JP4987656B2 - 感光性積層体の製造装置及び製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、支持体上に感光材料層を形成してなる長尺状感光性ウエブを、加熱された一対の圧着ローラ間に基板とともに送り出し、前記感光材料層を前記基板に貼り付けることで感光性積層体を製造する感光性積層体の製造装置及び製造方法に関する。

例えば、液晶パネル用基板、プリント配線用基板、ＰＤＰ用基板は、感光性樹脂層（感光材料層）を有する感光性シート体（感光性ウエブ）を基板表面に貼り付けて構成される。感光性シート体は、例えば、可撓性プラスチック支持体上に感光性樹脂層と保護フイルムとが順に積層されている。

図８は、感光性シート体の貼り付けに使用される製造装置１の概略構成を示す（特許文献１参照）。製造装置１では、感光性ウエブロール２から引き出されて保護フイルムが剥離された感光性ウエブ３が圧着ローラ４ａ、４ｂ間に供給されるとともに、遠赤外線ヒータ５等を備えた基板加熱部６によって所定温度に加熱された基板７が圧着ローラ４ａ、４ｂ間に供給される。圧着ローラ４ａ、４ｂによって加熱圧着された感光性ウエブ３及び基板７は、冷却部８で冷却され、カッタ９により基板７間の感光性ウエブ３が切断分離された後、フイルムチャック１０によって支持体が感光材料層から剥離されることで、感光性積層体が製造される。

特開平８−１８３１４６号公報

ところで、以上のようにして製造される感光性積層体は、基板加熱部６において基板７が適切な加熱温度に調整されていないと、感光材料層と基板７との間に気泡が混入したり、感光材料層に皺が発生してしまうことがある。

図９及び図１０は、基板加熱部６によって加熱される基板７の温度の測定点Ａ１〜Ａ４、Ｘ１〜Ｘ３と、各測定点Ａ１〜Ａ４、Ｘ１〜Ｘ３で測定した温度の時間的変化とを示す。基板７の周縁部側の測定点Ａ１〜Ａ４では、遠赤外線ヒータ５から基板７に供給される熱量が測定点Ｘ１〜Ｘ３に供給される熱量よりも少ないため、基板７上を測定点Ｘ１〜Ｘ３側から測定点Ａ１〜Ａ４側に熱が伝達することを考慮して遠赤外線ヒータ５の発熱量を設定すると、図１０に示すように、測定点Ａ１〜Ａ４では、目標温度に徐々に近づく温度特性となるのに対して、測定点Ｘ１〜Ｘ３では、一旦目標温度を大きく超えた後、目標温度に徐々に近づく温度特性となる。

この場合、基板７の周縁部側における測定点Ａ１〜Ａ４の温度と、中央部側における測定点Ｘ１〜Ｘ３の温度との温度差ΔＴｉｒが許容範囲内となるように小さくし、基板７の全面を略均一な温度分布からなる目標温度に近づけるためには、基板７の加熱時間を十分に長く設定する必要がある。

しかしながら、加熱時間を十分に確保しようとすると、感光性積層体の製造に要する時間が長くなってしまい、生産性の低下を惹起してしまう。一方、基板７の搬送方向に対して基板加熱部６を長尺に構成すれば、加熱時間を確保することが可能となるが、この場合、装置が大型になってしまい、設備コストが上昇する不具合が生じてしまう。

本発明は、このような不具合に鑑みてなされたものであり、装置を大型化することなく、基板を短時間で所望の温度まで均一に加熱できるとともに、高品質な感光性積層体を製造することができる感光性積層体の製造装置及び製造方法を提供することを目的とする。

本発明は、支持体上に感光材料層を形成してなる長尺状感光性ウエブを、加熱された一対の圧着ローラ間に基板とともに送り出し、前記感光材料層を前記基板に貼り付けることで感光性積層体を製造する感光性積層体の製造装置において、
前記一対の圧着ローラの前段に配設され、前記基板を所定の加熱温度に調整して前記圧着ローラ間に供給する基板加熱部を備え、
前記基板加熱部は、
第１加熱手段を前記基板の全面に接触させ、前記基板を第１加熱温度まで加熱する第１加熱機構と、
前記第１加熱温度まで加熱された前記基板を、第２加熱手段により非接触状態で第２加熱温度に加熱保持し、搬送手段により前記圧着ローラ間に搬送する第２加熱機構と、
前記第１加熱機構から前記第２加熱機構に前記基板を供給する基板供給機構と、
を備えることを特徴とする。

また、本発明は、支持体上に感光材料層を形成してなる長尺状感光性ウエブを、加熱された一対の圧着ローラ間に基板とともに送り出し、前記感光材料層を前記基板に貼り付けることで感光性積層体を製造する感光性積層体の製造方法において、
第１加熱手段を前記基板の全面に接触させ、前記基板を第１加熱温度まで加熱するステップと、
前記第１加熱温度まで加熱された前記基板を、第２加熱手段により非接触状態で第２加熱温度に加熱保持するステップと、
前記第２加熱温度に加熱保持された前記基板を前記圧着ローラ間に搬送するステップと、
を有することを特徴とする。

本発明では、第１加熱手段を基板の全面に接触させることにより、基板を迅速に均一な温度まで加熱することができる。次いで、第２加熱手段により非接触状態で基板を加熱保持して圧着ローラ間に搬送することにより、所望の加熱状態にある基板に対して感光材料層を貼り付け、高品質な感光性積層体を製造することができる。この場合、第１加熱手段により基板の温度を迅速に加熱することができるため、第２加熱手段を構成する第２加熱機構を大型に構成する必要がなく、設備コストを低減させることができるとともに、感光性積層体の生産性を向上させることができる。

図１は、本実施形態に係る感光性積層体の製造装置２０の概略構成図であり、この製造装置２０は、液晶又は有機ＥＬ用カラーフィルタ等の製作工程で、所定の幅寸法からなる長尺状感光性ウエブ２２の感光性樹脂層２８（後述する）をガラス基板２４に熱転写（ラミネート）する作業を行う。

図２は、製造装置２０に使用される長尺状感光性ウエブ２２の断面図である。この長尺状感光性ウエブ２２は、可撓性ベースフイルム（支持体）２６と、感光性樹脂層（感光材料層）２８と、保護フイルム３０とを積層して構成される。

図１に示すように、製造装置２０は、長尺状感光性ウエブ２２をロール状に巻回した感光性ウエブロール２３を収容し、感光性ウエブロール２３から前記長尺状感光性ウエブ２２を送り出し可能なウエブ送り出し機構３２と、送り出された長尺状感光性ウエブ２２の保護フイルム３０及び感光性樹脂層２８の幅方向に切断可能な２個所の境界部分であるハーフカット部位（加工部位）３４ａ、３４ｂ（図２参照）を形成する加工機構３６と、一部に非接着部３８ａを有する接着ラベル３８（図３参照）を保護フイルム３０に接着させるラベル接着機構４０とを備える。

ラベル接着機構４０の下流には、長尺状感光性ウエブ２２をタクト送りから連続送りに変更するためのリザーバ機構４２と、長尺状感光性ウエブ２２から保護フイルム３０を所定の長さ間隔で剥離させる剥離機構４４と、ガラス基板２４を所定の温度に加熱する第１加熱機構１０４と、第１加熱機構１０４で加熱されたガラス基板２４を、加熱保持した状態で貼り付け位置に供給する第２加熱機構１０６ａ、１０６ｂと、ガラス基板２４を第１加熱機構１０４から第２加熱機構１０６ａに供給する基板供給機構１０８と、前記保護フイルム３０の剥離により露出した感光性樹脂層２８を前記ガラス基板２４に一体的に貼り付ける貼り付け機構４６とが配設される。なお、第１加熱機構１０４及び第２加熱機構１０６ａ、１０６ｂは、基板加熱部を構成する。

貼り付け機構４６における貼り付け位置の上流近傍には、ハーフカット部位３４ａ、３４ｂを含む長尺状感光性ウエブ２２の画像を撮影する撮影部４７が配設される。製造装置２０は、撮影部４７によって撮影されたハーフカット部位３４ａ、３４ｂの画像に基づき、貼り付け機構４６に対するハーフカット部位３４ａ、３４ｂの位置ずれ量を算出し、長尺状感光性ウエブ２２の送り量の補正を行う。

ウエブ送り出し機構３２の下流近傍には、略使用済みの長尺状感光性ウエブ２２の後端と、新たに使用される長尺状感光性ウエブ２２の先端とを貼り付ける貼り付け台４９が配設される。貼り付け台４９の下流には、感光性ウエブロール２３の巻きずれによる幅方向のずれを制御するために、フイルム端末位置検出器５１が配設される。ここで、フイルム端末位置調整は、ウエブ送り出し機構３２を幅方向に移動させて行うが、ローラを組み合わせた位置調整機構を付設して行ってもよい。

加工機構３６は、ウエブ送り出し機構３２に収容巻回されている感光性ウエブロール２３のロール径を算出するためのローラ対５０の下流に配置される。加工機構３６は、距離Ｍ（図２）だけ離間した一対の丸刃５２ａ、５２ｂを備える。丸刃５２ａ、５２ｂは、長尺状感光性ウエブ２２の幅方向に走行して、保護フイルム３０の残存部分３０ｂを挟んだ所定の２個所の位置にハーフカット部位３４ａ、３４ｂを形成する。なお、残存部分３０ｂの前後の保護フイルム３０は、保護フイルム３０が剥離される剥離部分３０ａである。

図２に示すように、ハーフカット部位３４ａ、３４ｂは、少なくとも保護フイルム３０及び感光性樹脂層２８を切断する必要があり、実際上、可撓性ベースフイルム２６まで切り込むように丸刃５２ａ、５２ｂの切り込み深さが設定される。丸刃５２ａ、５２ｂは、回転することなく固定された状態で、長尺状感光性ウエブ２２の幅方向に移動してハーフカット部位３４ａ、３４ｂを形成する方式や、前記長尺状感光性ウエブ２２上を滑ることなく回転しながら前記幅方向に移動して前記ハーフカット部位３４ａ、３４ｂを形成する方式が採用される。このハーフカット部位３４ａ、３４ｂは、丸刃５２ａ、５２ｂに代替して、例えば、レーザ光や超音波を用いたカット方式の他、ナイフ刃、押し切り刃（トムソン刃）等で形成する方式を採用してもよい。

ハーフカット部位３４ａ、３４ｂは、感光性樹脂層２８をガラス基板２４に貼り付けた際、例えば、前記ガラス基板２４の両端部からそれぞれ１０ｍｍずつ内側に入り込んだ位置となるように設定される。なお、ガラス基板２４間の保護フイルム３０の残存部分３０ｂは、後述する貼り付け機構４６において感光性樹脂層２８を前記ガラス基板２４に額縁状に貼り付ける際のマスクとして機能するものである。

ラベル接着機構４０は、ガラス基板２４間に対応して保護フイルム３０の残存部分３０ｂを残すため、ハーフカット部位３４ｂ側の剥離部分３０ａとハーフカット部位３４ａ側の剥離部分３０ａとを連結する接着ラベル３８を供給する。

図３に示すように、接着ラベル３８は、短冊状に構成されており、例えば、保護フイルム３０と同一の樹脂材で形成される。接着ラベル３８は、中央部に粘着剤が塗布されない非接着部（微粘着を含む）３８ａを有するとともに、この非接着部３８ａの両側、すなわち、前記接着ラベル３８の長手方向両端部に、前方の剥離部分３０ａに接着される第１接着部３８ｂと、後方の剥離部分３０ａに接着される第２接着部３８ｃとを有する。

図１に示すように、ラベル接着機構４０は、最大７枚の接着ラベル３８を所定間隔ずつ離間して貼り付け可能な吸着パッド５４ａ〜５４ｇを備えるとともに、前記吸着パッド５４ａ〜５４ｇによる前記接着ラベル３８の貼り付け位置には、長尺状感光性ウエブ２２を下方から保持するための受け台５６が昇降自在に配置される。

リザーバ機構４２は、上流側の長尺状感光性ウエブ２２のタクト搬送と、下流側の前記長尺状感光性ウエブ２２の連続搬送との速度差を吸収するために、矢印方向に揺動自在なダンサーローラ６０を備える。

リザーバ機構４２の下流に配置される剥離機構４４は、長尺状感光性ウエブ２２の送り出し側のテンション変動を遮断し、ラミネート時のテンションを安定化させるためのサクションドラム６２を備える。サクションドラム６２の近傍には、剥離ローラ６３が配置されるとともに、この剥離ローラ６３を介して長尺状感光性ウエブ２２から鋭角の剥離角で剥離される保護フイルム３０は、残存部分３０ｂを除いて保護フイルム巻き取り部６４に巻き取られる。

剥離機構４４の下流側には、長尺状感光性ウエブ２２にテンションを付与可能なテンション制御機構６６が配設される。テンション制御機構６６は、シリンダ６８の駆動作用下にテンションダンサー７０が揺動変位することにより、長尺状感光性ウエブ２２のテンションが調整可能である。なお、テンション制御機構６６は、必要に応じて使用すればよく、削除することもできる。

第１加熱機構１０４は、上下２段で構成されるホットプレート１１０ａ、１１０ｂを備える。図４に示すように、ホットプレート１１０ａ、１１０ｂは、ホットプレート駆動源１１２から供給される電力によって所定温度（第１加熱温度）に均一加熱される基板載置面１１４を有する。基板載置面１１４には、基板ガイド１１６ａ〜１１６ｄによって位置決めされた状態でガラス基板２４が載置される。また、基板載置面１１４には、ガラス基板２４を基板載置面１１４に吸着し、また、吸着を解除するための複数の孔部１１８が形成される。孔部１１８には、管路１２０を介してエア供給源１２８及び真空ポンプ１３０が接続される。管路１２０とエア供給源１２８との間、及び、管路１２０と真空ポンプ１３０との間には、エア供給源１２８及び真空ポンプ１３０の接続状態を切り替えるためのバルブ１３２ａ、１３２ｂが連結される。

基板供給機構１０８は、第１加熱機構１０４のホットプレート１１０ａ、１１０ｂに載置されているガラス基板２４を保持し、図１の矢印θ方向に旋回して、ガラス基板２４を第２加熱機構１０６ａに供給するハンドリングロボットにより構成される。

第２加熱機構１０６ａ、１０６ｂは、ガラス基板２４を搬送して貼り付け機構４６のゴムローラ８０ａ、８０ｂ間に供給する搬送部１３４ａ、１３４ｂと、搬送部１３４ａ、１３４ｂの上下の配設され、ガラス基板２４を非接触状態で加熱する赤外線ヒータ１３６ａ〜１３６ｄとを備える。なお、赤外線ヒータ１３６ａ〜１３６ｄに代えて、遠赤外線ヒータ、ニクロム線ヒータ、熱風ヒータ等を用いてもよい。

貼り付け機構４６は、上下に配設されるとともに、所定温度に加熱されるゴムローラ（圧着ローラ）８０ａ、８０ｂを備える。ゴムローラ８０ａ、８０ｂには、バックアップローラ８２ａ、８２ｂが摺接する。一方のバックアップローラ８２ｂは、ローラクランプ部８３を構成する加圧シリンダ８４によりゴムローラ８０ｂ側に押圧される。

ガラス基板２４は、貼り付け機構４６から矢印Ｙ方向に延在する搬送路を構成する複数の基板搬送ローラ９０ａ〜９０ｄによって搬送される。基板搬送ローラ９０ｂ、９０ｃ間には、ガラス基板２４間の長尺状感光性ウエブ２２を切断することで、ガラス基板２４に感光材料層が貼り付けられた感光性積層体２４ａを分離するカッタ機構４８が配設される。

基板搬送ローラ９０ｄの下流側には、複数の感光性積層体２４ａを積層した状態でストックするストッカ９４が配置されており、このストッカ９４には、カッタ機構４８により分離された感光性積層体２４ａがロボット９６によって移載される。ストッカ９４に隣接して、感光性積層体２４ａに残存する可撓性ベースフイルム２６を保護フイルム３０の残存部分３０ｂとともに剥離する剥離部９８が配置される。剥離部９８は、ガラス基板２４を吸着保持する吸着盤１０２と、吸着盤１０２によって保持されたガラス基板２４に貼り付けられている感光性樹脂層２８から可撓性ベースフイルム２６を剥離するクランパ１００とを有する。クランパ１００によって可撓性ベースフイルム２６が剥離された感光性積層体２４ｂは、次工程、例えば、露光工程に供給される。

なお、以上のように構成される製造装置２０では、ウエブ送り出し機構３２、加工機構３６、ラベル接着機構４０、リザーバ機構４２、剥離機構４４、テンション制御機構６６並びに撮影部４７が、貼り付け機構４６の上方に配置されているが、これとは逆に、前記ウエブ送り出し機構３２から前記撮影部４７までを前記貼り付け機構４６の下方に配置し、長尺状感光性ウエブ２２の上下が逆になって感光性樹脂層２８をガラス基板２４の下側に貼り付ける構成であってもよく、また、長尺状感光性ウエブ２２の搬送路を直線状に構成してもよい。

製造装置２０内は、仕切り壁１２２を介して第１クリーンルーム１２４ａと第２クリーンルーム１２４ｂとに仕切られる。第１クリーンルーム１２４ａには、ウエブ送り出し機構３２からテンション制御機構６６までが収容され、第２クリーンルーム１２４ｂには、撮影部４７以降の機構が収容される。第１クリーンルーム１２４ａと第２クリーンルーム１２４ｂとは、貫通部１２６を介して連通する。

次に、以上のように構成される製造装置２０の動作について、本発明に係る製造方法との関連で説明する。

先ず、ウエブ送り出し機構３２に取り付けられている感光性ウエブロール２３から長尺状感光性ウエブ２２が送り出される。長尺状感光性ウエブ２２は、加工機構３６に搬送される。

加工機構３６では、丸刃５２ａ、５２ｂが長尺状感光性ウエブ２２の幅方向に移動して、前記長尺状感光性ウエブ２２を保護フイルム３０から感光性樹脂層２８乃至可撓性ベースフイルム２６まで切り込み、保護フイルム３０の残存部分３０ｂの幅Ｍだけ離間するハーフカット部位３４ａ、３４ｂを形成する（図２参照）。これにより、長尺状感光性ウエブ２２には、残存部分３０ｂを挟んで前方の剥離部分３０ａと後方の剥離部分３０ａとが設けられる（図２参照）。

なお、残存部分３０ｂの幅Ｍは、長尺状感光性ウエブ２２が延びないことを前提として、貼り付け機構４６のゴムローラ８０ａ、８０ｂ間に供給されるガラス基板２４間の距離を基準として設定される。また、幅Ｍで形成される一組のハーフカット部位３４ａ、３４ｂは、ガラス基板２４に貼り付けられる感光性樹脂層２８の基準長さの間隔で長尺状感光性ウエブ２２に形成される。

次いで、長尺状感光性ウエブ２２は、ラベル接着機構４０に搬送されて、保護フイルム３０の所定の貼り付け部位が受け台５６上に配置される。ラベル接着機構４０では、所定枚数の接着ラベル３８が吸着パッド５４ｂ〜５４ｇにより吸着保持され、各接着ラベル３８が保護フイルム３０の残存部分３０ｂを跨いで、前方の剥離部分３０ａと後方の剥離部分３０ａとに一体的に接着される（図３参照）。

例えば、７枚の接着ラベル３８が接着された長尺状感光性ウエブ２２は、図１に示すように、リザーバ機構４２を介して送り出し側のテンション変動を防いだ後、剥離機構４４に連続的に搬送される。剥離機構４４では、長尺状感光性ウエブ２２の可撓性ベースフイルム２６がサクションドラム６２に吸着保持されるとともに、保護フイルム３０が残存部分３０ｂを残して前記長尺状感光性ウエブ２２から剥離される。この保護フイルム３０は、剥離ローラ６３を介して剥離されて保護フイルム巻き取り部６４に巻き取られる（図１参照）。

剥離機構４４の作用下に、保護フイルム３０が残存部分３０ｂを残して可撓性ベースフイルム２６から剥離された後、長尺状感光性ウエブ２２は、テンション制御機構６６によってテンション調整が行われ、次いで、撮影部４７において、所定の撮影タイミングでハーフカット部位３４ａ、３４ｂを含む長尺状感光性ウエブ２２の画像が撮影される。

撮影部４７を通過した長尺状感光性ウエブ２２は、貼り付け機構４６に搬送されることで、ガラス基板２４に対する感光性樹脂層２８の転写処理（ラミネート）が行われる。この場合、撮影部４７によって撮影されたハーフカット部位３４ａ、３４ｂの画像に基づき、貼り付け機構４６におけるハーフカット部位３４ａ、３４ｂの位置が調整される。

貼り付け機構４６では、当初、ゴムローラ８０ａ、８０ｂが離間した状態に設定されており、ゴムローラ８０ａ、８０ｂ間の所定位置に長尺状感光性ウエブ２２のハーフカット部位３４ａが位置決めされた状態において、長尺状感光性ウエブ２２の搬送が一旦停止される。この状態において、第２加熱機構１０６ｂから所定温度に加熱されたガラス基板２４が搬送部１３４ｂによってゴムローラ８０ａ、８０ｂ間に搬入され、ガラス基板２４に対する長尺状感光性ウエブ２２の貼り付け処理が開始される。

ここで、第１加熱機構１０４、基板供給機構１０８、第２加熱機構１０６ａ、１０６ｂによるガラス基板２４の加熱処理について説明する。

先ず、基板供給機構１０８は、加熱前のガラス基板２４を図示しないコンベア等から取得し、第１加熱機構１０４を構成するホットプレート１１０ａ、１１０ｂの基板載置面１１４に載置する（図４）。この場合、基板載置面１１４に配設された基板ガイド１１６ａ〜１１６ｄによってガラス基板２４が位置決めされる。基板載置面１１４にガラス基板２４が載置された後、バルブ１３２ｂが開成され、管路１２０及び孔部１１８を介して真空ポンプ１３０によるエアの吸引が開始される。この結果、ガラス基板２４の全面がホットプレート１１０ａ、１１０ｂの基板載置面１１４に接触した状態で位置決め固定される。

次いで、ホットプレート駆動源１１２から供給される電力により、基板載置面１１４が貼り付け機構４６における加熱温度よりも高い第１加熱温度（以下、ＨＰ温度という。）まで加熱される。この場合、ガラス基板２４は、全面が基板載置面１１４に密着した状態とされているため、全面がＨＰ温度に均一且つ迅速に加熱される。

ガラス基板２４がＨＰ温度に加熱された後、バルブ１３２ｂが閉成される一方、バルブ１３２ａが開成され、エア供給源１２８から管路１２０を介して孔部１１８に供給されるエアによりガラス基板２４の吸着状態が解除される。そして、基板供給機構１０８は、加熱されたガラス基板２４を第１加熱機構１０４から取り出し、矢印θ方向に旋回することで第２加熱機構１０６ａの搬送部１３４ａに供給する。

第２加熱機構１０６ａは、非接触の赤外線ヒータ１３６ａ、１３６ｂにより、ＨＰ温度よりも低くゴムローラ８０ａ、８０ｂでの加熱温度に近い第２加熱温度にガラス基板２４を加熱保持しながら、搬送部１３４ａによって第２加熱機構１０６ｂに搬送する。第２加熱機構１０６ｂは、第２加熱機構１０６ａと同様に、赤外線ヒータ１３６ｃ、１３６ｄによりガラス基板２４を第２加熱温度で加熱保持しながら、搬送部１３４ｂによって貼り付け機構４６に搬送する。

図５は、基板供給機構１０８が第１加熱機構１０４から加熱されたガラス基板２４を取り出し、１８０゜旋回してガラス基板２４の前後を反転させて第２加熱機構１０６ａに供給する場合において、図９に示す測定点Ｘ１及びＸ３でのガラス基板２４の温度と加熱時間との関係を示す。なお、ＨＰは、第１加熱機構１０４、Ｒ／Ｂは、基板供給機構１０８、ｉＲは、第２加熱機構１０６ａ、１０６ｂの各位置にガラス基板２４があることを示すものとする。

ガラス基板２４は、第１加熱機構１０４のホットプレート１１０ａ、１１０ｂによりＨＰ温度まで均一且つ迅速に加熱された後、基板供給機構１０８により第２加熱機構１０６ａに供給されるまでの間、温度が徐々に低下する。次いで、第２加熱機構１０６ａに供給されたガラス基板２４は、搬送部１３４ａによって搬送され、測定点Ｘ３側の加熱が測定点Ｘ１側よりも先に開始される。従って、測定点Ｘ３側は、少ない温度低下で第２加熱温度である目標温度に近づく。これに対して、測定点Ｘ１側は、第２加熱機構１０６ａに搬入されるまでに要する時間が測定点Ｘ３側よりも長いため、温度が目標温度以下まで低下し、その後、第２加熱機構１０６ａに搬入されて加熱されることで徐々に目標温度に近づいていく。

この場合、ガラス基板２４が第２加熱機構１０６ａ、１０６ｂから貼り付け機構４６に供給される時点において、測定点Ｘ１、Ｘ３間に温度差ΔＴ１が残存しているが、ガラス基板２４が第１加熱機構１０４によってＨＰ温度まで予め加熱されているため、第２加熱機構１０６ａ、１０６ｂによって温度差ΔＴ１が許容範囲内となるまでに要する時間は短い。従って、ガラス基板２４を第２加熱機構１０６ａ、１０６ｂに長時間滞在させることなく、あるいは、第２加熱機構１０６ａ、１０６ｂをガラス基板２４の搬送方向に沿って長尺に構成することなく、ガラス基板２４を所望の目標温度近傍に調整して貼り付け機構４６に速やかに供給することができる。

なお、図６に示すように、第２加熱機構１０６ａに先に搬入される測定点Ｘ３側のＨＰ温度Ｔ３よりも、遅れて搬入される測定点Ｘ１側のＨＰ温度Ｔ１が高くなるように、ホットプレート１１０ａ、１１０ｂの温度分布を設定することにより、基板供給機構１０８によるガラス基板２４の供給動作中に、測定点Ｘ１側の温度が過剰に低下することを回避することができる。この結果、ガラス基板２４が貼り付け機構４６に供給される時点での測定点Ｘ１、Ｘ３間の温度差ΔＴ２を温度差ΔＴ１よりも小さくし、あるいは、第２加熱機構１０６ａ、１０６ｂにおける加熱に要する時間を短縮し、さらには、第２加熱機構１０６ａ、１０６ｂの搬送路長さを短くすることができる。この場合、第２加熱機構１０６ａ、１０６ｂの一方を省略してもよい。

以上のようにして温度調整されたガラス基板２４は、貼り付け機構４６を構成するゴムローラ８０ａ、８０ｂ間に搬入され、ガラス基板２４に対する長尺状感光性ウエブ２２の貼り付け処理が行われる。

そこで、ガラス基板２４の先端部がゴムローラ８０ａ、８０ｂ間に搬入されると、加圧シリンダ８４の作用下にバックアップローラ８２ｂ及びゴムローラ８０ｂが上昇し、ゴムローラ８０ａ、８０ｂ間にガラス基板２４及び長尺状感光性ウエブ２２が所定のプレス圧力で挟み込まれる。なお、ゴムローラ８０ａ、８０ｂは、所定のラミネート温度に加熱されている。

次いで、ゴムローラ８０ａ、８０ｂが回転し、ガラス基板２４及び長尺状感光性ウエブ２２が矢印Ｙ方向に搬送される。この場合、貼り付け機構４６に供給されるガラス基板２４は、第２加熱機構１０６ｂ側において、許容される温度差の範囲内で略均一な温度に加熱されている。従って、感光性樹脂層２８とガラス基板２４との間に気泡が混入したり、感光性樹脂層２８に皺が発生してしまうことがなく、良好な状態で感光性樹脂層２８が加熱溶融されてガラス基板２４に転写（ラミネート）される。

なお、ラミネート条件としては、速度が１．０ｍ／ｍｉｎ〜１０．０ｍ／ｍｉｎ、ゴムローラ８０ａ、８０ｂの温度が８０℃〜１５０℃、前記ゴムローラ８０ａ、８０ｂのゴム硬度が４０度〜９０度、該ゴムローラ８０ａ、８０ｂのプレス圧（線圧）が５０Ｎ／ｃｍ〜４００Ｎ／ｃｍである。

ガラス基板２４に対して長尺状感光性ウエブ２２の一枚分のラミネートが終了すると、ゴムローラ８０ａ、８０ｂの回転が停止される一方、長尺状感光性ウエブ２２がラミネートされたガラス基板２４の先端部が基板搬送ローラ９０ａによりクランプされる。このとき、ゴムローラ８０ａ、８０ｂ間の所定位置には、ハーフカット部位３４ｂが配置される。

そして、ゴムローラ８０ｂが、ゴムローラ８０ａから離間する方向に退避してクランプが解除されるとともに、基板搬送ローラ９０ａの回転が低速で再び開始され、長尺状感光性ウエブ２２がガラス基板２４にラミネートされた感光性積層体が矢印Ｙ方向に保護フイルム３０の残存部分３０ｂの幅Ｍに対応する距離だけ搬送され、次のハーフカット部位３４ａがゴムローラ８０ａの下方付近の所定位置に搬送された後、ゴムローラ８０ａ、８０ｂの回転が停止される。なお、長尺状感光性ウエブ２２をハーフカット部位３４ａ、３４ｂ間だけ搬送する処理を、以下において「基板間送り」という。

一方、前記の状態において、第２加熱機構１０６ｂから次なるガラス基板２４が貼り付け位置に向かって搬送される。以上の動作が繰り返されることにより、感光性積層体が連続的に製造される。

その際、感光性積層体は、それぞれの端部が図２に示す保護フイルム３０の残存部分３０ｂによって覆われている。従って、感光性樹脂層２８がガラス基板２４に転写される際、ゴムローラ８０ａ、８０ｂが前記感光性樹脂層２８により汚れることがない。

貼り付け機構４６によって感光性樹脂層２８が貼り付けられたガラス基板２４は、貼り付け機構４６で長尺状感光性ウエブ２２が基板間送りされた後、一旦停止状態にあるとき、基板搬送ローラ９０ｂ、９０ｃ間に配設されているカッタ機構４８によってガラス基板２４間の長尺状感光性ウエブ２２が切断され、感光性積層体２４ａとされる。なお、この感光性積層体２４ａの前後には、残存部分３０ｂの保護フイルム３０が残存している。

分離された感光性積層体２４ａは、ロボット９６によって一旦ストッカ９４に積層される。次いで、ストッカ９４に積層された感光性積層体２４ａは、剥離部９８に移載された後、ガラス基板２４が吸着盤１０２によって吸着保持され、端部の可撓性ベースフイルム２６がクランパ１００によって把持されて感光性積層体２４ａから剥離されることで、ガラス基板２４に感光性樹脂層２８のみが貼り付けられた感光性積層体２４ｂが製造される。

図７は、他の実施形態である製造装置２００の概略構成図である。なお、図１に示す製造装置２０と同一の構成要素には、同一の参照符号を付し、その説明を省略する。

製造装置２００では、貼り付け機構４６によって長尺状感光性ウエブ２２が貼り付けられたガラス基板２４が、分断されることなく冷却部２０２に搬送されて冷却された後、剥離部２０４に供給される。剥離部２０４では、プッシャ２０６によってガラス基板２４間の長尺状感光性ウエブ２２が上方向に押し上げられることで、保護フイルム３０の剥離が容易な状態とされた後、保護フイルム３０が感光性樹脂層２８から剥離され、巻き取りローラ２０８により巻き取られる。これにより、ガラス基板２４間が分離され、感光性積層体２４ｂが製造される。

なお、上述した実施形態では、１本の感光性ウエブロール２３から供給される長尺状感光性ウエブ２２をガラス基板２４に貼り付けることにより、いわゆる、１丁貼りの感光性積層体２４ｂを製造するように構成しているが、例えば、２本の感光性ウエブロールや、３本以上の感光性ウエブロールから長尺状感光性ウエブ２２を供給してガラス基板２４に貼り付け、いわゆる、２丁貼り、３丁貼り等の感光性積層体２４ｂを製造するように構成してもよい。

本実施形態に係る感光性積層体の製造装置の概略構成図である。 本実施形態に係る製造装置に使用される長尺状感光性ウエブの断面図である。 長尺状感光性ウエブに接着ラベルが接着された状態の説明図である。 第１加熱機構の構成図である。 第１加熱機構、基板供給機構及び第２加熱機構間でのガラス基板の温度と時間との関係図である。 第１加熱機構において所定の温度分布を設定した場合における第１加熱機構、基板供給機構及び第２加熱機構間でのガラス基板の温度と時間との関係図である。 他の実施形態に係る製造装置の概略構成図である。 従来技術に係る製造装置の構成図である。 図８に示す製造装置おいて、基板加熱部によって加熱される基板の温度測定点の説明図である。 図９に示す各温度測定点における温度と時間との関係図である。

符号の説明

２０、２００…製造装置
２２…長尺状感光性ウエブ
２４…ガラス基板
２４ａ、２４ｂ…感光性積層体
２６…可撓性ベースフイルム
２８…感光性樹脂層
３０…保護フイルム
３０ａ…剥離部分
３０ｂ…残存部分
３４ａ、３４ｂ…加工部位
４６…貼り付け機構
８０ａ、８０ｂ…ゴムローラ
９８、２０４…剥離部
１０４…第１加熱機構
１０６ａ、１０６ｂ…第２加熱機構
１０８…基板供給機構
１１０ａ、１１０ｂ…ホットプレート
１３４ａ、１３４ｂ…搬送部
１３６ａ〜１３６ｄ…赤外線ヒータ

Claims (8)

1. 支持体上に感光材料層を形成してなる長尺状感光性ウエブを、加熱された一対の圧着ローラ間に基板とともに送り出し、前記感光材料層を前記基板に貼り付けることで感光性積層体を製造する感光性積層体の製造装置において、
   前記一対の圧着ローラの前段に配設され、前記基板を所定の加熱温度に調整して前記圧着ローラ間に供給する基板加熱部を備え、
   前記基板加熱部は、
   第１加熱手段を前記基板の全面に接触させ、前記基板を第１加熱温度まで加熱する第１加熱機構と、
   前記第１加熱温度まで加熱された前記基板を、第２加熱手段により非接触状態で第２加熱温度に加熱保持し、搬送手段により前記圧着ローラ間に搬送する第２加熱機構と、
   前記第１加熱機構から前記第２加熱機構に前記基板を供給する基板供給機構と、
   を備えることを特徴とする感光性積層体の製造装置。
2. 請求項１記載の装置において、
   前記第１加熱手段は、ホットプレートからなることを特徴とする感光性積層体の製造装置。
3. 請求項１記載の装置において、
   前記第２加熱手段は、赤外線ヒータであることを特徴とする感光性積層体の製造装置。
4. 請求項１記載の装置において、
   前記第１加熱温度は、前記第２加熱温度よりも高く設定されることを特徴とする感光性積層体の製造装置。
5. 請求項１記載の装置において、
   前記第２加熱温度は、前記一対の圧着ローラの加熱温度近傍に設定されることを特徴とする感光性積層体の製造装置。
6. 支持体上に感光材料層を形成してなる長尺状感光性ウエブを、加熱された一対の圧着ローラ間に基板とともに送り出し、前記感光材料層を前記基板に貼り付けることで感光性積層体を製造する感光性積層体の製造方法において、
   第１加熱手段を前記基板の全面に接触させ、前記基板を第１加熱温度まで加熱するステップと、
   前記第１加熱温度まで加熱された前記基板を、第２加熱手段により非接触状態で第２加熱温度に加熱保持するステップと、
   前記第２加熱温度に加熱保持された前記基板を前記圧着ローラ間に搬送するステップと、
   を有することを特徴とする感光性積層体の製造方法。
7. 請求項６記載の方法において、
   前記第１加熱温度は、前記第２加熱温度よりも高く設定されることを特徴とする感光性積層体の製造方法。
8. 請求項６記載の方法において、
   前記第２加熱温度は、前記一対の圧着ローラの加熱温度近傍に設定されることを特徴とする感光性積層体の製造方法。

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