JP4943450B2 - 2層銅張積層板 - Google Patents
2層銅張積層板 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4943450B2 JP4943450B2 JP2008546939A JP2008546939A JP4943450B2 JP 4943450 B2 JP4943450 B2 JP 4943450B2 JP 2008546939 A JP2008546939 A JP 2008546939A JP 2008546939 A JP2008546939 A JP 2008546939A JP 4943450 B2 JP4943450 B2 JP 4943450B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copper
- layer
- clad laminate
- dimensional change
- change rate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 61
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 60
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 60
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 32
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 17
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 15
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 7
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 description 18
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229920001646 UPILEX Polymers 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
- B32B15/088—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin comprising polyamides
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/032—Organic insulating material consisting of one material
- H05K1/0346—Organic insulating material consisting of one material containing N
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/01—Dielectrics
- H05K2201/0137—Materials
- H05K2201/0154—Polyimide
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0703—Plating
- H05K2203/0723—Electroplating, e.g. finish plating
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/06—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/14—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using spraying techniques to apply the conductive material, e.g. vapour evaporation
- H05K3/16—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using spraying techniques to apply the conductive material, e.g. vapour evaporation by cathodic sputtering
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31678—Of metal
- Y10T428/31681—Next to polyester, polyamide or polyimide [e.g., alkyd, glue, or nylon, etc.]
Description
2層CCL材はポリイミドフィルム(PI)上に、スパッタリングによりサブミクロン程度の銅層を形成した後、硫酸銅メッキ処理により銅層を形成したものである。基本発明は、下記特許文献1に記載されている。
また、BPDA−PPD系のポリマー溶液から支持体表面に形成された薄膜を特定の二段階の乾燥を行うことにより、線膨張係数及び熱寸法安定性を良好なものとし、銅箔を貼り合わせた際のカールを低減する技術が開示されている(特許文献3参照)。
しかし、前者は、PI層として最適な構成材料を選択することによって、PI層の厚みを小さくしてもカールを生じさせないものであるが、銅の積層方法によっては必ずしも同様の効果が得られるとは限らない。また後者は、特定の二段階の乾燥を行うことにより、線膨張係数の比を制御しているが、フィルムの状態を外観上確認するのみで、実質的な反り量についてどの程度改善されているかは不明である。
1)ポリイミドフィルム上にスパッタリング及びメッキ処理を用いて銅層を形成した2層銅張積層板において、該銅張積層板の銅層をエッチング除去した後の該銅張積層板のMDの寸法変化率が0.001%〜0.030%の範囲で収縮する挙動を示し、該銅張積層板の銅層をエッチング除去した後の該銅張積層板のTDの寸法変化率が0.030%〜0.060%の範囲で伸長する挙動を示し、当該積層材の反り量が20mm以下であることを特徴とする2層銅張積層板。但し、反り量は、銅層を上面にし、23°C、湿度50%、72時間、調湿した後の、100mm角の2層銅張積層板の四隅の浮き上がり量の平均を示す。
2層銅張積層板の反り量が20mmを超える場合は、従来技術と同様に、CCL材料をCOFに加工する際、ドライバIC等をCOFに実装する際、及びドライバIC等を実装したCOFを液晶パネル等に実装する際の障害となるので、好ましくない。
銅張積層板をエッチングした後の寸法が0.001%〜0.030%の範囲で収縮する条件は、反り量を低減させる上で、効果的な条件である。この範囲に満たないもの、又は超えるものについては、反りの低減効果が少ない。望ましくは0.003%〜0.023%の範囲で収縮する挙動を示すことが、反り低減にさらに有効である。
2)銅張積層板のMDの寸法変化率において、該銅張積層板の銅層をエッチング除去し、さらに熱処理した後の寸法変化率が0.025%〜0.075%の範囲で収縮する挙動を示し、銅張積層板のTDの寸法変化率において、該銅張積層板の銅層をエッチング除去し、さらに熱処理した後の寸法変化率が0.001%〜0.060%の範囲で伸長を示すことを特徴とする上記1)記載の2層銅張積層板。
銅張積層板をエッチングし、さらに熱処理した後の寸法変化率が0.025%〜0.075%の範囲で収縮する条件は、反り量を低減させる上で、効果的な条件である。この範囲に満たないもの、又は超えるものについては、反りの低減効果が少ない。望ましくは0.025%〜0.045%の範囲で収縮する挙動を示すことが、反り低減にさらに有効である。
3)ポリイミドフィルムの厚さが25〜50μm、銅層の厚さが1〜20μmであることを特徴とする上記1)又は2)記載の2層銅張積層板。これらに該当するポリイミドフィルム及び銅層の厚さを持つものは、本願発明の目的を達成することができる。
また、スパッタリングによりサブミクロン程度の銅層を形成する前に、NiCrからなるタイコート層をスパッタリングによりポリイミドフィルム表面に形成することができる。ポリイミドフィルム表面のプラズマ処理及びタイコート層は接着性を向上させる上で有効な手段である。本願発明はこれらの処理を包含するものである。
本願発明においては、銅張積層板のMDの収縮と、銅張積層板のTDの伸長を利用するものであり、この利用が銅張積層板の反り量を20mm以下にする上で重要であり、本願発明の要件となるものである。
この収縮と伸長の調整は、次のようにして行う。例えば、ポリイミドフィルム上にスパッタ膜をつけたものに対し、該ポリイミドフィルムをMDに強制的に伸ばして銅めっき層を形成する。この結果、銅めっき層はMDに伸びた銅張積層板が形成される。次に、前記伸張させたポリイミドフィルムを開放する。これによって、MDに収縮することになる。この収縮量は、ポリイミドフィルムの強制伸張の程度によって調整できることは容易に理解されるであろう。上記の通り、請求項に示したMD及びTDの範囲とすることにより、反り量を所定の範囲とすることができる。
本発明のMD及びTDの寸法変化率は、IPC-TM-650, 2.2.4, Method B及びCに準拠している。寸法変化率という指標では、収縮はマイナス値、伸張がプラス値で表される。
IPC-TM-650, 2.2.4, Method Bは、銅張り状態と銅をエッチングした状態での寸法変化の差であり、IPC-TM-650, 2.2.4, Method Cは、銅張り状態と銅をエッチングした後に、さらに加熱処理した状態での寸法変化の差である。
(液組成)
塩化第二銅溶液(CuCl2)、酸化銅(CuO)
塩酸(HCl):3.50mol/L(0〜6mol/Lの範囲で調整)
過酸化水素(H2O2):30.0Cap(0〜99.9Capの範囲で調整)
(エッチング液の管理は比重で行う)
比重:1.26(1.100〜1.400の範囲で調整)
(液温):50°C(45〜55°Cの範囲で調整)
・加熱処理の条件は、次の通りである。
IPC-TM-650, 2.2.4, Method Cに準拠した条件(150°C±2°C、30分±2分)
(実施例1)
ポリイミドフィルム(宇部興産株式会社製,Upilex SGA)の厚さ34μm品を使用し、スパッタリング及びメッキ処理により、厚さ8μmの銅層を形成した。寸法変化率の挙動も反りを低減させることができる要素の一つである。
図2に、2層銅張積層板をエッチングした後の寸法変化率を示す。すなわち、IPC-TM-650, 2.2.4, Method Bに基づき、銅張り状態と銅をエッチングした状態での寸法変化率を測定した結果、MDが−0.009%となり、TDが0.041%となった。
本願発明の場合は、TDで伸長、MDで収縮である。この伸長と収縮は、2層銅張積層板構造の中で、相互に干渉し、相殺されて、反りの抑制につながっていると考えられる。
図3に、2層銅張積層板をエッチングした後、さらに加熱処理した場合の寸法変化率、すなわち上記Method Cの寸法変化率を示す。加熱処理は、150°C±2°C、30分±2分間で実施した。
図3の左が本願発明の反り量を低減させた2層銅張積層板(品)である。図3において、それぞれMDとTDの寸法変化率を示す。MDの寸法変化率が−0.045%であり、TDの寸法変化率が0.023%であった。
以上より、IPC-TM-650, 2.2.4, Method B及びMethod Cにおいて、MDの寸法変化率がマイナス値(収縮)であり、TDの寸法変化率がプラス値(伸張)であった場合、反り量は10.3mmと小さい値を示した。
ポリイミドフィルム(宇部興産株式会社製,Upilex SGA)の厚さ34μm品を使用し、スパッタリング及びメッキ処理により、厚さ8μmの銅層を形成した。図2の右側が本比較例1(従来)の2層銅張積層板を示す。
IPC-TM-650, 2.2.4, Method Bに基づき、銅張り状態と銅をエッチングした状態での寸法変化率を測定した結果、図2の右図に示すように、MDの伸長が0.027%となり、TDの伸長が0.062%となった。
さらに、IPC-TM-650, 2.2.4, Method Cに基づき、銅張り状態と銅をエッチングした後に加熱処理した状態での寸法変化率を測定した結果、図3の右図に示すように、MDが0.013%であり、TDが0.053%となった。そして、反り量は27.7mmとなった。加熱処理は150°C±2°C、30分±2分間で実施した。
