JP4987081B2 - 切削工具 - Google Patents
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Description
Ti1−a−b−c−dAlaWbSicMd(C1−xNx)(ただし、MはNb、Mo、Ta、HfおよびYから選ばれる少なくとも1種、0.45≦a≦0.55、0.01≦b≦0.1、0≦c≦0.05、0.01≦d≦0.1、0≦x≦1)からなる第1層と、
Ti1−e−f−gAleSifM’g(C1−yNy)(ただし、M’はNb、Mo、Ta、HfおよびYから選ばれる少なくとも1種、0.50≦e≦0.60、0≦f≦0.1、0.05≦g≦0.15、0≦y≦1)からなる第2層と、を具備するとともに、前記第1層の平均結晶幅は0.01〜0.5μmであり、前記第2層の平均結晶幅は0.6〜3μmである構成からなる。
被覆層が、
Ti 1−a−b−c−d Al a W b Si c M d (C 1−x N x )(ただし、MはNb、Mo、Ta、HfおよびYから選ばれる少なくとも1種、0.45≦a≦0.55、0.01≦b≦0.1、0≦c≦0.05、0.01≦d≦0.1、0≦x≦1)からなる第1層と、
Ti 1−e−f−g Al e Si f M’ g (C 1−y N y )(ただし、M’はNb、Mo、Ta、HfおよびYから選ばれる少なくとも1種、0.50≦e≦0.60、0≦f≦0.1、0.05≦g≦0.15、0≦y≦1)からなる第2層と、を具備するとともに、前記第1層中に平均結晶粒径が0.05〜1μmの分散粒子が点在する構成からなる。
基体2の第1の例示としては、WCを60〜95質量%と、周期表第4、5、6a族金属の少なくとも1種の炭化物、窒化物または炭窒化物0〜10質量%と、鉄族金属を5〜30質量%との割合で含む超硬合金が挙げられる。中でも、WCを88〜95質量%と、周期表第4、5、6a族金属の少なくとも1種の炭化物、窒化物または炭窒化物0〜1質量%と、鉄族金属を5〜12質量%との割合で含むK種超硬合金や、WCを87〜94質量%と、周期表第4、5、6a族金属の少なくとも1種の炭化物、窒化物または炭窒化物1〜10質量%と、鉄族金属を5〜12質量%との割合で含むM種・P種超硬合金が好適に使用可能である。
基体2の第2の例示としては、Al2O3粒子中に、MgOを0〜1質量%と、TiまたはSiの炭化物、窒化物および炭窒化物の群の少なくとも1種を総量で10〜70質量%と、CoおよびNiの少なくとも1種を総量で0.1〜2.0質量%とを含有するAl2O3質セラミックスが挙げられる。ここで、セラミックス中にTiまたはSiの炭化物、窒化物および炭窒化物を含有することによって、基体の強度および靭性を高めることができるとともに本発明の被覆層6との密着性が高いものである。なお、TiまたはSiの炭化物、窒化物および炭窒化物のいずれか1種以上の望ましい含有量は、被覆層6との熱膨張係数差をなくす点で20〜40質量%であり、特にAl2O3質セラミックスに導電性を持たせてPVD法による成膜が良好となる点で、TiCまたはTiCNを20〜40質量%の割合で含有することが望ましい。CoおよびNiの少なくとも1種の望ましい含有割合は0.1〜0.5質量%であることが、Al2O3質セラミックスに導電性を持たせて物理蒸着法によって安定して密着性の高い被覆層を形成することができる点で望ましい。
基体2の第3の例示としては、窒化珪素を94.5〜99.5質量%、希土類(RE)元素酸化物をRE2O3換算で0.1〜4.5質量%、酸化マグネシウムをMgO換算で0.3〜2.5質量%、酸化アルミニウムをAl2O3換算で0〜0.6質量%、残余の酸素をシリカ(SiO2)換算で0.1〜4.5質量%、周期表第6族元素珪化物を0〜2質量%からなる窒化珪素質セラミックスが挙げられる。これによって、基体2の硬度および高温強度を高めて、基体2の耐摩耗性および高温での耐欠損性を高めることができる。なお、希土類(RE)元素化合物、マグネシウム化合物およびアルミニウム化合物は、いずれも酸化物として存在することが少量で窒化珪素同士を強固に結合できて窒化珪素結晶2の含有比率を高めることができる点で望ましい。
基体2の第3の例示としては、粒径4〜6μmのcBN粗粒子と粒径0.5〜1.2μmのcBN微粒子とのcBN粒子を、少なくとも周期表第4、5、6族金属から選ばれる1種以上の元素の炭化物と鉄族金属を含む結合相で結合した構成からなるcBNセラミックスが挙げられる。
次に、本発明の切削工具の製造方法について説明する。
まず、工具形状の基体2を従来公知の方法を用いて作製する。上述した第1〜4の実施態様の基体それぞれの作製方法の一例について以下に示す。
炭化タングステン(WC)粉末と、鉄族金属粉末と、WC以外の周期表第4、5、6a族金属の少なくとも1種の炭化物、窒化物または炭窒化物粉末とを所定の割合で添加・混合して、プレス成形等の公知の成形方法によりスローアウェイチップ形状に成形する。そして、この成形体に対して脱バインダ処理を施した後、真空中または非酸化性雰囲気中、1350〜1550℃で焼成して超硬合金を作製する。
