JP6916641B2 - 基材処理装置および基材処理方法 - Google Patents
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Description
本願の第2発明は、第1発明の基材処理装置であって、前記押圧機構は、先端に前記剥離ローラが回転可能に取り付けられたロッドと、前記ロッドを、退避状態と、前記退避状態よりも前記吸着ローラへ向けて突出した突出状態との間で移動させる押圧機構本体と、前記ロッドの前記吸着ローラ側への移動を制限し、前記突出状態における前記剥離ローラの位置を固定する、ストッパと、を有する。
本願の第6発明は、第1発明から第5発明までのいずれか1発明の基材処理装置であって、前記積層基材は、搬送される前記積層基材にかかる張力によって、前記剥離ローラの外周面に対して摺動可能に保持される。
本願の第7発明は、第1発明から第6発明までのいずれか1発明の基材処理装置であって、前記吸着ローラの外周面と、前記被処理基材との間に、長尺帯状の多孔質基材が介在し、前記保持面は、前記多孔質基材の表面である。
本願の第12発明は、第11発明の基材処理装置であって、前記剥離ローラは、前記吸着ローラへ向けて押圧されるとともに、前記吸着ローラ側への移動がストッパにより制限される。
図1は、本発明の基材処理装置の一実施形態に係る膜・触媒層接合体の製造装置1の構成を示した図である。この製造装置1は、固体高分子形燃料電池用の膜・電極接合体(MEA:Membrane-Electrode-Assembly)の製造過程に用いられる装置である。製造装置1は、長尺帯状の被処理基材である電解質膜を搬送しつつ、電解質膜の表面に触媒層を形成することにより、膜・触媒層接合体(CCM:Catalyst-Coated Membrane)を製造する。図1に示すように、膜・触媒層接合体の製造装置1は、吸着ローラ10、多孔質基材供給回収部20、電解質膜供給部30、塗布部40、乾燥炉50、接合体回収部60および制御部70を備えている。
上述の通り、この製造装置1では、吸着ローラ10と剥離ローラ33との間に積層基材94が導入される。このとき、エアシリンダ80の押圧力が強過ぎると、剥離ローラ33が、積層基材94を、吸着ローラ10へ向けて強く押し付ける。このため、吸着ローラ10と剥離ローラ33との間において、積層基材94が強く保持される。そうすると、積層基材94の左右の端縁部の長さに差がある場合に、剥離ローラ33の上流側において、積層基材94の長い方の端縁部が余り、それによって、積層基材94に弛みが生じる。
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されるものではない。
9a 第1触媒層
9b 第2触媒層
10 吸着ローラ
20 多孔質基材供給回収部
30 電解質膜供給部
31 積層基材供給ローラ
32 積層基材搬入ローラ
33 剥離ローラ,第1剥離ローラ
34 第1支持フィルム搬出ローラ
35 第1支持フィルム回収ローラ
36 気体吹付部
37 第2剥離ローラ
40 塗布部
50 乾燥炉
60 接合体回収部
70 制御部
80 エアシリンダ
81 シリンダ本体
82 シリンダロッド
83 ストッパ
91 多孔質基材
92 電解質膜
93 第1支持フィルム
94 積層基材
Claims (12)
- 長尺帯状の被処理基材を搬送しつつ処理する基材処理装置であって、
複数の吸着孔を有する外周面をもつ吸着ローラと、
前記吸着ローラの外周面に向けて、長尺帯状の支持フィルムと前記被処理基材とが積層された積層基材を導入する導入部と、
前記吸着ローラの前記外周面に前記積層基材を介して対向する外周面をもつ剥離ローラと、
前記剥離ローラを前記吸着ローラへ向けて押圧する押圧機構と、
を備え、
前記積層基材が、前記吸着ローラと前記剥離ローラとの間を通過した後、前記支持フィルムは、前記被処理基材から剥離されて前記吸着ローラから離れる方向へ搬送される一方、前記被処理基材は、前記吸着ローラに吸着保持され、
前記積層基材は、前記剥離ローラの外周面に対して摺動可能に保持され、
前記吸着ローラの周囲において前記被処理基材に接触する保持面と、前記剥離ローラの中心との距離から、前記剥離ローラの自然状態における半径を引いた値であるギャップが、前記積層基材の厚みの60%以上かつ200%以下である基材処理装置。 - 請求項1に記載の基材処理装置であって、
前記押圧機構は、
先端に前記剥離ローラが回転可能に取り付けられたロッドと、
前記ロッドを、退避状態と、前記退避状態よりも前記吸着ローラへ向けて突出した突出状態との間で移動させる押圧機構本体と、
前記ロッドの前記吸着ローラ側への移動を制限し、前記突出状態における前記剥離ローラの位置を固定する、ストッパと、
を有する基材処理装置。 - 請求項2に記載の基材処理装置であって、
前記吸着ローラの周囲において前記被処理基材に接触する保持面と、前記剥離ローラの中心との距離から、前記剥離ローラの自然状態における半径を引いた値であるギャップが、前記積層基材の厚みの60%以上である基材処理装置。 - 請求項3に記載の基材処理装置であって、
前記ギャップが、前記積層基材の厚みの200%以下である基材処理装置。 - 請求項1から請求項4までのいずれか1項に記載の基材処理装置であって、
前記ギャップが、前記積層基材の厚み以上である基材処理装置。 - 請求項1から請求項5までのいずれか1項に記載の基材処理装置であって、
前記積層基材は、搬送される前記積層基材にかかる張力によって、前記剥離ローラの外周面に対して摺動可能に保持される基材処理装置。 - 請求項1から請求項6までのいずれか1項に記載の基材処理装置であって、
前記吸着ローラの外周面と、前記被処理基材との間に、長尺帯状の多孔質基材が介在し、
前記保持面は、前記多孔質基材の表面である基材処理装置。 - 請求項1から請求項7までのいずれか1項に記載の基材処理装置であって、
前記剥離ローラである第1剥離ローラと、
前記第1剥離ローラよりも前記吸着ローラの回転方向下流側に位置し、前記吸着ローラの外周面に対向する外周面をもつ第2剥離ローラと、
を備え、
前記第1剥離ローラと前記吸着ローラとの間においては、前記積層基材が前記第1剥離ローラに保持され、
前記第2剥離ローラと前記吸着ローラとの間においては、前記支持フィルムが前記第2剥離ローラに保持されるとともに、前記被処理基材が前記吸着ローラに保持される基材処理装置。 - 請求項1から請求項8までのいずれか1項に記載の基材処理装置であって、
前記吸着ローラの周囲において、前記被処理基材の表面に材料を塗布する塗布部
をさらに備える基材処理装置。 - 請求項1から請求項9までのいずれか1項に記載の基材処理装置であって、
前記被処理基材は、電解質膜である基材処理装置。 - 長尺帯状の被処理基材を搬送しつつ処理する基材処理方法であって、
a)長尺帯状の支持フィルムと前記被処理基材とが積層された積層基材を、吸着ローラと剥離ローラとの間へ導入する工程と、
b)前記積層基材が、前記吸着ローラと前記剥離ローラとの間を通過した後、前記被処理基材から前記支持フィルムを剥離し、前記支持フィルムを前記吸着ローラから離れる方向へ搬送するとともに、前記被処理基材を前記吸着ローラに吸着保持させる工程と、
を含み、
前記剥離ローラは、前記吸着ローラへ向けて押圧され、かつ、前記積層基材は、前記剥離ローラの外周面に対して摺動可能に保持され、
前記吸着ローラの周囲において前記被処理基材に接触する保持面と、前記剥離ローラの中心との距離から、前記剥離ローラの自然状態における半径を引いた値であるギャップが、前記積層基材の厚みの60%以上かつ200%以下である基材処理方法。 - 請求項11に記載の基材処理方法であって、
前記剥離ローラは、前記吸着ローラへ向けて押圧されるとともに、前記吸着ローラ側への移動がストッパにより制限される基材処理方法。
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