すなわち、IPC-TM-650, 2.2.4, Method B及びMethod Cにおいて、MDの寸法変化率がプラス値(伸張)であり、TDの寸法変化率もプラス値(伸張)であった場合、反り量は27.7mmと大きい値を示した。
これは本願発明で目標とする反り量20mmを超え、好ましくない状態である。MD及びTDのいずれも伸長がある場合には、反りが助長されるものと考えられる。以上の比較例から、本願発明の優位性は明らかである。
Claims (3)
- ポリイミドフィルム上にスパッタリング及びメッキ処理を用いて銅層を形成した2層銅張積層板において、該銅張積層板の銅層をエッチング除去した後の該銅張積層板のMDの寸法変化率が0.001%〜0.030%の範囲で収縮する挙動を示し、該銅張積層板の銅層をエッチング除去した後の該銅張積層板のTDの寸法変化率が0.030%〜0.060%の範囲で伸長する挙動を示し、当該積層材の反り量が20mm以下であることを特徴とする2層銅張積層板。但し、反り量は、銅層を上面にし、23°C、湿度50%、72時間、調湿した後の、100mm角の2層銅張積層板の四隅の浮き上がり量の平均を示す。
- 銅張積層板のMDの寸法変化率において、該銅張積層板の銅層をエッチング除去し、さらに熱処理した後の寸法変化率が0.025%〜0.075%の範囲で収縮する挙動を示し、銅張積層板のTDの寸法変化率において、該銅張積層板の銅層をエッチング除去し、さらに熱処理した後の寸法変化率が0.001%〜0.060%の範囲で伸長を示すことを特徴とする請求項1記載の2層銅張積層板。
- ポリイミドフィルムの厚さが25〜50μm、銅層の厚さが1〜20μmであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の2層銅張積層板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008546939A JP4943450B2 (ja) | 2006-11-29 | 2007-11-14 | 2層銅張積層板 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006321174 | 2006-11-29 | ||
JP2006321174 | 2006-11-29 | ||
JP2008546939A JP4943450B2 (ja) | 2006-11-29 | 2007-11-14 | 2層銅張積層板 |
PCT/JP2007/072074 WO2008065890A1 (fr) | 2006-11-29 | 2007-11-14 | Stratifié bicouches à placage de cuivre |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2008065890A1 JPWO2008065890A1 (ja) | 2010-03-04 |
JP4943450B2 true JP4943450B2 (ja) | 2012-05-30 |
Family
ID=39467682
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008546939A Active JP4943450B2 (ja) | 2006-11-29 | 2007-11-14 | 2層銅張積層板 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100040873A1 (ja) |
JP (1) | JP4943450B2 (ja) |
KR (1) | KR20090080978A (ja) |
CN (1) | CN101541528B (ja) |
TW (1) | TW200833199A (ja) |
WO (1) | WO2008065890A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7240696B1 (ja) | 2022-11-10 | 2023-03-16 | 環緑株式会社 | 育苗用ポット |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007145164A1 (ja) | 2006-06-12 | 2007-12-21 | Nippon Mining & Metals Co., Ltd. | 粗化処理面を備えた圧延銅又は銅合金箔及び圧延銅又は銅合金箔の粗化方法 |
US8642893B2 (en) * | 2007-09-28 | 2014-02-04 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Copper foil for printed circuit and copper-clad laminate |
WO2009050970A1 (ja) | 2007-10-18 | 2009-04-23 | Nippon Mining & Metals Co., Ltd. | 金属被覆ポリイミド複合体、同複合体の製造方法及び同複合体の製造装置 |
US8568899B2 (en) * | 2007-10-18 | 2013-10-29 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Metal covered polyimide composite, process for producing the composite, and process for producing electronic circuit board |
KR101199816B1 (ko) * | 2007-12-27 | 2012-11-12 | 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 | 2 층 동장 적층판의 제조 방법 및 2 층 동장 적층판 |
KR20130012592A (ko) * | 2008-02-04 | 2013-02-04 | 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 | 무접착제 플렉시블 라미네이트 |
US8142905B2 (en) * | 2008-06-17 | 2012-03-27 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Copper foil for printed circuit board and copper clad laminate for printed circuit board |
JP5266925B2 (ja) * | 2008-07-23 | 2013-08-21 | 住友金属鉱山株式会社 | 金属化ポリイミドフィルムとその製造方法 |
EP2366469A1 (en) * | 2008-11-25 | 2011-09-21 | JX Nippon Mining & Metals Corporation | Method of winding up copper foil or copper-clad laminate |
KR101288641B1 (ko) | 2008-11-25 | 2013-07-22 | 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 | 인쇄 회로용 동박 |
JP2009143234A (ja) | 2008-12-24 | 2009-07-02 | Nippon Mining & Metals Co Ltd | キャリア付金属箔 |
EP2371535A4 (en) | 2008-12-26 | 2012-05-09 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | FLEXIBLE COATING AND A FLEXIBLE SUBSTRATE FOR ELECTRONIC CIRCUITS SHAPED WITH THEIR HELP |
EP2373133A1 (en) | 2008-12-26 | 2011-10-05 | JX Nippon Mining & Metals Corporation | Rolled copper foil or electrolytic copper foil for electronic circuit, and method for forming electronic circuit using the rolled copper foil or electrolytic copper foil |
KR101269708B1 (ko) | 2008-12-26 | 2013-05-30 | 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 | 전자 회로용 압연 동박 또는 전해 동박, 이들을 사용한 전자 회로의 형성 방법 및 프린트 기판 |
KR101229617B1 (ko) | 2008-12-26 | 2013-02-04 | 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 | 전자 회로의 형성 방법 |
JP2010186874A (ja) * | 2009-02-12 | 2010-08-26 | Kaneka Corp | フレキシブルプリント配線基板材料の製造方法 |
KR20110124351A (ko) * | 2009-04-09 | 2011-11-16 | 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 | 2 층 동장 적층판 및 그 제조 방법 |
JP5461888B2 (ja) * | 2009-04-10 | 2014-04-02 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 2層銅張積層板の製造方法及び2層銅張積層板 |
WO2013125076A1 (ja) * | 2012-02-23 | 2013-08-29 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 2層銅張積層材及びその製造方法 |
JP6252987B2 (ja) * | 2014-09-22 | 2017-12-27 | 住友金属鉱山株式会社 | 2層銅張積層板及びその製造方法 |
JP6252989B2 (ja) * | 2014-10-31 | 2017-12-27 | 住友金属鉱山株式会社 | 2層銅張積層板及びその製造方法、並びにそれを用いたフレキシブル配線板及びその製造方法 |
CN108604215B (zh) | 2016-02-19 | 2022-04-05 | 三星电子株式会社 | 软件保护器装置和控制该软件保护器装置的方法 |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4725484A (en) * | 1985-05-17 | 1988-02-16 | Ube Industries, Ltd. | Dimensionally stable polyimide film and process for preparation thereof |
JP2574535B2 (ja) * | 1990-11-21 | 1997-01-22 | 住友金属鉱山株式会社 | 銅ポリイミド基板の製造方法 |
US5685970A (en) * | 1992-07-01 | 1997-11-11 | Gould Electronics Inc. | Method and apparatus for sequentially metalized polymeric films and products made thereby |
JP3258308B2 (ja) * | 2000-02-03 | 2002-02-18 | 株式会社日鉱マテリアルズ | レーザー穴開け性に優れた銅箔及びその製造方法 |
JP3628585B2 (ja) * | 2000-04-05 | 2005-03-16 | 株式会社日鉱マテリアルズ | 銅張り積層板及び銅張り積層板のレーザーによる穴開け方法 |
US20020182432A1 (en) * | 2000-04-05 | 2002-12-05 | Masaru Sakamoto | Laser hole drilling copper foil |
KR100917101B1 (ko) * | 2000-08-04 | 2009-09-15 | 도요 보세키 가부시키가이샤 | 플렉시블 금속적층체 및 그 제조방법 |
