、試料Ｓ側に面積の小さ
い開口１４ｂを有する。Ｘ線源Ｆから出たＸ線がカバー
９を通過するときにそのカバー９から発生する散乱Ｘ線
がＸ線検出器４へ向って進行することを、散乱線除去カ
バー８の壁１６によって阻止する。
検出器に取り込まれることを防止する。 【解決手段】 Ｘ線装置１の試料支持部２に装着される
Ｘ線装置用アタッチメント３である。試料Ｓを包囲する
カバー９と、カバー９と試料Ｓとの間に設けられる散乱
線除去カバー８とを有する。散乱線除去カバー８は壁１
６によって箱型に形成され、この壁１６はカバー９側に
面積の大きい開口１４ａを有し、試料Ｓ側に面積の小さ
い開口１４ｂを有する。Ｘ線源Ｆから出たＸ線がカバー
９を通過するときにそのカバー９から発生する散乱Ｘ線
がＸ線検出器４へ向って進行することを、散乱線除去カ
バー８の壁１６によって阻止する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｘ線装置において
試料の周りに設けられるアタッチメント、そのアタッチ
メントの１つである試料高温装置及びＸ線装置用アタッ
チメントを用いたＸ線装置に関する。
試料の周りに設けられるアタッチメント、そのアタッチ
メントの１つである試料高温装置及びＸ線装置用アタッ
チメントを用いたＸ線装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】試料にＸ線を照射し、そのときに試料か
ら発生するＸ線、例えば試料で回折したＸ線をＸ線カウ
ンタ等といったＸ線検出手段によって検出するＸ線測定
を行うＸ線装置は従来から広く知られている。また、試
料を試料高温装置等といったアタッチメントに収容した
状態で上記のＸ線測定を行うようにしたＸ線装置も知ら
れている。
ら発生するＸ線、例えば試料で回折したＸ線をＸ線カウ
ンタ等といったＸ線検出手段によって検出するＸ線測定
を行うＸ線装置は従来から広く知られている。また、試
料を試料高温装置等といったアタッチメントに収容した
状態で上記のＸ線測定を行うようにしたＸ線装置も知ら
れている。
【０００３】この種のＸ線装置では、Ｘ線検出手段は試
料から発生するＸ線を検出することが主な役割である
が、何等の措置も講じておかないと、試料を収容するア
タッチメントから発生する不要なＸ線もＸ線検出手段に
よって取り込まれてしまい、その結果、測定結果が不正
確になるおそれがある。
料から発生するＸ線を検出することが主な役割である
が、何等の措置も講じておかないと、試料を収容するア
タッチメントから発生する不要なＸ線もＸ線検出手段に
よって取り込まれてしまい、その結果、測定結果が不正
確になるおそれがある。
【０００４】この問題を解消するため、従来、図４に示
すように、試料ＳとＸ線検出器５１との間にスリット５
２を配置した構造のＸ線装置が知られている。試料Ｓ
は、例えば、試料Ｓの温度を変化させるためのアタッチ
メントである温度調整装置５３に収容されている。ま
た、スリット５２は、横方向すなわち矢印Ａ方向に互い
に平行に並べられた複数の壁５４によって構成されてい
る。
すように、試料ＳとＸ線検出器５１との間にスリット５
２を配置した構造のＸ線装置が知られている。試料Ｓ
は、例えば、試料Ｓの温度を変化させるためのアタッチ
メントである温度調整装置５３に収容されている。ま
た、スリット５２は、横方向すなわち矢印Ａ方向に互い
に平行に並べられた複数の壁５４によって構成されてい
る。
【０００５】Ｘ線検出器５１は、１次元Ｘ線検出器とし
てのＰＳＰＣ（Position SensitiveProportional Count
er：位置感応型比例計数管）によって構成されている。
このＰＳＰＣ５１は、周知の通り、線状のＸ線取込み口
５６を有し、そのＸ線取込み口５６のいずれかの位置に
Ｘ線が入ったときには、そのＸ線が入った位置すなわち
Ｘ線の回折角度に対応した信号及びそのＸ線の強度に対
応した信号を出力する。
てのＰＳＰＣ（Position SensitiveProportional Count
er：位置感応型比例計数管）によって構成されている。
このＰＳＰＣ５１は、周知の通り、線状のＸ線取込み口
５６を有し、そのＸ線取込み口５６のいずれかの位置に
Ｘ線が入ったときには、そのＸ線が入った位置すなわち
Ｘ線の回折角度に対応した信号及びそのＸ線の強度に対
応した信号を出力する。
【０００６】図４に示す従来の装置では、Ｘ線源Ｆから
放射されたＸ線は発散規制スリット５７によって規制さ
れて試料Ｓへ向けられる。そして、試料Ｓに入射するＸ
線が試料Ｓの結晶格子面に対してブラッグの回折条件を
満足する関係になるときに、試料Ｓから回折Ｘ線が発生
する。この回折Ｘ線はスリット５２を構成する複数の壁
５４の間に形成される空間を通ってＸ線取込み口５６に
入ってＰＳＰＣ５１に取り込まれる。
放射されたＸ線は発散規制スリット５７によって規制さ
れて試料Ｓへ向けられる。そして、試料Ｓに入射するＸ
線が試料Ｓの結晶格子面に対してブラッグの回折条件を
満足する関係になるときに、試料Ｓから回折Ｘ線が発生
する。この回折Ｘ線はスリット５２を構成する複数の壁
５４の間に形成される空間を通ってＸ線取込み口５６に
入ってＰＳＰＣ５１に取り込まれる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のＸ線装置で
は、Ｘ線が温度調整装置５３のＸ線通過窓５９を通過す
るときに不要なＸ線である散乱Ｘ線が発生する。スリッ
ト５２は、そのような不要なＸ線がＸ線検出器５１に取
り込まれることを防止するために設けられるものであ
る。しかしながら、従来のスリット５２では不要なＸ線
がＸ線検出器５１に取り込まれることを十分に防ぐこと
ができなかった。本発明者は、Ｘ線検出器５１によって
不要なＸ線が取り込まれることを防止するために種々の
実験を行い、その結果、不要なＸ線が発生する個所の近
傍でそのＸ線の進行を阻止することが有効であることを
知見した。
は、Ｘ線が温度調整装置５３のＸ線通過窓５９を通過す
るときに不要なＸ線である散乱Ｘ線が発生する。スリッ
ト５２は、そのような不要なＸ線がＸ線検出器５１に取
り込まれることを防止するために設けられるものであ
る。しかしながら、従来のスリット５２では不要なＸ線
がＸ線検出器５１に取り込まれることを十分に防ぐこと
ができなかった。本発明者は、Ｘ線検出器５１によって
不要なＸ線が取り込まれることを防止するために種々の
実験を行い、その結果、不要なＸ線が発生する個所の近
傍でそのＸ線の進行を阻止することが有効であることを
知見した。
【０００８】本発明は、上記の知見に基づいて成された
ものであって、試料以外の所から発生する不要なＸ線が
Ｘ線検出器に取り込まれることを防止できるようにする
ことを目的とする。
ものであって、試料以外の所から発生する不要なＸ線が
Ｘ線検出器に取り込まれることを防止できるようにする
ことを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】（１） 上記の目的を達
成するため、本発明に係るＸ線装置用アタッチメント
は、Ｘ線装置の試料支持部に装着されるアタッチメント
において、試料を包囲するカバーと、該カバーと前記試
料との間に設けられる散乱線除去カバーとを有し、該散
乱線除去カバーは、カバー側に面積の大きい開口を有し
試料側に面積の小さい開口を有する壁によって形成され
ることを特徴とする。
成するため、本発明に係るＸ線装置用アタッチメント
は、Ｘ線装置の試料支持部に装着されるアタッチメント
において、試料を包囲するカバーと、該カバーと前記試
料との間に設けられる散乱線除去カバーとを有し、該散
乱線除去カバーは、カバー側に面積の大きい開口を有し
試料側に面積の小さい開口を有する壁によって形成され
ることを特徴とする。
【００１０】この構成のＸ線装置用アタッチメントによ
れば、試料に入射するＸ線及び試料から出射するＸ線の
進行路に不要なＸ線が入り込むことを上記の壁によって
阻止できるので、不要なＸ線が測定対象であるＸ線と共
にＸ線検出器に取り込まれることを防止でき、その結
果、精度の高いＸ線測定を行うことができる。
れば、試料に入射するＸ線及び試料から出射するＸ線の
進行路に不要なＸ線が入り込むことを上記の壁によって
阻止できるので、不要なＸ線が測定対象であるＸ線と共
にＸ線検出器に取り込まれることを防止でき、その結
果、精度の高いＸ線測定を行うことができる。
【００１１】（２） 上記構成のＸ線装置用アタッチメ
ントにおいて、前記カバー側の開口は幅及び高さの両方
で前記試料側の開口よりも大きいことが望ましい。こう
すれば、試料に入射するＸ線の入射角度を幅方向及び高
さ方向の両方に関して大きくとることができる。
ントにおいて、前記カバー側の開口は幅及び高さの両方
で前記試料側の開口よりも大きいことが望ましい。こう
すれば、試料に入射するＸ線の入射角度を幅方向及び高
さ方向の両方に関して大きくとることができる。
【００１２】（３） また、上記構成のＸ線装置用アタ
ッチメントにおいて、前記散乱線除去カバーは前記試料
に対してＸ線入射側に配設することができる。こうすれ
ば、試料に入射するＸ線がその試料を覆うカバーを通過
するときにそのカバーから発生する不要なＸ線を、散乱
線除去カバーの壁によって遮蔽できる。
ッチメントにおいて、前記散乱線除去カバーは前記試料
に対してＸ線入射側に配設することができる。こうすれ
ば、試料に入射するＸ線がその試料を覆うカバーを通過
するときにそのカバーから発生する不要なＸ線を、散乱
線除去カバーの壁によって遮蔽できる。
【００１３】（４） また、上記構成のＸ線装置用アタ
ッチメントにおいて、前記壁は互いに直角な縦壁と横壁
との組み合わせによって形成することができる。つま
り、不要なＸ線を遮蔽するための壁は、縦壁と横壁との
組み合わせによって箱型に形成することができる。この
ように箱型に形成された散乱線除去カバーによれば、散
乱線除去カバーをドーム型、すなわち、かまぼこ型に形
成する場合に比べてＸ線の除去効率が高くなる。
ッチメントにおいて、前記壁は互いに直角な縦壁と横壁
との組み合わせによって形成することができる。つま
り、不要なＸ線を遮蔽するための壁は、縦壁と横壁との
組み合わせによって箱型に形成することができる。この
ように箱型に形成された散乱線除去カバーによれば、散
乱線除去カバーをドーム型、すなわち、かまぼこ型に形
成する場合に比べてＸ線の除去効率が高くなる。
【００１４】（５） また、上記構成のＸ線装置用アタ
ッチメントにおいて、前記カバーは視覚的に透明でＸ線
を透過できる物質によって半球形状に形成することがで
きる。カバーを視覚的に透明な物質によって形成すれ
ば、試料を視覚によって認識しながら測定を行うことが
できるので、好都合である。また、カバーを半球形状に
形成すれば、測定者による取り扱いが容易になる。
ッチメントにおいて、前記カバーは視覚的に透明でＸ線
を透過できる物質によって半球形状に形成することがで
きる。カバーを視覚的に透明な物質によって形成すれ
ば、試料を視覚によって認識しながら測定を行うことが
できるので、好都合である。また、カバーを半球形状に
形成すれば、測定者による取り扱いが容易になる。
【００１５】（６） また、上記構成のＸ線装置用アタ
ッチメントは、前記Ｘ線装置の試料支持部に取り付けら
れる本体部を有することができ、前記カバーは該本体部
に着脱可能に固定することができる。
ッチメントは、前記Ｘ線装置の試料支持部に取り付けら
れる本体部を有することができ、前記カバーは該本体部
に着脱可能に固定することができる。
【００１６】（７） また、カバーを本体部に固定する
構造の上記Ｘ線装置用アタッチメントにおいては、前記
カバーの内周面にネジを形成し、前記本体部の外周面に
ネジを形成し、そして、前記カバー側のネジと前記本体
部側のネジとをネジ嵌合させることにより前記カバーを
前記本体部に装着することができる。この構成によれ
ば、カバーをしっかりと本体部に固定でき、しかもその
ための作業が非常に簡単である。
構造の上記Ｘ線装置用アタッチメントにおいては、前記
カバーの内周面にネジを形成し、前記本体部の外周面に
ネジを形成し、そして、前記カバー側のネジと前記本体
