JP2003149348A - Ｘ線装置用スリット及びｘ線装置 - Google Patents
Ｘ線装置用スリット及びｘ線装置Info
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- JP2003149348A JP2003149348A JP2001351095A JP2001351095A JP2003149348A JP 2003149348 A JP2003149348 A JP 2003149348A JP 2001351095 A JP2001351095 A JP 2001351095A JP 2001351095 A JP2001351095 A JP 2001351095A JP 2003149348 A JP2003149348 A JP 2003149348A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 試料から離れた所に在る物質から発生する不
要なＸ線がＸ線検出器に取り込まれることを防止して、
Ｘ線測定精度を高く維持できるようにする。 【解決手段】 試料ＳとＸ線検出器３との間に設けられ
るＸ線装置用スリット４である。このスリット４は、縦
壁１１及び横壁１２によって互いに隙間無く隣接するよ
うに区画された複数の空間１３を有し、これらの空間１
３は、試料Ｓに対向して入射用開口１４を有し、Ｘ線検
出器３に対向して出射用開口１６を有する。また、これ
らの空間１３は、それぞれ、試料ＳからＸ線検出器３に
向かって試料Ｓを中心として放射状に広がっている。試
料Ｓから発生した回折Ｘ線は空間１３を通ってＸ線検出
器３に到達する。試料Ｓ以外の物体から発生する不要な
Ｘ線は縦壁１１又は横壁１２によって遮蔽されてＸ線検
出器３には達しない。
要なＸ線がＸ線検出器に取り込まれることを防止して、
Ｘ線測定精度を高く維持できるようにする。 【解決手段】 試料ＳとＸ線検出器３との間に設けられ
るＸ線装置用スリット４である。このスリット４は、縦
壁１１及び横壁１２によって互いに隙間無く隣接するよ
うに区画された複数の空間１３を有し、これらの空間１
３は、試料Ｓに対向して入射用開口１４を有し、Ｘ線検
出器３に対向して出射用開口１６を有する。また、これ
らの空間１３は、それぞれ、試料ＳからＸ線検出器３に
向かって試料Ｓを中心として放射状に広がっている。試
料Ｓから発生した回折Ｘ線は空間１３を通ってＸ線検出
器３に到達する。試料Ｓ以外の物体から発生する不要な
Ｘ線は縦壁１１又は横壁１２によって遮蔽されてＸ線検
出器３には達しない。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｘ線装置で用いら
れるスリット及びそのスリットを用いたＸ線装置に関す
る。
れるスリット及びそのスリットを用いたＸ線装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】試料にＸ線を照射し、そのときに試料か
ら発生するＸ線、例えば試料で回折したＸ線をＸ線カウ
ンタ等といったＸ線検出手段によって検出するＸ線測定
を行うＸ線装置は従来から広く知られている。また、試
料を適宜のアタッチメントに収容した状態で上記のＸ線
測定を行うようにしたＸ線装置も知られている。
ら発生するＸ線、例えば試料で回折したＸ線をＸ線カウ
ンタ等といったＸ線検出手段によって検出するＸ線測定
を行うＸ線装置は従来から広く知られている。また、試
料を適宜のアタッチメントに収容した状態で上記のＸ線
測定を行うようにしたＸ線装置も知られている。
【０００３】この種のＸ線装置では、Ｘ線検出手段は試
料から発生するＸ線を検出することが主な役割である
が、何等の措置も講じておかないと、試料を収容するア
タッチメントから発生する不要なＸ線もＸ線検出手段に
よって取り込まれてしまい、測定結果が不正確になるお
それがある。
料から発生するＸ線を検出することが主な役割である
が、何等の措置も講じておかないと、試料を収容するア
タッチメントから発生する不要なＸ線もＸ線検出手段に
よって取り込まれてしまい、測定結果が不正確になるお
それがある。
【０００４】この問題を解消するため、従来、図４に示
すように、試料ＳとＸ線検出器５１との間にスリット５
２を配置した構造のＸ線装置が知られている。試料Ｓ
は、例えば、試料Ｓの温度を変化させるためのアタッチ
メントである温度調整装置５３に収容されている。ま
た、スリット５２は、横方向すなわち矢印Ａ方向に互い
に平行に並べられた複数の壁５４によって構成されてい
る。
すように、試料ＳとＸ線検出器５１との間にスリット５
２を配置した構造のＸ線装置が知られている。試料Ｓ
は、例えば、試料Ｓの温度を変化させるためのアタッチ
メントである温度調整装置５３に収容されている。ま
た、スリット５２は、横方向すなわち矢印Ａ方向に互い
に平行に並べられた複数の壁５４によって構成されてい
る。
【０００５】Ｘ線検出器５１は、１次元Ｘ線検出器とし
てのＰＳＰＣ（Position SensitiveProportional Count
er：位置感応型比例計数管）によって構成されている。
このＰＳＰＣ５１は、周知の通り、線状のＸ線取込み口
５６を有し、そのＸ線取込み口５６のいずれかの位置に
Ｘ線が入ったときには、そのＸ線が入った位置すなわち
Ｘ線の回折角度に対応した信号及びそのＸ線の強度に対
応した信号を出力する。
てのＰＳＰＣ（Position SensitiveProportional Count
er：位置感応型比例計数管）によって構成されている。
このＰＳＰＣ５１は、周知の通り、線状のＸ線取込み口
５６を有し、そのＸ線取込み口５６のいずれかの位置に
Ｘ線が入ったときには、そのＸ線が入った位置すなわち
Ｘ線の回折角度に対応した信号及びそのＸ線の強度に対
応した信号を出力する。
【０００６】図４に示す従来の装置では、Ｘ線源Ｆから
放射されたＸ線は発散規制スリット５７によって規制さ
れて試料Ｓへ向けられる。そして、試料Ｓに入射するＸ
線が試料Ｓの結晶格子面に対してブラッグの回折条件を
満足する関係になるときに、試料Ｓから回折Ｘ線が発生
する。この回折Ｘ線はスリット５２を構成する複数の壁
５４の間に形成される空間を通ってＸ線取込み口５６に
入ってＰＳＰＣ５１に取り込まれる。
放射されたＸ線は発散規制スリット５７によって規制さ
れて試料Ｓへ向けられる。そして、試料Ｓに入射するＸ
線が試料Ｓの結晶格子面に対してブラッグの回折条件を
満足する関係になるときに、試料Ｓから回折Ｘ線が発生
する。この回折Ｘ線はスリット５２を構成する複数の壁
５４の間に形成される空間を通ってＸ線取込み口５６に
入ってＰＳＰＣ５１に取り込まれる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】図４に示すＸ線装置で
は、試料Ｓから発生する回折Ｘ線が測定対象となるＸ線
であるが、測定の最中にはそのＸ線以外に不要なＸ線が
発生してＰＳＰＣ５１へ向うことがある。例えば、試料
Ｓへ入射するＸ線Ｒ０が温度調整装置５３のケーシング
５８の一部に形成したＸ線通過窓５９を通過するとき、
そのＸ線通過窓５９から散乱Ｘ線が発生してＰＳＰＣ５
１へ向うことがある。この場合、この不要なＸ線はスリ
ット５２の壁５４によってその進行を阻止されて、ＰＳ
ＰＣ５１に取り込まれることが防止され、これにより、
正確なＸ線測定が行われるようになっている。
は、試料Ｓから発生する回折Ｘ線が測定対象となるＸ線
であるが、測定の最中にはそのＸ線以外に不要なＸ線が
発生してＰＳＰＣ５１へ向うことがある。例えば、試料
Ｓへ入射するＸ線Ｒ０が温度調整装置５３のケーシング
５８の一部に形成したＸ線通過窓５９を通過するとき、
そのＸ線通過窓５９から散乱Ｘ線が発生してＰＳＰＣ５
１へ向うことがある。この場合、この不要なＸ線はスリ
ット５２の壁５４によってその進行を阻止されて、ＰＳ
ＰＣ５１に取り込まれることが防止され、これにより、
正確なＸ線測定が行われるようになっている。
【０００８】しかしながら、上記従来のＸ線装置では、
スリット５２を構成する複数の壁５４がＰＳＰＣ５１の
Ｘ線取込み口５６の延在方向、すなわち図４の水平方向
に沿って互いに平行に並べられていたので、水平方向に
分散する不要なＸ線はそれらの壁５４によって進行を阻
止できるものの、各スリットすなわち各空間の延在方
向、すなわち図４の上下方向にはＸ線の進行を阻止でき
る部材は設けられておらず、従って、上下方向に分散す
る不要なＸ線の進行方向は阻止できなかった。
スリット５２を構成する複数の壁５４がＰＳＰＣ５１の
Ｘ線取込み口５６の延在方向、すなわち図４の水平方向
に沿って互いに平行に並べられていたので、水平方向に
分散する不要なＸ線はそれらの壁５４によって進行を阻
止できるものの、各スリットすなわち各空間の延在方
向、すなわち図４の上下方向にはＸ線の進行を阻止でき
る部材は設けられておらず、従って、上下方向に分散す
る不要なＸ線の進行方向は阻止できなかった。
【０００９】以上の結果、上下方向に分散する不要なＸ
線は壁５４によって阻止されること無くＰＳＰＣ５１に
取り込まれてしまい、それ故、試料Ｓ以外からの回折Ｘ
線が検出されてしまったり、測定結果におけるバックグ
ラウンドが上がって測定結果の信頼性が低下する等とい
った不都合が発生するおそれがあった。
線は壁５４によって阻止されること無くＰＳＰＣ５１に
取り込まれてしまい、それ故、試料Ｓ以外からの回折Ｘ
線が検出されてしまったり、測定結果におけるバックグ
ラウンドが上がって測定結果の信頼性が低下する等とい
った不都合が発生するおそれがあった。
【００１０】また、図４に示すようにＸ線検出手段とし
てＰＳＰＣ５１のような１次元Ｘ線検出器を用いる場合
や、Ｘ線検出手段としてＰＣ（Proportional Counter：
比例計数管）やＳＣ（Scintillation Counter：シンチ
レーションカウンタ）等といった０次元Ｘ線検出器を用
いる場合には、特に問題がないものの、Ｘ線検出手段と
して２次元Ｘ線検出器、すなわちＸ線を平面的に検出で
きる構造のＸ線検出器、例えば蓄積性蛍光体を用いたＸ
線検出器を用いる場合には、図４のスリット５２の壁５
４と平行に進行する不要なＸ線が２次元Ｘ線検出器によ
って検出されてしまい、それ故，測定の信頼性が低下す
るという問題もあった。
てＰＳＰＣ５１のような１次元Ｘ線検出器を用いる場合
や、Ｘ線検出手段としてＰＣ（Proportional Counter：
比例計数管）やＳＣ（Scintillation Counter：シンチ
レーションカウンタ）等といった０次元Ｘ線検出器を用
いる場合には、特に問題がないものの、Ｘ線検出手段と
して２次元Ｘ線検出器、すなわちＸ線を平面的に検出で
きる構造のＸ線検出器、例えば蓄積性蛍光体を用いたＸ
線検出器を用いる場合には、図４のスリット５２の壁５
４と平行に進行する不要なＸ線が２次元Ｘ線検出器によ
って検出されてしまい、それ故，測定の信頼性が低下す
るという問題もあった。
【００１１】本発明は、上記の問題点に鑑みて成された
ものであって、試料から離れた所に在る物質から発生す
る不要なＸ線がＸ線検出器に取り込まれることを防止し
て、Ｘ線測定精度を高く維持できるようにすることを目
的とする。
ものであって、試料から離れた所に在る物質から発生す
る不要なＸ線がＸ線検出器に取り込まれることを防止し
て、Ｘ線測定精度を高く維持できるようにすることを目
的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】（１） 上記の目的を達
成するため、本発明に係るＸ線装置用スリットは、試料
とＸ線検出手段との間に設けられるＸ線装置用スリット
において、前記試料に対向して入射用開口を有し前記Ｘ
線検出手段に対向して出射用開口を有するように前記試
料と前記Ｘ線検出手段との間で上下左右を壁によって区
画された複数の空間を有し、該複数の空間は互いに隙間
無く隣接して配置され、該複数の空間の個々は前記試料
から前記Ｘ線検出手段に向かって前記試料を中心として
放射状に広がることを特徴とする。
成するため、本発明に係るＸ線装置用スリットは、試料
とＸ線検出手段との間に設けられるＸ線装置用スリット
において、前記試料に対向して入射用開口を有し前記Ｘ
線検出手段に対向して出射用開口を有するように前記試
料と前記Ｘ線検出手段との間で上下左右を壁によって区
画された複数の空間を有し、該複数の空間は互いに隙間
無く隣接して配置され、該複数の空間の個々は前記試料
から前記Ｘ線検出手段に向かって前記試料を中心として
放射状に広がることを特徴とする。
【００１３】この構成のＸ線装置用スリットによれば、
試料から発生した測定対象であるＸ線は上記の空間を通
ってＸ線検出手段に到達してカウントされる。一方、試
料以外の物質から発生した不要なＸ線は上記の壁によっ
て遮蔽されてＸ線検出手段に到達することを阻止され
る。このとき、壁は上下左右の全周にわたって設けられ
るので、不要なＸ線はそれが上下方向に分散するもので
あっても、あるいは左右方向に分散するものであって
も、全て壁によって遮蔽できる。それ故、Ｘ線検出手段
が不要なＸ線を取り込んでしまうことを確実に防止で
き、この結果、精度の高いＸ線測定結果を得ることがで
きる。
試料から発生した測定対象であるＸ線は上記の空間を通
ってＸ線検出手段に到達してカウントされる。一方、試
料以外の物質から発生した不要なＸ線は上記の壁によっ
て遮蔽されてＸ線検出手段に到達することを阻止され
る。このとき、壁は上下左右の全周にわたって設けられ
るので、不要なＸ線はそれが上下方向に分散するもので
あっても、あるいは左右方向に分散するものであって
も、全て壁によって遮蔽できる。それ故、Ｘ線検出手段
が不要なＸ線を取り込んでしまうことを確実に防止で
き、この結果、精度の高いＸ線測定結果を得ることがで
きる。
【００１４】（２） 次に、本発明に係る他のＸ線装置
用スリットは、試料とＸ線検出器との間に設けられるＸ
線装置用スリットにおいて、前記試料を中心として放射
状に配置された複数の縦壁と、該複数の縦壁に交差する
と共に前記試料を中心として放射状に配置された複数の
横壁とを有することを特徴とする。
用スリットは、試料とＸ線検出器との間に設けられるＸ
線装置用スリットにおいて、前記試料を中心として放射
状に配置された複数の縦壁と、該複数の縦壁に交差する
と共に前記試料を中心として放射状に配置された複数の
横壁とを有することを特徴とする。
【００１５】この構成のＸ線装置用スリットによれば、
試料から発生した測定対象であるＸ線は上記縦壁と上記
横壁とによって囲まれる空間を通ってＸ線検出手段に到
達してカウントされる。一方、試料以外の物質から発生
した不要なＸ線は上記縦壁又は上記横壁によって遮蔽さ
れてＸ線検出手段に到達することを阻止される。このと
き、縦壁及び横壁はＸ線通路の上下左右の全周にわたっ
て設けられるので、不要なＸ線はそれが上下方向に分散
するものであっても、あるいは左右方向に分散するもの
であっても、全て縦壁又は横壁によって遮蔽できる。そ
れ故、Ｘ線検出手段が不要なＸ線を取り込んでしまうこ
とを確実に防止でき、この結果、精度の高いＸ線測定結
果を得ることができる。
試料から発生した測定対象であるＸ線は上記縦壁と上記
横壁とによって囲まれる空間を通ってＸ線検出手段に到
達してカウントされる。一方、試料以外の物質から発生
した不要なＸ線は上記縦壁又は上記横壁によって遮蔽さ
れてＸ線検出手段に到達することを阻止される。このと
き、縦壁及び横壁はＸ線通路の上下左右の全周にわたっ
て設けられるので、不要なＸ線はそれが上下方向に分散
するものであっても、あるいは左右方向に分散するもの
であっても、全て縦壁又は横壁によって遮蔽できる。そ
れ故、Ｘ線検出手段が不要なＸ線を取り込んでしまうこ
とを確実に防止でき、この結果、精度の高いＸ線測定結
果を得ることができる。
【００１６】（３） 縦壁及び横壁を用いる上記構成の
Ｘ線装置用スリットにおいて、前記複数の縦壁と前記複
数の横壁は互いに隙間無く隣接して配置された複数の空
間を形成し、これらの空間の個々は、前記試料から前記
Ｘ線検出手段に向かって前記試料を中心として放射状に
広がることを特徴とする。この構成のＸ線装置用スリッ
トによれば、試料から発生したＸ線を縦壁及び横壁に衝
突させること無く確実にＸ線検出手段に到達させること
ができる。
Ｘ線装置用スリットにおいて、前記複数の縦壁と前記複
数の横壁は互いに隙間無く隣接して配置された複数の空
間を形成し、これらの空間の個々は、前記試料から前記
Ｘ線検出手段に向かって前記試料を中心として放射状に
広がることを特徴とする。この構成のＸ線装置用スリッ
トによれば、試料から発生したＸ線を縦壁及び横壁に衝
突させること無く確実にＸ線検出手段に到達させること
ができる。
【００１７】（４） 上記構成のＸ線装置用スリットに
おいて、Ｘ線の進行方向に対して直角方向の前記空間の
断面は矩形状とすることができる。この構成によれば、
測定対象であるＸ線を通過させると共に不要なＸ線は遮
蔽する作用を奏する前記複数の空間を縦方向及び横方向
の２方向へ隙間無く隣接して配置させることに関して好
都合である。
おいて、Ｘ線の進行方向に対して直角方向の前記空間の
断面は矩形状とすることができる。この構成によれば、
測定対象であるＸ線を通過させると共に不要なＸ線は遮
蔽する作用を奏する前記複数の空間を縦方向及び横方向
の２方向へ隙間無く隣接して配置させることに関して好
都合である。
【００１８】（５） 上記構成のＸ線装置用スリットに
おいて、前記試料に対向して複数の入射用開口が互いに
隙間無くマトリクス状に配列され、前記Ｘ線検出器に対
向して複数の出射用開口が互いに隙間無くマトリクス状
に配列され、さらに、前記出射用開口の面積は前記入射
用開口の面積よりも大きく設定することができる。この
構成によれば、測定対象であるＸ線を確実に通過させ、
一方、不要なＸ線は確実に遮蔽することができる。
おいて、前記試料に対向して複数の入射用開口が互いに
隙間無くマトリクス状に配列され、前記Ｘ線検出器に対
向して複数の出射用開口が互いに隙間無くマトリクス状
に配列され、さらに、前記出射用開口の面積は前記入射
用開口の面積よりも大きく設定することができる。この
構成によれば、測定対象であるＸ線を確実に通過させ、
一方、不要なＸ線は確実に遮蔽することができる。
【００１９】（６） 次に、本発明に関するＸ線装置
は、試料に照射するＸ線を発生するＸ線源と、前記から
発生するＸ線を検出するＸ線検出手段と、前記試料と前
記Ｘ線検出手段との間に配置されるスリットとを有し、
該スリットは、以上に記載した構成のＸ線装置用スリッ
トによって構成されることを特徴とする。
は、試料に照射するＸ線を発生するＸ線源と、前記から
発生するＸ線を検出するＸ線検出手段と、前記試料と前
記Ｘ線検出手段との間に配置されるスリットとを有し、
該スリットは、以上に記載した構成のＸ線装置用スリッ
トによって構成されることを特徴とする。
【００２０】このＸ線装置によれば、試料から発生した
測定対象であるＸ線は前記スリット内に設けられた前記
複数の空間を通ってＸ線検出手段に到達してカウントさ
れる。一方、試料以外の物質から発生した不要なＸ線は
前記複数の空間を区画する壁によって遮蔽されてＸ線検
出手段に到達することを阻止される。このとき、壁は上