JP3994696B2 (ja) * | 2000-10-02 | 2007-10-24 | 宇部興産株式会社 | 線膨張係数を制御したポリイミドフィルム及び積層体 |
JP4006618B2 (ja) * | 2001-09-26 | 2007-11-14 | 日鉱金属株式会社 | キャリア付銅箔の製法及びキャリア付銅箔を使用したプリント基板 |
JP4298943B2 (ja) * | 2001-10-18 | 2009-07-22 | 日鉱金属株式会社 | 銅箔表面処理剤 |
JP4379854B2 (ja) * | 2001-10-30 | 2009-12-09 | 日鉱金属株式会社 | 表面処理銅箔 |
CN100515167C (zh) * | 2004-02-17 | 2009-07-15 | 日矿金属株式会社 | 具有黑化处理表面或层的铜箔 |
JP2005239747A (ja) * | 2004-02-24 | 2005-09-08 | Kaneka Corp | ポリイミドフィルムおよび積層体の製造方法 |
JP4389627B2 (ja) * | 2004-03-30 | 2009-12-24 | 東レ株式会社 | フレキシブル金属積層板の製造方法 |
KR101183320B1 (ko) * | 2004-05-13 | 2012-09-14 | 가부시키가이샤 가네카 | 접착 필름 및 연성 금속장적층판 및 이들의 제조 방법 |
JP2006015681A (ja) * | 2004-07-05 | 2006-01-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | フレキシブル金属箔ポリイミド積層板及びその製造方法 |
JP2006052389A (ja) * | 2004-07-15 | 2006-02-23 | Kaneka Corp | 接着フィルムおよびフレキシブル金属張積層板並びにそれらの製造方法 |
US20070209547A1 (en) * | 2004-08-10 | 2007-09-13 | Nippon Mining & Metals Co., Ltd. | Barrier Film For Flexible Copper Substrate And Sputtering Target For Forming Barrier Film |
JP2006124685A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-05-18 | Ube Ind Ltd | Cof用ポリイミドフィルムおよび積層体 |
TW200626364A (en) * | 2004-09-29 | 2006-08-01 | Ube Industries | Polyimide film and polyimide composite sheet |
JP4564336B2 (ja) * | 2004-11-04 | 2010-10-20 | 新日鐵化学株式会社 | Cof用銅張積層板及びcof用キャリアテープ |
JP2006222185A (ja) * | 2005-02-09 | 2006-08-24 | Furukawa Circuit Foil Kk | ポリイミド系フレキシブル銅張積層板用銅箔、ポリイミド系フレキシブル銅張積層板、及びポリイミド系フレキシブルプリント配線板 |
US7976687B2 (en) * | 2006-12-28 | 2011-07-12 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Roll unit dipped in surface treatment liquid |
CN101573477B (zh) * | 2006-12-28 | 2011-01-19 | 日矿金属株式会社 | 用于铜箔的表面处理的辊装置 |
KR20120034750A (ko) * | 2007-03-20 | 2012-04-12 | 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 | 무접착제 플렉시블 라미네이트 및 그 제조 방법 |
CN101669237A (zh) * | 2007-04-20 | 2010-03-10 | 日矿金属株式会社 | 锂二次电池用电解铜箔及该铜箔的制造方法 |
US8642893B2 (en) * | 2007-09-28 | 2014-02-04 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Copper foil for printed circuit and copper-clad laminate |
WO2009050970A1 (ja) * | 2007-10-18 | 2009-04-23 | Nippon Mining & Metals Co., Ltd. | 金属被覆ポリイミド複合体、同複合体の製造方法及び同複合体の製造装置 |
US8568899B2 (en) * | 2007-10-18 | 2013-10-29 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Metal covered polyimide composite, process for producing the composite, and process for producing electronic circuit board |
KR101199816B1 (ko) * | 2007-12-27 | 2012-11-12 | 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 | 2 층 동장 적층판의 제조 방법 및 2 층 동장 적층판 |
US8142905B2 (en) * | 2008-06-17 | 2012-03-27 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Copper foil for printed circuit board and copper clad laminate for printed circuit board |
-
2007
- 2007-11-14 KR KR1020097010121A patent/KR20090080978A/ko not_active Application Discontinuation
