JP2010066121A - X線回折装置およびx線回折方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】試料10を配置するための閉鎖された空間を構成する試料室100と、試料室100内の試料10を所定温度に加熱する加熱手段900と、X線が試料10に照射されて生じる回折X線を試料室100の外部で検出するX線検出部200とを備える透過型X線回折装置である。この装置は、試料室100の壁面にガラス製の入射部110と出射部150とを備え、試料室100内に第一遮蔽体300が配置される。第一遮蔽体300は、入射部110での散乱X線がX線検出部200の所定領域に達することを防止する。
【選択図】図1
Description
ガラス製の入射部を有する試料室内に試料をセットする工程。
この試料を所定の温度に加熱する工程。
試料室外から試料室内の試料に前記入射部を介してX線を照射する工程。
この照射に伴って、試料から生じる回折X線をガラス製の出射部を介して試料室外のX線検出部で検出する工程。
そして、この回折X線をX線検出部で検出するのに際し、前記X線の照射に伴って入射部で生じる散乱X線を試料室内にて遮蔽して、散乱X線がX線検出部の所定領域に達しないようにすることを特徴とする。
SPring-8をX線源に利用した本発明X線回折装置を図2、図3に示す。図2は同装置の模式側面図、図3はその模式平面図である。
上記の試料室100を、入射部110のみあって出射部のない構成とし、入射部110での散乱X線が回折X線の検出に及ぼす影響を検討した。図4(A)に示すように、試料室100はX線源側(図の左側)に入射部110が設けられているが、X線検出部200側は開放されて出射部が設けられていない。また、試料室100の内部にはガラス製のブロック状支持台130が設けられ、その支持台130上にステンレス製の容器型試料台120が載置される。試料10は、この試料台120にセットされる。
試料室の構成
材質:合成石英ガラス
形状:円筒形
入射部
材質:合成石英ガラス 厚さ:1mm
試料
材種:Bi2223系酸化物超電導テープ線材
サイズ:幅 4mm、厚さ 0.2mm
温度:常温
第一遮蔽体
形状:矩形板
材質:ガラス又はNi
厚さ:ガラス=1mm、Ni=0.1、0.2、0.3mmの3段階
X線検出部:イメージングプレート
次に、図2、3の装置において、試料室100を、出射部150のみあって入射部のない構成とし、出射部150での散乱X線が回折X線の検出に及ぼす影響を検討した。図8(A)に示すように、試料室100はX線源側に出射部150が設けられているが、X線検出部200側は開放されて入射部が設けられていない。試料室100の内部にブロック状支持台130、容器型試料台120が載置され、試料10が試料台120にセットされることは実施例1と同様である。
次に、本発明のX線回折装置の一例を図11、図12に基づいて説明する。この装置は、ガラス容器102と、ステンレス製の蓋部104とを有する試料室100を備える。
20 光軸
100 試料室
102 ガラス容器 104 蓋部 106 導入パイプ 106A 供給口
108 排気パイプ 108A 排気口
110 入射部 115 脚部 150 出射部
120 容器型試料台 130 支持台 160 X-Zステージ
200 X線検出部 210 イメージングプレート
300 第一遮蔽体
400 X線源
600 第二遮蔽体
610 水平片
650 ダイレクトビームストッパ
655 垂直片
700 鉛カバー 710 ミラー
800 光学ベンチ
810 レール 812、814、816 ジャッキ 818 レール
820 光学系 821 真空パス 822 シャッター
823 4象限スリット 824 イオンチャンバー 825 コリメータ
826 X-Zステージ
900 加熱手段 910 ヒータ
950、952、954、956 断熱材 954S スリット
960 ケース
970 移動機構 972 スライダ 974 台座
Claims (14)
- 試料を配置するための閉鎖された空間を構成する試料室と、
試料室内の試料を所定温度に加熱する加熱手段と、
試料室の外部から内部にX線を透過させるガラス製の入射部と、
入射部を透過したX線が試料に照射されて生じる回折X線を試料室の内部から外部に透過させるガラス製の出射部と、
出射部を透過した回折X線を試料室の外部で検出するX線検出部とを備える透過型X線回折装置であって、
前記試料室内に配置されて、前記入射部での散乱X線がX線検出部の所定領域に達することを防止する第一遮蔽体を備えることを特徴とする透過型X線回折装置。 - 前記試料室が円筒状で、その試料室の軸方向一端側に前記入射部を有することを特徴とする請求項1に記載の透過型X線回折装置。
- 前記試料室は、一端が開口され、他端が閉口されたガラス容器と、この容器の開口部を閉鎖する蓋部とを備えることを特徴とする請求項1又は2に記載の透過型X線回折装置。
- 前記蓋部が金属又はガラスであることを特徴とする請求項3に記載の透過型X線回折装置。
- 前記蓋部が金属製で、その蓋部に前記入射部が設けられていることを特徴とする請求項4に記載の透過型X線回折装置。
- 前記試料室は、その内部に所定の雰囲気ガスを導入する供給口と、試料室内の雰囲気ガスを試料室外に排出する排気口とを備え、
前記供給口と排気口とが、試料室の内部で互いに一端側と他端側に離れて配置されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の透過型X線回折装置。 - 前記加熱手段が、試料室の外部に設けられていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の透過型X線回折装置。
- 前記加熱手段は、試料室における試料配置箇所の外周を取り囲むように配され、
この加熱手段の外側を含む試料室の外側を覆う断熱材を備え、その断熱材は、試料に照射されるX線の光軸に干渉しないように配されていることを特徴とする請求項7に記載の透過型X線回折装置。 - 前記試料室、加熱手段、入射部、出射部、及び第一遮蔽体を備えるX線回折装置の主要部が複数並列され、
これら主要部群をX線の光軸に対して直交する方向に移動させることで、各主要部ごとに配された試料に順次X線が照射されるようにする移動機構を備えることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の透過型X線回折装置。 - 前記X線検出部が一次元X線検出器又は二次元X線検出器であることを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の透過型X線回折装置。
- 前記第一遮蔽体が、入射部と試料配置箇所との間に配されることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の透過型X線回折装置。
- 前記試料室外に配置されて、前記出射部での散乱X線がX線検出部の所定領域に達することを防止する第二遮蔽体を備えることを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記載の透過型X線回折装置。
- 前記第二遮蔽体は、X線の光軸上でX線を遮蔽するダイレクトビームストッパと一体化されていることを特徴とする請求項12に記載の透過型X線回折装置。
- 試料にX線を照射し、その照射に伴って試料から生じる回折X線を検出する透過型X線回折方法であって、
ガラス製の入射部を有する試料室内に試料をセットする工程と、
この試料を所定の温度に加熱する工程と、
試料室外から試料室内の試料に前記入射部を介してX線を照射する工程と、
この照射に伴って、試料から生じる回折X線をガラス製の出射部を介して試料室外のX線検出部で検出する工程とを備え、
この回折X線をX線検出部で検出するのに際し、前記X線の照射に伴って入射部で生じる散乱X線を試料室内にて遮蔽して、散乱X線がX線検出部の所定領域に達しないようにすることを特徴とする透過型X線回折方法。
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