部側のネジとをネジ嵌合させることにより前記カバーを
前記本体部に装着することができる。この構成によれ
ば、カバーをしっかりと本体部に固定でき、しかもその
ための作業が非常に簡単である。
【００１７】（８） また、上記構成のＸ線装置用アタ
ッチメントは、前記試料を加熱する加熱手段、前記試料
を冷却する冷却手段、前記試料の周りの湿度を変化させ
る湿度調節手段、及び前記試料の周りを大気とは異なる
ガス雰囲気に設定する雰囲気調整手段の少なくとも１つ
を、さらに、有することができる。
ッチメントは、前記試料を加熱する加熱手段、前記試料
を冷却する冷却手段、前記試料の周りの湿度を変化させ
る湿度調節手段、及び前記試料の周りを大気とは異なる
ガス雰囲気に設定する雰囲気調整手段の少なくとも１つ
を、さらに、有することができる。
【００１８】加熱手段を有するＸ線装置用アタッチメン
トは、いわゆる試料高温装置である。また、冷却手段を
有するＸ線装置用アタッチメントは、いわゆる試料低温
装置である。
トは、いわゆる試料高温装置である。また、冷却手段を
有するＸ線装置用アタッチメントは、いわゆる試料低温
装置である。
【００１９】（９） 次に、本発明に係る試料高温装置
は、Ｘ線装置の試料支持部に装着される試料高温装置に
おいて、試料を載置する試料板と、該試料板を加熱する
加熱手段と、試料を包囲するカバーと、該カバーと前記
試料との間に設けられる散乱線除去カバーとを有し、該
散乱線除去カバーは、カバー側に面積の大きい開口を有
し試料側に面積の小さい開口を有する壁によって形成さ
れることを特徴とする。
は、Ｘ線装置の試料支持部に装着される試料高温装置に
おいて、試料を載置する試料板と、該試料板を加熱する
加熱手段と、試料を包囲するカバーと、該カバーと前記
試料との間に設けられる散乱線除去カバーとを有し、該
散乱線除去カバーは、カバー側に面積の大きい開口を有
し試料側に面積の小さい開口を有する壁によって形成さ
れることを特徴とする。
【００２０】この構成の試料高温装置によれば、試料に
入射するＸ線及び試料から出射するＸ線の進行路に不要
なＸ線が入り込むことを上記の壁によって阻止できるの
で、不要なＸ線が測定対象であるＸ線と共にＸ線検出器
に取り込まれることを防止でき、その結果、精度の高い
Ｘ線測定を行うことができる。
入射するＸ線及び試料から出射するＸ線の進行路に不要
なＸ線が入り込むことを上記の壁によって阻止できるの
で、不要なＸ線が測定対象であるＸ線と共にＸ線検出器
に取り込まれることを防止でき、その結果、精度の高い
Ｘ線測定を行うことができる。
【００２１】（１０） 次に、本発明に係るＸ線装置
は、試料を支持する試料支持手段と、前記試料に照射す
るＸ線を発生するＸ線源と、前記試料から発生したＸ線
を検出するＸ線検出手段と、前記試料支持手段に装着さ
れるＸ線装置用アタッチメントとを有するＸ線装置にお
いて、前記Ｘ線装置用アタッチメントは以上に記載した
構成のアタッチメントによって構成されることを特徴と
する。
は、試料を支持する試料支持手段と、前記試料に照射す
るＸ線を発生するＸ線源と、前記試料から発生したＸ線
を検出するＸ線検出手段と、前記試料支持手段に装着さ
れるＸ線装置用アタッチメントとを有するＸ線装置にお
いて、前記Ｘ線装置用アタッチメントは以上に記載した
構成のアタッチメントによって構成されることを特徴と
する。
【００２２】この構成のＸ線装置によれば、試料に入射
するＸ線及び試料から出射するＸ線の進行路に不要なＸ
線が入り込むことを、散乱線除去カバーとしての壁によ
って阻止できるので、不要なＸ線が測定対象であるＸ線
と共にＸ線検出器に取り込まれることを防止でき、その
結果、精度の高いＸ線測定を行うことができる。
するＸ線及び試料から出射するＸ線の進行路に不要なＸ
線が入り込むことを、散乱線除去カバーとしての壁によ
って阻止できるので、不要なＸ線が測定対象であるＸ線
と共にＸ線検出器に取り込まれることを防止でき、その
結果、精度の高いＸ線測定を行うことができる。
【００２３】（１１） 上記構成のＸ線装置において、
前記Ｘ線検出手段は２次元Ｘ線検出器を用いて構成でき
る。この２次元Ｘ線検出器は、Ｘ線を平面的、すなわち
２次元的に検出できる構造のＸ線検出器であり、例え
ば、Ｘ線乾板、Ｘ線フィルム、面状蓄積性蛍光体を備え
たＸ線検出器、面状ＣＣＤ（Charge Coupled Device）
センサを備えたＸ線検出器等を用いることができる。
前記Ｘ線検出手段は２次元Ｘ線検出器を用いて構成でき
る。この２次元Ｘ線検出器は、Ｘ線を平面的、すなわち
２次元的に検出できる構造のＸ線検出器であり、例え
ば、Ｘ線乾板、Ｘ線フィルム、面状蓄積性蛍光体を備え
たＸ線検出器、面状ＣＣＤ（Charge Coupled Device）
センサを備えたＸ線検出器等を用いることができる。
【００２４】Ｘ線乾板は、比較的硬質で適宜の面積を有
するベース基板の片側表面又は両側表面にハロゲン化銀
を主成分とする乳剤を膜状に設けて成る平面状のＸ線検
出要素である。Ｘ線を露光したＸ線乾板を現像すること
により、そのＸ線乾板の表面に２次元的な、すなわち平
面的なＸ線分布を求めることができる。
するベース基板の片側表面又は両側表面にハロゲン化銀
を主成分とする乳剤を膜状に設けて成る平面状のＸ線検
出要素である。Ｘ線を露光したＸ線乾板を現像すること
により、そのＸ線乾板の表面に２次元的な、すなわち平
面的なＸ線分布を求めることができる。
【００２５】Ｘ線フィルムは、プラスチックフィルム、
例えば厚さの薄い可撓性を有するプラスチックフィルム
の片側又は両側表面にハロゲン化銀を主成分とする乳剤
を膜状に設けて成る平面状のＸ線検出要素である。この
Ｘ線フィルムにおいても、Ｘ線を露光したＸ線フィルム
を現像することにより、そのＸ線フィルムの表面に２次
元的な、すなわち平面的なＸ線分布を求めることができ
る。
例えば厚さの薄い可撓性を有するプラスチックフィルム
の片側又は両側表面にハロゲン化銀を主成分とする乳剤
を膜状に設けて成る平面状のＸ線検出要素である。この
Ｘ線フィルムにおいても、Ｘ線を露光したＸ線フィルム
を現像することにより、そのＸ線フィルムの表面に２次
元的な、すなわち平面的なＸ線分布を求めることができ
る。
【００２６】面状蓄積性蛍光体を備えたＸ線検出器は、
Ｘ線の受光面に面状の蓄積性蛍光体を設けて成る、エネ
ルギ蓄積型の放射線検出要素である。この蓄積性蛍光体
は、蓄積性蛍光体物質、例えばＢａＦＢｒ：Ｅｒ２＋の
微結晶を可撓性フィルム、平板状フィルム、その他の部
材の表面に塗布等によって成膜したものである。この蓄
積性蛍光体は、Ｘ線等をエネルギの形で蓄積することが
でき、さらにレーザ光等といった輝尽励起光の照射によ
りそのエネルギを外部に光として放出できる性質を有す
る物体である。
Ｘ線の受光面に面状の蓄積性蛍光体を設けて成る、エネ
ルギ蓄積型の放射線検出要素である。この蓄積性蛍光体
は、蓄積性蛍光体物質、例えばＢａＦＢｒ：Ｅｒ２＋の
微結晶を可撓性フィルム、平板状フィルム、その他の部
材の表面に塗布等によって成膜したものである。この蓄
積性蛍光体は、Ｘ線等をエネルギの形で蓄積することが
でき、さらにレーザ光等といった輝尽励起光の照射によ
りそのエネルギを外部に光として放出できる性質を有す
る物体である。
【００２７】つまり、蓄積性蛍光体にＸ線等を照射する
と、その照射された部分に対応する蓄積性蛍光体の内部
にエネルギが潜像として蓄積され、さらにその蓄積性蛍
光体にレーザ光等といった輝尽励起光を照射すると上記
潜像エネルギが光となって外部へ放出される。この放出
された光を光電管等によって検出することにより、潜像
の形成に寄与したＸ線の回折角度及び強度を測定でき
る。この蓄積性蛍光体は従来のＸ線フィルムに対して１
０〜６０倍程度の感度を有し、さらに１０６〜１０８程
度に及ぶ広いダイナミックレンジを有する。
と、その照射された部分に対応する蓄積性蛍光体の内部
にエネルギが潜像として蓄積され、さらにその蓄積性蛍
光体にレーザ光等といった輝尽励起光を照射すると上記
潜像エネルギが光となって外部へ放出される。この放出
された光を光電管等によって検出することにより、潜像
の形成に寄与したＸ線の回折角度及び強度を測定でき
る。この蓄積性蛍光体は従来のＸ線フィルムに対して１
０〜６０倍程度の感度を有し、さらに１０６〜１０８程
度に及ぶ広いダイナミックレンジを有する。
【００２８】面状ＣＣＤセンサを備えたＸ線検出器は、
ＣＣＤ、すなわち電荷結合素子をＸ線受光面に平面的に
配置して成るＸ線検出器である。ＣＣＤは、例えばシリ
コン基板上に複数の電極を絶縁膜を挟んで直線状又は面
状に並べることによって形成された電極アレイを有し、
この電極アレイをＸ線取込み口に対応して配置したもの
がＣＣＤ検出器である。
ＣＣＤ、すなわち電荷結合素子をＸ線受光面に平面的に
配置して成るＸ線検出器である。ＣＣＤは、例えばシリ
コン基板上に複数の電極を絶縁膜を挟んで直線状又は面
状に並べることによって形成された電極アレイを有し、
この電極アレイをＸ線取込み口に対応して配置したもの
がＣＣＤ検出器である。
【００２９】電極アレイを構成する個々の電極に対応す
る位置にＸ線が当たると、当該電極の下に電荷が蓄積さ
れ、さらに電極と基板との間に電圧を次々に与えること
により、蓄積された電荷を転送して外部へ出力するもの
である。
る位置にＸ線が当たると、当該電極の下に電荷が蓄積さ
れ、さらに電極と基板との間に電圧を次々に与えること
により、蓄積された電荷を転送して外部へ出力するもの
である。
【００３０】２次元Ｘ線検出器を用いた本発明の構成に
おいては、平面的に分散するＸ線の全てがその２次元Ｘ
線検出器によって同時に検出される。それ故、不要なＸ
線を検出してしまう可能性も高くなる。しかしながら、
この２次元Ｘ線検出器に対して本発明に係る散乱線除去
カバーを用いれば、２次元Ｘ線検出器が不要なＸ線で露
光されることを確実に防止できる。
おいては、平面的に分散するＸ線の全てがその２次元Ｘ
線検出器によって同時に検出される。それ故、不要なＸ
線を検出してしまう可能性も高くなる。しかしながら、
この２次元Ｘ線検出器に対して本発明に係る散乱線除去
カバーを用いれば、２次元Ｘ線検出器が不要なＸ線で露
光されることを確実に防止できる。
【００３１】
【発明の実施の形態】図１は、本発明に係るＸ線装置及
びＸ線装置用アタッチメントの一実施形態を示してい
る。本実施形態に例示したＸ線装置用アタッチメントは
試料高温装置である。ここに示すＸ線装置１は、Ｘ線を
発生するＸ線源Ｆと、試料Ｓを支持する支持部材２と、
試料支持部材２に固定状態で装着された試料高温装置３
と、試料Ｓから発生するＸ線を検出するＸ線検出器４と
を有する。
びＸ線装置用アタッチメントの一実施形態を示してい
る。本実施形態に例示したＸ線装置用アタッチメントは
試料高温装置である。ここに示すＸ線装置１は、Ｘ線を
発生するＸ線源Ｆと、試料Ｓを支持する支持部材２と、
試料支持部材２に固定状態で装着された試料高温装置３
と、試料Ｓから発生するＸ線を検出するＸ線検出器４と
を有する。
【００３２】Ｘ線検出器４は、そのＸ線受光面に蓄積性
蛍光体を平面的に設けて成る２次元Ｘ線検出器として構
成されている。このＸ線検出器４は、蓄積性蛍光体面を
内面として試料Ｓを中心とする円筒形状に湾曲してい
る。Ｘ線源Ｆは、例えば、加熱されて熱電子を放出する
フィラメント（図示せず）と、そのフィラメントに対向
して配置されたターゲット（図示せず）とによって構成
できる。
蛍光体を平面的に設けて成る２次元Ｘ線検出器として構
成されている。このＸ線検出器４は、蓄積性蛍光体面を
内面として試料Ｓを中心とする円筒形状に湾曲してい
る。Ｘ線源Ｆは、例えば、加熱されて熱電子を放出する
フィラメント（図示せず）と、そのフィラメントに対向
して配置されたターゲット（図示せず）とによって構成
できる。
【００３３】試料高温装置３は、図２に示すように、適
宜の締結手段、例えばネジ、接着剤等によって試料支持
部材２に固定される本体部６と、この本体部６の上端に
載せられる試料板７と、試料板７の上面に固定される散
乱線除去カバー８と、本体部６の上端に固着されるカバ
ー９とを有する。
宜の締結手段、例えばネジ、接着剤等によって試料支持
部材２に固定される本体部６と、この本体部６の上端に
載せられる試料板７と、試料板７の上面に固定される散
乱線除去カバー８と、本体部６の上端に固着されるカバ
ー９とを有する。
【００３４】カバー９は、視覚的に透明で且つＸ線を透
過できる物質、例えば透明プラスチックによって半球形
状、すなわちドーム形状に形成される。カバー９の内周
面の底部にはネジ１１が形成され、一方、本体部６の外
周面の上端にはネジ１７が形成される。カバー９のネジ
１１を本体部６のネジ１７に押し当て、さらに矢印Ｂの
ようにカバー９の全体を回すことにより、カバー９を本
体部６の上端に固着できる。
過できる物質、例えば透明プラスチックによって半球形
状、すなわちドーム形状に形成される。カバー９の内周
面の底部にはネジ１１が形成され、一方、本体部６の外
周面の上端にはネジ１７が形成される。カバー９のネジ
１１を本体部６のネジ１７に押し当て、さらに矢印Ｂの
ようにカバー９の全体を回すことにより、カバー９を本
体部６の上端に固着できる。
【００３５】試料板７は適宜の物質、例えばステンレス
によって円盤形状に形成され、その中央部には環状突起
１２によって区画される試料載置部１３が設けられる。
測定対象である試料Ｓはその試料載置部１３に載せられ
る。試料板７は、カバー９を本体部６に固着したとき
に、その本体部６の上端に接触した状態で固定される。
によって円盤形状に形成され、その中央部には環状突起
１２によって区画される試料載置部１３が設けられる。
測定対象である試料Ｓはその試料載置部１３に載せられ
る。試料板７は、カバー９を本体部６に固着したとき
に、その本体部６の上端に接触した状態で固定される。
【００３６】散乱線除去カバー８は、カバー９側に大き
い開口１４ａを有し試料Ｓ側に小さい開口１４ｂを有す
る壁１６によって構成されている。壁１６はＸ線を通過
させない物質、例えばステンレスによって形成される。
本実施形態では、壁１６は縦壁１６ａと横壁１６ｂとの
組み合わせによって箱型、すなわち断面形状が正方形又
は長方形の方形状に形成されている。また、散乱線除去
カバー８は、適宜の締結手段、例えばネジ、接着剤等に
よって試料板７の上面又はカバー９の内面に固定され
る。
い開口１４ａを有し試料Ｓ側に小さい開口１４ｂを有す
る壁１６によって構成されている。壁１６はＸ線を通過
させない物質、例えばステンレスによって形成される。
本実施形態では、壁１６は縦壁１６ａと横壁１６ｂとの
組み合わせによって箱型、すなわち断面形状が正方形又
は長方形の方形状に形成されている。また、散乱線除去
カバー８は、適宜の締結手段、例えばネジ、接着剤等に
よって試料板７の上面又はカバー９の内面に固定され
る。
【００３７】散乱線除去カバー８は、図３（ａ）及び図
３（ｂ）に示すように、試料ＳにＸ線Ｒ０が入射する
側、すなわち試料Ｓに対して入射Ｘ線側に配設される。
また、散乱線除去カバー８は、カバー９側の開口１４ａ
が試料Ｓ側の開口１４ｂに比べて幅Ｗ及び高さＨの両方
に関して大きく設定されている。また、カバー側の開口
１４ａの幅方向Ｗの大きさは、Ｘ線測定において予定さ
れる面内回転角度φよりも大きい寸法に設定される。ま
た、カバー側の開口１４ａの高さ方向Ｈの大きさは、Ｘ
線測定において予定されるＸ線入射角度θよりも大きい
寸法に設定される。
３（ｂ）に示すように、試料ＳにＸ線Ｒ０が入射する
側、すなわち試料Ｓに対して入射Ｘ線側に配設される。
また、散乱線除去カバー８は、カバー９側の開口１４ａ
が試料Ｓ側の開口１４ｂに比べて幅Ｗ及び高さＨの両方
に関して大きく設定されている。また、カバー側の開口
１４ａの幅方向Ｗの大きさは、Ｘ線測定において予定さ
れる面内回転角度φよりも大きい寸法に設定される。ま
た、カバー側の開口１４ａの高さ方向Ｈの大きさは、Ｘ
線測定において予定されるＸ線入射角度θよりも大きい
寸法に設定される。
【００３８】図２において、本体部６は円筒形状に形成
され、その内部には棒状ヒータ１８が設けられる。棒状
ヒータ１８はその内部にコイルその他の発熱体が内蔵さ
れ、その上面が発熱面となっている。棒状ヒータ１８の
発熱体に通電が成されるとその発熱体が発熱し、この熱
は本体部６の上端面を介して試料板７に伝達して、この
試料板７が加熱され、これにより、試料Ｓが高温に加熱
される。
され、その内部には棒状ヒータ１８が設けられる。棒状
ヒータ１８はその内部にコイルその他の発熱体が内蔵さ
れ、その上面が発熱面となっている。棒状ヒータ１８の
発熱体に通電が成されるとその発熱体が発熱し、この熱
は本体部６の上端面を介して試料板７に伝達して、この
試料板７が加熱され、これにより、試料Ｓが高温に加熱
される。
【００３９】棒状ヒータ１８の発熱体への通電量は所定
のプログラムに基づいてコントローラによって制御さ
れ、これにより、試料Ｓの温度がプログラムに従って変
化する。なお、試料Ｓの温度変化を正確に行うために、
棒状ヒータ１８の周りに冷却手段、例えば冷却フィン
（図示せず）を設けることができる。
のプログラムに基づいてコントローラによって制御さ
れ、これにより、試料Ｓの温度がプログラムに従って変
化する。なお、試料Ｓの温度変化を正確に行うために、
棒状ヒータ１８の周りに冷却手段、例えば冷却フィン
（図示せず）を設けることができる。
【００４０】図１において、試料高温装置３を支持する
支持部材２は測角装置、すなわちゴニオメータ１９によ
って駆動される。また、ゴニオメータ１９はω回転装置
２１及びφ回転装置２２を有する。ω回転装置２１は、
入射Ｘ線Ｒ０の光路に対して直角方向に延びるω軸線を
中心として試料高温装置３、従って試料Ｓを回転させ
る。この回転により、試料Ｓに入射するＸ線Ｒ０の入射
角度θを変化させることができる。
支持部材２は測角装置、すなわちゴニオメータ１９によ
って駆動される。また、ゴニオメータ１９はω回転装置
２１及びφ回転装置２２を有する。ω回転装置２１は、
入射Ｘ線Ｒ０の光路に対して直角方向に延びるω軸線を
中心として試料高温装置３、従って試料Ｓを回転させ
る。この回転により、試料Ｓに入射するＸ線Ｒ０の入射
角度θを変化させることができる。
【００４１】また、φ回転装置２２は、試料Ｓを通り前
記ω軸線に直交するφ軸線を中心として試料高温装置
３、従って試料Ｓを回転、いわゆる面内回転させる。こ
の面内回転により、試料Ｓ内の結晶格子面の入射Ｘ線Ｒ
０に対する向きを変化させることができる。
記ω軸線に直交するφ軸線を中心として試料高温装置
３、従って試料Ｓを回転、いわゆる面内回転させる。こ
の面内回転により、試料Ｓ内の結晶格子面の入射Ｘ線Ｒ
０に対する向きを変化させることができる。
【００４２】ω回転装置２１及びφ回転装置２２は任意
の構造によって構成できるが、例えば、パルスモータ等
といった回転角度を高精度に制御可能な動力源と、その
動力源の回転を支持部材２に伝達する動力伝達手段とを
含む構造を採用できる。上記の動力伝達手段は、例え
ば、ウオームとウオームホイールとから成る動力伝達機
構によって構成できる。
の構造によって構成できるが、例えば、パルスモータ等
といった回転角度を高精度に制御可能な動力源と、その
動力源の回転を支持部材２に伝達する動力伝達手段とを
含む構造を採用できる。上記の動力伝達手段は、例え
ば、ウオームとウオームホイールとから成る動力伝達機
構によって構成できる。
【００４３】以下、上記構成より成るＸ線装置について
その動作を説明する。図２において、Ｘ線装置の支持部
材２に固定されている試料高温装置３の本体部６からカ
バー９を取り外して試料板７を外部へ露出させ、その露
出した試料板７の試料載置部１３に測定対象である試料
Ｓを載せる。そして、カバー９を本体部６へネジ込んで
固着する。
その動作を説明する。図２において、Ｘ線装置の支持部
材２に固定されている試料高温装置３の本体部６からカ
バー９を取り外して試料板７を外部へ露出させ、その露
出した試料板７の試料載置部１３に測定対象である試料
Ｓを載せる。そして、カバー９を本体部６へネジ込んで
固着する。
【００４４】次に、図１において、ω回転装置２１を作
動して入射Ｘ線Ｒ０の試料Ｓに対する入射角度θを試料
Ｓに固有の値にセットし、さらに、棒状ヒータ１８へ通
電を行ってそれを発熱させて、試料Ｓの温度を所定のプ
ログラムに従って昇温及び降温させたり、一定の温度に
維持したりする。
動して入射Ｘ線Ｒ０の試料Ｓに対する入射角度θを試料
Ｓに固有の値にセットし、さらに、棒状ヒータ１８へ通
電を行ってそれを発熱させて、試料Ｓの温度を所定のプ
ログラムに従って昇温及び降温させたり、一定の温度に
維持したりする。
【００４５】試料Ｓの温度が所定のプログラムに従って
変化あるいは一定に維持されるのと同時に、Ｘ線源Ｆを
始動してＸ線を発生する。発生したＸ線は、発散規制ス
リット２３によって試料Ｓへ向かうものが選択され、さ
らに、必要に応じてコリメータ２４によって微小径の平
行Ｘ線ビームに成形されて試料Ｓへ照射される。
変化あるいは一定に維持されるのと同時に、Ｘ線源Ｆを
始動してＸ線を発生する。発生したＸ線は、発散規制ス
リット２３によって試料Ｓへ向かうものが選択され、さ
らに、必要に応じてコリメータ２４によって微小径の平
行Ｘ線ビームに成形されて試料Ｓへ照射される。
【００４６】コリメータ２４から出射したＸ線はカバー
９を通過し、さらに散乱線除去カバー８を通過して、試
料Ｓへ照射される。試料Ｓに入射するＸ線Ｒ０と試料Ｓ
内の結晶格子面との間でブラッグの回折条件が満足され
ると、その試料ＳでＸ線が回折する。この回折Ｘ線Ｒ１
は回折角度２θで進行して蓄積性蛍光体型の２次Ｘ線検
出器４へ到達してその蓄積性蛍光体面を露光する。
９を通過し、さらに散乱線除去カバー８を通過して、試
料Ｓへ照射される。試料Ｓに入射するＸ線Ｒ０と試料Ｓ
内の結晶格子面との間でブラッグの回折条件が満足され
ると、その試料ＳでＸ線が回折する。この回折Ｘ線Ｒ１
は回折角度２θで進行して蓄積性蛍光体型の２次Ｘ線検
出器４へ到達してその蓄積性蛍光体面を露光する。
【００４７】この露光により、蓄積性蛍光体面には、試
料Ｓに固有の露光像パターンがエネルギ潜像として蓄積
される。エネルギ潜像が蓄積されたＸ線検出器４は、Ｘ
線装置１から取り外されて、図示しないＸ線画像読取り
装置の所定の読取り位置に装着されて読取り処理を受け
る。具体的には、蓄積性蛍光体面の全面をレーザ光等と
いった輝尽励起光によって走査し、その走査時に蓄積性
蛍光体面から放出される光を光電変換器によって検出
し、その検出結果に基づいて、Ｘ線検出器４の蓄積性蛍
光体面に保持された潜像の形成に寄与したＸ線の回折角
度及び強度を演算によって求める。
料Ｓに固有の露光像パターンがエネルギ潜像として蓄積
される。エネルギ潜像が蓄積されたＸ線検出器４は、Ｘ
線装置１から取り外されて、図示しないＸ線画像読取り
装置の所定の読取り位置に装着されて読取り処理を受け
る。具体的には、蓄積性蛍光体面の全面をレーザ光等と
いった輝尽励起光によって走査し、その走査時に蓄積性
蛍光体面から放出される光を光電変換器によって検出
し、その検出結果に基づいて、Ｘ線検出器４の蓄積性蛍
光体面に保持された潜像の形成に寄与したＸ線の回折角
度及び強度を演算によって求める。
【００４８】図１において、試料ＳへＸ線Ｒ０が照射さ
れるとき、そのＸ線Ｒ０はカバー９を通過する。この通
過時、Ｘ線が通過した所のカバー９から散乱Ｘ線が発生
する。この散乱Ｘ線は、試料Ｓからの回折Ｘ線を測定す
ることから見れば不要なＸ線である。この散乱Ｘ線のう
ちＸ線検出器４へ向かって進行する成分は、散乱線除去
カバー８の壁１６に当たってその進行を阻止され、その
結果、Ｘ線検出器４へ到達することが無い。
れるとき、そのＸ線Ｒ０はカバー９を通過する。この通
過時、Ｘ線が通過した所のカバー９から散乱Ｘ線が発生
する。この散乱Ｘ線は、試料Ｓからの回折Ｘ線を測定す
ることから見れば不要なＸ線である。この散乱Ｘ線のう
ちＸ線検出器４へ向かって進行する成分は、散乱線除去
カバー８の壁１６に当たってその進行を阻止され、その
結果、Ｘ線検出器４へ到達することが無い。
【００４９】仮に、散乱Ｘ線がＸ線検出器４へ到達する
と、試料Ｓからの回折Ｘ線Ｒ１とは関係の無い所に露光
像が形成されてしまうので、測定結果が不正確になるお
それがある。また、散乱Ｘ線がＸ線検出器４を広く露光
することにより、測定結果におけるバックグラウンド成
分が高くなって、本来測定しなければならない微小な露
光データがそのバックグラウンド成分に隠されて検出で
きなくなるおそれもある。これに対し、本実施形態のよ
うに散乱線除去カバー８を用いれば、カバー９からの散
乱Ｘ線がＸ線検出器４へ向かって進行することを阻止で
きるので、Ｘ線検出器４によって高精度のＸ線測定を行
うことができる。
と、試料Ｓからの回折Ｘ線Ｒ１とは関係の無い所に露光
像が形成されてしまうので、測定結果が不正確になるお
それがある。また、散乱Ｘ線がＸ線検出器４を広く露光
することにより、測定結果におけるバックグラウンド成
分が高くなって、本来測定しなければならない微小な露
光データがそのバックグラウンド成分に隠されて検出で
きなくなるおそれもある。これに対し、本実施形態のよ
うに散乱線除去カバー８を用いれば、カバー９からの散
乱Ｘ線がＸ線検出器４へ向かって進行することを阻止で
きるので、Ｘ線検出器４によって高精度のＸ線測定を行
うことができる。
【００５０】なお、本実施形態では、図３（ａ）及び図
３（ｂ）に示すように、散乱線除去カバー８を構成する
壁１６のカバー９側の開口１４ａが、その幅方向Ｗ及び
高さ方向Ｈの両方に関して、試料Ｓ側の開口１４ｂより
も広く形成されているので、カバー９のＸ線通過点に発
生する散乱Ｘ線を漏れなく遮蔽することができる。ま
た、開口１４ａをそのように広く形成したので、入射Ｘ
線Ｒ０の面内回転角度φ及び入射角度θを広く取ること
ができる。
３（ｂ）に示すように、散乱線除去カバー８を構成する
壁１６のカバー９側の開口１４ａが、その幅方向Ｗ及び
高さ方向Ｈの両方に関して、試料Ｓ側の開口１４ｂより
も広く形成されているので、カバー９のＸ線通過点に発
生する散乱Ｘ線を漏れなく遮蔽することができる。ま
た、開口１４ａをそのように広く形成したので、入射Ｘ
線Ｒ０の面内回転角度φ及び入射角度θを広く取ること
ができる。
【００５１】また、試料Ｓに関してＸ線入射側に発生す
る散乱Ｘ線は、Ｘ線検出器４を広く露光するおそれがあ
るが、試料Ｓの入射Ｘ線側に配設された散乱線除去カバ
ー８はそのようなＸ線入射側に発生する散乱Ｘ線を発生
源の近傍で抑えることができ、よって、散乱Ｘ線を遮蔽
する効率が非常に高い。
る散乱Ｘ線は、Ｘ線検出器４を広く露光するおそれがあ
るが、試料Ｓの入射Ｘ線側に配設された散乱線除去カバ
ー８はそのようなＸ線入射側に発生する散乱Ｘ線を発生
源の近傍で抑えることができ、よって、散乱Ｘ線を遮蔽
する効率が非常に高い。
【００５２】また、本実施形態の散乱線除去カバー８
は、縦壁１６ａと横壁１６ｂとを組み合わせた箱型に形
成されているので、例えば、散乱線除去カバー８をドー
ム型、すなわち、かまぼこ型に形成する場合に比べて、
散乱Ｘ線を回収、すなわち遮蔽する効率が非常に高い。
また、本実施形態の散乱線除去カバー８は、視覚的に透
明なプラスチックによって形成されているので、Ｘ線測
定中の試料Ｓの状態を視覚によって確認できる。
は、縦壁１６ａと横壁１６ｂとを組み合わせた箱型に形
成されているので、例えば、散乱線除去カバー８をドー
ム型、すなわち、かまぼこ型に形成する場合に比べて、
散乱Ｘ線を回収、すなわち遮蔽する効率が非常に高い。
また、本実施形態の散乱線除去カバー８は、視覚的に透
明なプラスチックによって形成されているので、Ｘ線測
定中の試料Ｓの状態を視覚によって確認できる。
【００５３】また、本実施形態の試料高温装置３におい
ては、半球状に形成されたカバー９の全体が本体部６に
対して着脱できるので、試料板７に対する試料Ｓの着脱
を非常に簡単に行うことができる。
ては、半球状に形成されたカバー９の全体が本体部６に
対して着脱できるので、試料板７に対する試料Ｓの着脱
を非常に簡単に行うことができる。
【００５４】以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を
説明したが、本発明はその実施形態に限定されるもので
なく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変
できる。
説明したが、本発明はその実施形態に限定されるもので
なく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変
できる。
【００５５】例えば、図１の実施形態では、試料を加熱
する手段を有する試料高温装置３をＸ線装置用アタッチ
メントとして考えたが、Ｘ線装置用アタッチメントはそ
のような試料高温装置に限られず、以下のような種々の
装置が考えられる。例えば、試料を冷却する冷却手段を
有する試料冷却装置や、試料の周りの湿度を変化させる
湿度調節手段を有する装置や、試料の周りを大気とは異
なったガス雰囲気に設定する雰囲気調整装置等といった
各種の装置をＸ線装置用アタッチメントとして考えるこ
とができる。これら各種の装置は、いずれも、試料を包
囲するカバーを有する点で共通している。
する手段を有する試料高温装置３をＸ線装置用アタッチ
メントとして考えたが、Ｘ線装置用アタッチメントはそ
のような試料高温装置に限られず、以下のような種々の
装置が考えられる。例えば、試料を冷却する冷却手段を
有する試料冷却装置や、試料の周りの湿度を変化させる
湿度調節手段を有する装置や、試料の周りを大気とは異
なったガス雰囲気に設定する雰囲気調整装置等といった
各種の装置をＸ線装置用アタッチメントとして考えるこ
とができる。これら各種の装置は、いずれも、試料を包
囲するカバーを有する点で共通している。
【００５６】また、図１の実施形態では、受光面に蓄積
性蛍光体を平面的に備えたＸ線検出器を２次元Ｘ線検手
段として用いたが、２次元Ｘ線検出器としてはこれ以外
のＸ線検出器、例えば、Ｘ線乾板、Ｘ線フィルム、２次
元ＣＣＤ検出器等を用いることができる。
性蛍光体を平面的に備えたＸ線検出器を２次元Ｘ線検手
段として用いたが、２次元Ｘ線検出器としてはこれ以外
のＸ線検出器、例えば、Ｘ線乾板、Ｘ線フィルム、２次
元ＣＣＤ検出器等を用いることができる。
【００５７】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明に係るＸ
線装置用アタッチメント、Ｘ線高温装置及びＸ線装置に
よれば、試料に入射するＸ線及び試料から出射するＸ線
の進行路に不要なＸ線が入り込むことを壁によって阻止
できるので、不要なＸ線が測定対象であるＸ線と共にＸ
線検出器に取り込まれることを防止でき、その結果、精
度の高いＸ線測定を行うことができる。
線装置用アタッチメント、Ｘ線高温装置及びＸ線装置に
よれば、試料に入射するＸ線及び試料から出射するＸ線
の進行路に不要なＸ線が入り込むことを壁によって阻止
できるので、不要なＸ線が測定対象であるＸ線と共にＸ
線検出器に取り込まれることを防止でき、その結果、精
度の高いＸ線測定を行うことができる。
【図１】本発明に係るＸ線装置用アタッチメント、Ｘ線
高温装置及びＸ線装置のそれぞれの一実施形態を示す斜
視図である。
高温装置及びＸ線装置のそれぞれの一実施形態を示す斜
視図である。
【図２】図１に示す試料高温装置を分解して示す斜視図
である。
である。
【図３】図２に示す試料高温装置の主要部を示し、
（ａ）はその平面断面図、（ｂ）はその側面断面図であ
る。
（ａ）はその平面断面図、（ｂ）はその側面断面図であ
る。
【図４】従来のＸ線装置の一例を示す斜視図である。
１ Ｘ線装置
２ 支持部材
３ 試料高温装置（Ｘ線装置用アタッチメン
ト） ４ Ｘ線検出器 ６ 試料高温装置の本体部 ７ 試料板 ８ 散乱線除去カバー ９ カバー １４ａ カバー側の開口 １４ｂ 試料側の開口 １６ 壁 １６ａ 縦壁 １６ｂ 横壁 １８ 棒状ヒータ １９ ゴニオメータ Ｆ Ｘ線源 Ｈ 開口の高さ Ｒ０，Ｒ１ Ｘ線 Ｓ 試料 Ｗ 開口の幅 θ Ｘ線入射角 ２θ Ｘ線回折角 φ 面内角度
ト） ４ Ｘ線検出器 ６ 試料高温装置の本体部 ７ 試料板 ８ 散乱線除去カバー ９ カバー １４ａ カバー側の開口 １４ｂ 試料側の開口 １６ 壁 １６ａ 縦壁 １６ｂ 横壁 １８ 棒状ヒータ １９ ゴニオメータ Ｆ Ｘ線源 Ｈ 開口の高さ Ｒ０，Ｒ１ Ｘ線 Ｓ 試料 Ｗ 開口の幅 θ Ｘ線入射角 ２θ Ｘ線回折角 φ 面内角度
Claims (11)
- 【請求項１】 Ｘ線装置の試料支持部に装着されるアタ
ッチメントにおいて、 試料を包囲するカバーと、 該カバーと前記試料との間に設けられる散乱線除去カバ
ーとを有し、 該散乱線除去カバーは、カバー側に面積の大きい開口を
有し試料側に面積の小さい開口を有する壁によって形成
されることを特徴とするＸ線装置用アタッチメント。 - 【請求項２】 請求項１において、前記カバー側の開口
は幅及び高さの両方で前記試料側の開口よりも大きいこ
とを特徴とするＸ線装置用アタッチメント。 - 【請求項３】 請求項１又は請求項２において、前記散
乱線除去カバーは前記試料に対してＸ線入射側に配設さ
れることを特徴とするＸ線装置用アタッチメント。 - 【請求項４】 請求項１から請求項３の少なくともいず
れか１つにおいて、前記壁は互いに直角な縦壁と横壁と
の組み合わせによって形成されることを特徴とするＸ線
装置用アタッチメント。 - 【請求項５】 請求項１から請求項４の少なくともいず
れか１つにおいて、前記カバーは視覚的に透明でＸ線を
透過できる物質によって半球形状に形成されることを特
徴とするＸ線装置用アタッチメント。 - 【請求項６】 請求項１から請求項５の少なくともいず
れか１つにおいて、前記Ｘ線装置の試料支持部に取り付
けられる本体部を有し、前記カバーは該本体部に着脱可
能に固定されることを特徴とするＸ線装置用アタッチメ
ント。 - 【請求項７】 請求項６において、 前記カバーの内周面にネジが形成され、 前記本体部の外周面にネジが形成され、 前記カバー側のネジと前記本体部側のネジとをネジ嵌合
させることにより前記カバーが前記本体部に装着される
ことを特徴とするＸ線装置用アタッチメント。 - 【請求項８】 請求項１から請求項７の少なくともいず
れか１つにおいて、前記試料を加熱する加熱手段、前記
試料を冷却する冷却手段、前記試料の周りの湿度を変化
させる湿度調節手段、及び前記試料の周りを大気とは異
なるガス雰囲気に設定する雰囲気調整手段の少なくとも
１つを、さらに、有することを特徴とするＸ線装置用ア
タッチメント。 - 【請求項９】 Ｘ線装置の試料支持部に装着される試料
高温装置において、 試料を載置する試料板と、該試料板を加熱する加熱手段
と、試料を包囲するカバーと、該カバーと前記試料との
間に設けられる散乱線除去カバーとを有し、該散乱線除
去カバーは、カバー側に面積の大きい開口を有し試料側
に面積の小さい開口を有する壁によって形成されること
を特徴とする試料高温装置。 - 【請求項１０】 試料を支持する試料支持手段と、前記
試料に照射するＸ線を発生するＸ線源と、前記試料から
発生したＸ線を検出するＸ線検出手段と、前記試料支持
手段に装着されるＸ線装置用アタッチメントとを有する
Ｘ線装置において、 前記Ｘ線装置用アタッチメントは請求項１から請求項８
の少なくともいずれか１つに記載した構成を有すること
を特徴とするＸ線装置。 - 【請求項１１】 請求項１０において、前記Ｘ線検出手
段は２次元Ｘ線検出器を有することを特徴とするＸ線装
置。
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|---|---|---|---|
| JP2001351094A JP3581848B2 (ja) | 2001-11-16 | 2001-11-16 | Ｘ線装置用アタッチメント、試料高温装置及びｘ線装置 |
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- 2001-11-16 JP JP2001351094A patent/JP3581848B2/ja not_active Expired - Fee Related
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