- 2007-11-14 JP JP2008546939A patent/JP4943450B2/ja active Active
- 2007-11-14 US US12/516,618 patent/US20100040873A1/en not_active Abandoned
- 2007-11-14 CN CN2007800440067A patent/CN101541528B/zh active Active
- 2007-11-14 WO PCT/JP2007/072074 patent/WO2008065890A1/ja active Application Filing
- 2007-11-19 TW TW96143656A patent/TW200833199A/zh unknown
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7240696B1 (ja) | 2022-11-10 | 2023-03-16 | 環緑株式会社 | 育苗用ポット |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200833199A (en) | 2008-08-01 |
CN101541528B (zh) | 2012-12-12 |
TWI375495B (ja) | 2012-10-21 |
KR20090080978A (ko) | 2009-07-27 |
JPWO2008065890A1 (ja) | 2010-03-04 |
CN101541528A (zh) | 2009-09-23 |
WO2008065890A1 (fr) | 2008-06-05 |
US20100040873A1 (en) | 2010-02-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4943450B2 (ja) | 2層銅張積層板 | |
US6274242B1 (en) | Liquid crystal polymer film, laminate, method of making them and multi-layered parts-mounted circuit board | |
JP4691573B2 (ja) | プリント配線板及びそのプリント配線板の製造方法並びにそのプリント配線板の製造に用いる銅張積層板用電解銅箔 | |
JP4704474B2 (ja) | 耐屈曲性に優れた圧延銅箔 | |
JP6119433B2 (ja) | めっき積層体およびその製造方法 | |
JP5235080B2 (ja) | 銅合金箔及びそれを用いたフレキシブルプリント基板 | |
WO2013125076A1 (ja) | 2層銅張積層材及びその製造方法 | |
JP5267379B2 (ja) | 金属被覆ポリイミドフィルムとその製造方法 | |
WO2010116976A1 (ja) | 2層銅張積層板及びその製造方法 | |
JP2014214376A (ja) | 圧延銅箔、フレキシブル銅張積層板及びフレキシブルプリント配線板 | |
JP6793138B2 (ja) | フレキシブルプリント基板用銅箔、それを用いた銅張積層体、フレキシブルプリント基板、及び電子機器 | |
JP5933943B2 (ja) | フレキシブルプリント配線板用圧延銅箔、銅張積層板、フレキシブルプリント配線板及び電子機器 | |
KR101810524B1 (ko) | 초경박 폴리이미드 필름을 적용한 세미 애디티브 연성 구리박막 적층 필름의 제조방법 및 그로부터 제조된 세미 애디티브 연성 구리박막 적층 필름 | |
WO2002016129A1 (fr) | Lamine plaque cuivre | |
JP6442020B1 (ja) | 硬質圧延銅箔及び該硬質圧延銅箔の製造方法 | |
KR20220054767A (ko) | 플렉시블 프린트 기판용 구리박 | |
TWI718025B (zh) | 可撓性印刷基板用銅箔、使用其之覆銅積層體、可撓性印刷基板及電子機器 | |
JP6774457B2 (ja) | フレキシブルプリント基板用銅箔、それを用いた銅張積層体、フレキシブルプリント基板、及び電子機器 | |
JP6647253B2 (ja) | フレキシブルプリント基板用銅箔、それを用いた銅張積層体、フレキシブルプリント基板、及び電子機器 | |
KR20110045953A (ko) | 인쇄회로기판용 연성 동박 적층 필름 및 그 제조방법 | |
JP6671050B2 (ja) | 離型フィルム付銅箔 | |
JP2005313380A (ja) | 銅張積層板及びその製造方法 | |
JPH0456754A (ja) | 耐屈曲用無酸素銅圧延箔と、これを用いたフレキシブルプリント基板及びtab用テープキャリア | |
JP2012038890A (ja) | フレキシブル銅張積層板用銅箔、フレキシブル銅張積層板、フレキシブル銅張積層板の製造方法、フレキシブルプリント配線板、フレキシブルプリント配線板の製造方法及び電子機器 | |
JP2006324474A (ja) | 金属被覆ポリイミド基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20100820 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111213 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120201 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120228 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120229 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4943450 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150309 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |