JP5039183B2 - 検査システム - Google Patents
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Description
図1Aに本発明の一実施の形態の検査システム10を示す。図1Aに示すように、システム10は、例えばパネル11などの検査中の製品、スキャナ12、信号生成器14、分析装置16を含む。
図3Aは本発明に基づく他の実施の形態であり、検査に用いるシステム30の図である。そのうち、下方部がシステム30の正面図であり、上方部がシステム30の上面図である。図3Aに示すように、例えばベルトコンベア38で支持フレーム13を代替できるほか、システム30は図1Aで例示したシステム10と同様にできる。具体的には、検査を行う製品31はベルトコンベア38上に配置し、ベルトコンベア38に伴って移動させることができる。このため、製品31の連続検査を達成できる。システム30は、第1スキャナ32−1を含み、図1Aに示すスキャナ12と異なり、前記第1スキャナ32−1は分析装置16に対して固定されている。このほか、システム30はさらに検査に用いる第1光源37−1を含む。本実施の形態において、第1スキャナ32−1と第1光源37−1は検査中の製品31の同じ側に設置することができる。
図3Bは本発明に基づくさらに他の実施の形態であり、検査に用いるシステム30−1の概略図を示す。図3Bに示すように、第1スキャナ32−1と第1光源37−1は検査中の製品31の異なる側に設置することができる。本実施の形態において製品31は光学的に透明であり、一層または複数層の透明層を含む。
図3Cは本発明に基づくまた他の実施の形態であり、検査に用いるシステム30−2の概略図を示す。図3Cに示すように、例えば第2スキャナ32−2を運用することを除き、システム30−2は図3Bに示すシステム30−1と同様にできる。具体的には、第1スキャナ32−1と第2スキャナ32−2は製品31の一方側に設置でき、第1光源37−1は製品31の他方側に設置することができる。さらに、第1スキャナ32−1は製品31から第1距離d1の場所に設置し、第2スキャナ32−2は製品31から第2距離d2の場所に設置して、製品31中の欠陥を有する特定の層の存在を識別することができるようにする。
図3Dは本発明に基づくさらにまた他の実施の形態であり、検査に用いるシステム30−3の概略図を示す。図3Dに示すように、第1スキャナ32−1と第1光源37−1は前記製品の一方側に設置でき、第2スキャナ32−2と第2光源37−2は製品31の他方側に設置することができる。本実施の形態において製品31は多層を含むことができ、第1層(図示しない)、第2層(図示しない)、及び前記第1層と第2層の間の少なくとも1つの中間層を含むことができる。前記少なくとも1つの中間層は光学的に不透明の層にでき、例えば導線や回路アセンブリなどの装置部材を含むことができる。前述の構成により、多層の製品31の前記第1層と第2層を同時にスキャンすることができる。
11 パネル
12 スキャナ
12−1 スキャナ
12−2 スキャナ
13 支持フレーム
14 信号生成器
15 モータ
16 分析装置
21 センサセル
22 センサセル
25 カラーフィルタ
30 システム
30−1 システム
30−2 システム
30−3 システム
31 製品
32−1 第1スキャナ
32−2 第2スキャナ
37−1 第1光源
37−2 第2光源
38 ベルトコンベア
161 マイクロプロセッサ
162 メモリ
163 比較モジュール
164 ランク付けモジュール
165 マッピングモジュール
250 副画素
CH0−CH17 スキャナユニットまたはスキャンチャンネル
CH18 単一のスキャナユニット
Claims (11)
- 製品の検査に用いる検査システムであって、
前記システムは、
前記製品の第1層のスキャンに用いられ、前記製品の第1イメージを生成し、当該第1イメージが画素マトリクスを含み、その各画素マトリクスが第1グレースケール値を有する、第1スキャナと、
前記製品の第2層のスキャンに用いられ、前記製品の第2イメージを生成し、当該第2イメージが画素マトリクスを含み、その各画素マトリクスが第2グレースケール値を有する、第2スキャナと、
前記第1スキャナと第2スキャナに電気的に接続され、前記第1イメージと第2イメージを受信して分析する分析装置と、を備え、
当該分析装置は、
前記第1イメージまたは第2イメージ中の各画素に関する基準グレースケール値の計算に用いられるマイクロプロセッサであって、前記基準グレースケール値が前記各画素の隣に位置する画素のグレースケール値の平均値を含む、マイクロプロセッサと、
前記各画素に関する基準グレースケール値と、前記第1イメージの一画素に関する少なくとも1つの閾値と、前記第2イメージの前記画素に関する少なくとも1つの閾値とを保存するために用いられるメモリと、
前記第1イメージ中の一画素に関する少なくとも1つの閾値からの第1偏移量と、前記第2イメージ中の前記画素に関する少なくとも1つの閾値からの第2偏移量とを比較するために用いられる比較モジュールと、を含むことを特徴とする検査システム。 - 請求項1に記載の検査システムにおいて、前記第1スキャナまたは第2スキャナが第1方向上に設置された複数のスキャナユニットを含み、且つ前記第1スキャナと第2スキャナが前記第1方向に垂直な第2方向上で前記製品に相対して移動するよう構成されたことを特徴とする検査システム。
- 請求項2に記載の検査システムにおいて、前記第1スキャナまたは第2スキャナが第1行のスキャナユニットと第2行のスキャナユニットとを含み、前記第1行と第2行のスキャナユニットが互い違いに配置されたことを特徴とする検査システム。
- 請求項3に記載の検査システムにおいて、前記各スキャナユニットが複数のセンサセルを含み、且つ前記第1行中のスキャナユニットと前記第2行中の隣接するスキャナユニットの一定の数のセンサセルが重なり合うよう配置されたことを特徴とする検査システム。
- 請求項3に記載の検査システムにおいて、前記各スキャナユニットが複数のセンサセルを含み、且つ前記各スキャナユニット中のセンサセルの密度が、前記製品中の副画素の密度の2倍に等しい、または2倍より大きいことを特徴とする検査システム。
- 請求項1に記載の検査システムにおいて、さらに欠陥の数に基づいて複数の製品をランク付けするために用いるランク付けモジュールを含むことを特徴とする検査システム。
- 請求項1に記載の検査システムにおいて、前記少なくとも1つの閾値が、前記基準グレースケール値の上限とする第1閾値と、前記基準グレースケール値の下限とする第2閾値とを含むことを特徴とする検査システム。
- 製品の検査に用いる検査システムであって、
前記システムは、
前記製品をスキャンし、前記製品の第1イメージを生成する第1スキャナと、
前記製品をスキャンし、前記製品の第2イメージを生成する第2スキャナと、
前記第1スキャナと第2スキャナに電気的に接続され、前記製品の前記第1イメージと第2イメージとを受信して分析する分析装置と、を備え、
前記第1イメージが画素マトリクスを含み、その各画素が第1のグレースケール値を有し、前記第2イメージが画素マトリクスを含み、その各画素が第2のグレースケール値を有し、
前記分析装置は、
前記第1イメージと第2イメージ中の前記各画素に関する基準グレースケール値の計算に用いられるマイクロプロセッサであって、前記基準グレースケール値が前記各画素の隣に位置する画素のグレースケール値の平均値を含むマイクロプロセッサと、
前記第1イメージと第2イメージ中の各画素に関する基準グレースケール値と、前記第1イメージ中の画素に関する少なくとも1つの閾値と、前記第2イメージの前記画素に関する少なくとも1つの閾値とを保存するために用いられるメモリと、
前記第1イメージ中の一画素に関する少なくとも1つの閾値からの第1偏移量と、前記第2イメージ中の前記画素に関する少なくとも1つの閾値からの第2偏移量とを比較するために用いられる比較モジュールと、を含むことを特徴とする検査システム。 - 請求項8に記載の検査システムにおいて、前記第1スキャナまたは第2スキャナが第1方向上に設置された複数のスキャナユニットを含み、且つ前記第1スキャナと第2スキャナが前記第1方向に垂直な第2方向上で前記製品に相対して移動するよう構成されたことを特徴とする検査システム。
- 請求項9に記載の検査システムにおいて、前記第1スキャナまたは第2スキャナが第1行のスキャナユニットと第2行のスキャナユニットとを含み、前記第1行と第2行のスキャナユニットが互い違いに配置されたことを特徴とする検査システム。
- 請求項8に記載の検査システムにおいて、前記少なくとも1つの閾値が、前記基準グレースケール値の上限とする第1閾値と、前記基準グレースケール値の下限とする第2閾値とを含むことを特徴とする検査システム。
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