JP5078307B2 - 誘電体磁器およびその製法、ならびにコンデンサ - Google Patents

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本発明は、誘電体磁器およびその製法、ならびにコンデンサに関し、特に、チタン酸バリウムを主成分とする微粒の結晶粒子によって形成された誘電体磁器とその製法、ならびに、このような誘電体磁器を用いたコンデンサに関する。
従来より、積層セラミクスコンデンサは内部電極層として卑金属が用いられ、このため内部電極層の酸化を防止するために還元雰囲気中での焼成が行われている。そのような積層セラミックコンデンサを構成する誘電体磁器には、高誘電率という理由からチタン酸バリウムを主成分とする誘電体材料が用いられているが、チタン酸バリウムを主成分とする誘電体材料の耐還元性を高めるために、誘電体磁器を構成する結晶粒子はコアシェル構造を有するように形成されている(例えば、特許文献1参照)。
特開2001−220224号公報
ところで、現在、積層セラミックコンデンサは小型、高容量化に伴い、静電容量の増加を目的として誘電体磁器の薄層化が図られているが、この場合、誘電体磁器の薄層化による絶縁性の低下を防止するために、誘電体磁器は粒界数を増やすために結晶粒子の微粒化が図られている。
そこで、上記特許文献1に開示された誘電体磁器に用いている粒径のチタン酸バリウム粉末に相当する原料粉末を粉砕し、これに添加剤であるMgや希土類元素の酸化物を添加して、従来の製法のように、常圧で焼成して誘電体磁器を作製すると、結晶粒子の低下とともに、コアシェル構造のシェル部の体積が増加し、それとともに比誘電率が低下するという問題があった。また、結晶粒子を微細化して、シェル部の体積分率が大きくなった状態の誘電体磁器は比誘電率の温度変化率が大きくなるという問題があった。
また、常圧焼成では、緻密化に伴いチタン酸バリウムを主成分とする結晶粒子が粒成長しやすいために微粒化が困難であった。
従って本発明は、結晶粒子の微粒化が可能で比誘電率の低下を抑制し、かつ比誘電率の温度変化率の小さい誘電体磁器とその製法、ならびに、このような誘電体磁器により形成されるコンデンサを提供することを目的とする。
本発明の誘電体磁器は、チタン酸バリウムを主成分とし、マグネシウム、希土類元素およびマンガンを含む結晶粒子により構成され、前記結晶粒子の中央に位置するコア部が正方晶であり、コア部の周囲に位置するシェル部が立方晶であるコアシェル構造を有する誘電体磁器であって、前記結晶粒子の平均粒径が64〜99nmであり、かつ前記シェル部の体積をVs、前記コア部の体積をVcとしたときに、結晶粒子全体の体積Vs+Vcに対するシェル部の体積分率Vs/(Vs+Vc)が0.227〜0.578であることを特徴とする。
また、上記誘電体磁器では、前記誘電体磁器中に含まれるバリウム1モルに対して、前記マグネシウムをMgO換算で0.004〜0.01モル、前記希土類元素をRE換算で0.002〜0.01モルおよび前記マンガンをMnO換算で0.002〜0.004モルの割合で含有することが望ましい。ここで、バリウムはBaO、マグネシウムはMgO、希土類元素はRE、およびマンガンはMnOでのモルである。
発明の誘電体磁器の製法は、上記の誘電体磁器の製法であって、平均粒径が50〜170nmのチタン酸バリウム粒子の表面にマグネシウム、希土類元素およびマンガンを被覆した被覆粉末を調製し、該被覆粉末を用いて成形体を作製した後、該成形体を還元雰囲気中、加圧焼成法により、温度900〜1000℃の範囲で焼成することを特徴とする。
また、上記誘電体磁器の製法では、前記被覆粉末として、該被覆粉末中に含まれるバリウム1モルに対して、前記マグネシウムをMgOとして、0.004〜0.01モル、前記希土類元素をREとして、0.004〜0.01モルおよび前記マンガンをMnCOとして、0.002〜0.004モルの割合で含有するものを用いることが望ましい。
発明のコンデンサは、上記の誘電体磁器と内部電極層とが積層されたコンデンサ本体と、該コンデンサ本体の端部に設けられた外部電極とを具備することを特徴とする。
本発明によれば、比誘電率が高くかつ比誘電率の温度変化率が小さい誘電体磁器およびコンデンサを得ることができる。
図1は本発明の誘電体磁器を構成する結晶粒子のコアシェル構造を示す模式図である。本発明の誘電体磁器は、チタン酸バリウムを主成分とし、マグネシウムおよび希土類元素を含む結晶粒子1により構成され、前記結晶粒子の中央に位置するコア部1aが正方晶であり、また、コア部1aの周囲に位置するシェル部1bが立方晶である構造のコアシェル構造を有するものである。図1に記したD1は結晶粒子の粒径、D2はコア部の径、D3はシェルの厚みである。
本発明の誘電体磁器を構成する結晶粒子の平均粒径は64〜99nmであることを特徴とする。結晶粒子の平均粒径が64nm以上であるとコアシェル構造においてコア部の体積比率を高められるという利点がある。一方、結晶粒子の平均粒径が99nm以下であると、微粒化と粒界の増加により絶縁性を高められるという利点がある。結晶粒子の平均粒径が64nmよりも小さい場合にはコアシェル構造においてコア部の体積比率が小さくなり高い比誘電率が得られない。結晶粒子の平均粒径が99nmよりも大きいと、誘電体磁器中において粒界数が減り絶縁性が低下しやすい。
また本発明の誘電体磁器は、結晶粒子におけるシェル部の体積をVs、コア部の体積をVcとしたときに、結晶粒子全体の体積Vs+Vcに対する、シェル部の体積分率Vs/(Vs+Vc)が0.227〜0.58であることを特徴とする。
本発明の誘電体磁器は上記のように結晶粒子の平均粒界が64〜99nmと微粒であっても、コアシェル構造におけるシェル部の体積が小さいものである。Vs/(Vs+Vc)比が0.227以上であると、シェル部が十分な体積比率で形成されているために、誘電体磁器の絶縁性を高め、かつ比誘電率の温度特性を小さくできるという利点がある。Vs/(Vs+Vc)比が0.578以下であると、結晶粒子中に占めるコア部の体積比率が大きくなり、高誘電率化が図れるという利点がある。これに対して、Vs/(Vs+Vc)比が0.227よりも小さいと、絶縁性が低下し、比誘電率の温度特性が大きくなる。Vs/(Vs+Vc)比が0.578よりも大きいと、結晶粒子中に占めるコア部の体積比率が低下し比誘電率が低くなる。
また、本発明の誘電体磁器は、当該誘電体磁器中におけるバリウム1モルに対して、マグネシウムをMgO換算で0.004〜0.01モル、希土類元素をRE 換算で0.00〜0.01モルおよびマンガンをMnO換算で0.002〜0.00モル含有することが望ましい。
即ち、本発明の誘電体磁器は、当該誘電体磁器中に含まれるバリウム1モルに対して、マグネシウムをMgO換算で0.004〜0.01モル固溶させることにより、結晶構造を立方晶化することができ、誘電体磁器の絶縁性を高められるという利点がある。
また、本発明の誘電体磁器は、当該誘電体磁器中に含まれるバリウム1モルに対して、
希土類元素をRE 換算で0.00〜0.01モル固溶させることにより、結晶構造を立方晶化することができる。また、希土類元素はチタン酸バリウムに固溶すると、酸素欠損に起因する電荷のアンバランスを補償するものとなるため、この場合も誘電体磁器の絶縁性を高められるという利点がある。
また、本発明の誘電体磁器は、当該誘電体磁器中に含まれるバリウム1モルに対して、マグネシウムおよび希土類元素に加えてマンガンをMnO換算で0.002〜0.00モル含有することが望ましい。マンガンを上記の範囲の割合で希土類元素と共存させた場合に、チタン酸バリウムを主成分とする結晶粒子における酸素欠損による電荷アンバランスをさらに補償することができ、耐還元性を高めることができ、導体膜に卑金属などを用い易くなる。
つまり、本発明の誘電体磁器を構成する結晶粒子においてMnは2価と3価に価数変化するため、還元焼成時に生じる酸素欠損による電荷のアンバランスを補うことができる。そのため、シェル部を有するコアシェル構造の結晶粒子は耐還元性に強い。
なお、本発明において希土類元素とは、原子番号57〜71のランタン系の希土類元素およびイットリウム(Y)の群から選ばれる1種をいうが、チタン酸バリウム中において比誘電率および絶縁性をさらに高められるという点でY、Dy、HoおよびErが特に望ましい。
次に、本発明の誘電体磁器の製法について説明する。本発明の誘電体磁器の製法では、平均粒径が50〜170nmのチタン酸バリウム粉末を用い。チタン酸バリウム粉末の平均粒径が50nm以上であると、添加剤の固溶量の比率を抑制できることからコアシェル構造を形成しやすいという利点がある。
一方、用いるチタン酸バリウム粉末は平均粒径が170nm以下であると、結晶粒子の微粒化に好適となり誘電体磁器中における結晶粒子数が増えて絶縁性を高められるという利点がある。
平均粒径が50nmよりも小さいと元のチタン酸バリウム粉末の正方晶性が低いために高誘電率化が困難となる。
平均粒径が170nmよりも大きいと、焼成後の結晶粒子の微粒化が困難となり、誘電体磁器中における結晶粒子数が減少するために絶縁性が低下するおそれがある。
また、本発明の誘電体磁器の製法に用いるチタン酸バリウム粉末は、その表面にマグネシウムおよび希土類元素を被覆して被覆粉末を調製することを特徴とする。
チタン酸バリウム粉末の表面に、予め、マグネシウム、希土類元素、さらにはマンガンを酸化物を被覆することにより、これらの添加剤を粉末混合する場合に比較して添加物の分散性を高められるという利点がある。つまり、このような微粒のチタン酸バリウム粉末に対して添加剤を粉末で混合すると添加剤の粒径に依存して分散性が変化し、結果的に、比誘電率の温度変化率が大きくなるおそれがある。
なお本発明では、チタン酸バリウム粉末が微粒であるために添加剤はチタン酸バリウム粉末よりも微粒の酸化物粉末を用いることが被覆粉末中の添加剤の分散性を高められるという利点がある。添加剤を酸化物粉末としてチタン酸バリウム粉末の表面に被覆する場合には、これらの原料粉末を有機接着剤とともに混合した後、200℃程度の温度で加熱処理を行う。
また、本発明の他の製法によれば、添加剤である被覆成分は溶液(酢酸塩、硝酸塩、アルコキシド)を用いてもよい。この場合、上記の元素の含まれる溶液をチタン酸バリウム粉末に混合してスプレードライ等の乾燥処理を施して調製する。
次に、本発明の誘電体磁器の製法は、該被覆粉末を用いて成形体を作製し、次いで、該成形体を還元雰囲気中、加圧焼成法により、温度900〜1000℃の範囲で焼成することを特徴とする。
本発明では焼成にホットプレス、HIP法などの加圧焼成法を用いているために焼結体の緻密化が容易であるという利点がある。この場合、常圧よりも低温で焼結できるために低温での焼成が可能となり、チタン酸バリウムを主成分とする結晶粒子の粒成長を抑制できるという利点がある。
また、焼成温度が900℃よりも低いと、たとえ加圧焼成であっても緻密化が困難となり、得られる誘電体磁器の結晶粒子の結晶性が低いために比誘電率が低いものとなる。
一方、焼成温度が1000℃よりも高いと結晶粒子が粒成長するとともに、添加剤の固溶が進み、コアシェル構造におけるシェル部の体積比率が増し高い比誘電率が得られない。
図2は、本発明のコンデンサを示す断面模式図である。そして、本発明の誘電体磁器を用いて、以下のように、本発明の誘電体磁器を誘電体層として導体膜を内部電極層として積層してコンデンサを形成できる。
即ち、本発明のコンデンサはコンデンサ本体3の端部に外部電極4が設けられている。コンデンサ本体3は誘電体層5と内部電極層である導体膜6とが交互に積層され構成されている。この誘電体層5の厚みは1μm以上5μm以下であることが望ましい。誘電体層5の厚みが5μm以下であると誘電体層5の薄層化によりコンデンサの静電容量が高められるという利点がある。内部電極層6は高積層化しても製造コストを抑制できるという点でNiやCuなどの卑金属が望ましく、特に、本発明のコンデンサを構成する誘電体層5との同時焼成を図るという点でNiがより望ましい。この内部電極層6の厚みは平均で1μm以下が好ましい。
コンデンサを作製する場合には、上記した被覆粉末をグリーンシートに成形し、焼成後に導体膜となる卑金属を主成分とする導体ペーストを調製し、これをグリーンシートの表面に印刷した後、積層し、焼成する。
次に、焼成して得られた誘電体磁器について、結晶粒子の平均粒径、比誘電率、比誘電率の変化率(温度:−55〜125℃)の評価を行う。
コア部とシェル部の平均の体積分率の算出方法としては、走査型電子顕微鏡(SEM)の結果より、結晶粒子の平均粒径を算出する。X線回折の結果より、指数(004)の分離フィットにより、2θ=99〜102°付近のピークを正方晶のコア部と立方晶のシェル部とにピークを分離する。分離したピークの半値幅をシェラーの式に導入することにより算出する。
本発明の誘電体磁器を以下のように作製した。まず、予め合成した平均粒径40〜190nmのチタン酸バリウム(BaTiO)粉末を用意した。このチタン酸バリウム粉末のバリウム1モル部に対して、表1に示す量だけ、被覆成分として添加剤を加えて被覆粉末を調製した。被覆する添加剤は全て平均粒径が30nmの酸化物粉末を用いた。
また、焼結助剤としてSiOベースのガラスを被覆粉末100モル(チタン酸バリウム100モル)に対して1.2モル添加した。
次に、直径12mm、厚さ1mmの形状のペレット状に成形した。
次に、各組成のペレットを複数個ずつ焼成した。添加物を被覆させたサンプルに関しては焼成温度900〜1000℃で窒素雰囲気を用いた還元雰囲気中でホットプレスにて作製した。ホットプレスの圧力は100MPaとし、ホットプレス用治具としてはカーボン型を用いた。
一方、比較サンプルとして、添加物を被覆せずに添加した原料粉末も調製し、従来の製法により試料を作製した。焼成温度は1100〜1200℃とし還元雰囲気での焼成を行った。
次に、焼成後の試料の表面にインジウム・ガリウムの導体膜を印刷した。次に、作製した誘電体磁器であるこれらの試料をLCRメーター4284Aを用いて周波数1.0kHz、入力信号レベル1.0Vにて静電容量および誘電損失を測定し、試料の直径と厚みおよび導体膜の面積から比誘電率を算出した。試料数は各10個とした。また、比誘電率の変化率を−55〜125℃の範囲で測定した。表2における+側最大値は前記温度範囲において、25℃を基準としたときの最も高い比誘電率の割合であり、一方、−側最大値は25℃を基準としたときの最も低い比誘電率の割合である。
結晶粒子の平均粒径は、得られた誘電体磁器の破断面を研磨した後、走査型電子顕微鏡を用いて内部組織の写真を撮り、次いで、その写真に映し出されている結晶粒子の輪郭を画像処理し、各粒子を円と見立ててその直径を求め、平均化して求めた。
シェル部の厚みはX線回折(XRD)を用いた指数(004)分離フィットにより、2θ=99〜102℃付近のピークを正方晶のコア部と立方晶のシェル部とにピークを分離し、分離したピークの半値幅をシェラーの式に導入することにより算出した。
平均粒径とシェル厚みからシェル堆積分率を求めた。ここで、表1および表2における試料No.10〜12および14は参考試料である。
Figure 0005078307
表1、2の結果から明らかなように、本発明の製法により作製した試料No.2〜5、8、9、15および16の誘電体磁器は、結晶粒子の平均粒径が64〜99nmの範囲でシェル体積分率が0.227〜0.578であり、25℃における比誘電率が1972以上、比誘電率の変化率が−55〜125℃の範囲において−15.6〜15.3%の範囲内であった。
これに対して、結晶粒子の平均粒径が小さい場合にはシェル体積が大きくなり、比誘電率が低かった(試料No.1)、また、結晶粒子の平均粒径が大きい場合には比誘電率の温度変化率が−16.2〜15.8%と大きかった(試料No.13)。
また、ホットプレスを用いずに常圧で焼成した場合、結晶粒子の平均粒径が180μmの試料(No.19)では、シェルの体積分率が0.796とホットプレスを用いた場合(No.11)よりも大きく、25℃における比誘電率は1762とホットプレス品よりも低かった。また、比誘電率の変化率が−55〜125℃の範囲において−27.2〜30.6%と本発明の試料に比較して大きかった。
本発明の誘電体磁器を構成する結晶粒子の断面模式図である。 本発明のコンデンサを示す断面模式図である。
符号の説明
1 結晶粒子
1a コア部
1b シェル部
3 コンデンサ本体
4 外部電極
5 誘電体層
6 導体膜

Claims (5)

  1. チタン酸バリウムを主成分とし、マグネシウム、希土類元素およびマンガンを含む結晶粒子により構成され、前記結晶粒子の中央に位置するコア部が正方晶であり、コア部の周囲に位置するシェル部が立方晶であるコアシェル構造を有する誘電体磁器であって、前記結晶粒子の平均粒径が64〜99nmであり、かつ前記シェル部の体積をVs、前記コア部の体積をVcとしたときに、結晶粒子全体の体積Vs+Vcに対するシェル部の体積分率Vs/(Vs+Vc)が0.227〜0.578であることを特徴とする誘電体磁器。
  2. 前記誘電体磁器中に含まれるバリウム1モルに対して、前記マグネシウムをMgO換算で0.004〜0.01モル、前記希土類元素をRE換算で0.002〜0.01モルおよび前記マンガンをMnO換算で0.002〜0.004モルの割合で含有することを特徴とする請求項1に記載の誘電体磁器。
  3. 請求項1または2に記載の誘電体磁器の製法であって、平均粒径が50〜170nmのチタン酸バリウム粒子の表面にマグネシウム、希土類元素およびマンガンを被覆した被覆粉末を調製し、該被覆粉末を用いて成形体を作製した後、該成形体を還元雰囲気中、加圧焼成法により、温度900〜1000℃の範囲で焼成することを特徴とする誘電体磁器の製法。
  4. 前記被覆粉末として、該被覆粉末中に含まれるバリウム1モルに対して、前記マグネシウムをMgOとして、0.004〜0.01モル、前記希土類元素をREとして、0.004〜0.01モルおよび前記マンガンをMnCOとして、0.002〜0.004モルの割合で含有するものを用いることを特徴とする請求項3に記載の誘電体磁器の製法。
  5. 請求項1または2に記載の誘電体磁器と内部電極層とが積層されたコンデンサ本体と、該コンデンサ本体の端部に設けられた外部電極とを具備することを特徴とするコンデンサ。
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8107221B2 (en) * 2006-10-27 2012-01-31 Kyocera Corporation Dielectric ceramic and capacitor
JP5121311B2 (ja) * 2007-06-01 2013-01-16 京セラ株式会社 誘電体磁器および積層セラミックコンデンサ
JP5233763B2 (ja) * 2009-03-13 2013-07-10 株式会社村田製作所 チタン酸バリウム系誘電体原料粉末、その製造方法、セラミックグリーンシートの製造方法、および積層セラミックコンデンサの製造方法
JP2011132056A (ja) * 2009-12-24 2011-07-07 Kyocera Corp 積層セラミックコンデンサ
JP5446880B2 (ja) 2010-01-04 2014-03-19 Tdk株式会社 誘電体磁器組成物および電子部品
JP5578881B2 (ja) * 2010-02-25 2014-08-27 京セラ株式会社 積層セラミックコンデンサ
JP5578882B2 (ja) * 2010-02-25 2014-08-27 京セラ株式会社 積層セラミックコンデンサ
JP5496331B2 (ja) * 2010-06-25 2014-05-21 京セラ株式会社 コンデンサ
KR20130042578A (ko) 2010-09-17 2013-04-26 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 유전체 세라믹, 적층 세라믹 콘덴서, 및 이들의 제조방법
JP2013112536A (ja) * 2011-11-25 2013-06-10 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd 高誘電率セラミックスの製造方法
JP6443072B2 (ja) * 2015-01-23 2018-12-26 Tdk株式会社 積層型セラミック電子部品

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH035366A (ja) * 1989-05-31 1991-01-11 Yamaha Corp 着色ジルコニア焼結体の製造方法
JPH04238859A (ja) * 1991-01-09 1992-08-26 Central Res Inst Of Electric Power Ind ランタンカルシウムクロマイト焼結体及びそれを利用する平板型固体電解質燃料電池
JP3487539B2 (ja) * 1997-05-06 2004-01-19 太陽誘電株式会社 誘電体磁器
JP3391268B2 (ja) * 1998-01-20 2003-03-31 株式会社村田製作所 誘電体セラミックおよびその製造方法、ならびに、積層セラミック電子部品およびその製造方法
JP2000223351A (ja) * 1999-01-28 2000-08-11 Murata Mfg Co Ltd 積層セラミックコンデンサ
JP4824847B2 (ja) * 1999-03-29 2011-11-30 大森 守 セラミックス共晶体の製造方法
JP2001220224A (ja) * 2000-02-04 2001-08-14 Taiyo Yuden Co Ltd 誘電体磁器と積層セラミック電子部品
JP4836509B2 (ja) * 2004-11-26 2011-12-14 京セラ株式会社 誘電体磁器

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