JPH09257726A - Ｘ線分析装置および蛍光ｘ線分析用アタッチメント - Google Patents
Ｘ線分析装置および蛍光ｘ線分析用アタッチメントInfo
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- JPH09257726A JPH09257726A JP8070414A JP7041496A JPH09257726A JP H09257726 A JPH09257726 A JP H09257726A JP 8070414 A JP8070414 A JP 8070414A JP 7041496 A JP7041496 A JP 7041496A JP H09257726 A JPH09257726 A JP H09257726A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 一台の装置でＸ線回折測定と蛍光Ｘ線分析と
を簡易に実施できるようにする。 【解決手段】 ゴニオメータ６のθ回転テーブル４に設
けた試料Ｓに対しＸ線源１からＸ線を照射し、試料Ｓで
回折してきた回折Ｘ線をＸ線検出器（第一のＸ線検出器
３）で検出するとともに、ゴニオメータ６の２θ回転ア
ーム５の読みをもって回折角度を測定できるＸ線回折装
置の構造を基本とし、この基本構造に加えて蛍光Ｘ線分
析に必要となる分光結晶１０とソーラユニット１１を備
える。そして、蛍光Ｘ線分析を行なう場合は、Ｘ線の照
射に伴い試料Ｓから放射された蛍光Ｘ線を分光結晶１０
によって分光し、ソーラスリット１１を通して発散を制
限した後、Ｘ線検出器（第二のＸ線検出器１２）に入射
させる。
を簡易に実施できるようにする。 【解決手段】 ゴニオメータ６のθ回転テーブル４に設
けた試料Ｓに対しＸ線源１からＸ線を照射し、試料Ｓで
回折してきた回折Ｘ線をＸ線検出器（第一のＸ線検出器
３）で検出するとともに、ゴニオメータ６の２θ回転ア
ーム５の読みをもって回折角度を測定できるＸ線回折装
置の構造を基本とし、この基本構造に加えて蛍光Ｘ線分
析に必要となる分光結晶１０とソーラユニット１１を備
える。そして、蛍光Ｘ線分析を行なう場合は、Ｘ線の照
射に伴い試料Ｓから放射された蛍光Ｘ線を分光結晶１０
によって分光し、ソーラスリット１１を通して発散を制
限した後、Ｘ線検出器（第二のＸ線検出器１２）に入射
させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、Ｘ線を用いて試
料の結晶構造等を分析するためのＸ線分析装置、および
Ｘ線回折装置に装着して蛍光Ｘ線分析を簡易に行なえる
ようにした蛍光Ｘ線分析用アタッチメントに関する。
料の結晶構造等を分析するためのＸ線分析装置、および
Ｘ線回折装置に装着して蛍光Ｘ線分析を簡易に行なえる
ようにした蛍光Ｘ線分析用アタッチメントに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、Ｘ線を用いて試料の結晶構造
等を分析するためのＸ線分析装置として、Ｘ線回折装置
および蛍光Ｘ線分析装置が知られている。このうちＸ線
回折装置は、図１０に示すように、Ｘ線源１から発射さ
れたＸ線を試料Ｓに照射し、試料Ｓで回折してきた回折
Ｘ線をＸ線検出器２１によって検出する光学系を有して
いる。ここで、試料Ｓに対するＸ線の入射角をθとした
場合、入射Ｘ線に対するＸ線の回折角は２θ（θの２
倍）の関係にあり（ブラッグの回折条件）、回折Ｘ線の
ピーク強度が現われる２θは、試料Ｓの結晶構造に応じ
て固有の角度となる。
等を分析するためのＸ線分析装置として、Ｘ線回折装置
および蛍光Ｘ線分析装置が知られている。このうちＸ線
回折装置は、図１０に示すように、Ｘ線源１から発射さ
れたＸ線を試料Ｓに照射し、試料Ｓで回折してきた回折
Ｘ線をＸ線検出器２１によって検出する光学系を有して
いる。ここで、試料Ｓに対するＸ線の入射角をθとした
場合、入射Ｘ線に対するＸ線の回折角は２θ（θの２
倍）の関係にあり（ブラッグの回折条件）、回折Ｘ線の
ピーク強度が現われる２θは、試料Ｓの結晶構造に応じ
て固有の角度となる。
【０００３】そこで、Ｘ線回折装置では、ゴニオメータ
６と称する測角器のθ回転テーブル４に試料Ｓを装着
し、Ｘ線源１からのＸ線に対し試料Ｓをθ回転させると
ともに、ゴニオメータ６の２θ回転アーム５にＸ線検出
器２１を設け、試料Ｓで回折してきた回折Ｘ線のピーク
強度をＸ線検出器２１で検出したときの回折角度２θを
ゴニオメータ６によって測定する構造となっている。
６と称する測角器のθ回転テーブル４に試料Ｓを装着
し、Ｘ線源１からのＸ線に対し試料Ｓをθ回転させると
ともに、ゴニオメータ６の２θ回転アーム５にＸ線検出
器２１を設け、試料Ｓで回折してきた回折Ｘ線のピーク
強度をＸ線検出器２１で検出したときの回折角度２θを
ゴニオメータ６によって測定する構造となっている。
【０００４】一方、蛍光Ｘ線分析装置は、図１１に示す
ように、Ｘ線源１から発射されたＸ線を試料Ｓに照射
し、試料Ｓから放射された蛍光Ｘ線を分光結晶１０によ
って分光し、この分光された蛍光Ｘ線の発散をソーラス
リット１１で制限した後、Ｘ線検出器２１に導く光学系
を有している。ここで、分光結晶１０はゴニオメータ６
のθ回転テーブル４に設けられ、またソーラスリット１
１とＸ線検出器２１は、ゴニオメータ６の２θ回転アー
ム５に設けられており、分光結晶１０で分光された蛍光
Ｘ線の分光角度２θ′を、ゴニオメータ６によって測定
する構造となっている。
ように、Ｘ線源１から発射されたＸ線を試料Ｓに照射
し、試料Ｓから放射された蛍光Ｘ線を分光結晶１０によ
って分光し、この分光された蛍光Ｘ線の発散をソーラス
リット１１で制限した後、Ｘ線検出器２１に導く光学系
を有している。ここで、分光結晶１０はゴニオメータ６
のθ回転テーブル４に設けられ、またソーラスリット１
１とＸ線検出器２１は、ゴニオメータ６の２θ回転アー
ム５に設けられており、分光結晶１０で分光された蛍光
Ｘ線の分光角度２θ′を、ゴニオメータ６によって測定
する構造となっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】さて、試料に対してＸ
線回折測定と蛍光Ｘ線分析とを併せて実施することがで
きれば、いずれか一方で得られた試料の分析結果よりも
一層高精度な分析結果を期待することができる。
線回折測定と蛍光Ｘ線分析とを併せて実施することがで
きれば、いずれか一方で得られた試料の分析結果よりも
一層高精度な分析結果を期待することができる。
【０００６】しかしながら、従来のＸ線回折装置と蛍光
Ｘ線分析装置は、それぞれ専用の分析装置として構成さ
れており、一台の分析装置でＸ線回折測定と蛍光Ｘ線分
析とを実施できるものはなかった。このため、Ｘ線回折
測定と蛍光Ｘ線分析とを併せて実施しようとした場合、
これらＸ線回折装置と蛍光Ｘ線分析装置の双方を揃えな
ければならず、多額の設備コストがかかり経済的負担が
大きいという問題があった。
Ｘ線分析装置は、それぞれ専用の分析装置として構成さ
れており、一台の分析装置でＸ線回折測定と蛍光Ｘ線分
析とを実施できるものはなかった。このため、Ｘ線回折
測定と蛍光Ｘ線分析とを併せて実施しようとした場合、
これらＸ線回折装置と蛍光Ｘ線分析装置の双方を揃えな
ければならず、多額の設備コストがかかり経済的負担が
大きいという問題があった。
【０００７】この発明はこのような問題を解決するため
になされたもので、一台の分析装置でＸ線回折測定と蛍
光Ｘ線分析とを簡易に実施できるようにすることを目的
とする。
になされたもので、一台の分析装置でＸ線回折測定と蛍
光Ｘ線分析とを簡易に実施できるようにすることを目的
とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、まずこの発明の蛍光Ｘ線分析用アタッチメントは、
θ回転部および２θ回転部を備えたゴニオメータと、こ
のゴニオメータのθ回転部に設けた試料に対しＸ線を照
射するＸ線源と、ゴニオメータの２θ回転部に設置した
Ｘ線検出器とを含むＸ線回折装置に装着する次の構成を
備えている。
に、まずこの発明の蛍光Ｘ線分析用アタッチメントは、
θ回転部および２θ回転部を備えたゴニオメータと、こ
のゴニオメータのθ回転部に設けた試料に対しＸ線を照
射するＸ線源と、ゴニオメータの２θ回転部に設置した
Ｘ線検出器とを含むＸ線回折装置に装着する次の構成を
備えている。
【０００９】ゴニオメータのθ回転部に設置し、Ｘ線
の照射に伴い試料から放射された蛍光Ｘ線を分光する分
光結晶 ゴニオメータの２θ回転部に設置し、分光結晶により
分光した蛍光Ｘ線の向きと発散を制限するソーラスリッ
ト
の照射に伴い試料から放射された蛍光Ｘ線を分光する分
光結晶 ゴニオメータの２θ回転部に設置し、分光結晶により
分光した蛍光Ｘ線の向きと発散を制限するソーラスリッ
ト
【００１０】Ｘ線回折装置にこのアタッチメントを装着
することにより、同装置上に次のような蛍光Ｘ線分析用
の光学系を簡易に形成することができる。すなわち、Ｘ
線源で発生したＸ線を試料に照射すると、試料が励起さ
れてその試料に特有の波長λをもった蛍光Ｘ線が放射さ
れる。この蛍光Ｘ線を分光結晶に照射させて分光する。
このようにして分光した蛍光Ｘ線を、ゴニオメータの２
θ回転部に設置したソーラスリットに通した後、Ｘ線検
出器に導く。ここで、ソーラスリットは蛍光Ｘ線の向き
と発散を制限する機能を有している。そして、Ｘ線検出
器で蛍光Ｘ線のピーク強度を検出したときの分光角度
を、ゴニオメータで測定することにより、試料の蛍光Ｘ
線分析を実施することができる。
することにより、同装置上に次のような蛍光Ｘ線分析用
の光学系を簡易に形成することができる。すなわち、Ｘ
線源で発生したＸ線を試料に照射すると、試料が励起さ
れてその試料に特有の波長λをもった蛍光Ｘ線が放射さ
れる。この蛍光Ｘ線を分光結晶に照射させて分光する。
このようにして分光した蛍光Ｘ線を、ゴニオメータの２
θ回転部に設置したソーラスリットに通した後、Ｘ線検
出器に導く。ここで、ソーラスリットは蛍光Ｘ線の向き
と発散を制限する機能を有している。そして、Ｘ線検出
器で蛍光Ｘ線のピーク強度を検出したときの分光角度
を、ゴニオメータで測定することにより、試料の蛍光Ｘ
線分析を実施することができる。
【００１１】上記の蛍光Ｘ線分析用アタッチメントにお
いて、分光結晶の結晶面は試料に対し次のように位置決
めすることが好ましい。すなわち、分光結晶の結晶面
は、試料の試料面を通る任意の仮想平面と平行に配置
し、かつこの仮想平面との間に任意の間隔を設ける。こ
のような位置関係とすることで、試料から放射された蛍
光Ｘ線を、分光結晶の結晶面へと確実に入射させること
ができる。
いて、分光結晶の結晶面は試料に対し次のように位置決
めすることが好ましい。すなわち、分光結晶の結晶面
は、試料の試料面を通る任意の仮想平面と平行に配置
し、かつこの仮想平面との間に任意の間隔を設ける。こ
のような位置関係とすることで、試料から放射された蛍
光Ｘ線を、分光結晶の結晶面へと確実に入射させること
ができる。
【００１２】また、ゴニオメータの２θ回転部に設置す
る第二のＸ線検出器を蛍光Ｘ線分析用アタッチメントの
構成要素に加え、蛍光Ｘ線分析に際してソーラスリット
を通過してきた蛍光Ｘ線を、この第二のＸ線検出器で検
出するようにしてもよい。この場合、Ｘ線回折装置にも
ともと備わっているＸ線検出器を、Ｘ線回折測定専用の
Ｘ線検出器とし、例えば、Ｘ線回折測定と蛍光Ｘ線分析
を同時に実施することが可能となる。
る第二のＸ線検出器を蛍光Ｘ線分析用アタッチメントの
構成要素に加え、蛍光Ｘ線分析に際してソーラスリット
を通過してきた蛍光Ｘ線を、この第二のＸ線検出器で検
出するようにしてもよい。この場合、Ｘ線回折装置にも
ともと備わっているＸ線検出器を、Ｘ線回折測定専用の
Ｘ線検出器とし、例えば、Ｘ線回折測定と蛍光Ｘ線分析
を同時に実施することが可能となる。
【００１３】さらに、ゴニオメータの本体に固定して設
け、試料から放射された蛍光Ｘ線の向きと発散を制限し
て前記分光結晶に導くスリット手段をこの発明の構成要
素に加えることもできる。このようなスリット手段を付
加することによって、散乱Ｘ線を遮蔽して、分光結晶に
導かれる蛍光Ｘ線のＳ／Ｎ比（ピーク強度／バックグラ
ウンド強度比）を向上させることができ、測定精度を上
げることが可能となる。
け、試料から放射された蛍光Ｘ線の向きと発散を制限し
て前記分光結晶に導くスリット手段をこの発明の構成要
素に加えることもできる。このようなスリット手段を付
加することによって、散乱Ｘ線を遮蔽して、分光結晶に
導かれる蛍光Ｘ線のＳ／Ｎ比（ピーク強度／バックグラ
ウンド強度比）を向上させることができ、測定精度を上
げることが可能となる。
【００１４】次に、この発明のＸ線分析装置は、θ回転
部および２θ回転部を備えたゴニオメータと、このゴニ
オメータのθ回転部に設置した試料の装着部と、試料に
対しＸ線を照射するＸ線源と、上記ゴニオメータのθ回
転部に設置し、Ｘ線の照射に伴い試料から放射された蛍
光Ｘ線を分光する分光結晶と、ゴニオメータの２θ回転
部に設置し分光結晶により分光した蛍光Ｘ線の向きと発
散を制限するソーラスリットと、ゴニオメータの２θ回
転部に設置し試料からの回折Ｘ線またはソーラスリット
を通過してきた蛍光Ｘ線を検出するＸ線検出器とを備え
ている。
部および２θ回転部を備えたゴニオメータと、このゴニ
オメータのθ回転部に設置した試料の装着部と、試料に
対しＸ線を照射するＸ線源と、上記ゴニオメータのθ回
転部に設置し、Ｘ線の照射に伴い試料から放射された蛍
光Ｘ線を分光する分光結晶と、ゴニオメータの２θ回転
部に設置し分光結晶により分光した蛍光Ｘ線の向きと発
散を制限するソーラスリットと、ゴニオメータの２θ回
転部に設置し試料からの回折Ｘ線またはソーラスリット
を通過してきた蛍光Ｘ線を検出するＸ線検出器とを備え
ている。
【００１５】このＸ線分析装置によりＸ線回折測定を行
なうときは、試料の装着部に試料を装着し、Ｘ線源で発
生したＸ線を該試料に照射して、試料から回折してきた
回折Ｘ線をＸ線検出器で検出する。そして、回折Ｘ線の
ピーク強度をＸ線検出器が検出したときの回折角度２θ
をゴニオメータで測定する。
なうときは、試料の装着部に試料を装着し、Ｘ線源で発
生したＸ線を該試料に照射して、試料から回折してきた
回折Ｘ線をＸ線検出器で検出する。そして、回折Ｘ線の
ピーク強度をＸ線検出器が検出したときの回折角度２θ
をゴニオメータで測定する。
【００１６】一方、このＸ線分析装置により蛍光Ｘ線分
析を行なうときは、試料の装着部に試料を装着し、Ｘ線
源で発生したＸ線を該試料に照射して、試料から放射さ
れた蛍光Ｘ線を分光結晶に照射する。分光結晶で分光し
た蛍光Ｘ線は、ソーラスリットで向きと発散を制限した
後、Ｘ線検出器に導く。そして、蛍光Ｘ線のピーク強度
をＸ線検出器が検出したときの分光角度２θ′をゴニオ
メータで測定する。
析を行なうときは、試料の装着部に試料を装着し、Ｘ線
源で発生したＸ線を該試料に照射して、試料から放射さ
れた蛍光Ｘ線を分光結晶に照射する。分光結晶で分光し
た蛍光Ｘ線は、ソーラスリットで向きと発散を制限した
後、Ｘ線検出器に導く。そして、蛍光Ｘ線のピーク強度
をＸ線検出器が検出したときの分光角度２θ′をゴニオ
メータで測定する。
【００１７】上記のＸ線分析装置において、Ｘ線検出器
を第一，第二のＸ線検出器に分けて設置し、Ｘ線回折測
定に際して試料で回折してきた回折Ｘ線を第一のＸ線検
出器で検出するとともに、蛍光Ｘ線分析に際してソーラ
スリットを通過してきた蛍光Ｘ線を第二のＸ線検出器で
検出するようにしてもよい。
を第一，第二のＸ線検出器に分けて設置し、Ｘ線回折測
定に際して試料で回折してきた回折Ｘ線を第一のＸ線検
出器で検出するとともに、蛍光Ｘ線分析に際してソーラ
スリットを通過してきた蛍光Ｘ線を第二のＸ線検出器で
検出するようにしてもよい。
【００１８】さらに、上記のＸ線分析装置において、試
料から放射された蛍光Ｘ線の向きと発散を制限して前記
分光結晶に導くスリット手段をゴニオメータの本体に固
定して設けてもよい。このようなスリット手段を付加す
ることによって、散乱Ｘ線を遮蔽して、分光結晶に導か
れる蛍光Ｘ線のＳ／Ｎ比（ピーク強度／バックグラウン
ド強度比）を向上させることができ、測定精度を上げる
ことが可能となる。
料から放射された蛍光Ｘ線の向きと発散を制限して前記
分光結晶に導くスリット手段をゴニオメータの本体に固
定して設けてもよい。このようなスリット手段を付加す
ることによって、散乱Ｘ線を遮蔽して、分光結晶に導か
れる蛍光Ｘ線のＳ／Ｎ比（ピーク強度／バックグラウン
ド強度比）を向上させることができ、測定精度を上げる
ことが可能となる。
【００１９】また、この発明のＸ線分析装置は、試料の
装着部に分光結晶を装着可能とするとともに、当該試料
の装着部とは別の箇所に第二の試料装着部を設けた構成
としてもよい。この場合、Ｘ線回折測定に際しては、試
料の装着部に試料を装着するとともに、ソーラスリット
をゴニオメータの２θ回転部から取外す。そして、Ｘ線
源で発生したＸ線を該試料に照射して、試料から回折し
てきた回折Ｘ線をＸ線検出器で検出し、この検出器が回
折Ｘ線のピーク強度を検出したときの回折角度２θをゴ
ニオメータで測定する。
装着部に分光結晶を装着可能とするとともに、当該試料
の装着部とは別の箇所に第二の試料装着部を設けた構成
としてもよい。この場合、Ｘ線回折測定に際しては、試
料の装着部に試料を装着するとともに、ソーラスリット
をゴニオメータの２θ回転部から取外す。そして、Ｘ線
源で発生したＸ線を該試料に照射して、試料から回折し
てきた回折Ｘ線をＸ線検出器で検出し、この検出器が回
折Ｘ線のピーク強度を検出したときの回折角度２θをゴ
ニオメータで測定する。
【００２０】一方、蛍光Ｘ線分析に際しては、試料の装
着部に分光結晶を装着するとともに、第二の試料装着部
に試料を装着し、かつソーラスリットをゴニオメータの
２θ回転部に設置する。そして、Ｘ線源で発生したＸ線
を該試料に照射して、試料から放射された蛍光Ｘ線を分
光結晶に照射する。分光結晶で分光した蛍光Ｘ線は、ソ
ーラスリットで向きと発散を制限して平行ビームとした
後、Ｘ線検出器に導き、このＸ線検出器が蛍光Ｘ線のピ
ーク強度を検出したときの分光角度をゴニオメータで測
定する。
着部に分光結晶を装着するとともに、第二の試料装着部
に試料を装着し、かつソーラスリットをゴニオメータの
２θ回転部に設置する。そして、Ｘ線源で発生したＸ線
を該試料に照射して、試料から放射された蛍光Ｘ線を分
光結晶に照射する。分光結晶で分光した蛍光Ｘ線は、ソ
ーラスリットで向きと発散を制限して平行ビームとした
後、Ｘ線検出器に導き、このＸ線検出器が蛍光Ｘ線のピ
ーク強度を検出したときの分光角度をゴニオメータで測
定する。
【００２１】上述したＸ線分析装置においても、分光結
晶の結晶面は、試料の試料面を通る任意の仮想平面と平
行に配置し、かつこの仮想平面との間に任意の間隔を設
けることが好ましい。分光結晶と試料とをこのような位
置関係とすることで、試料から放射された蛍光Ｘ線を、
分光結晶の結晶面へと確実に入射させることができる。
晶の結晶面は、試料の試料面を通る任意の仮想平面と平
行に配置し、かつこの仮想平面との間に任意の間隔を設
けることが好ましい。分光結晶と試料とをこのような位
置関係とすることで、試料から放射された蛍光Ｘ線を、
分光結晶の結晶面へと確実に入射させることができる。
【００２２】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
いて図面を参照して詳細に説明する。図１はこの発明の
実施形態に係るＸ線分析装置の構成図である。このＸ線
分析装置はＸ線回折測定のための基本構造を備えてい
る。すなわち、基本構造は図１０に示したＸ線回折装置
とほぼ同様であり、Ｘ線源１、試料装着部としての試料
台２、および第一のＸ線検出器３を備え、Ｘ線源１から
発射したＸ線を、試料台に装着した試料Ｓの表面（試料
面）に照射し、該試料面で回折してきた回折Ｘ線を第一
のＸ線検出器３によって検出する。
いて図面を参照して詳細に説明する。図１はこの発明の
実施形態に係るＸ線分析装置の構成図である。このＸ線
分析装置はＸ線回折測定のための基本構造を備えてい
る。すなわち、基本構造は図１０に示したＸ線回折装置
とほぼ同様であり、Ｘ線源１、試料装着部としての試料
台２、および第一のＸ線検出器３を備え、Ｘ線源１から
発射したＸ線を、試料台に装着した試料Ｓの表面（試料
面）に照射し、該試料面で回折してきた回折Ｘ線を第一
のＸ線検出器３によって検出する。
【００２３】Ｘ線回折測定においては、試料Ｓに対する
Ｘ線の入射角θ、および入射Ｘ線に対する試料からのＸ
線回折角２θを測定する必要がある。このため、θ回転
部としてのθ回転テーブル４および２θ回転部としての
２θ回転アーム５を備えたゴニオメータ６が用いられて
いる。前述したとおり、ゴニオメータ６は一種の測角器
であり、θ回転テーブル４のθ回転に対して、２θ回転
アーム５が正確にθの２倍、すなわち２θ回転できる構
造となっている。なお、この発明では、ゴニオメータ６
のθ回転部（θ回転テーブル４）を固定して、２θ回転
部（２θ回転アーム５）のみ駆動制御する場合もある。
Ｘ線の入射角θ、および入射Ｘ線に対する試料からのＸ
線回折角２θを測定する必要がある。このため、θ回転
部としてのθ回転テーブル４および２θ回転部としての
２θ回転アーム５を備えたゴニオメータ６が用いられて
いる。前述したとおり、ゴニオメータ６は一種の測角器
であり、θ回転テーブル４のθ回転に対して、２θ回転
アーム５が正確にθの２倍、すなわち２θ回転できる構
造となっている。なお、この発明では、ゴニオメータ６
のθ回転部（θ回転テーブル４）を固定して、２θ回転
部（２θ回転アーム５）のみ駆動制御する場合もある。
【００２４】試料台２は、ゴニオメータ６のθ回転テー
ブル４に搭載してあり、試料面を同テーブル４の回転中
心に位置決めした状態で、試料Ｓを装着できる構造とな
っている。したがって、試料台２に装着された試料Ｓ
は、θ回転テーブル４とともにθ回転する。
ブル４に搭載してあり、試料面を同テーブル４の回転中
心に位置決めした状態で、試料Ｓを装着できる構造とな
っている。したがって、試料台２に装着された試料Ｓ
は、θ回転テーブル４とともにθ回転する。
【００２５】また、第一のＸ線検出器３は、ゴニオメー
タ６の２θ回転アーム５に設置してある。ここで、２θ
回転アーム５の回転中心は、θ回転テーブル４と一致し
ている。したがって第一のＸ線検出器３は、２θ回転ア
ーム５とともに試料Ｓの周囲を２θ回転する。
タ６の２θ回転アーム５に設置してある。ここで、２θ
回転アーム５の回転中心は、θ回転テーブル４と一致し
ている。したがって第一のＸ線検出器３は、２θ回転ア
ーム５とともに試料Ｓの周囲を２θ回転する。
【００２６】Ｘ線源１は、ゴニオメータ６の周囲に固定
して設けてある。Ｘ線源１の前方には発散スリット（Ｄ
Ｓ）７が設けてあり、この発散スリット７により、試料
に当たるＸ線の面積を制限している。また、第一のＸ線
検出器３の手前には受光スリット（ＲＳ）８および散乱
防止スリット（ＳＳ）９が設けてあり、受光スリット８
によって回折Ｘ線の分解能を調整するとともに、散乱防
止スリット９によって散乱Ｘ線の入射を防止している。
上述した各構成要素は、従来のＸ線回折装置に備えられ
ていたものであり、その構成は既に周知であるため、詳
細な説明は省略する。
して設けてある。Ｘ線源１の前方には発散スリット（Ｄ
Ｓ）７が設けてあり、この発散スリット７により、試料
に当たるＸ線の面積を制限している。また、第一のＸ線
検出器３の手前には受光スリット（ＲＳ）８および散乱
防止スリット（ＳＳ）９が設けてあり、受光スリット８
によって回折Ｘ線の分解能を調整するとともに、散乱防
止スリット９によって散乱Ｘ線の入射を防止している。
上述した各構成要素は、従来のＸ線回折装置に備えられ
ていたものであり、その構成は既に周知であるため、詳
細な説明は省略する。
【００２７】この実施形態に係るＸ線分析装置は、上述
したＸ線回折測定のための構成要素に加え、蛍光Ｘ線分
析を実施するために必要な次の構成要素を備えている。
すなわち、ゴニオメータ６のθ回転テーブル４上に分光
結晶１０が、２θ回転アーム５にソーラスリット１１と
第二のＸ線検出器１２がそれぞれ設けてある。
したＸ線回折測定のための構成要素に加え、蛍光Ｘ線分
析を実施するために必要な次の構成要素を備えている。
すなわち、ゴニオメータ６のθ回転テーブル４上に分光
結晶１０が、２θ回転アーム５にソーラスリット１１と
第二のＸ線検出器１２がそれぞれ設けてある。
【００２８】試料（物質）にＸ線を照射すると、試料を
形成する原子が励起してＸ線（蛍光Ｘ線）を放射する。
この蛍光Ｘ線は、試料の原子構造に対応した固有の波長
λを有する（これを、Moseleyの関係という）ことか
ら、該蛍光Ｘ線の波長λを検出し、その検出結果から試
料の元素分析等を行なうことができる。これが蛍光Ｘ線
分析の基本原理である。
形成する原子が励起してＸ線（蛍光Ｘ線）を放射する。
この蛍光Ｘ線は、試料の原子構造に対応した固有の波長
λを有する（これを、Moseleyの関係という）ことか
ら、該蛍光Ｘ線の波長λを検出し、その検出結果から試
料の元素分析等を行なうことができる。これが蛍光Ｘ線
分析の基本原理である。
【００２９】分光結晶１０は、上記蛍光Ｘ線の波長λを
検出するために必要となる。すなわち、図９に示すよう
に、面間隔ｄの分光結晶１０に入射角θ′をもって蛍光
Ｘ線を入射させると、入射Ｘ線に対し２θ′の角度に回
折する。そして、この蛍光Ｘ線の波長をλとすると、 ２ｄsinθ′＝ｎλ （ｎは反射次数） の式（ブラッグの式）を満足する角度θ′のときのみ回
折した蛍光Ｘ線が干渉を起す。そこで、分光結晶１０か
ら回折してきた蛍光Ｘ線のピーク強度を、第二のＸ線検
出器１２によって検出し、そのときの２θ′（分光角
度）をゴニオメータ６で検出することにより、上式から
波長λを求めることができる。
検出するために必要となる。すなわち、図９に示すよう
に、面間隔ｄの分光結晶１０に入射角θ′をもって蛍光
Ｘ線を入射させると、入射Ｘ線に対し２θ′の角度に回
折する。そして、この蛍光Ｘ線の波長をλとすると、 ２ｄsinθ′＝ｎλ （ｎは反射次数） の式（ブラッグの式）を満足する角度θ′のときのみ回
折した蛍光Ｘ線が干渉を起す。そこで、分光結晶１０か
ら回折してきた蛍光Ｘ線のピーク強度を、第二のＸ線検
出器１２によって検出し、そのときの２θ′（分光角
度）をゴニオメータ６で検出することにより、上式から
波長λを求めることができる。
【００３０】分光結晶１０は、このように試料から放射
された蛍光Ｘ線を各結晶面で回折させて干渉を起こさせ
る機能を有する。この分光結晶１０としては、面間隔ｄ
が既知の単結晶平板を用いることが好ましい。
された蛍光Ｘ線を各結晶面で回折させて干渉を起こさせ
る機能を有する。この分光結晶１０としては、面間隔ｄ
が既知の単結晶平板を用いることが好ましい。
【００３１】この実施形態では、試料台２に装着した試
料Ｓの試料面に対し、この分光結晶１０の結晶面を次の
ように位置決めしている（図２参照）。すなわち、試料
面の中心を通る仮想平面Ｈを想定し、この仮想平面Ｈと
平行に分光結晶１０の結晶面を配置し、かつ仮想平面Ｈ
と分光結晶１０の結晶面との間に、任意の間隔ａを設け
る。もし仮に、仮想平面Ｈと分光結晶１０の結晶面とを
一致させた場合、試料面から放射される蛍光Ｘ線を分光
結晶１０の結晶面に入射させることができない。そこ
で、上記のような間隔ａを設けることで、試料面から放
射される蛍光Ｘ線を分光結晶１０の結晶面へと確実に入
射させることが可能となる。
料Ｓの試料面に対し、この分光結晶１０の結晶面を次の
ように位置決めしている（図２参照）。すなわち、試料
面の中心を通る仮想平面Ｈを想定し、この仮想平面Ｈと
平行に分光結晶１０の結晶面を配置し、かつ仮想平面Ｈ
と分光結晶１０の結晶面との間に、任意の間隔ａを設け
る。もし仮に、仮想平面Ｈと分光結晶１０の結晶面とを