下左右の全周にわたって設けられるので、不要なＸ線は
それが上下方向に分散するものであっても、あるいは左
右方向に分散するものであっても、全て壁によって遮蔽
できる。それ故、Ｘ線検出手段が不要なＸ線を取り込ん
でしまうことを確実に防止でき、この結果、精度の高い
Ｘ線測定結果を得ることができる。
測定対象であるＸ線は前記スリット内に設けられた前記
複数の空間を通ってＸ線検出手段に到達してカウントさ
れる。一方、試料以外の物質から発生した不要なＸ線は
前記複数の空間を区画する壁によって遮蔽されてＸ線検
出手段に到達することを阻止される。このとき、壁は上
下左右の全周にわたって設けられるので、不要なＸ線は
それが上下方向に分散するものであっても、あるいは左
右方向に分散するものであっても、全て壁によって遮蔽
できる。それ故、Ｘ線検出手段が不要なＸ線を取り込ん
でしまうことを確実に防止でき、この結果、精度の高い
Ｘ線測定結果を得ることができる。
【００２１】（７） 上記構成のＸ線装置において、前
記Ｘ線検出手段は２次元Ｘ線検出器によって構成でき
る。この２次元Ｘ線検出器は、Ｘ線を平面的、すなわち
２次元的に検出できる構造のＸ線検出器であり、例え
ば、Ｘ線乾板、Ｘ線フィルム、面状蓄積性蛍光体を備え
たＸ線検出器、面状ＣＣＤ（Charge Coupled Device）
センサを備えたＸ線検出器等を用いることができる。
記Ｘ線検出手段は２次元Ｘ線検出器によって構成でき
る。この２次元Ｘ線検出器は、Ｘ線を平面的、すなわち
２次元的に検出できる構造のＸ線検出器であり、例え
ば、Ｘ線乾板、Ｘ線フィルム、面状蓄積性蛍光体を備え
たＸ線検出器、面状ＣＣＤ（Charge Coupled Device）
センサを備えたＸ線検出器等を用いることができる。
【００２２】Ｘ線乾板は、比較的硬質で適宜の面積を有
するベース基板の片側表面又は両側表面にハロゲン化銀
を主成分とする乳剤を膜状に設けて成る平面状のＸ線検
出要素である。Ｘ線を露光したＸ線乾板を現像すること
により、そのＸ線乾板の表面に２次元的な、すなわち平
面的なＸ線分布を求めることができる。
するベース基板の片側表面又は両側表面にハロゲン化銀
を主成分とする乳剤を膜状に設けて成る平面状のＸ線検
出要素である。Ｘ線を露光したＸ線乾板を現像すること
により、そのＸ線乾板の表面に２次元的な、すなわち平
面的なＸ線分布を求めることができる。
【００２３】Ｘ線フィルムは、プラスチックフィルム、
例えば厚さの薄い可撓性を有するプラスチックフィルム
の片側又は両側表面にハロゲン化銀を主成分とする乳剤
を膜状に設けて成る平面状のＸ線検出要素である。この
Ｘ線フィルムにおいても、Ｘ線を露光したＸ線フィルム
を現像することにより、そのＸ線フィルムの表面に２次
元的な、すなわち平面的なＸ線分布を求めることができ
る。
例えば厚さの薄い可撓性を有するプラスチックフィルム
の片側又は両側表面にハロゲン化銀を主成分とする乳剤
を膜状に設けて成る平面状のＸ線検出要素である。この
Ｘ線フィルムにおいても、Ｘ線を露光したＸ線フィルム
を現像することにより、そのＸ線フィルムの表面に２次
元的な、すなわち平面的なＸ線分布を求めることができ
る。
【００２４】面状蓄積性蛍光体を備えたＸ線検出器は、
Ｘ線の受光面に面状の蓄積性蛍光体を設けて成る、エネ
ルギ蓄積型の放射線検出要素である。この蓄積性蛍光体
は、蓄積性蛍光体物質、例えばＢａＦＢｒ：Ｅｒ２＋の
微結晶を可撓性フィルム、平板状フィルム、その他の部
材の表面に塗布等によって成膜したものである。この蓄
積性蛍光体は、Ｘ線等をエネルギの形で蓄積することが
でき、さらにレーザ光等といった輝尽励起光の照射によ
りそのエネルギを外部に光として放出できる性質を有す
る物体である。
Ｘ線の受光面に面状の蓄積性蛍光体を設けて成る、エネ
ルギ蓄積型の放射線検出要素である。この蓄積性蛍光体
は、蓄積性蛍光体物質、例えばＢａＦＢｒ：Ｅｒ２＋の
微結晶を可撓性フィルム、平板状フィルム、その他の部
材の表面に塗布等によって成膜したものである。この蓄
積性蛍光体は、Ｘ線等をエネルギの形で蓄積することが
でき、さらにレーザ光等といった輝尽励起光の照射によ
りそのエネルギを外部に光として放出できる性質を有す
る物体である。
【００２５】つまり、蓄積性蛍光体にＸ線等を照射する
と、その照射された部分に対応する蓄積性蛍光体の内部
にエネルギが潜像として蓄積され、さらにその蓄積性蛍
光体にレーザ光等といった輝尽励起光を照射すると上記
潜像エネルギが光となって外部へ放出される。この放出
された光を光電管等によって検出することにより、潜像
の形成に寄与したＸ線の回折角度及び強度を測定でき
る。この蓄積性蛍光体は従来のＸ線フィルムに対して１
０〜６０倍程度の感度を有し、さらに１０６〜１０８程
度に及ぶ広いダイナミックレンジを有する。
と、その照射された部分に対応する蓄積性蛍光体の内部
にエネルギが潜像として蓄積され、さらにその蓄積性蛍
光体にレーザ光等といった輝尽励起光を照射すると上記
潜像エネルギが光となって外部へ放出される。この放出
された光を光電管等によって検出することにより、潜像
の形成に寄与したＸ線の回折角度及び強度を測定でき
る。この蓄積性蛍光体は従来のＸ線フィルムに対して１
０〜６０倍程度の感度を有し、さらに１０６〜１０８程
度に及ぶ広いダイナミックレンジを有する。
【００２６】面状ＣＣＤセンサを備えたＸ線検出器は、
ＣＣＤ、すなわち電荷結合素子をＸ線受光面に平面的に
配置して成るＸ線検出器である。ＣＣＤは、例えばシリ
コン基板上に複数の電極を絶縁膜を挟んで直線状又は面
状に並べることによって形成された電極アレイを有し、
この電極アレイをＸ線取込み口に対応して配置したもの
がＣＣＤ検出器である。
ＣＣＤ、すなわち電荷結合素子をＸ線受光面に平面的に
配置して成るＸ線検出器である。ＣＣＤは、例えばシリ
コン基板上に複数の電極を絶縁膜を挟んで直線状又は面
状に並べることによって形成された電極アレイを有し、
この電極アレイをＸ線取込み口に対応して配置したもの
がＣＣＤ検出器である。
【００２７】電極アレイを構成する個々の電極に対応す
る位置にＸ線が当たると、当該電極の下に電荷が蓄積さ
れ、さらに電極と基板との間に電圧を次々に与えること
により、蓄積された電荷を転送して外部へ出力するもの
である。
る位置にＸ線が当たると、当該電極の下に電荷が蓄積さ
れ、さらに電極と基板との間に電圧を次々に与えること
により、蓄積された電荷を転送して外部へ出力するもの
である。
