JP2007093593A - 全反射蛍光x線分析方法及び装置 - Google Patents
全反射蛍光x線分析方法及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007093593A JP2007093593A JP2006231713A JP2006231713A JP2007093593A JP 2007093593 A JP2007093593 A JP 2007093593A JP 2006231713 A JP2006231713 A JP 2006231713A JP 2006231713 A JP2006231713 A JP 2006231713A JP 2007093593 A JP2007093593 A JP 2007093593A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- sample
- primary
- rays
- total reflection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】試料1を載置する試料台13と、1次X線を試料1の表面に対し全反射を起こす入射角で入射させる1次X線照射部2と、試料1の表面に対向して配置され、試料1から発生する蛍光X線を検出する検出器11とを備えている。1次X線照射部2は1次X線を発生するX線源3、及びその1次X線を集光して試料1に照射するポリキャピラリーX線レンズ5を備え、さらに好ましくはポリキャピラリーX線レンズ5から出射した1次X線のうち試料表面に対して全反射条件を満たさない入射角をもつ1次X線を遮蔽するスリット7を備えている。
【選択図】図1
Description
全反射蛍光X線分析方法はシリコンウエハのような平坦な試料表面で1次X線を全反射させ、試料表面に対向させて検出器を配置し、1次X線を受けて測定対象としての試料表面の微小領域又は試料表面上についた不純物から発生する蛍光X線を検出することにより、1次X線の散乱に起因する連続X線バックグラウンドを軽減して蛍光X線を高感度に測定する方法である。
また、試料台上に載置された試料と検出器との間にもポリキャピラリーX線レンズを備えていることが好ましい。
図1は全反射蛍光X線分析装置の全体正面図である。図2と図3はキャピラリーX線レンズ3とスリット5の配置を示す正面断面図と上面断面図であり、それぞれの図において(B)は(A)の鎖線の円で囲った部分の拡大図である。
X線源3のX線出射窓とポリキャピラリーX線レンズ5の間には、管球由来のX線が蛍光X線測定に影響を与えるのを防ぐために、ジルコニウム、アルミニウム、真鍮など、測定対象元素に応じて適当なフィルタが設けられることがある。
試料1としてシリコンウエハを取り上げる。
試料1を試料台13上に載置し、モニタ25に映し出された試料1の表面画像を見ながら、試料1の表面の測定部位が傾斜モータ13bの回転中心で、かつポリキャピラリーX線レンズ5による1次X線の焦点位置にくるように、手動X−Yステージ14と手動ジャッキ15を調整する。すなわち、CCDカメラ23はポリキャピラリーX線レンズ5によるX線ビームの焦点位置に焦点が合うように予め調整されているので、モニタ25に映し出された試料1の表面画像が焦点のあった状態となるように手動X−Yステージ14と手動ジャッキ15を調整する。
2 1次X線照射部
3 X線源
5,27,35 ポリキャピラリーX線レンズ
7 スリット
9 照射位置
11 検出器
13 試料台
13a X−Y−Zステッピングモータ
13b 傾斜モータ
35a 入射面
35b 出射面
35c モノキャピラリー
Claims (10)
- X線源からの1次X線を試料表面に向かって全反射を起こす入射角で入射させ、前記試料表面に対向させた検出器で前記1次X線を受けた試料表面から発生する蛍光X線を検出する全反射蛍光X線分析方法において、
前記試料表面に照射する1次X線を、ポリキャピラリーX線レンズを用いて集光させることを特徴とする全反射蛍光X線分析方法。 - 前記ポリキャピラリーX線レンズから出射する1次X線は、進行方向に対して直交する方向の断面形状が試料表面に平行な線状である請求項1に記載の全反射蛍光X線分析方法。
- 前記試料表面に照射する1次X線のうち、前記試料表面に対して全反射条件を満たさない入射角をもつ1次X線を遮蔽する請求項1又は2に記載の全反射蛍光X線分析方法。
- 試料表面から発生する蛍光X線を検出する検出器側にもポリキャピラリーX線レンズを配置して、試料表面上の微小領域からの蛍光X線のみを検出する請求項1から3のいずれかに記載の全反射蛍光X線分析方法。
- 試料を載置する試料台と、
1次X線を発生するX線源及びその1次X線を集光して前記試料台上に載置された試料に照射するポリキャピラリーX線レンズを含み、その1次X線を試料の表面に対し全反射を起こす入射角で入射させる1次X線照射部と、
前記試料台上に載置された試料の表面に対向して配置され、試料から発生する蛍光X線を検出する検出器と、
を備えたことを特徴とする全反射蛍光X線分析装置。 - 前記ポリキャピラリーX線レンズはモノキャピラリーを多数束ねたものであり、各モノキャピラリーはその内径が受光部側の基端から放射側の先端にかけていったん拡大し、先端に向かって漸次細くなる形状をもったものである請求項5に記載の全反射蛍光X線分析装置。
- 前記ポリキャピラリーX線レンズは、X線光源に対面する入射面では前記モノキャピラリーの端部が円形面状に配列され、試料に対面する出射面では前記モノキャピラリーの端部が線状に、かつ放射方向が一点に向かって集光するように配列されている請求項6に記載の全反射蛍光X線分析装置。
- 前記1次X線照射部は、ポリキャピラリーX線レンズの出射側と試料台との間にスリットを備え、該スリットは前記試料台上に載置された試料の表面に対して全反射条件を満たさない入射角をもつ1次X線を遮蔽するように配置されている請求項5から7のいずれかに記載の全反射蛍光X線分析装置。
- 前記試料台はその上に載置された試料の表面の水平面内方向、高さ方向及び入射X線に対するその試料の表面の傾き方向を調整する調整機構を備えている請求項5から8のいずれかに記載の全反射蛍光X線分析装置。
- 前記試料台上に載置された試料と前記検出器との間にもポリキャピラリーX線レンズを備え、前記試料表面上の微小領域からの蛍光X線のみを検出するようにした請求項5から9のいずれかに記載の全反射蛍光X線分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006231713A JP5159068B2 (ja) | 2005-09-01 | 2006-08-29 | 全反射蛍光x線分析装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005254037 | 2005-09-01 | ||
JP2005254037 | 2005-09-01 | ||
JP2006231713A JP5159068B2 (ja) | 2005-09-01 | 2006-08-29 | 全反射蛍光x線分析装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007093593A true JP2007093593A (ja) | 2007-04-12 |