例えば、基体としてAl2O3質セラミックスを用いる場合、原料粉末として0.2〜3μmの範囲内の所定の平均粒径を有するAl2O3原料粉末、平均粒径0.5〜2μmのMgO粉末、平均粒径0.1〜2μmのCoO粉末および平均粒径0.1〜2μmのNiO粉末を特定の組成に秤量し粉砕混合する。
例えば、基体としてSi3N4質セラミックスを用いる場合、まず、出発原料として、例えば、窒化珪素(Si3N4)粉末と、希土類(RE)元素の水酸化物(RE(OH)2)または酸化物(RE2O3)、酸化アルミニウム(Al2O3)、水酸化マグネシウム(Mg(OH)2)を準備する。また、必要に応じて、二酸化珪素(SiO2)、周期表第6族元素珪化物の粉末を用意する。
例えば、基体としてcBN質セラミックスを用いる場合、例えば、原料粉末として平均粒径4〜6μmの粗粒cBN原料粉末と、平均粒径0.1〜1.5μmの微粒cBN原料粉末、平均粒径0.2〜3μmの周期表第4、5および6族金属から選ばれる1種または2種以上の元素の炭化物粉末、および必要により平均粒径0.5〜5μmのAlあるいは、0.5〜3μmの鉄族金属の内の少なくとも一種の原料粉末を特定の組成に秤量し16〜72時間ボールミルにて粉砕混合する。
切削方法:外径旋削加工
被削材 :SUS304
切削速度:150m/分
送り :0.2mm/rev
切り込み:2.0mm
切削状態:湿式
評価方法:30分切削後の横逃げ面摩耗と先端摩耗、チッピングの有無を顕微鏡にて測定した。
チップ形状:CNGN120408
被削材:SKD11焼入鋼(HRC=58−60)
送り(Vc):100m/分
周速(f):0.1mm/rev
切込(ap):0.5
切削条件:乾式加工
評価項目:Φ200からΦ150までの切削長200mmで外周切削
90分加工終了後に摩耗量を測定する。
チップ形状:SNGN120412
被削材:FC250
切削方法:旋削加工
切削速度:550m/min
送り量:0.5mm/rev
切り込み量:2.0mm
切削条件:湿式加工
評価項目:2分加工終了後、切刃のフランク摩耗量と先端摩耗量、およびチッピング状態を顕微鏡観察により確認した。
HfC原料粉末平均粒径1.5μmの金属Al原料粉末、平均粒径0.8μmの金属Co原料粉末を用いて、表21に示す組成となるように調合し、この粉体を、アルミナ製ボールを用いたボールミルで15時間混合した。次に混合した粉体を圧力98MPaでプレス成形した。この成形体を、超高圧、高温装置を用いて、表21に示す昇温速度で昇温し、圧力5.0GPaで、表21に示す焼成温度、時間で焼成した後、表21に示す降温速度で降温することにより焼成してcBN質焼結体を得た。また、作製した焼結体からワイヤ放電加工によって所定の寸法に切り出し、超硬合金基体の切刃先端部に形成した切り込み段部にろう付けした。そして、このcBN焼結体の切刃に対してダイヤモンドホイールを用いて刃先処理(チャンファホーニング)を施した。
切削方法:外径加工
被削材 :FC250、4本溝
切削速度:500m/min
送り :0.2mm/rev
切り込み:肩切り込み0.2mm、深さ切り込み0.4mm
切削状態:乾式加工
評価方法:摩耗幅0.1mmまたはチッピングが発生して加工不能になるまでに加工でき
た加工数量。
2 基体
3、13 すくい面
4、14 逃げ面
5、15 切刃
6、9 被覆層
7 第1層
8 第2層
10 切刃チップ
11 チップ本体
12 裏打ち板
Claims (9)
- 基体と、この基体の表面を被覆する被覆層とからなる切削工具であって、
前記被覆層が、
Ti1−a−b−c−dAlaWbSicMd(C1−xNx)(ただし、MはNb、Mo、Ta、HfおよびYから選ばれる少なくとも1種、0.45≦a≦0.55、0.01≦b≦0.1、0≦c≦0.05、0.01≦d≦0.1、0≦x≦1)からなる第1層と、
Ti1−e−f−gAleSifM’g(C1−yNy)(ただし、M’はNb、Mo、Ta、HfおよびYから選ばれる少なくとも1種、0.50≦e≦0.60、0≦f≦0.1、0.05≦g≦0.15、0≦y≦1)からなる第2層と、
を具備するとともに、
前記第1層の平均結晶幅は0.01〜0.5μmであり、前記第2層の平均結晶幅は0.6〜3μmであることを特徴とする切削工具。 - 基体と、この基体の表面を被覆する被覆層とからなる切削工具であって、
前記被覆層が、
Ti1−a−b−c−dAlaWbSicMd(C1−xNx)(ただし、MはNb、Mo、Ta、HfおよびYから選ばれる少なくとも1種、0.45≦a≦0.55、0.01≦b≦0.1、0≦c≦0.05、0.01≦d≦0.1、0≦x≦1)からなる第1層と、
Ti1−e−f−gAleSifM’g(C1−yNy)(ただし、M’はNb、Mo、Ta、HfおよびYから選ばれる少なくとも1種、0.50≦e≦0.60、0≦f≦0.1、0.05≦g≦0.15、0≦y≦1)からなる第2層と、
を具備するとともに、
前記第1層中に平均結晶粒径が0.05〜1μmの分散粒子が点在することを特徴とする切削工具。 - 前記第1層の膜厚は1〜7μmであり、前記第2層の膜厚は0.5〜5μmであることを特徴とする請求項1または2記載の切削工具。
- 前記被覆層は、前記第1層と前記第2層とが2層以上交互に積層されてなることを特徴とする請求項1記載の切削工具。
- 前記第1層の各層の膜厚は0.02〜0.7μm、前記第2層の各層の膜厚は0.01
〜0.5μmであり、前記第1層の総膜厚は1〜7μm、前記第2層の総膜厚は0.5〜5μmであることを特徴とする請求項4記載の切削工具。 - 前記基体が、WCを60〜95質量%と、周期表第4、5、6族金属の少なくとも1種の炭化物、窒化物または炭窒化物を0〜10質量%と、鉄族金属を5〜30質量%との割合で含む超硬合金からなることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか記載の切削工具。
- 前記基体が、Al2O3と、MgOを0〜1質量%と、TiまたはSiの炭化物、窒化物および炭窒化物の群の少なくとも1種を総量で10〜70質量%と、CoおよびNiの少なくとも1種を総量で0.1〜2.0質量%とを含有するAl2O3質焼結体からなることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか記載の切削工具。
- 前記基体が、窒化珪素を94.5〜99.5質量%、希土類(RE)元素酸化物をRE2O3換算で0.1〜4.5質量%、酸化マグネシウムをMgO換算で0.3〜2.5質量%、酸化アルミニウムをAl2O3換算で0〜0.6質量%、残余の酸素をシリカ(SiO2)換算で0.1〜4.5質量%、周期表第6族元素珪化物を0〜2質量%からなるSi3N4質焼結体からなることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか記載の切削工具。
- 前記基体が、cBN粒子の粒径分布において、粒径4〜6μmのcBN粗粒子と粒径0.5〜1.2μmのcBN微粒子との2つのピークを持つcBN粒子を70体積%以上含有するとともに、該cBN粒子を、少なくとも周期表第4、5、6族金属から選ばれる1種以上の元素の炭化物と鉄族金属を含む結合相で結合してなるcBN質焼結体からなることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか記載の切削工具。
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JP6637664B2 (ja) * | 2014-03-28 | 2020-01-29 | 三菱マテリアル株式会社 | 立方晶窒化硼素焼結体切削工具 |
JP6355124B2 (ja) | 2014-04-25 | 2018-07-11 | 住友電工ハードメタル株式会社 | 表面被覆窒化硼素焼結体工具 |
KR101902856B1 (ko) | 2014-06-27 | 2018-10-01 | 쿄세라 코포레이션 | 입방정 질화붕소 소결체 및 절삭 공구 |
CN104162661B (zh) * | 2014-08-14 | 2017-01-11 | 南京理工大学 | 一种微波烧结Al2O3-TiC-TiN微米复合陶瓷刀具材料的方法 |
WO2016081571A1 (en) | 2014-11-19 | 2016-05-26 | Diamond Innovations, Inc. | Method of preparing a multimodal cubic boron nitride powder |
US9988314B2 (en) * | 2015-05-29 | 2018-06-05 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp. | Sintered compact and cutting tool |
JP1558993S (ja) * | 2015-11-17 | 2019-09-02 | ||
CN105563557A (zh) * | 2016-01-29 | 2016-05-11 | 苏州安洁科技股份有限公司 | 一种使得刀模表面不粘刀的方法及对应的刀模结构 |
US10167234B2 (en) | 2016-12-06 | 2019-01-01 | King Fahd University Of Petroleum And Minerals | Method of making an alumina-silicate oxynitride and cubic boron nitride ceramic composite |