一致させた場合、試料面から放射される蛍光Ｘ線を分光
結晶１０の結晶面に入射させることができない。そこ
で、上記のような間隔ａを設けることで、試料面から放
射される蛍光Ｘ線を分光結晶１０の結晶面へと確実に入
射させることが可能となる。
【００３２】さらに、分光結晶１０の一端１０ａを試料
面の近傍に配置することで、試料面から放射された蛍光
Ｘ線を、分光結晶１０の結晶面に広い発散角をもって入
射させることができる。
面の近傍に配置することで、試料面から放射された蛍光
Ｘ線を、分光結晶１０の結晶面に広い発散角をもって入
射させることができる。
【００３３】ソーラスリット１１は、多数の金属箔を所
定間隔をおいて平行に並べた構造を有しており、分光結
晶１０で分光された蛍光Ｘ線をそれら金属箔の間に通す
ことで、該蛍光Ｘ線の発散を制限し、さらに第二のＸ線
検出器１２に入射する蛍光Ｘ線の角度を選択受光する。
このソーラスリット１１は、第二のＸ線検出器１２の手
前に設置する。このときソーラスリット１１の中心軸
は、第二のＸ線検出器１２における受光中心軸と一致す
るように位置決めすることが好ましい。
定間隔をおいて平行に並べた構造を有しており、分光結
晶１０で分光された蛍光Ｘ線をそれら金属箔の間に通す
ことで、該蛍光Ｘ線の発散を制限し、さらに第二のＸ線
検出器１２に入射する蛍光Ｘ線の角度を選択受光する。
このソーラスリット１１は、第二のＸ線検出器１２の手
前に設置する。このときソーラスリット１１の中心軸
は、第二のＸ線検出器１２における受光中心軸と一致す
るように位置決めすることが好ましい。
【００３４】また、ソーラスリット１１および第二のＸ
線検出器１２は、蛍光Ｘ線分析に必要となる分光角度の
測定範囲において、分光結晶１０で回折してきた蛍光Ｘ
線の少なくとも中心線部分が、ソーラスリット１１を通
り第二のＸ線検出器１２の受光面へと入射するよう設置
位置を調整する。
線検出器１２は、蛍光Ｘ線分析に必要となる分光角度の
測定範囲において、分光結晶１０で回折してきた蛍光Ｘ
線の少なくとも中心線部分が、ソーラスリット１１を通
り第二のＸ線検出器１２の受光面へと入射するよう設置
位置を調整する。
【００３５】図８は、分光結晶１０の適正長さとソーラ
スリット１１の適正位置に関する本発明者の検討結果を
示すグラフである。この検討にあたり、試料面の中心は
２θ回転アーム５の回転中心に位置決めした。また、分
光結晶１０の結晶面は、試料面の中心を通る任意の仮想
平面Ｈと平行に配置するとともに、同仮想平面Ｈとの間
隔ａを５ｍｍに設定した（図２参照）。
スリット１１の適正位置に関する本発明者の検討結果を
示すグラフである。この検討にあたり、試料面の中心は
２θ回転アーム５の回転中心に位置決めした。また、分
光結晶１０の結晶面は、試料面の中心を通る任意の仮想
平面Ｈと平行に配置するとともに、同仮想平面Ｈとの間
隔ａを５ｍｍに設定した（図２参照）。
【００３６】同図の破線は、図２に示す試料面の中心か
ら分光結晶１０へ蛍光Ｘ線が入射する位置までの距離Ｌ
（分光結晶１０の長さ方向の距離）と、分光結晶１０に
対する蛍光Ｘ線の入射角θ′との関係を示している。こ
のグラフから、蛍光Ｘ線の回折角２θ′を１０〜９０°
まで確保するには、分光結晶１０をＬ＝８０ｍｍ程度に
設置すればよいことがわかる。
ら分光結晶１０へ蛍光Ｘ線が入射する位置までの距離Ｌ
（分光結晶１０の長さ方向の距離）と、分光結晶１０に
対する蛍光Ｘ線の入射角θ′との関係を示している。こ
のグラフから、蛍光Ｘ線の回折角２θ′を１０〜９０°
まで確保するには、分光結晶１０をＬ＝８０ｍｍ程度に
設置すればよいことがわかる。
【００３７】また、図８の実線は、分光結晶１０で回折
した蛍光Ｘ線の中心線と、試料面の中心を通り該回折蛍
光Ｘ線の中心線に平行な仮想平面Ｈ′との間隔をｂと
し、この間隔ｂと分光結晶１０に対する蛍光Ｘ線の回折
角２θ′との関係を示している。このグラフに示された
ように、間隔ｂは回折角＝０〜９０°の範囲でほぼ１０
ｍｍ程度であった。したがって、図２に示すように、仮
想平面Ｈ（Ｈ′）とソーラスリット１１の中心軸との間
隔ｂ′を１０ｍｍ程度に設定すれば、蛍光Ｘ線分析に必
要となる分光角度の測定範囲において、分光結晶１０で
回折してきた蛍光Ｘ線を、ソーラスリット１１を介して
第二のＸ線検出器１２の受光面へと入射させることがで
きる。
した蛍光Ｘ線の中心線と、試料面の中心を通り該回折蛍
光Ｘ線の中心線に平行な仮想平面Ｈ′との間隔をｂと
し、この間隔ｂと分光結晶１０に対する蛍光Ｘ線の回折
角２θ′との関係を示している。このグラフに示された
ように、間隔ｂは回折角＝０〜９０°の範囲でほぼ１０
ｍｍ程度であった。したがって、図２に示すように、仮
想平面Ｈ（Ｈ′）とソーラスリット１１の中心軸との間
隔ｂ′を１０ｍｍ程度に設定すれば、蛍光Ｘ線分析に必
要となる分光角度の測定範囲において、分光結晶１０で
回折してきた蛍光Ｘ線を、ソーラスリット１１を介して
第二のＸ線検出器１２の受光面へと入射させることがで
きる。
【００３８】なお、これらの結果は、間隔ａを５ｍｍに
設定した場合の一例であり、実際の設計にあたっては、
適宜分光結晶１０の長さとソーラスリット１１の位置を
調整することが好ましい。
設定した場合の一例であり、実際の設計にあたっては、
適宜分光結晶１０の長さとソーラスリット１１の位置を
調整することが好ましい。
【００３９】上述した構成のＸ線分析装置は、Ｘ線回折
測定と蛍光Ｘ線分析とを一台で実施することができる。
すなわち、Ｘ線回折測定を実施するときは、Ｘ線源１で
発生したＸ線を、試料台２に装着した試料Ｓへ照射し、
試料Ｓで回折してきた回折Ｘ線を第一のＸ線検出器３で
検出する。試料ＳへのＸ線入射角θはゴニオメータ６の
θ回転テーブル４で調節し、回折Ｘ線の回折角２θはゴ
ニオメータ６の２θ回転アーム５の回転角によって測定
する。このようにして回折Ｘ線のピーク強度とその際の
回折角２θを測定すれば、それらの測定結果によって試
料Ｓの結晶構造等を分析することができる。
測定と蛍光Ｘ線分析とを一台で実施することができる。
すなわち、Ｘ線回折測定を実施するときは、Ｘ線源１で
発生したＸ線を、試料台２に装着した試料Ｓへ照射し、
試料Ｓで回折してきた回折Ｘ線を第一のＸ線検出器３で
検出する。試料ＳへのＸ線入射角θはゴニオメータ６の
θ回転テーブル４で調節し、回折Ｘ線の回折角２θはゴ
ニオメータ６の２θ回転アーム５の回転角によって測定
する。このようにして回折Ｘ線のピーク強度とその際の
回折角２θを測定すれば、それらの測定結果によって試
料Ｓの結晶構造等を分析することができる。
【００４０】次に、蛍光Ｘ線分析を実施するときは、Ｘ
線源１で発生したＸ線を、試料台２に装着した試料Ｓへ
照射し、試料Ｓから放射された蛍光Ｘ線を分光結晶１０
で分光する。このようにして分光した蛍光Ｘ線をソーラ
スリット１１に通した後、第二のＸ線検出器１２へ入射
させる。そして、蛍光Ｘ線のピーク強度を第二のＸ線検
出器１２で検出し、その際の分光角度２θ′をゴニオメ
ータ６で検出することにより、蛍光Ｘ線の波長λを求
め、試料Ｓの結晶構造等を分析することができる。
線源１で発生したＸ線を、試料台２に装着した試料Ｓへ
照射し、試料Ｓから放射された蛍光Ｘ線を分光結晶１０
で分光する。このようにして分光した蛍光Ｘ線をソーラ
スリット１１に通した後、第二のＸ線検出器１２へ入射
させる。そして、蛍光Ｘ線のピーク強度を第二のＸ線検
出器１２で検出し、その際の分光角度２θ′をゴニオメ
ータ６で検出することにより、蛍光Ｘ線の波長λを求
め、試料Ｓの結晶構造等を分析することができる。
【００４１】蛍光Ｘ線分析は、試料Ｓおよび分光結晶１
０を固定しておき（すなわち、θ回転テーブル４を固定
する）、２θ回転アーム５のみを回転させて蛍光Ｘ線の
分光角度を測定するθ固定方式（図３参照）と、θ回転
テーブル４とともに試料Ｓおよび分光結晶１０を回転さ
せながら、２θ回転アーム５で蛍光Ｘ線の分光角度を測
定するθ回転方式（図４参照）のいずれの方式で行なっ
てもよい。
０を固定しておき（すなわち、θ回転テーブル４を固定
する）、２θ回転アーム５のみを回転させて蛍光Ｘ線の
分光角度を測定するθ固定方式（図３参照）と、θ回転
テーブル４とともに試料Ｓおよび分光結晶１０を回転さ
せながら、２θ回転アーム５で蛍光Ｘ線の分光角度を測
定するθ回転方式（図４参照）のいずれの方式で行なっ
てもよい。
【００４２】θ固定方式の場合には、２θ回転アーム５
の回転角が図３に示すようにθ′となるので、２θ回転
アーム５の読みをθ′として蛍光Ｘ線の分光角度を求め
ることになる。一方、θ回転方式の場合には、図４に示
すようにθ回転テーブル４の回転角θ′が２θ回転アー
ム５の回転角に重畳されるので、Ｘ線回折測定のときと
同様、２θ回転アーム５の読みは２θ′となる。
の回転角が図３に示すようにθ′となるので、２θ回転
アーム５の読みをθ′として蛍光Ｘ線の分光角度を求め
ることになる。一方、θ回転方式の場合には、図４に示
すようにθ回転テーブル４の回転角θ′が２θ回転アー
ム５の回転角に重畳されるので、Ｘ線回折測定のときと
同様、２θ回転アーム５の読みは２θ′となる。
【００４３】また、蛍光Ｘ線分析における蛍光Ｘ線の分
光角度は、例えば、第二のＸ線検出器１２の受光中心軸
を分光結晶１０の結晶面と平行に配置した状態を０°と
して測定すればよい。このようにゼロセットしたときの
２θ回転アーム５の読みが２θ0であった場合は、その
後の測定で２θ回転アーム５が示した読み２θｘからゼ
ロセット時の読み２θ0を差し引いた角度（２θ0−２θ
ｘ）が蛍光Ｘ線の分光角度となる。例えば、ゼロセット
時の２θ回転アーム５の読み２θ0が９０°で、分光角
度の測定に際して２θ回転アーム５が６０°の読み（２
θｘ）を示したときは、９０°−６０°＝３０°が真の
分光角度となる。
光角度は、例えば、第二のＸ線検出器１２の受光中心軸
を分光結晶１０の結晶面と平行に配置した状態を０°と
して測定すればよい。このようにゼロセットしたときの
２θ回転アーム５の読みが２θ0であった場合は、その
後の測定で２θ回転アーム５が示した読み２θｘからゼ
ロセット時の読み２θ0を差し引いた角度（２θ0−２θ
ｘ）が蛍光Ｘ線の分光角度となる。例えば、ゼロセット
時の２θ回転アーム５の読み２θ0が９０°で、分光角
度の測定に際して２θ回転アーム５が６０°の読み（２
θｘ）を示したときは、９０°−６０°＝３０°が真の
分光角度となる。
【００４４】なお、分光結晶１０の結晶面と試料Ｓの試
料面とのなす角度は、任意にセッティングすることがで
きる。すなわち、各面を平行に配置したり、または４５
°，２５°などの角度をつけて配置することで、試料Ｓ
から放射された蛍光Ｘ線を有効に分光結晶１０へと入射
させる適正な配置を実現することが好ましい。また、蛍
光Ｘ線分析に関しては、試料Ｓの試料面をゴニオメータ
６のθ回転テーブル４の中心に位置決めしなくても構わ
ない。
料面とのなす角度は、任意にセッティングすることがで
きる。すなわち、各面を平行に配置したり、または４５
°，２５°などの角度をつけて配置することで、試料Ｓ
から放射された蛍光Ｘ線を有効に分光結晶１０へと入射
させる適正な配置を実現することが好ましい。また、蛍
光Ｘ線分析に関しては、試料Ｓの試料面をゴニオメータ
６のθ回転テーブル４の中心に位置決めしなくても構わ
ない。
【００４５】上述した実施形態では、第一，第二のＸ線
検出器１２を２θ回転アーム５に設置したので、Ｘ線回
折測定と蛍光Ｘ線分析とを同時に実施することもでき
る。もっとも、単一のＸ線検出器のみを２θ回転アーム
５に設置しておき、Ｘ線回折測定と蛍光Ｘ線分析とに共
用する構成として、設備コストの低価格化を図ることも
できる。この場合、Ｘ線回折測定を実施するときは、Ｘ
線検出器の手前に受光スリット（ＲＳ）８および散乱防
止スリット（ＳＳ）９を配設する。そして、蛍光Ｘ線分
析を実施するときは、これらスリット（ＲＳ，ＳＳ）
８，９に代えて、Ｘ線検出器の手前にソーラスリット１
１を配設する。
検出器１２を２θ回転アーム５に設置したので、Ｘ線回
折測定と蛍光Ｘ線分析とを同時に実施することもでき
る。もっとも、単一のＸ線検出器のみを２θ回転アーム
５に設置しておき、Ｘ線回折測定と蛍光Ｘ線分析とに共
用する構成として、設備コストの低価格化を図ることも
できる。この場合、Ｘ線回折測定を実施するときは、Ｘ
線検出器の手前に受光スリット（ＲＳ）８および散乱防
止スリット（ＳＳ）９を配設する。そして、蛍光Ｘ線分
析を実施するときは、これらスリット（ＲＳ，ＳＳ）
８，９に代えて、Ｘ線検出器の手前にソーラスリット１
１を配設する。
【００４６】Ｘ線蛍光分析に必要となる分光結晶１０お
よびソーラスリット１１は、Ｘ線分析装置の構成要素と
してあらかじめ設置しておく以外にも、Ｘ線回折装置に
装着できる蛍光Ｘ線分析用アタッチメントとして用意し
てもよい。このようなアタッチメントとすれば、僅かな
改良（アタッチメントの装着部を設ける）で従来のＸ線
回折装置に、蛍光Ｘ線分析の機能をもたせることがで
き、装置の買い替えも必要なくなる。この蛍光Ｘ線分析
用アタッチメントには、第二のＸ線検出器１２を含めて
もよい。
よびソーラスリット１１は、Ｘ線分析装置の構成要素と
してあらかじめ設置しておく以外にも、Ｘ線回折装置に
装着できる蛍光Ｘ線分析用アタッチメントとして用意し
てもよい。このようなアタッチメントとすれば、僅かな
改良（アタッチメントの装着部を設ける）で従来のＸ線
回折装置に、蛍光Ｘ線分析の機能をもたせることがで
き、装置の買い替えも必要なくなる。この蛍光Ｘ線分析
用アタッチメントには、第二のＸ線検出器１２を含めて
もよい。
【００４７】図５は、図４に示したθ回転方式で蛍光Ｘ
線分析を行なう場合の変形例を示す構成図である。すな
わち、試料Ｓと分光結晶１０の間にスリット手段として
の入射側ソーラスリット３１を設け、この入射側ソーラ
スリット３１により、試料から放射された蛍光Ｘ線の向
きと発散を制限して前記分光結晶に導くようにしてもよ
い。この入射側ソーラスリット３１は、ゴニオメータの
本体非回動部に固定して設け、ゴニオメータのθ回転，
２θ回転にかかわらず、常に一定の方向に蛍光Ｘ線を導
くように位置決めしておく。
線分析を行なう場合の変形例を示す構成図である。すな
わち、試料Ｓと分光結晶１０の間にスリット手段として
の入射側ソーラスリット３１を設け、この入射側ソーラ
スリット３１により、試料から放射された蛍光Ｘ線の向
きと発散を制限して前記分光結晶に導くようにしてもよ
い。この入射側ソーラスリット３１は、ゴニオメータの
本体非回動部に固定して設け、ゴニオメータのθ回転，
２θ回転にかかわらず、常に一定の方向に蛍光Ｘ線を導
くように位置決めしておく。
【００４８】この入射側ソーラスリット３１によって、
散乱Ｘ線を遮蔽して、分光結晶に導かれる蛍光Ｘ線のＳ
／Ｎ比（ピーク強度／バックグラウンド強度比）を向上
させることができ、測定精度を上げることが可能とな
る。なお、このスリット手段としては、通常のＸ線装置
に用いられているスリットを適用することもできる。そ
して、このスリット手段は、Ｘ線回折装置に装着できる
蛍光Ｘ線分析用アタッチメントとして用意してもよい。
散乱Ｘ線を遮蔽して、分光結晶に導かれる蛍光Ｘ線のＳ
／Ｎ比（ピーク強度／バックグラウンド強度比）を向上
させることができ、測定精度を上げることが可能とな
る。なお、このスリット手段としては、通常のＸ線装置
に用いられているスリットを適用することもできる。そ
して、このスリット手段は、Ｘ線回折装置に装着できる
蛍光Ｘ線分析用アタッチメントとして用意してもよい。
【００４９】図６および図７は、この発明の他の実施形
態を示す構成図である。同図に示したＸ線分析装置は、
ゴニオメータ６のθ回転部に設けた試料台２（試料装着
部）が、試料に代えて分光結晶１０を装着できる構成と
なっている。さらに、試料台２とは別の任意の箇所に、
第二の試料装着部２０を設けてある。また、２θ回転ア
ーム５には、単一のＸ線検出器２１を設置してあり、そ
の手前に受光スリット（ＲＳ）８および散乱防止スリッ
ト（ＳＳ）９と、ソーラスリット１１とを交換して配設
できるスリット装着部２２が設けてある。
態を示す構成図である。同図に示したＸ線分析装置は、
ゴニオメータ６のθ回転部に設けた試料台２（試料装着
部）が、試料に代えて分光結晶１０を装着できる構成と
なっている。さらに、試料台２とは別の任意の箇所に、
第二の試料装着部２０を設けてある。また、２θ回転ア
ーム５には、単一のＸ線検出器２１を設置してあり、そ
の手前に受光スリット（ＲＳ）８および散乱防止スリッ
ト（ＳＳ）９と、ソーラスリット１１とを交換して配設
できるスリット装着部２２が設けてある。
【００５０】このＸ線分析装置では、試料台２へ試料Ｓ
を装着するとともに、スリット装着部２２に受光スリッ
ト（ＲＳ）８および散乱防止スリット（ＳＳ）９を装着
すれば、Ｘ線回折測定用の光学系を形成することができ
る。一方、試料台２に分光結晶１０を装着するととも
に、第二の試料装着部２０へ試料Ｓを装着し、かつスリ
ット装着部２２にソーラスリット１１を装着すれば、蛍
光Ｘ線分析用の光学系を形成することができる。
を装着するとともに、スリット装着部２２に受光スリッ
ト（ＲＳ）８および散乱防止スリット（ＳＳ）９を装着
すれば、Ｘ線回折測定用の光学系を形成することができ
る。一方、試料台２に分光結晶１０を装着するととも
に、第二の試料装着部２０へ試料Ｓを装着し、かつスリ
ット装着部２２にソーラスリット１１を装着すれば、蛍
光Ｘ線分析用の光学系を形成することができる。
【００５１】ここで、試料台２に装着した分光結晶１０
の結晶面と、第二の試料装着部２０へ装着した試料Ｓの
試料面とは、先の実施形態と同様な配置関係とすること
が好ましい。なお、第二の試料装着部２０は、ゴニオメ
ータ６以外の箇所に設置してもよい。
の結晶面と、第二の試料装着部２０へ装着した試料Ｓの
試料面とは、先の実施形態と同様な配置関係とすること
が好ましい。なお、第二の試料装着部２０は、ゴニオメ
ータ６以外の箇所に設置してもよい。
【００５２】
【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、
一台の装置でＸ線回折測定と蛍光Ｘ線分析とを簡易に実
施することができるので、安価な設備コストで試料分析
の高精度化を実現することができる。
一台の装置でＸ線回折測定と蛍光Ｘ線分析とを簡易に実
施することができるので、安価な設備コストで試料分析
の高精度化を実現することができる。
【図１】この発明の実施形態に係るＸ線分析装置の平面
構成図である。
構成図である。
【図２】同装置の試料、分光結晶、およびソーラスリッ
トの配置関係を示す平面模式図である。
トの配置関係を示す平面模式図である。
【図３】同装置により蛍光Ｘ線分析をθ固定方式で行な
う際の動作を示す平面模式図である。
う際の動作を示す平面模式図である。
【図４】同装置により蛍光Ｘ線分析をθ回転方式で行な
う際の動作を示す平面模式図である。
う際の動作を示す平面模式図である。
【図５】同装置により蛍光Ｘ線分析をθ回転方式で行な
う際の変形例を示す構成図である。
う際の変形例を示す構成図である。
【図６】この発明の他の実施形態に係るＸ線分析装置に
よりＸ線回折測定用の光学系を形成した状態を示す平面
構成図である。
よりＸ線回折測定用の光学系を形成した状態を示す平面
構成図である。
【図７】同装置により蛍光Ｘ線分析用の光学系を形成し
た状態を示す平面構成図である。
た状態を示す平面構成図である。
【図８】図２に示したＸ線分析装置の試料、分光結晶、
およびソーラスリットの配置関係についての検討データ
を示すグラフである。
およびソーラスリットの配置関係についての検討データ
を示すグラフである。
【図９】分光結晶による蛍光Ｘ線の分光原理を説明する
ための図である。
ための図である。
【図１０】従来のＸ線回折装置を示す平面構成図であ
る。
る。
【図１１】従来の蛍光Ｘ線分析装置を示す平面構成図で
ある。
ある。
１：Ｘ線源 ２：試料台 ３：第一のＸ線検出器 ４：θ回転テーブル ５：２θ回転アーム ６：ゴニオメータ １０：分光結晶 １１：ソーラスリット １２：第二のＸ線検出器 ２０：第二の試料装着部 ２１：Ｘ線検出器 ２２：スリット装着部 ３１：入射側ソーラスリット Ｓ：試料
Claims (9)
- 【請求項１】 本体にθ回転部および２θ回転部を備え
たゴニオメータと、このゴニオメータのθ回転部に設け
た試料に対しＸ線を照射するＸ線源と、前記ゴニオメー
タの２θ回転部に設置したＸ線検出器とを含むＸ線回折
装置に装着する蛍光Ｘ線分析用アタッチメントであっ
て、 前記ゴニオメータのθ回転部に設置し、Ｘ線の照射に伴
い試料から放射された蛍光Ｘ線を分光する分光結晶と、 前記ゴニオメータの２θ回転部に設置し、前記分光結晶
により分光した蛍光Ｘ線の向きと発散を制限するソーラ
スリットとを備えたことを特徴とする蛍光Ｘ線分析用ア
タッチメント。 - 【請求項２】 請求項１記載の蛍光Ｘ線分析用アタッチ
メントにおいて、 前記試料の試料面を通る任意の仮想平面と平行でかつ該
仮想平面との間に任意の間隔を設けて、前記分光結晶の
結晶面を位置決めすることを特徴とする蛍光Ｘ線分析用
アタッチメント。 - 【請求項３】 請求項１または２記載の蛍光Ｘ線分析用
アタッチメントにおいて、 前記ゴニオメータの２θ回転部に設置し、前記ソーラス
リットを通過してきた蛍光Ｘ線を検出する第二のＸ線検
出器を備えたことを特徴とする蛍光Ｘ線分析用アタッチ
メント。 - 【請求項４】 請求項１乃至３のいずれか一項に記載の
蛍光Ｘ線分析用アタッチメントにおいて、 前記ゴニオメータの本体に固定して設け、前記試料から
放射された蛍光Ｘ線の向きと発散を制限して前記分光結
晶に導くスリット手段を備えたことを特徴とする蛍光Ｘ
線分析用アタッチメント。 - 【請求項５】 θ回転部および２θ回転部を備えたゴニ
オメータと、 このゴニオメータのθ回転部に設置した試料の装着部
と、 試料に対しＸ線を照射するＸ線源と、 前記ゴニオメータのθ回転部に設置し、Ｘ線の照射に伴
い試料から放射された蛍光Ｘ線を分光する分光結晶と、 前記ゴニオメータの２θ回転部に設置し、前記分光結晶
により分光した蛍光Ｘ線の向きと発散を制限するソーラ
スリットと、 前記ゴニオメータの２θ回転部に設置し、試料からの回
折Ｘ線または前記ソーラスリットを通過してきた蛍光Ｘ
線を検出するＸ線検出器とを備えたことを特徴とするＸ
線分析装置。 - 【請求項６】 請求項５記載のＸ線分析装置において、 前記Ｘ線検出器は、試料からの回折Ｘ線を検出する第一
のＸ線検出器と、前記ソーラスリットを通過してきた蛍
光Ｘ線を検出する第二のＸ線検出器とからなることを特
徴とするＸ線分析装置。 - 【請求項７】 請求項５または６記載のＸ線分析装置に
おいて、 前記ゴニオメータの本体に固定して設け、前記試料から
放射された蛍光Ｘ線の向きと発散を制限して前記分光結
晶に導くスリット手段を備えたことを特徴とするＸ線分
析装置。 - 【請求項８】 請求項５記載のＸ線分析装置において、
前記試料の装着部に前記分光結晶を装着可能とするとと
もに、当該試料の装着部とは別の箇所に第二の試料装着
部を設け、 Ｘ線回折測定に際しては、前記試料の装着部に試料を装
着するとともに、前記ソーラスリットを前記ゴニオメー
タの２θ回転部から取外し、 蛍光Ｘ線分析に際しては、前記試料の装着部に前記分光
結晶を装着するとともに、前記第二の試料装着部に試料
を装着し、かつ前記ソーラスリットを前記ゴニオメータ
の２θ回転部に設置することを特徴とするＸ線分析装
置。 - 【請求項９】 請求項５乃至８のいずれか一項に記載の
Ｘ線分析装置において、 試料の試料面を通る任意の仮想平面と平行でかつ該仮想
平面との間に任意の間隔を設けて、前記分光結晶の結晶
面を位置決めするようにしたことを特徴とするＸ線分析
装置。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP07041496A JP3593412B2 (ja) | 1996-03-26 | 1996-03-26 | Ｘ線分析装置および蛍光ｘ線分析用アタッチメント |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07041496A JP3593412B2 (ja) | 1996-03-26 | 1996-03-26 | Ｘ線分析装置および蛍光ｘ線分析用アタッチメント |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09257726A true JPH09257726A (ja) | 1997-10-03 |
| JP3593412B2 JP3593412B2 (ja) | 2004-11-24 |
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ID=13430797
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|---|---|---|---|
| JP07041496A Expired - Fee Related JP3593412B2 (ja) | 1996-03-26 | 1996-03-26 | Ｘ線分析装置および蛍光ｘ線分析用アタッチメント |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3593412B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009258101A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-11-05 | Osaka City Univ | 二次元分布を測定する方法及び装置 |
| WO2011073148A1 (en) * | 2009-12-17 | 2011-06-23 | Thermo Fisher Scientific (Ecublens) Sarl | Method and apparatus for performing x-ray analysis of a sample |
| US8903040B2 (en) | 2011-05-13 | 2014-12-02 | Rigaku Corporation | X-ray multiple spectroscopic analyzer |
| CN107228871A (zh) * | 2017-07-21 | 2017-10-03 | 中国地质大学（武汉） | 一种便携式x射线分析装置 |
-
1996
- 1996-03-26 JP JP07041496A patent/JP3593412B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP2013514527A (ja) * | 2009-12-17 | 2013-04-25 | サーモ フィッシャー サイエンティフィック （エキュブラン） エスアーエールエル | 試料のｘ線解析を実行する方法及び装置 |
| US9031187B2 (en) | 2009-12-17 | 2015-05-12 | Thermo Fisher Scientific (Ecublens) Sarl | Method and apparatus for performing X-ray analysis of a sample |
| US8903040B2 (en) | 2011-05-13 | 2014-12-02 | Rigaku Corporation | X-ray multiple spectroscopic analyzer |
| CN107228871A (zh) * | 2017-07-21 | 2017-10-03 | 中国地质大学（武汉） | 一种便携式x射线分析装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
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