JP2007093593A5 JP2007093593A5 (ja) | 2009-08-20 |
JP5159068B2 JP5159068B2 (ja) | 2013-03-06 |
Family
ID=37979468
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006231713A Expired - Fee Related JP5159068B2 (ja) | 2005-09-01 | 2006-08-29 | 全反射蛍光x線分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5159068B2 (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009258101A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-11-05 | Osaka City Univ | 二次元分布を測定する方法及び装置 |
JP2010019584A (ja) * | 2008-07-08 | 2010-01-28 | Central Japan Railway Co | 蛍光x線分析装置 |
WO2010026750A1 (ja) * | 2008-09-02 | 2010-03-11 | 国立大学法人京都大学 | 全反射蛍光x線分析装置及び全反射蛍光x線分析方法 |
JP2010197229A (ja) * | 2009-02-25 | 2010-09-09 | Osaka City Univ | 蛍光x線分析装置 |
JP2010256103A (ja) * | 2009-04-23 | 2010-11-11 | Hyogo Science & Technology Association | X線分析装置 |
JP2014059173A (ja) * | 2012-09-14 | 2014-04-03 | Hamamatsu Photonics Kk | ポリキャピラリレンズ |
JP2014149293A (ja) * | 2013-01-30 | 2014-08-21 | Bruker Axs Gmbh | ウェーハのベベル上の汚染物質を検出するxrf測定装置 |
JP2017161276A (ja) * | 2016-03-08 | 2017-09-14 | 株式会社リガク | 多元素同時型蛍光x線分析装置および多元素同時蛍光x線分析方法 |
CN112105919A (zh) * | 2018-06-08 | 2020-12-18 | 株式会社岛津制作所 | 荧光x射线分析装置以及荧光x射线分析方法 |
CN115389538A (zh) * | 2022-08-09 | 2022-11-25 | 深圳市埃芯半导体科技有限公司 | X射线分析装置及方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06317546A (ja) * | 1993-05-06 | 1994-11-15 | Rigaku Denki Kogyo Kk | 全反射蛍光x線分析方法および分析装置 |
JPH0740080B2 (ja) * | 1986-06-19 | 1995-05-01 | 株式会社島津製作所 | X線ビ−ム収束装置 |
JPH0961382A (ja) * | 1995-08-24 | 1997-03-07 | Hitachi Ltd | 全反射蛍光x線分析装置 |
JPH10227749A (ja) * | 1997-02-14 | 1998-08-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | X線検査装置及びx線検査方法 |
JP2003202306A (ja) * | 2002-01-08 | 2003-07-18 | Japan Science & Technology Corp | 試料基板と反射板を用いてx線が多重全反射して収束する構成にした全反射蛍光x線分析法および該分析装置 |
JP2005512020A (ja) * | 2001-06-19 | 2005-04-28 | エックス−レイ オプティカル システムズ インコーポレーテッド | X線蛍光分光システム及びx線蛍光分光方法 |
JP2005241381A (ja) * | 2004-02-25 | 2005-09-08 | Hamamatsu Photonics Kk | X線コリメータ及びx線撮像装置 |
-
2006
- 2006-08-29 JP JP2006231713A patent/JP5159068B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0740080B2 (ja) * | 1986-06-19 | 1995-05-01 | 株式会社島津製作所 | X線ビ−ム収束装置 |
JPH06317546A (ja) * | 1993-05-06 | 1994-11-15 | Rigaku Denki Kogyo Kk | 全反射蛍光x線分析方法および分析装置 |
JPH0961382A (ja) * | 1995-08-24 | 1997-03-07 | Hitachi Ltd | 全反射蛍光x線分析装置 |
JPH10227749A (ja) * | 1997-02-14 | 1998-08-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | X線検査装置及びx線検査方法 |
JP2005512020A (ja) * | 2001-06-19 | 2005-04-28 | エックス−レイ オプティカル システムズ インコーポレーテッド | X線蛍光分光システム及びx線蛍光分光方法 |
JP2003202306A (ja) * | 2002-01-08 | 2003-07-18 | Japan Science & Technology Corp | 試料基板と反射板を用いてx線が多重全反射して収束する構成にした全反射蛍光x線分析法および該分析装置 |
JP2005241381A (ja) * | 2004-02-25 | 2005-09-08 | Hamamatsu Photonics Kk | X線コリメータ及びx線撮像装置 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009258101A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-11-05 | Osaka City Univ | 二次元分布を測定する方法及び装置 |
JP2010019584A (ja) * | 2008-07-08 | 2010-01-28 | Central Japan Railway Co | 蛍光x線分析装置 |
WO2010026750A1 (ja) * | 2008-09-02 | 2010-03-11 | 国立大学法人京都大学 | 全反射蛍光x線分析装置及び全反射蛍光x線分析方法 |
JP2010197229A (ja) * | 2009-02-25 | 2010-09-09 | Osaka City Univ | 蛍光x線分析装置 |
JP2010256103A (ja) * | 2009-04-23 | 2010-11-11 | Hyogo Science & Technology Association | X線分析装置 |
JP2014059173A (ja) * | 2012-09-14 | 2014-04-03 | Hamamatsu Photonics Kk | ポリキャピラリレンズ |
JP2014149293A (ja) * | 2013-01-30 | 2014-08-21 | Bruker Axs Gmbh | ウェーハのベベル上の汚染物質を検出するxrf測定装置 |
JP2017161276A (ja) * | 2016-03-08 | 2017-09-14 | 株式会社リガク | 多元素同時型蛍光x線分析装置および多元素同時蛍光x線分析方法 |
US10883945B2 (en) | 2016-03-08 | 2021-01-05 | Rigaku Corporation | Simultaneous multi-elements analysis type X-ray fluorescence spectrometer, and simultaneous multi-elements X-ray fluorescence analyzing method |
CN112105919A (zh) * | 2018-06-08 | 2020-12-18 | 株式会社岛津制作所 | 荧光x射线分析装置以及荧光x射线分析方法 |
CN112105919B (zh) * | 2018-06-08 | 2023-08-22 | 株式会社岛津制作所 | 荧光x射线分析装置以及荧光x射线分析方法 |
CN115389538A (zh) * | 2022-08-09 | 2022-11-25 | 深圳市埃芯半导体科技有限公司 | X射线分析装置及方法 |
CN115389538B (zh) * | 2022-08-09 | 2023-12-29 | 深圳市埃芯半导体科技有限公司 | X射线分析装置及方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5159068B2 (ja) | 2013-03-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5159068B2 (ja) | 全反射蛍光x線分析装置 | |
JP6937380B2 (ja) | X線分光を実施するための方法およびx線吸収分光システム | |
JP2008203245A (ja) | X線分析装置及びx線分析方法 | |
US7023954B2 (en) | Optical alignment of X-ray microanalyzers | |
JP3284198B2 (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
JP2004184314A (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
US6577705B1 (en) | Combinatorial material analysis using X-ray capillary optics | |
JP2006138837A (ja) | 多機能x線分析システム | |
US20100226477A1 (en) | X-ray convergence element and x-ray irradiation device | |
JP3718818B2 (ja) | カソードルミネッセンス用試料ホルダ、及びカソードルミネッセンス分光分析装置 | |
US8421007B2 (en) | X-ray detection system | |
Gao et al. | 3.3 Polycapillary X-ray Optics | |
JP2002189004A (ja) | X線分析装置 | |
JP5062598B2 (ja) | メスバウア分光測定装置 | |
US7604406B2 (en) | Microchip and analyzing method and device employing it | |
JP2008039772A (ja) | X線分析装置及びx線分析方法 | |
JP4694296B2 (ja) | 蛍光x線三次元分析装置 | |
JP4161763B2 (ja) | 微小部分析用x線分光器および微小部分析用x線分光器の位置調整方法 | |
JPH07248217A (ja) | 試料分析装置 | |
JP3755034B2 (ja) | 全反射蛍光x線分析法およびその装置 | |
JP2010197229A (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
JPH08220027A (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
JP2012220337A (ja) | 荷電粒子線分析装置および分析方法 | |
JP5646147B2 (ja) | 二次元分布を測定する方法及び装置 | |
Bjeoumikhov et al. | New developments and applications of X‐ray capillary optics |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090702 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090702 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110802 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110804 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110929 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120508 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120516 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121211 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121211 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151221 Year of fee payment: 3 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |