CN110455828A - 一种大尺寸tft基板玻璃无损微波纹度检测方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种大尺寸TFT基板玻璃无损微波纹度检测方法,包括:a、在玻璃输送辊道下方设置两根与玻璃输送辊道同向的导轨,两根导轨之间间隔设置两块竖直的移动板,其中一块移动板设有竖直的CCD图像传感器,另一块移动板设有向下倾斜照射的光源;b、使TFT基板底面均匀结雾;c、开启光源照射TFT基板表面,沿导轨同时移动两块移动板、保证两块移动板之间的相对位置不变;使光线扫描TFT基板表面,并令光线持续反射在CCD图像传感器上,在CCD图像传感器上形成明暗相间的条纹;d、根据明暗相间的条纹判断TFT基板玻璃的微波纹度;该方法能够对整片TFT基板玻璃进行全面的微波纹度检测,且无须破坏玻璃,有利于及时发现玻璃不良品。

Description

一种大尺寸TFT基板玻璃无损微波纹度检测方法
技术领域
本发明涉及玻璃检测技术领域,具体是一种大尺寸TFT基板玻璃无损微波纹度检测方法。
背景技术
浮法工艺生产的高世代、大尺寸的TFT基板玻璃,成型后的基板玻璃(0.50mm)微波纹度指标为≤0.25μm(2500Å),根据TFT基板规格书的要求, TFT成品玻璃工作面的微波纹度需要≤0.04μm(400Å),这就要求必须使用面研磨工艺对玻璃进行面研磨以改善玻璃工作面的微波纹度。
目前使用多组机台对浮法玻璃进行面研磨,影响面研磨的因素有很多,包括抛光粉的粒度、抛光液的浓度、抛光垫的磨削力、沟槽深度等诸多因素、每组机台以上各因素出现异常都有可能导致面研磨异常。客观上要求对玻璃的微波纹度加强控制、防止异常玻璃漏检。
现阶段一般采用离线抽检的方式控制微波纹度的质量控制模式,具体操作模式有以下两种方式:
一、正常生产时从不同机组抽取的不合格玻璃(主要是面检、边检、复检不合格的玻璃)中抽取样本做破坏性实验,缺点是抽取样本量不固定,容易导致漏检现象。
二、每组机组复工前做首件确认,机组出现异常或停机后重新开始生产时,抽取第一片玻璃作为样本做破坏性实验,如抽检样本微波纹度合格则可以批量生产,如不合格继续调试,直至首件检验合格后投入批量生产。缺点是抽取样本量固定,使用一片标定一组机台玻璃,容易导致误判。
以上两种控制方式都不可避免的存在以下的问题:
一、抽测样本量数量少。只能抽测某一个时间点或某一组机台的检测数据,不能如实反应整批玻璃的微波纹度。
二、抽测样本长度小。抽测时使用SURFCOM-1400D表面形貌仪探针扫描法检测微波纹度,测试样本不大于50cmx50cm,扫描长度≤20cm,只能测量1小段的平面度,不可知整板的微波纹度。
三、抽测过程需要对玻璃做破坏性实验,导致不能过多抽检玻璃。
四、抽测使用SURFCOM-1400D表面形貌仪探针扫描法检测微波纹度,测试时间长,等到测试结果出来,可能已经产生很多不良品。
发明内容
本发明的目的在于提供一种大尺寸TFT基板玻璃无损微波纹度检测方法,该方法能够对整片TFT基板玻璃进行全面的微波纹度检测,且无须破坏玻璃,有利于及时发现玻璃不良品。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种大尺寸TFT基板玻璃无损微波纹度检测方法,包括:
a、在玻璃输送辊道下方设置两根与玻璃输送辊道同向的导轨,两根导轨之间间隔设置两块竖直的移动板,移动板可以沿两根导轨水平同步移动;其中一块移动板设有竖直的CCD图像传感器,另一块移动板设有向下倾斜照射的光源;
b、TFT基板由玻璃输送辊道输送到两根导轨之间时停止,使用蒸汽发生器在TFT基板底面均匀结雾;
c、开启光源倾斜照射在TFT基板表面,沿导轨同时移动两块移动板、保证两块移动板之间的相对位置不变;使光线扫描TFT基板表面,并令光线持续反射在CCD图像传感器上,在CCD图像传感器上形成明暗相间的条纹;
d、根据明暗相间的条纹判断TFT基板玻璃的微波纹度。
进一步的,所述光源采用卤素灯灯箱,灯箱设置条形缝使光线呈条形射出。
进一步的,所述光线的中心线与TFT基板表面的锐角呈30º。
本发明的有益效果是:
一、检测过程对玻璃无损,因为检测过程无损,所以可以做到对玻璃微波纹度100%全检。
二、本方法可实现100%在线全检玻璃微波纹度,避免误判,本装置检验结果可以即时指导生产工艺的调整。
三、因为是全检,可以及时发现各机组的异常,便于及时处理异常,减少因不能及时发现异常而导致玻璃不良品的产生。
四、因为是全检,可以减少为保证工艺稳定性所做的预防性维修和预防性工艺处理。
五、本检测方法可解决高世代、大尺寸(包括8.5代及各更大尺寸的10.5代、11代)玻璃的无损在线微波纹度检测,后续可通过加宽光源和加大扫描CCD摄像头尺寸的方式检测更高世代,更大尺寸(包括8.5代及更大尺寸的10.5代、11代等)的TFT基板玻璃。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明:
图1是本发明的示意图;
图2是本发明的俯视图。
具体实施方式
结合图1与图2所示,本发明提供一种大尺寸TFT基板玻璃无损微波纹度检测方法,包括:
a、在玻璃输送辊道1下方设置两根与玻璃输送辊道同向的导轨2,两根导轨2之间间隔设置两块竖直的移动板,即第一移动板3a与第二移动板3b,移动板可以沿两根导轨2水平移动;第一移动板3a设有竖直的CCD图像传感器4,第二移动板3b设有向下倾斜照射的光源5;作为优选的,光源采用卤素灯灯箱,灯箱设置条形缝使光线呈条形射出,条形光线的宽度以能够覆盖TFT基板长度为宜;
b、TFT基板6由玻璃输送辊道1输送到两根导轨2之间时停止,使用蒸汽发生器在TFT基板6底面均匀结雾;
c、开启光源5倾斜照射在TFT基板表面,作为优选的,光线的中心线与TFT基板6表面的锐角Φ呈30º;
沿导轨2同时移动两块移动板、保证两块移动板之间的相对位置不变;使光线扫描整个TFT基板6表面,并令光线持续反射在CCD图像传感器4上,在CCD图像传感器4上形成明暗相间的条纹;
由于TFT基板下表面是结雾状态,所以下表面形成漫反射,光线在玻璃的上表面形成反射,上表面反射的光形成干涉,投影在CCD图像传感器4上形成明暗程度不同的条纹;
d、根据明暗相间的条纹判断TFT基板玻璃的微波纹度。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制;任何熟悉本领域的技术人员,在不脱离本发明技术方案范围情况下,都可利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案做出许多可能的变动和修饰,或修改为等同变化的等效实施例。因此,凡是未脱离本发明技术方案的内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同替换、等效变化及修饰,均仍属于本发明技术方案保护的范围内。

Claims (3)

1.一种大尺寸TFT基板玻璃无损微波纹度检测方法,其特征在于,包括:
a、在玻璃输送辊道下方设置两根与玻璃输送辊道同向的导轨,两根导轨之间间隔设置两块竖直的移动板,移动板可以沿两根导轨水平移动;其中一块移动板设有竖直的CCD图像传感器,另一块移动板设有向下倾斜照射的光源;
b、TFT基板由玻璃输送辊道输送到两根导轨之间时停止,使用蒸汽发生器在TFT基板底面均匀结雾;
c、开启光源倾斜照射在TFT基板表面,沿导轨同时移动两块移动板、保证两块移动板之间的相对位置不变;使光线扫描TFT基板表面,并令光线持续反射在CCD图像传感器上,在CCD图像传感器上形成明暗相间的条纹;
d、根据明暗相间的条纹判断TFT基板玻璃的微波纹度。
2.根据权利要求1所述的一种大尺寸TFT基板玻璃无损微波纹度检测方法,其特征在于,所述光源采用卤素灯灯箱,灯箱设置条形缝使光线呈条形射出。
3.根据权利要求2所述的一种大尺寸TFT基板玻璃无损微波纹度检测方法,其特征在于,所述光线的中心线与TFT基板表面的锐角呈30º。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111912848A (zh) * 2020-08-13 2020-11-10 蚌埠中光电科技有限公司 一种高世代大尺寸玻璃基板的人工复检装置
CN112326692A (zh) * 2020-12-09 2021-02-05 蚌埠中光电科技有限公司 一种高世代玻璃基板微波纹度的在线测量方法

Citations (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1048144A (ja) * 1996-07-31 1998-02-20 Dainippon Printing Co Ltd ガラス基板検査装置
CN1279398A (zh) * 1999-06-29 2001-01-10 康宁股份有限公司 片材检查系统
US6344898B1 (en) * 1998-09-14 2002-02-05 Nikon Corporation Interferometric apparatus and methods for measuring surface topography of a test surface
JP2004252260A (ja) * 2003-02-21 2004-09-09 Horiba Ltd 平面表示パネルの検査装置および平面表示パネルの検査方法
US20050046866A1 (en) * 2003-07-31 2005-03-03 Nidek Co., Ltd. Surface inspection apparatus
US20060017676A1 (en) * 2004-07-23 2006-01-26 Bowers Gerald M Large substrate flat panel inspection system
KR20090030806A (ko) * 2007-09-21 2009-03-25 (주)아이알디 기판검사장치 및 기판검사방법.
CN101672803A (zh) * 2008-09-08 2010-03-17 中国建筑材料科学研究总院 一种检测钢化玻璃幕墙杂质和缺陷的方法与装置
WO2010147252A1 (ko) * 2009-06-17 2010-12-23 주식회사 쎄미시스코 유리기판의 불균일도 검사장치
CN101963586A (zh) * 2009-07-23 2011-02-02 林嘉宏 浮法玻璃在线波纹检测设备
CN102037394A (zh) * 2008-05-19 2011-04-27 塞米西斯科株式会社 玻璃波纹检测装置以及其检测方法
KR20110070062A (ko) * 2009-12-18 2011-06-24 주식회사 탑 엔지니어링 어레이 테스트 장치
CN102200519A (zh) * 2010-03-26 2011-09-28 郭上鲲 检测系统
EP2517799A1 (en) * 2011-04-26 2012-10-31 Centre de Recherches Métallurgiques asbl - Centrum voor Research in de Metallurgie vzw Apparatus and method for industrial online micro-topography and waviness measurements on moving products
CN103245308A (zh) * 2013-04-18 2013-08-14 上海大学 超精密磨削大口径光学元件平面度在位检测装置及方法
CN103528546A (zh) * 2013-09-23 2014-01-22 芜湖长信科技股份有限公司 一种检测浮法玻璃波纹度的装置和方法
CN105008854A (zh) * 2013-02-19 2015-10-28 旭硝子株式会社 透明板状体表面检查用摄像系统
CN105080761A (zh) * 2015-08-11 2015-11-25 武汉华星光电技术有限公司 喷汽装置
CN105259189A (zh) * 2015-10-21 2016-01-20 凌云光技术集团有限责任公司 玻璃的缺陷成像系统和方法
CN106441169A (zh) * 2016-09-09 2017-02-22 蚌埠中建材信息显示材料有限公司 一种超薄浮法玻璃微观波纹度检测方法
US20170199133A1 (en) * 2014-06-10 2017-07-13 Grenzebach Maschinenbau Gmbh Device and method for measuring distortion defects in a manufactured float glass strip
CN208206824U (zh) * 2018-05-31 2018-12-07 中国洛阳浮法玻璃集团有限责任公司 一种电子玻璃表面条纹在线检测装置

Patent Citations (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1048144A (ja) * 1996-07-31 1998-02-20 Dainippon Printing Co Ltd ガラス基板検査装置
US6344898B1 (en) * 1998-09-14 2002-02-05 Nikon Corporation Interferometric apparatus and methods for measuring surface topography of a test surface
CN1279398A (zh) * 1999-06-29 2001-01-10 康宁股份有限公司 片材检查系统
JP2004252260A (ja) * 2003-02-21 2004-09-09 Horiba Ltd 平面表示パネルの検査装置および平面表示パネルの検査方法
US20050046866A1 (en) * 2003-07-31 2005-03-03 Nidek Co., Ltd. Surface inspection apparatus
US20060017676A1 (en) * 2004-07-23 2006-01-26 Bowers Gerald M Large substrate flat panel inspection system
KR20090030806A (ko) * 2007-09-21 2009-03-25 (주)아이알디 기판검사장치 및 기판검사방법.
CN102037394A (zh) * 2008-05-19 2011-04-27 塞米西斯科株式会社 玻璃波纹检测装置以及其检测方法
CN101672803A (zh) * 2008-09-08 2010-03-17 中国建筑材料科学研究总院 一种检测钢化玻璃幕墙杂质和缺陷的方法与装置
WO2010147252A1 (ko) * 2009-06-17 2010-12-23 주식회사 쎄미시스코 유리기판의 불균일도 검사장치
CN101963586A (zh) * 2009-07-23 2011-02-02 林嘉宏 浮法玻璃在线波纹检测设备
KR20110070062A (ko) * 2009-12-18 2011-06-24 주식회사 탑 엔지니어링 어레이 테스트 장치
CN102200519A (zh) * 2010-03-26 2011-09-28 郭上鲲 检测系统
EP2517799A1 (en) * 2011-04-26 2012-10-31 Centre de Recherches Métallurgiques asbl - Centrum voor Research in de Metallurgie vzw Apparatus and method for industrial online micro-topography and waviness measurements on moving products
CN105008854A (zh) * 2013-02-19 2015-10-28 旭硝子株式会社 透明板状体表面检查用摄像系统
CN103245308A (zh) * 2013-04-18 2013-08-14 上海大学 超精密磨削大口径光学元件平面度在位检测装置及方法
CN103528546A (zh) * 2013-09-23 2014-01-22 芜湖长信科技股份有限公司 一种检测浮法玻璃波纹度的装置和方法
US20170199133A1 (en) * 2014-06-10 2017-07-13 Grenzebach Maschinenbau Gmbh Device and method for measuring distortion defects in a manufactured float glass strip
CN105080761A (zh) * 2015-08-11 2015-11-25 武汉华星光电技术有限公司 喷汽装置
CN105259189A (zh) * 2015-10-21 2016-01-20 凌云光技术集团有限责任公司 玻璃的缺陷成像系统和方法
CN106441169A (zh) * 2016-09-09 2017-02-22 蚌埠中建材信息显示材料有限公司 一种超薄浮法玻璃微观波纹度检测方法
CN208206824U (zh) * 2018-05-31 2018-12-07 中国洛阳浮法玻璃集团有限责任公司 一种电子玻璃表面条纹在线检测装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111912848A (zh) * 2020-08-13 2020-11-10 蚌埠中光电科技有限公司 一种高世代大尺寸玻璃基板的人工复检装置
CN112326692A (zh) * 2020-12-09 2021-02-05 蚌埠中光电科技有限公司 一种高世代玻璃基板微波纹度的在线测量方法

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