RU2640691C1 (ru) * | 2016-12-20 | 2018-01-11 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
US11167382B2 (en) * | 2017-09-18 | 2021-11-09 | Agathon AG, Maschinenfabrik | Method and machine equipment for manufacturing of a cutting tool |
RU2691810C2 (ru) * | 2017-11-14 | 2019-06-18 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения износостойкого покрытия для режущего инструмента |
RU2691157C2 (ru) * | 2017-11-22 | 2019-06-11 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
KR101951316B1 (ko) * | 2017-11-24 | 2019-06-03 | 한국야금 주식회사 | 경질피막이 형성된 난삭재용 절삭공구 |
KR101859644B1 (ko) * | 2017-11-28 | 2018-05-18 | 한국야금 주식회사 | 절삭공구용 소결합금 및 난삭재용 절삭공구 |
JP7015979B2 (ja) * | 2018-03-14 | 2022-02-04 | 三菱マテリアル株式会社 | cBN焼結体および切削工具 |
US11065460B2 (en) | 2019-05-30 | 2021-07-20 | Medtronic, Inc. | Battery assembly for medical device |
JP7064658B1 (ja) * | 2020-11-04 | 2022-05-10 | 住友電気工業株式会社 | 立方晶窒化硼素焼結体 |
WO2023074310A1 (ja) * | 2021-10-29 | 2023-05-04 | 京セラ株式会社 | インサートおよび切削工具 |
JPWO2023074277A1 (ja) * | 2021-10-29 | 2023-05-04 | ||
CN115138849B (zh) * | 2022-06-02 | 2024-01-12 | 湖南科技大学 | 一种无粘结相硬质合金刀具材料的制备方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04300241A (ja) * | 1991-03-28 | 1992-10-23 | Mitsubishi Materials Corp | アルミナ基セラミックス |
JPH07136810A (ja) * | 1993-11-19 | 1995-05-30 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 高硬度材切削用セラミック工具 |
JP2000044348A (ja) * | 1998-07-22 | 2000-02-15 | Nof Corp | 鋳鉄切削加工用高硬度焼結体 |
JP2000247746A (ja) * | 1999-02-26 | 2000-09-12 | Kyocera Corp | 立方晶窒化硼素質焼結体切削工具 |
JP2000326108A (ja) * | 1999-05-19 | 2000-11-28 | Hitachi Tool Engineering Ltd | 硬質皮膜被覆工具 |
JP2006123159A (ja) * | 2004-09-30 | 2006-05-18 | Kobe Steel Ltd | 耐摩耗性と耐酸化性に優れた硬質皮膜および該硬質皮膜形成用ターゲット、並びに高温潤滑性と耐摩耗性に優れた硬質皮膜および該硬質皮膜形成用ターゲット |
JP2008069031A (ja) * | 2006-09-13 | 2008-03-27 | Kyocera Corp | 窒化珪素質焼結体およびその製造方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS598679A (ja) | 1982-07-07 | 1984-01-17 | 住友電気工業株式会社 | 被覆硬質焼結体 |
JPH0569205A (ja) | 1991-09-12 | 1993-03-23 | Sumitomo Electric Ind Ltd | セラミツクス切削工具 |
JPH0691407A (ja) | 1992-05-11 | 1994-04-05 | Mitsubishi Materials Corp | 耐欠損性にすぐれた表面被覆セラミック切削工具 |
US5382273A (en) | 1993-01-15 | 1995-01-17 | Kennametal Inc. | Silicon nitride ceramic and cutting tool made thereof |
JP3460288B2 (ja) | 1994-01-21 | 2003-10-27 | 住友電気工業株式会社 | 耐摩耗性に優れた表面被覆部材 |
JP3866305B2 (ja) | 1994-10-27 | 2007-01-10 | 住友電工ハードメタル株式会社 | 工具用複合高硬度材料 |
JP3452726B2 (ja) * | 1996-06-05 | 2003-09-29 | 日立ツール株式会社 | 多層被覆硬質工具 |
JP3451877B2 (ja) * | 1997-03-10 | 2003-09-29 | 三菱マテリアル株式会社 | 耐摩耗性のすぐれた表面被覆超硬合金製切削工具 |
JP4171099B2 (ja) | 1998-04-24 | 2008-10-22 | 株式会社神戸製鋼所 | 耐摩耗性に優れる硬質皮膜 |
JP4330859B2 (ja) * | 2002-09-11 | 2009-09-16 | 株式会社タンガロイ | 被覆超硬合金およびその製造方法 |
JP4284503B2 (ja) | 2003-05-21 | 2009-06-24 | 三菱マテリアル株式会社 | 高速重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆立方晶窒化硼素基焼結材料製切削工具 |
JP4958134B2 (ja) | 2003-12-18 | 2012-06-20 | 日立ツール株式会社 | 硬質皮膜被覆工具 |
JP2006111915A (ja) | 2004-10-14 | 2006-04-27 | Institute Of National Colleges Of Technology Japan | 硬質被膜、硬質被膜被覆工具、および硬質被膜のコーティング方法 |
US7811683B2 (en) * | 2006-09-27 | 2010-10-12 | Kyocera Corporation | Cutting tool |
-
2009
- 2009-03-25 JP JP2009526425A patent/JP4987081B2/ja active Active
- 2009-03-25 US US12/598,175 patent/US8236411B2/en active Active
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- 2009-03-25 EP EP09724661.5A patent/EP2168702B1/en active Active
- 2009-03-25 CN CN2009800005784A patent/CN101848782B/zh active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04300241A (ja) * | 1991-03-28 | 1992-10-23 | Mitsubishi Materials Corp | アルミナ基セラミックス |
JPH07136810A (ja) * | 1993-11-19 | 1995-05-30 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 高硬度材切削用セラミック工具 |
JP2000044348A (ja) * | 1998-07-22 | 2000-02-15 | Nof Corp | 鋳鉄切削加工用高硬度焼結体 |
JP2000247746A (ja) * | 1999-02-26 | 2000-09-12 | Kyocera Corp | 立方晶窒化硼素質焼結体切削工具 |
JP2000326108A (ja) * | 1999-05-19 | 2000-11-28 | Hitachi Tool Engineering Ltd | 硬質皮膜被覆工具 |
JP2006123159A (ja) * | 2004-09-30 | 2006-05-18 | Kobe Steel Ltd | 耐摩耗性と耐酸化性に優れた硬質皮膜および該硬質皮膜形成用ターゲット、並びに高温潤滑性と耐摩耗性に優れた硬質皮膜および該硬質皮膜形成用ターゲット |
JP2008069031A (ja) * | 2006-09-13 | 2008-03-27 | Kyocera Corp | 窒化珪素質焼結体およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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