JP3583485B2 - 全反射蛍光x線分析装置 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は、励起X線を試料に照射して、試料から発生する蛍光X線を検出することによって、試料の組成、特に試料表面の汚染物質の分析を行う全反射蛍光X線分析装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、たとえば光学的に平滑な平面を有する半導体ウエハなどの試料に向けて、低い入射角度でX線を照射することによって、試料の表面近傍に存在する元素からの蛍光X線を検出する全反射蛍光X線分析装置が知られており、励起X線を試料表面で全反射させることによって、試料表面近傍のみの情報を高いS/N比で得ることができる。
【0003】
X線管から発生するX線スペクトルは、連続X線と陽極材料に依存する固有X線とが重複したものとなる。そこで、励起X線の単色化のために、X線管の陽極から発生したX線を分光結晶を用いたモノクロメータ等の分光手段によって分光する方法が提案されており(特願平1−272124号)、分析対象元素のエネルギー領域でのバックグランドX線を著しく低減化でき、検出感度を大きく改善している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の蛍光X線分析装置では、1)励起に使用するX線のエネルギーより高いX線吸収端エネルギーを持つ元素は分析不可能であり、2)励起に使用するX線のエネルギーよりはるかに低いX線吸収端エネルギーを持つ元素は、励起効率が低下するため分析感度が悪くなる、という制約があり、そのためX線管の陽極材料が固定されると、分析可能な元素がある程度限られることになる。
【0005】
この対策として、幅広い元素範囲で良好な検出感度を得ようとすると励起X線のエネルギーを切換え可能にすることが好ましい。たとえば、一方の陽極材料がW(タングステン)で、他方の陽極材料がMo(モリブデン)である2つのX線源を用意して、各X線源から発生するX線を試料の分析領域で交差するように配置し、分析対象元素に応じて使用するX線源を切替えるように構成した装置が考えられる。さらに、分析対象元素を幅広く確保するためには、陽極材料の異なるX線管を3つ以上設置することによって、複数の励起X線スペクトルを選択的に照射する必要がある。
【0006】
ところが、各X線源からのX線ビームを試料に対して低い角度で照射しようとすると、試料の周囲空間が複数のX線照射系で埋まってしまい、試料搬送機構との機械的干渉が起こる。そのため、試料搬送機構を優先させると、確保できるX線ビーム入射方向の開き角度は、せいぜい30度程度が限界となる。この30度という開き角度の中に3つ以上のX線ビームを配置しようとすると、X線源どうしが干渉する。この干渉を回避しようとすると、X線源から試料までの距離を長くさぜるを得ず、励起X線の強度低下をもたらし、検出感度の点から好ましくない。
【0007】
本発明の目的は、試料へのX線入射条件をほぼ一定に保ちつつ、励起X線のスペクトルを簡単に切換えることができる全反射蛍光X線分析装置を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は、X線管およびX線を絞るスリットが一体的に設けられ、互いにスペクトルが異なるX線を発生するための複数のX線源と、
複数のX線源を搭載する移動ステージと、
移動ステージを駆動して、使用するX線源を選択するためのステージ駆動手段と、
選択されたX線源からのX線を試料表面で全反射するように照射して、試料から発生する蛍光X線を検出するためのX線検出器と、
試料の姿勢を調整するための試料保持手段と、
試料表面で全反射したX線を絞るための第2スリットと、
第2スリットを通過したX線の強度を計測するためのX線強度計測手段と、
X線源の切換えに応じて、第2スリットの開口位置を調整するためのスリット調整手段とを備えることを特徴とする全反射蛍光X線分析装置である。
【0009】
【作用】
本発明に従えば、互いにスペクトルが異なるX線を発生する複数のX線源が移動ステージに搭載され、この移動ステージを移動させることによって、試料を照射するX線が切り替わるため、励起X線スペクトルを簡単に変更することができる。また、各X線源にはX線管およびX線を絞るスリットが一体的に設けられているため、X線管とスリットとの相対的な位置変動を極力抑えることができる。さらに、各X線源のX線出射位置および方向を規格化することによって、ステージ移動だけでX線の切換えが可能になり、しかも試料へのX線入射条件をほぼ一定に保つことができる。
【0010】
また、選択されたX線源からのX線を試料表面で全反射するように照射することによって、試料表面近傍からの情報が得られ、蛍光X線スペクトルを解析することによって、たとえば表面汚染元素の特定が実現する。さらに、試料の姿勢を調整することによって、X線入射角度の微調整が可能になる。
【0011】
さらに、試料表面で全反射したX線の強度を計測することによって、X線入射角度が全反射角度に設定されているかを監視することができる。このようなX線強度計測手段の入射側にX線を絞るための第2スリットが設置され、X線源の切換えと連動して第2スリットの間隔を調整することによって、X線源の切換えによって生ずるX線ビームの軸振れに対処でき、安定したX線強度計測が可能になる。
【0012】
【実施例】
図1は本発明の一実施例を示す構成図であり、図2はその平面図である。全反射蛍光X線分析装置は、複数のX線源1、2、3を搭載する移動ステージ4と、試料SPを真空空間に収納する試料室11と、試料SPから発生する蛍光X線を検出するX線検出器20と、試料室11を通過したX線の強度を計測するX線検出器17などで構成される。
【0013】
X線源1は、X線を発生するX線管1aと、X線管1aから発生したX線の中から単一の特性X線を分離するための分光結晶1bと、分光結晶1bで所定方向に回折したX線を取出すためのスリット1cと、X線を外部信号によって遮断するためのシャッタ1dなどを備える。X線源2は、X線源1と同様に、X線管2a、分光結晶2b、スリット2c、シャッタ2dなどを備える。また、X線源3は、分光結晶を使用しない構成であって、X線管3a、スリット3c、シャッタ3dなどを備える。
【0014】
X線管1a、2a、3aの陽極材料は、スカンジウム、クロム、タングステン、モリブデンなど形成され、互いにスペクトルが異なるX線を発生するために、相互に異なる陽極材料が用いられる。分光結晶1b、2bは、人工累積膜やフッ化リチウム、グラファイトなどで形成され、特定の結晶面で特定波長のX線回折条件を満足するように配置される。なお、X線源3では、X線管3aで発生したX線スペクトルがそのまま出力されることになる。
【0015】
各X線源1、2、3のハウジング形状はほぼ同一になるように形成され、X線を出射する出射窓の高さおよびX線出射方向が平行になるように規格化されている。こうして分光結晶やスリットなどのように高い位置精度が要求される部品がX線管と一体的に組み込まれているため、相対的な位置ずれを防止できる。
【0016】
X線源1、2、3は、1つの移動ステージ4に直線状に配置される。移動ステージ4は直線ガイド6によって直線移動自在に案内され、モータ等のステージ駆動部5によって基台10上を走行し、任意位置で停止するように制御される。
【0017】
試料室11は基台10上に設置され、内部空間が真空状態を保持できるように気密構造が採られている。試料室11の対向する壁には、X線を通過させるためのX線窓12、13が設けられる。試料室11の内部には、半導体ウエハ等の試料SPの高さや向き等の姿勢を調整するための試料駆動部14が設置され、さらに試料SPを静電気によって保持する静電チャック14aが試料駆動部14の可動部に固定されている。
【0018】
X線検出器20の受光面は、試料SPから発生する蛍光X線を出来る限り多く検出するため、試料SPの直上付近に設置される。なお、X線検出器20は液体窒素等の冷却媒体によって低温に保つ必要があるため、冷却タンクが試料室11の外部に突出している。
【0019】
X線窓12を経由して試料室11に導入されたX線ビームXBは、試料SPの表面に対して全反射角度で入射する。試料SPに対するX線入射角度は、試料駆動部14が試料SPの姿勢を調整することによって、微調整される。試料SPで反射したX線ビームXBは、X線窓13から外部に出て、スリット15を介してX線検出器17に到達する。
【0020】
X線検出器17は、試料SPで反射したX線ビームXBの強度を計測するものであり、試料駆動部14によって試料SPの姿勢を微調整しながら計測して、強度が最大になった時点を全反射角度として設定することができる。スリット15は、X線ビームXBの通過位置を制限するものであり、その開口位置はスリット調整部16によって調整される。
【0021】
励起X線を切換える場合は、ステージ駆動部5によって移動ステージ4を駆動して、X線源1、2、3のうち何れかの出射窓がX線窓12と向かい合うように位置決めする。
【0022】
図3は、本発明の一実施例の電気的構成を示すブロック図である。まず信号処理系について説明する。ここではエネルギー分散方式を用いる例を説明するが、本発明は波長分散方式などの他の分光方式であっても構わない。
【0023】
X線源1、2、3の何れかから発生したX線ビームXBが、試料SPの表面を照射すると、表面近傍に存在する元素に応じた蛍光X線が発生する。蛍光X線がX線検出器20の半導体検出器21に入射すると、X線光子が電荷パルスに変換される。前置増幅器22は、電荷パルスの時間積分値を波高に持つ階段状の電圧パルスに変換して、比例増幅器23が電圧パルスの立上がり幅に比例した波高を有するパルスに波形整形し、波高分析器24が各波高値の計数率を測定して、データ処理部25が波高分析器24で測定されたデータを処理して磁気ディスクに格納したり、画面表示や印刷を実行する。こうして蛍光X線のエネルギー分布を測定することによって蛍光X線のスペクトルが得られ、試料SPに付着した元素および密度の分析が可能になる。
【0024】
次に位置調整機構について説明する。制御部26は、ステージ駆動部5、試料駆動部14、スリット調整部16、X線検出器17およびデータ処理部25などと接続され、装置全体の動作を管理している。
【0025】
この動作について説明する。使用者が制御部26に対して励起X線の種類を指示すると、制御部26はステージ駆動部5に指示して移動ステージ4を位置決めして、所望のX線源、たとえばX線源2を選択する。次に、制御部26が試料駆動部14に指示して、試料SPがX線ビームXBを遮らないように試料SPを下方へ退避させる。次に、X線源2のX線管2aを点灯し、シャッタ2dを開いて、試料室11にX線ビームXBを導入し、X線検出器17でX線強度を計測する。次に、X線検出器17でのX線強度が最大になるようにスリット15の開口位置をたとえば上下方向に調整し、このときの位置データをX線源2と対応させて制御部26に記憶しておく。その後X線源2が再び選択された場合は、制御部26に記憶された位置データに基づいてスリット15の開口位置を調整するようにすれば迅速な調整が可能になる。
【0026】
次に、試料駆動部14を制御して、試料SPをX線ビームXBに対して全反射角度に設定する。その手順の一例として、まず試料SPをX線入射側に所定角度傾斜させておいて、試料SPを徐々に上昇させ、X線検出器17での強度が半分になったところで停止する。次に、試料SPの傾斜角度を少し水平に近付けて、再び試料SPを徐々に上昇させ、X線検出器17での強度が半分になったところで停止する。これらの手順を繰返して、X線ビームXBの中心軸と試料SPの表面を一致させる。次に、試料SPに固有の全反射角度だけ試料SPをX線入射側に傾斜させる。こうして試料SPの角度設定が終了する。なお、試料SPの高さや角度等の姿勢データは、制御部26にX線源と対応付けさせて記憶しておいて、以後記憶されたデータを用いることによって、迅速な試料位置調整が可能になる。なお、試料位置調整の他の方法として、X線以外の光ビームを試料SPに向けて照射して、反射する位置を受光素子で検出することによっても、試料の姿勢を確認することができる。
【0027】
なお、以上の実施例において、移動テーブルに搭載されるX線源が3つである例を示したが、X線源は2つ以上であればX線スペクトルの変更が可能になり、X線スペクトルの種類が多いほど分析範囲が拡大する。
【0028】
【発明の効果】
以上詳説したように本発明によれば、試料へのX線入射条件をほぼ一定に保った状態で、励起X線のスペクトルを簡単に切換えることができる。
【0029】
また、X線源の切換えと連動して第2スリットの間隔を調整することによって、X線ビームの軸振れに対処できるため、安定したX線強度計測が可能になり、試料の姿勢制御を高精度に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す構成図である。
【図2】本発明の一実施例を示す平面図である。
【図3】本発明の一実施例の電気的構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
1、2、3 X線源
1a、2a、3a X線管
1b、2b 分光結晶
1c、2c、3c スリット
1d、2d、3d シャッタ
4 移動ステージ
5 ステージ駆動部
6 直線ガイド
10 基台
11 試料室
12、13 X線窓
14 試料駆動部
15 スリット
16 スリット調整部
17、20 X線検出器
21 半導体検出器
Claims (1)
- X線管およびX線を絞るスリットが一体的に設けられ、互いにスペクトルが異なるX線を発生するための複数のX線源と、
複数のX線源を搭載する移動ステージと、
移動ステージを駆動して、使用するX線源を選択するためのステージ駆動手段と、
選択されたX線源からのX線を試料表面で全反射するように照射して、試料から発生する蛍光X線を検出するためのX線検出器と、
試料の姿勢を調整するための試料保持手段と、
試料表面で全反射したX線を絞るための第2スリットと、
第2スリットを通過したX線の強度を計測するためのX線強度計測手段と、
X線源の切換えに応じて、第2スリットの開口位置を調整するためのスリット調整手段とを備えることを特徴とする全反射蛍光X線分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27397694A JP3583485B2 (ja) | 1994-11-08 | 1994-11-08 | 全反射蛍光x線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27397694A JP3583485B2 (ja) | 1994-11-08 | 1994-11-08 | 全反射蛍光x線分析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08136479A JPH08136479A (ja) | 1996-05-31 |
JP3583485B2 true JP3583485B2 (ja) | 2004-11-04 |
Family
ID=17535204
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27397694A Expired - Lifetime JP3583485B2 (ja) | 1994-11-08 | 1994-11-08 | 全反射蛍光x線分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3583485B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3673849B2 (ja) * | 1997-03-06 | 2005-07-20 | 理学電機工業株式会社 | 全反射蛍光x線分析装置 |
US6389102B2 (en) | 1999-09-29 | 2002-05-14 | Jordan Valley Applied Radiation Ltd. | X-ray array detector |
US6381303B1 (en) | 1999-09-29 | 2002-04-30 | Jordan Valley Applied Radiation Ltd. | X-ray microanalyzer for thin films |
JP2002357572A (ja) * | 2001-05-31 | 2002-12-13 | Rigaku Industrial Co | 蛍光x線分析装置 |
DE10200237B4 (de) * | 2002-01-05 | 2006-11-30 | APC Analytische Produktions-Steuerungs- und Controllgeräte GmbH | Vorrichtung zur Röntgenfloureszenzanalyse von mineralischen Schüttgütern |
US7103142B1 (en) | 2005-02-24 | 2006-09-05 | Jordan Valley Applied Radiation Ltd. | Material analysis using multiple X-ray reflectometry models |
JP5246548B2 (ja) * | 2008-12-15 | 2013-07-24 | 富士電機株式会社 | X線ビームの断面強度分布を測定するための方法 |
JP5470525B2 (ja) * | 2009-04-28 | 2014-04-16 | 株式会社リガク | 全反射蛍光x線分析装置 |
CN109342477A (zh) * | 2018-11-05 | 2019-02-15 | 广州市怡文环境科技股份有限公司 | 一种用于txrf分析仪的自适应样品台反馈系统及控制方法 |
-
1994
- 1994-11-08 JP JP27397694A patent/JP3583485B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH08136479A (ja) | 1996-05-31 |
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Date | Code | Title | Description |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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S303 | Written request for registration of pledge or change of pledge |
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