【００２８】２次元Ｘ線検出器を用いた本発明の構成に
おいては、平面的に分散するＸ線の全てがその２次元Ｘ
線検出器によって同時に検出される。それ故、不要なＸ
線を検出してしまう可能性も高くなる。従って、この２
次元Ｘ線検出器に対して本発明に係るスリット、すなわ
ち上下左右の全方向が壁によって囲まれた複数の空間を
互いに隣接させて形成したスリットを用いれば、２次元
Ｘ線検出器が不要なＸ線で露光されることを確実に防止
できる。
おいては、平面的に分散するＸ線の全てがその２次元Ｘ
線検出器によって同時に検出される。それ故、不要なＸ
線を検出してしまう可能性も高くなる。従って、この２
次元Ｘ線検出器に対して本発明に係るスリット、すなわ
ち上下左右の全方向が壁によって囲まれた複数の空間を
互いに隣接させて形成したスリットを用いれば、２次元
Ｘ線検出器が不要なＸ線で露光されることを確実に防止
できる。
【００２９】（８） 上記構成のＸ線装置は、前記試料
を収容するアタッチメントを有することができ、さら
に、このアタッチメントは前記試料を包囲するカバーを
有することができる。
を収容するアタッチメントを有することができ、さら
に、このアタッチメントは前記試料を包囲するカバーを
有することができる。
【００３０】（９） 前記アタッチメントとしては、前
記試料の温度を変化させる温度制御用アタッチメント、
前記試料のまわりの湿度を変化させる湿度制御用アタッ
チメント又は前記試料のまわりのガスを大気とは異なる
ガスとする雰囲気調整用アタッチメント等が考えられ
る。
記試料の温度を変化させる温度制御用アタッチメント、
前記試料のまわりの湿度を変化させる湿度制御用アタッ
チメント又は前記試料のまわりのガスを大気とは異なる
ガスとする雰囲気調整用アタッチメント等が考えられ
る。
【００３１】試料の周囲にアタッチメントを設ける場合
には、そのアタッチメントの外壁にＸ線が当たって不要
なＸ線が発生する可能性が高い。よって、何等の措置も
講じなければ、Ｘ線検出手段がその不要なＸ線を取り込
んでしまい、その結果、測定結果の信頼性が低下するお
それがある。これに対し、本発明に係るスリット、すな
わち上下左右の全方向が壁によって囲まれた複数の空間
を互いに隣接させて形成したスリットを用いれば、２次
元Ｘ線検出器が不要なＸ線で露光されることを確実に防
止できる。
には、そのアタッチメントの外壁にＸ線が当たって不要
なＸ線が発生する可能性が高い。よって、何等の措置も
講じなければ、Ｘ線検出手段がその不要なＸ線を取り込
んでしまい、その結果、測定結果の信頼性が低下するお
それがある。これに対し、本発明に係るスリット、すな
わち上下左右の全方向が壁によって囲まれた複数の空間
を互いに隣接させて形成したスリットを用いれば、２次
元Ｘ線検出器が不要なＸ線で露光されることを確実に防
止できる。
【００３２】
【発明の実施の形態】図１は、本発明に係るＸ線装置及
び本発明に係るスリットの一実施形態を示している。こ
こに示すＸ線装置１は、Ｘ線を発生するＸ線源Ｆと、試
料Ｓを収容したアタッチメントとしての試料高温装置２
と、蓄積性蛍光体を備えた２次元Ｘ線検出器３と、試料
高温装置２とＸ線検出器３との間に配設されたスリット
４とを有する。
び本発明に係るスリットの一実施形態を示している。こ
こに示すＸ線装置１は、Ｘ線を発生するＸ線源Ｆと、試
料Ｓを収容したアタッチメントとしての試料高温装置２
と、蓄積性蛍光体を備えた２次元Ｘ線検出器３と、試料
高温装置２とＸ線検出器３との間に配設されたスリット
４とを有する。
【００３３】Ｘ線源Ｆは、例えば、加熱されることによ
って熱電子を放出するフィラメント（図示せず）及びそ
れに対向して配置されたターゲット（図示せず）によっ
て構成できる。また、試料高温装置２は、本体ケーシン
グ６と、その本体ケーシング６に着脱可能に取り付けら
れたカバー７とを有する。カバー７は、例えば、視覚的
に透明であり且つＸ線を透過できるプラスチックによっ
て形成されている。
って熱電子を放出するフィラメント（図示せず）及びそ
れに対向して配置されたターゲット（図示せず）によっ
て構成できる。また、試料高温装置２は、本体ケーシン
グ６と、その本体ケーシング６に着脱可能に取り付けら
れたカバー７とを有する。カバー７は、例えば、視覚的
に透明であり且つＸ線を透過できるプラスチックによっ
て形成されている。
【００３４】本体ケーシング６の上端には試料板８が設
けられ、この試料板８の上に試料Ｓが載置される。ま
た、本体ケーシング６の内部には棒状ヒータ９が設けら
れ、この棒状ヒータ９が発熱した場合には試料板８が加
熱され、これにより試料Ｓの温度が高温に設定される。
けられ、この試料板８の上に試料Ｓが載置される。ま
た、本体ケーシング６の内部には棒状ヒータ９が設けら
れ、この棒状ヒータ９が発熱した場合には試料板８が加
熱され、これにより試料Ｓの温度が高温に設定される。
【００３５】図２は、図１におけるＩＩ−ＩＩ線に従っ
て液晶装置１の側面断面構造を示している。また、図３
は、図１におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線に従って液晶装置１
の平面断面構造を示している。スリット４は、図１及び
図３に示すように複数の縦壁１１を有し、さらに図１及
び図２に示すように複数の横壁１２を有する。これらの
縦壁１１及び横壁１２は互いに交差するように設けら
れ、これにより、縦壁１１と横壁１２とによって囲まれ
る複数の空間１３が形成される。縦壁１１及び横壁１２
は、Ｘ線を透過させない物質、例えばステンレス等によ
って形成できる。
て液晶装置１の側面断面構造を示している。また、図３
は、図１におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線に従って液晶装置１
の平面断面構造を示している。スリット４は、図１及び
図３に示すように複数の縦壁１１を有し、さらに図１及
び図２に示すように複数の横壁１２を有する。これらの
縦壁１１及び横壁１２は互いに交差するように設けら
れ、これにより、縦壁１１と横壁１２とによって囲まれ
る複数の空間１３が形成される。縦壁１１及び横壁１２
は、Ｘ線を透過させない物質、例えばステンレス等によ
って形成できる。
【００３６】上記複数の空間１３は、縦方向Ｚ及び横方
向Ｘの両方向に隣接して配置されており、その結果、ス
リット４の試料Ｓに対向する面には縦横に隙間無くマト
リクス状に配列された複数の入射用開口１４が形成さ
れ、さらに、スリット４のＸ線検出器３に対向する面に
は同じく隙間無くマトリクス状に配列された複数の出射
用開口１６が形成される。
向Ｘの両方向に隣接して配置されており、その結果、ス
リット４の試料Ｓに対向する面には縦横に隙間無くマト
リクス状に配列された複数の入射用開口１４が形成さ
れ、さらに、スリット４のＸ線検出器３に対向する面に
は同じく隙間無くマトリクス状に配列された複数の出射
用開口１６が形成される。
【００３７】個々の空間１３は、試料Ｓ側に面積の小さ
い入射用開口１４を有し、Ｘ線検出器３側に面積の大き
い出射用開口１６を有する。そして、空間１３を形成す
る縦壁１１及び横壁１２は試料Ｓを中心として放射状に
広がるように配置され、この結果、個々の空間１３自体
が試料Ｓを中心としてＸ線検出器３に向かって放射状に
広がっている。
い入射用開口１４を有し、Ｘ線検出器３側に面積の大き
い出射用開口１６を有する。そして、空間１３を形成す
る縦壁１１及び横壁１２は試料Ｓを中心として放射状に
広がるように配置され、この結果、個々の空間１３自体
が試料Ｓを中心としてＸ線検出器３に向かって放射状に
広がっている。
【００３８】試料ＳからＸ線が発生する場合には、その
Ｘ線は個々の空間１３の中心線に沿って該空間１３内を
進行してＸ線検出器３に到達して該Ｘ線検出器３を露光
する。本実施形態では、縦壁１１及び横壁１２が互いに
略直角に交差しており、その結果、個々の空間１３の断
面は矩形状、すなわち長方形状又は正方形状に形成され
ている。但し、空間１３の断面形状はその他の四角形、
円形、三角形、その他任意の形状に形成することもでき
る。なお、当然のことながら、空間１３の断面形状がど
のように設定されたとしても、１つの空間１３とそれに
隣接する空間１３との間はＸ線が透過できないように設
定される。
Ｘ線は個々の空間１３の中心線に沿って該空間１３内を
進行してＸ線検出器３に到達して該Ｘ線検出器３を露光
する。本実施形態では、縦壁１１及び横壁１２が互いに
略直角に交差しており、その結果、個々の空間１３の断
面は矩形状、すなわち長方形状又は正方形状に形成され
ている。但し、空間１３の断面形状はその他の四角形、
円形、三角形、その他任意の形状に形成することもでき
る。なお、当然のことながら、空間１３の断面形状がど
のように設定されたとしても、１つの空間１３とそれに
隣接する空間１３との間はＸ線が透過できないように設
定される。
【００３９】本実施形態に係るＸ線装置１は上記のよう
に構成されているので、図２において、Ｘ線源Ｆから放
射されたＸ線Ｒ０は発散規制スリット１７によってその
進行方向が規制されて、試料高温装置２のカバー７を通
過して試料Ｓへ入射する。Ｘ線Ｒ０の試料Ｓへの入射角
度θは、試料Ｓをω軸線を中心として回転させることに
よって変化させることができる。
に構成されているので、図２において、Ｘ線源Ｆから放
射されたＸ線Ｒ０は発散規制スリット１７によってその
進行方向が規制されて、試料高温装置２のカバー７を通
過して試料Ｓへ入射する。Ｘ線Ｒ０の試料Ｓへの入射角
度θは、試料Ｓをω軸線を中心として回転させることに
よって変化させることができる。
【００４０】試料Ｓは、棒状ヒータ９によって加熱され
て所定の高温に設定されている。試料Ｓの結晶格子面と
それに入射するＸ線Ｒ０の入射角度θとの間でブラッグ
の回折条件が満足されると、試料Ｓから回折Ｘ線Ｒ１が
発生する。回折Ｘ線Ｒ１を希望する方向に取り出したい
場合には、試料Ｓをφ軸線を中心として適宜の角度だけ
回転させることにより、それを達成できる。
て所定の高温に設定されている。試料Ｓの結晶格子面と
それに入射するＸ線Ｒ０の入射角度θとの間でブラッグ
の回折条件が満足されると、試料Ｓから回折Ｘ線Ｒ１が
発生する。回折Ｘ線Ｒ１を希望する方向に取り出したい
場合には、試料Ｓをφ軸線を中心として適宜の角度だけ
回転させることにより、それを達成できる。
【００４１】試料Ｓから発生した回折Ｘ線Ｒ１は、試料
Ｓに固有の回折角度２θの所に発生するが、この回折Ｘ
線Ｒ１は試料Ｓを中心として放射状に延びる空間１３の
中を通って蓄積性蛍光体型の２次元Ｘ線検出器３に到達
してそれを露光し、その露光点にエネルギ潜像が形成さ
れる。試料ＳにＸ線Ｒ０が入射するとき、その入射Ｘ線
Ｒ０は試料高温装置２のカバー７を通過し、その通過時
にカバー７から散乱Ｘ線が発生する。
Ｓに固有の回折角度２θの所に発生するが、この回折Ｘ
線Ｒ１は試料Ｓを中心として放射状に延びる空間１３の
中を通って蓄積性蛍光体型の２次元Ｘ線検出器３に到達
してそれを露光し、その露光点にエネルギ潜像が形成さ
れる。試料ＳにＸ線Ｒ０が入射するとき、その入射Ｘ線
Ｒ０は試料高温装置２のカバー７を通過し、その通過時
にカバー７から散乱Ｘ線が発生する。
【００４２】この散乱Ｘ線は、試料Ｓから発生する測定
対象としてのＸ線ではない、不要なＸ線であるが、何も
しなければＸ線検出器３の所まで進行してそのＸ線検出
器３を露光してデータとして蓄積されてしまう。こうな
ると、試料Ｓとは無関係なデータが採取されたり、バッ
クグラウンドが高くなったりして、測定結果の信頼性が
低下する。
対象としてのＸ線ではない、不要なＸ線であるが、何も
しなければＸ線検出器３の所まで進行してそのＸ線検出
器３を露光してデータとして蓄積されてしまう。こうな
ると、試料Ｓとは無関係なデータが採取されたり、バッ
クグラウンドが高くなったりして、測定結果の信頼性が
低下する。
【００４３】このことに対し、本実施形態では、試料Ｓ
とＸ線検出器３との間に縦壁１１及び横壁１２を配置し
たので、不要なＸ線はそれらの壁によってその進行が阻
止され、その結果、試料Ｓからの回折Ｘ線以外の不要な
Ｘ線がＸ線検出器３に到達してそれを露光することを防
止できる。この結果、Ｘ線検出器３には、試料Ｓからの
回折線情報だけが鮮明に記録される。
とＸ線検出器３との間に縦壁１１及び横壁１２を配置し
たので、不要なＸ線はそれらの壁によってその進行が阻
止され、その結果、試料Ｓからの回折Ｘ線以外の不要な
Ｘ線がＸ線検出器３に到達してそれを露光することを防
止できる。この結果、Ｘ線検出器３には、試料Ｓからの
回折線情報だけが鮮明に記録される。
【００４４】特に本実施形態では、測定対象である回折
Ｘ線が通過する空間１３の上下及び左右の全周方向が縦
壁１１及び横壁１２によって囲まれるので、カバー７あ
るいはその他の試料以外の物体から発生する不要なＸ線
は、それが縦方向に分散するものであっても、あるいは
横方向に分散するものであっても、必ず、縦壁１１又は
横壁１２によって遮蔽される。これにより、試料Ｓから
のＸ線だけを明確に検出することができる。
Ｘ線が通過する空間１３の上下及び左右の全周方向が縦
壁１１及び横壁１２によって囲まれるので、カバー７あ
るいはその他の試料以外の物体から発生する不要なＸ線
は、それが縦方向に分散するものであっても、あるいは
横方向に分散するものであっても、必ず、縦壁１１又は
横壁１２によって遮蔽される。これにより、試料Ｓから
のＸ線だけを明確に検出することができる。
【００４５】以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を
説明したが、本発明はその実施形態に限定されるもので
なく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変
できる。
説明したが、本発明はその実施形態に限定されるもので
なく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変
できる。
【００４６】例えば、図１において、試料Ｓの周りに配
置される試料高温装置２は、図１に示した構造以外の構
造とすることができる。また、試料Ｓの周りに配設され
るアタッチメントとしては、試料高温装置に限られず、
試料Ｓを室温よりも低温に維持する試料低温装置や、試
料Ｓの温度を所定のプログラムに従って変化させる温度
制御装置や、試料Ｓのまわりの湿度を変化させる湿度制
御装置や、試料Ｓのまわりのガスを大気とは異なるガス
とする雰囲気調整装置等とすることができる。とにか
く、試料Ｓを包囲するカバーが用いられる場合には、本
発明を適用することにより、測定結果の信頼性を高める
ことができる。
置される試料高温装置２は、図１に示した構造以外の構
造とすることができる。また、試料Ｓの周りに配設され
るアタッチメントとしては、試料高温装置に限られず、
試料Ｓを室温よりも低温に維持する試料低温装置や、試
料Ｓの温度を所定のプログラムに従って変化させる温度
制御装置や、試料Ｓのまわりの湿度を変化させる湿度制
御装置や、試料Ｓのまわりのガスを大気とは異なるガス
とする雰囲気調整装置等とすることができる。とにか
く、試料Ｓを包囲するカバーが用いられる場合には、本
発明を適用することにより、測定結果の信頼性を高める
ことができる。
【００４７】また、空間１３のＸ線進行方向と直角方向
の断面形状は、図１に示したような矩形状に限られず、
その他の四角形、円形、三角形、その他任意の形状に形
成することもできる。
の断面形状は、図１に示したような矩形状に限られず、
その他の四角形、円形、三角形、その他任意の形状に形
成することもできる。
【００４８】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明に係るス
リット及びＸ線装置によれば、試料から発生した測定対
象であるＸ線は空間を通ってＸ線検出手段に到達してカ
ウントされる。一方、試料以外の物質から発生した不要
なＸ線は、上記の空間を形成する壁によって遮蔽されて
Ｘ線検出手段に到達することを阻止される。このとき、
壁は上下左右の全周にわたって設けられるので、不要な
Ｘ線はそれが上下方向に分散するものであっても、ある
いは左右方向に分散するものであっても、全て壁によっ
て遮蔽できる。それ故、Ｘ線検出手段が不要なＸ線を取
り込んでしまうことを確実に防止でき、この結果、精度
の高いＸ線測定結果を得ることができる。
リット及びＸ線装置によれば、試料から発生した測定対
象であるＸ線は空間を通ってＸ線検出手段に到達してカ
ウントされる。一方、試料以外の物質から発生した不要
なＸ線は、上記の空間を形成する壁によって遮蔽されて
Ｘ線検出手段に到達することを阻止される。このとき、
壁は上下左右の全周にわたって設けられるので、不要な
Ｘ線はそれが上下方向に分散するものであっても、ある
いは左右方向に分散するものであっても、全て壁によっ
て遮蔽できる。それ故、Ｘ線検出手段が不要なＸ線を取
り込んでしまうことを確実に防止でき、この結果、精度
の高いＸ線測定結果を得ることができる。
【図１】本発明に係るスリット及びＸ線装置の一実施形
態を示す斜視図である。
態を示す斜視図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線に従ってＸ線装置の側面断
面構造を示す図である。
面構造を示す図である。
【図３】図１のＩＩＩ−ＩＩＩ線に従ってＸ線装置の平
面断面構造を示す図である。
面断面構造を示す図である。
【図４】従来のＸ線装置の一例を示す斜視図である。
１ Ｘ線装置
２ 試料高温装置（アタッチメント）
３ Ｘ線検出器
４ スリット
６ 本体ケーシング
７ カバー
８ 試料板
９ 棒状ヒータ
１１ 縦壁
１２ 横壁
１３ 空間
１４ 入射用開口
１６ 出射用開口
１７ 発散規制スリット
Ｆ Ｘ線源
Ｒ０ 入射Ｘ線
Ｒ１ 回折Ｘ線
Ｓ 試料
θ Ｘ線入射角度
２θ Ｘ線回折角度
Claims (9)
- 【請求項１】 試料とＸ線検出手段との間に設けられる
Ｘ線装置用スリットにおいて、 前記試料に対向して入射用開口を有し前記Ｘ線検出手段
に対向して出射用開口を有するように前記試料と前記Ｘ
線検出手段との間で上下左右を壁によって区画された複
数の空間を有し、 該複数の空間は互いに隙間無く隣接して配置され、 該複数の空間の個々は、前記試料から前記Ｘ線検出手段
に向かって前記試料を中心として放射状に広がることを
特徴とするＸ線装置用スリット。 - 【請求項２】 試料とＸ線検出器との間に設けられるＸ
線装置用スリットにおいて、 前記試料を中心として放射状に配置された複数の縦壁
と、 該複数の縦壁に交差すると共に前記試料を中心として放
射状に配置された複数の横壁とを有することを特徴とす
るＸ線装置用スリット。 - 【請求項３】 請求項２において、前記複数の縦壁と前
記複数の横壁は互いに隙間無く隣接して配置された複数
の空間を形成し、 これらの空間の個々は、前記試料から前記Ｘ線検出手段
に向かって前記試料を中心として放射状に広がることを
特徴とするＸ線装置用スリット。 - 【請求項４】 請求項１から請求項３の少なくともいず
れか１つにおいて、Ｘ線の進行方向に対して直角方向の
前記空間の断面は矩形状であることを特徴とするＸ線装
置用スリット。 - 【請求項５】 請求項１から請求項４の少なくともいず
れか１つにおいて、前記試料に対向して複数の入射用開
口が互いに隙間無くマトリクス状に配列され、前記Ｘ線
検出器に対向して複数の出射用開口が互いに隙間無くマ
トリクス状に配列され、さらに、前記出射用開口の面積
は前記入射用開口の面積よりも大きいことを特徴とする
Ｘ線装置用スリット。 - 【請求項６】 試料に照射するＸ線を発生するＸ線源
と、前記から発生するＸ線を検出するＸ線検出手段と、
前記試料と前記Ｘ線検出手段との間に配置されるスリッ
トとを有し、 該スリットは、請求項１から請求項５に記載したスリッ
トによって構成されることを特徴とするＸ線装置。 - 【請求項７】 請求項６において、前記Ｘ線検出手段は
２次元Ｘ線検出器を有することを特徴とするＸ線装置。 - 【請求項８】 請求項６又は請求項７において、前記試
料を収容するアタッチメントを有し、該アタッチメント
は前記試料を包囲するカバーを有することを特徴とする
Ｘ線装置。 - 【請求項９】 請求項８において、前記アタッチメント
は、前記試料の温度を変化させる温度制御用アタッチメ
ント、前記試料のまわりの湿度を変化させる湿度制御用
アタッチメント又は前記試料のまわりのガスを大気とは
異なるガスとする雰囲気調整用アタッチメントであるこ
とを特徴とするＸ線装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001351095A JP2003149348A (ja) | 2001-11-16 | 2001-11-16 | Ｘ線装置用スリット及びｘ線装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001351095A JP2003149348A (ja) | 2001-11-16 | 2001-11-16 | Ｘ線装置用スリット及びｘ線装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003149348A true JP2003149348A (ja) | 2003-05-21 |
Family
ID=19163461
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001351095A Pending JP2003149348A (ja) | 2001-11-16 | 2001-11-16 | Ｘ線装置用スリット及びｘ線装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003149348A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008058233A (ja) * | 2006-09-01 | 2008-03-13 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Ｘ線回折装置 |
| GB2453633A (en) * | 2007-09-28 | 2009-04-15 | Rigaku Denki Co Ltd | An x-ray diffraction measuring system incorporating a debye-scherrer optical system |
| JP2010223836A (ja) * | 2009-03-24 | 2010-10-07 | Toshiba Corp | コリメータ、放射線検出器、ｘ線ｃｔ装置及びコリメータの製造方法 |
| WO2012093695A1 (ja) | 2011-01-07 | 2012-07-12 | 株式会社 東芝 | コリメータ及びｘ線コンピュータ断層撮影装置 |
-
2001
- 2001-11-16 JP JP2001351095A patent/JP2003149348A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| GB2453633A (en) * | 2007-09-28 | 2009-04-15 | Rigaku Denki Co Ltd | An x-ray diffraction measuring system incorporating a debye-scherrer optical system |
| DE102008048917A1 (de) | 2007-09-28 | 2009-04-30 | Rigaku Corp., Akishima-shi | Röntgendiffraktionsmessapparat mit einem optischen Debye-Scherrer-System und Röntgendiffraktionsmessverfahren für diesen Apparat |
| GB2453633B (en) * | 2007-09-28 | 2010-12-22 | Rigaku Denki Co Ltd | An X-ray diffraction measuring apparatus having debye-scherrer optical system therein, and an X-ray diffraction measuring method for the same |
| US7860217B2 (en) * | 2007-09-28 | 2010-12-28 | Rigaku Corporation | X-ray diffraction measuring apparatus having debye-scherrer optical system therein, and an X-ray diffraction measuring method for the same |
| JP2010223836A (ja) * | 2009-03-24 | 2010-10-07 | Toshiba Corp | コリメータ、放射線検出器、ｘ線ｃｔ装置及びコリメータの製造方法 |
| WO2012093695A1 (ja) | 2011-01-07 | 2012-07-12 | 株式会社 東芝 | コリメータ及びｘ線コンピュータ断層撮影装置 |
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Legal Events
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