JP4933723B2 - 合金形態の半導体結晶、その製造方法及び有機電界発光素子 - Google Patents

合金形態の半導体結晶、その製造方法及び有機電界発光素子 Download PDF

Info

Publication number
JP4933723B2
JP4933723B2 JP2004206818A JP2004206818A JP4933723B2 JP 4933723 B2 JP4933723 B2 JP 4933723B2 JP 2004206818 A JP2004206818 A JP 2004206818A JP 2004206818 A JP2004206818 A JP 2004206818A JP 4933723 B2 JP4933723 B2 JP 4933723B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
crystal
solvent
precursor solution
metal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2004206818A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005048171A (ja
Inventor
銀 珠 張
泰 瓊 安
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Electronics Co Ltd
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electronics Co Ltd filed Critical Samsung Electronics Co Ltd
Publication of JP2005048171A publication Critical patent/JP2005048171A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4933723B2 publication Critical patent/JP4933723B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/08Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
    • C09K11/88Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing selenium, tellurium or unspecified chalcogen elements
    • C09K11/881Chalcogenides
    • C09K11/883Chalcogenides with zinc or cadmium
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y20/00Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B17/00Sulfur; Compounds thereof
    • C01B17/20Methods for preparing sulfides or polysulfides, in general
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B19/00Selenium; Tellurium; Compounds thereof
    • C01B19/007Tellurides or selenides of metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B7/00Single-crystal growth from solutions using solvents which are liquid at normal temperature, e.g. aqueous solutions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B7/00Single-crystal growth from solutions using solvents which are liquid at normal temperature, e.g. aqueous solutions
    • C30B7/005Epitaxial layer growth
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104Forming layers
    • H01L21/02365Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02518Deposited layers
    • H01L21/02521Materials
    • H01L21/02551Group 12/16 materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104Forming layers
    • H01L21/02365Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02518Deposited layers
    • H01L21/02521Materials
    • H01L21/02551Group 12/16 materials
    • H01L21/02557Sulfides
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104Forming layers
    • H01L21/02365Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02518Deposited layers
    • H01L21/02521Materials
    • H01L21/02551Group 12/16 materials
    • H01L21/0256Selenides
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104Forming layers
    • H01L21/02365Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02518Deposited layers
    • H01L21/02587Structure
    • H01L21/0259Microstructure
    • H01L21/02601Nanoparticles
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104Forming layers
    • H01L21/02365Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02612Formation types
    • H01L21/02617Deposition types
    • H01L21/02623Liquid deposition
    • H01L21/02628Liquid deposition using solutions
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/02Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/06Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
    • H01L29/0657Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by the shape of the body
    • H01L29/0665Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by the shape of the body the shape of the body defining a nanostructure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/02Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/06Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
    • H01L29/0657Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by the shape of the body
    • H01L29/0665Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by the shape of the body the shape of the body defining a nanostructure
    • H01L29/0669Nanowires or nanotubes
    • H01L29/0673Nanowires or nanotubes oriented parallel to a substrate
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/12Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H05B33/14Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of the electroluminescent material, or by the simultaneous addition of the electroluminescent material in or onto the light source
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/10OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
    • H10K50/11OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/70Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
    • C01P2002/72Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data by d-values or two theta-values, e.g. as X-ray diagram
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/80Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70
    • C01P2002/84Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70 by UV- or VIS- data
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/80Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70
    • C01P2002/85Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70 by XPS, EDX or EDAX data
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/01Particle morphology depicted by an image
    • C01P2004/04Particle morphology depicted by an image obtained by TEM, STEM, STM or AFM
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/51Particles with a specific particle size distribution
    • C01P2004/52Particles with a specific particle size distribution highly monodisperse size distribution
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K30/00Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
    • H10K30/10Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising heterojunctions between organic semiconductors and inorganic semiconductors
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/30Coordination compounds
    • H10K85/321Metal complexes comprising a group IIIA element, e.g. Tris (8-hydroxyquinoline) gallium [Gaq3]
    • H10K85/324Metal complexes comprising a group IIIA element, e.g. Tris (8-hydroxyquinoline) gallium [Gaq3] comprising aluminium, e.g. Alq3
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/60Organic compounds having low molecular weight
    • H10K85/631Amine compounds having at least two aryl rest on at least one amine-nitrogen atom, e.g. triphenylamine
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/70Nanostructure
    • Y10S977/773Nanoparticle, i.e. structure having three dimensions of 100 nm or less
    • Y10S977/775Nanosized powder or flake, e.g. nanosized catalyst
    • Y10S977/777Metallic powder or flake
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/70Nanostructure
    • Y10S977/778Nanostructure within specified host or matrix material, e.g. nanocomposite films
    • Y10S977/784Electrically conducting, semi-conducting, or semi-insulating host material
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/70Nanostructure
    • Y10S977/778Nanostructure within specified host or matrix material, e.g. nanocomposite films
    • Y10S977/785Electrically insulating host material
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/70Nanostructure
    • Y10S977/813Of specified inorganic semiconductor composition, e.g. periodic table group IV-VI compositions
    • Y10S977/824Group II-VI nonoxide compounds, e.g. CdxMnyTe
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/70Nanostructure
    • Y10S977/813Of specified inorganic semiconductor composition, e.g. periodic table group IV-VI compositions
    • Y10S977/825Heterojunction formed between semiconductor materials that differ in that they belong to different periodic table groups
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12014All metal or with adjacent metals having metal particles
    • Y10T428/12028Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12014All metal or with adjacent metals having metal particles
    • Y10T428/12028Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, etc.]
    • Y10T428/12049Nonmetal component
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12181Composite powder [e.g., coated, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/29Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
    • Y10T428/2982Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/29Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
    • Y10T428/2982Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
    • Y10T428/2991Coated

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Biophysics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

本発明は合金形態の半導体ナノ結晶及びその製造方法に係り、さらに詳細には可視光領域において高い効率で発光する12族−16族の化合物半導体の合金形態のナノ結晶、その半導体ナノ結晶を湿式合成法によって製造する方法及び有機電界発光素子に関する。
化合物半導体物質をナノメートルサイズの結晶に製造すると、その物質のバルク励起子のボーア半径より小さな領域で量子閉じ込め効果を現し、このような量子閉じ込め効果によって、半導体物質の特性として現れたバンドギャップエネルギーが変化する。可視光領域で発光する化合物半導体物質をナノ結晶として製造する場合に、ナノ結晶が特定のサイズ以下となると、バンドギャップエネルギーが変化し始めてエネルギーが次第に増加し、発光領域が青色領域に移動するブルーシフトが観察される。このような量子点物質の特性を利用して、物質自体の特性、構造、形態、サイズを調節し、当該バンドギャップを調節して多様なエネルギー準位を作り出せる。
量子点成長制御技術は、新概念の未来半導体素子の開発技術のうち最も重要な技術として注目されている。特に、従来の気相蒸着方法であるMOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition;有機金属気相成長法)、MBE(Molecular Beam Epitaxy;分子線エピタキシ法)などは、半導体薄膜を単一原子層レベルで制御でき、量子点を成長させかつ制御できる優れた技術といえる。しかし、気相法を用いて主に格子不整合によって形成された量子点は、量子点自体の結晶性は良いものの、気相法にはサイズ、均一度、密度などを調節するのに致命的な欠陥があるため、これまでこの技術では商用化できる素子を製造することが困難であった。
気相法によって薄膜上で量子点を成長させる技術の短所と限界とを克服するために、化学的な湿式法で量子点を合成しようとする試みがあった。このような化学的湿式合成法では、配位可能な有機溶媒中において、量子点結晶の前駆体物質を塗布して量子点結晶を成長させる。そして、有機溶媒が自然に量子点結晶の表面に配位されて分散剤の役割を果たし、ナノメートルサイズの量子点を調節することができる。
特許文献1には、12、16族化合物半導体量子点を合成する方法が開示されている。このような合成方法によれば、12族の前駆体である12族金属(Zn,Cd,Hg)を含む物質を第一分散剤溶液に溶解させ、16族前駆体である16族元素(S,Se,Te)を含む物質を第2分散剤溶液に溶解させる。そして、前記2つの前駆体を溶解させることができる溶媒を前記2つの分散剤の混合液に添加した後、12、16族化合物半導体結晶の成長を促進させる温度を維持して、化合物半導体結晶のサイズが所望の大きさに達したら結晶を分離する。
しかし、特に、この反応系では、使用できる溶媒がトリオクチルホスホン酸(Tri−Octyl Phosphonic acid、以下、TOPOという)に限定される。現在市販されているTOPOは、約90%純度のテクニカルグレードのみであり、不純物が多く含まれた溶媒では、再現性良く均一なサイズの量子構造を製造することが困難であると報告されている。また、純度90%のTOPOに含まれる不純物は、調節できない反応変数となって反応に決定的な影響を及ぼし、望ましくない結果を生むと報告されている。このような問題を解決するために、TOPOを約99%の純度まで精製して使用すると、TOPOの結合特性が変化して所望の結晶に成長させられない。特許文献2には、前述した12、16族化合物半導体の量子点の合成方法と同じ工程を3族、5族化合物半導体の量子点の合成に適用したものが開示されている。
特許文献3には、発光効率が向上したコア・シェル構造を有する量子点物質が、特許文献4には、コア・シェル構造を有する量子点物質を製造する方法が記載されている。このように形成されたコア・シェル構造の化合物半導体の量子点は、発光効率が30%〜50%まで向上すると報告された。
米国特許第6,225,198号明細書 米国特許第6,306,736号明細書 米国特許第6,322,901号明細書 米国特許第6,207,229号明細書
本発明が解決しようとする技術的課題は、サイズと形態とが均一であり、量子効率が高く、安定的な合金形態の12族、16族化合物半導体ナノ結晶を提供することである。
本発明が解決しようとする他の技術的課題は、前記合金形態の12族、16族化合物半導体ナノ結晶を化学的湿式法によって単純でかつ再現性良く製造できる方法を提供することである。
本発明が解決しようとするさらに他の技術的課題は、前記半導体ナノ結晶を採用して発光特性に優れる有機電界発光素子を提供することである。
前記課題及び他の課題を達成するために本発明では、(a)1種以上の12族金属前駆体を分散剤及び溶媒と混合し、これを加熱して12族金属前駆体溶液を得る段階と、(b)1種以上の16族元素前駆体をこれと配位可能な溶媒に溶解して16族元素前駆体溶液を得る段階と、(c)前記1種以上の12族金属前駆体溶液と1種以上の16族元素前駆体溶液とを混合して反応させた後、結晶を成長させる段階と、を含み、前記(a)12族金属前駆体溶液を得る段階において1種の12族金属前駆体を分散剤及び溶媒と混合した場合には、前記(b)段階で少なくとも2種以上の16族元素前駆体をこれと配位可能な溶媒に溶解して少なくとも2種以上の16族元素前駆体溶液を得て、前記(a)12族金属前駆体溶液を得る段階において2種の12族金属前駆体を分散剤及び溶媒と混合した場合には、前記(b)段階で少なくとも1種以上の16族元素前駆体をこれと配位可能な溶媒に溶解して少なくとも1種以上の16族元素前駆体溶液を得て、前記(c)段階において、成長させた前記結晶は1種以上の12族金属と、1種以上の16族元素とより構成される3成分系以上の合金形態を有し、前記結晶のサイズ分布を表す光励起発光スペクトルの半値幅が50nm以下、かつ、発光効率が30%以上であり、前記12族金属前駆体は、酸化カドミウム、酢酸カドミウム、アセチルアセトン酸亜鉛、またはその混合物であり、前記分散剤は、オレイン酸であり、前記12族金属前駆体と前記分散剤の混合比は1:0.1から1:100モル比であり、前記溶媒は、トリオクチルアミン、またはトリオクチルホスフィンであり、前記12族金属前駆体溶液の濃度は0.001Mないし2Mであり、前記16族元素前駆体は、硫黄粉末、またはセレン粉末であり、前記16族元素前駆体溶液の濃度は0.001Mないし2Mであり、前記16族元素前駆体溶液と溶媒との混合比は0.1:1ないし1:100モル比である、ことを特徴とする半導体結晶の製造方法を提供する。
また、本発明における、前記半導体ナノ結晶の製造方法によって製造され、1種以上の12族金属と、1種以上の16族元素とより構成される3成分系以上の合金形態の量子構造を有する半導体ナノ結晶の例として、ZnSSe、CdSSe、ZnCdS、ZnCdSe、またはZnCdSSeが挙げられる。
さらに、本発明の有機電界発光素子は、一対の電極間に有機膜を含む有機電界発光素子において、前記有機膜が前述した合金形態の半導体ナノ結晶を含むことを特徴とする。
本発明によれば、化学的湿式合成法によって、サイズと形態とが均一であり、量子効率が高く、安定的な合金形態の12、16族化合物半導体ナノ結晶を製造できる。また、1種以上の12族金属あるいは12族金属前駆体、または、1種以上の16族元素あるいは16族元素前駆体を混合して反応させることによって、単純な1回の工程でも所望の特性を有する量子構造の多元系半導体ナノ結晶を合成でき、これにより、バンドギャップを調節して発光効率を向上させることができる。このように合成された半導体ナノ結晶は、発光領域が300nmないし1300nmの範囲において発光効率に優れる。
本発明は、1種以上の12族金属または12族金属前駆体を分散剤及び反応溶媒と混合し、これを所定温度範囲で加熱して均一な溶液を作り、また、1種以上の16族元素またはその前駆体をそれと配位結合力が適当な溶媒に溶解させて、この溶液を所定温度に維持されている12族金属が含まれた反応溶媒内に注入して半導体結晶を成長させる方法を提供する。このように簡単な製造工程で、サイズ分布が非常に狭く(半値幅(FWHM;Full Width at Half Maximum)<30nm)、発光効率が高く(>50%)、再現性が非常に良い12、16族化合物半導体の量子構造を合成でき、特に、3成分系以上の結晶性が極めて良く、別途の選択的な分離過程を経ずとも均一なサイズを有する化合物半導体量子点を製造できる。
3成分系以上の化合物半導体は、1種以上の12族金属またはその前駆体を反応溶媒と分散剤とに溶解させて12族金属前駆体溶液を得て、ここに2種以上の16族元素またはその前駆体を溶媒に溶解してそれぞれ得た16族元素前駆体溶液を同時に注入するか、または順次に注入する方法によって製造できる。この時に生成される化合物半導体のナノ結晶構造は、他の種類の元素を使用する時、元素の種類による反応速度の差や、混合される比率によって特定の構造を有し、使われる物質によってバンドギャップ及び発光効率などを調節できる特徴がある。
以下、本発明による半導体ナノ結晶の製造方法をさらに詳細に説明する。
まず、1種以上の12族金属または1種以上の12族金属前駆体を分散剤及び溶媒と混合し、これを所定温度範囲となるように加熱して12族金属前駆体溶液を得る。
前記12族金属は、Zn、Cd、Hgまたはその混合物である。また、前記12族金属の前駆体は、空気中で比較的安定し、かつ、前駆体注入過程で有毒なガスを発生させない物質であり、例えば、12族金属の酸化物、12族金属のハロゲン化合物、12族金属の有機錯体などである。その具体的な例としては、酢酸亜鉛、アセチルアセトン酸(acetylacetonate)亜鉛、ヨウ化亜鉛、臭化亜鉛、塩化亜鉛、フッ化亜鉛、炭酸亜鉛、シアン化亜鉛、硝酸亜鉛、酸化亜鉛、過酸化亜鉛、過塩素酸亜鉛、硫酸亜鉛、酢酸カドミウム、アセチルアセトン酸カドミウム、ヨウ化カドミウム、臭化カドミウム、塩化カドミウム、フッ化カドミウム、炭酸カドミウム、硝酸カドミウム、酸化カドミウム、過塩素酸カドミウム、リン化カドミウム、硫酸カドミウム、酢酸水銀、ヨウ化水銀、臭化水銀、塩化水銀、フッ化水銀、シアン化水銀、硝酸水銀、酸化水銀、過塩素酸水銀、硫酸水銀またはその混合物が挙げられる。
前記分散剤としては、12族金属またはその前駆体と反応して12族金属と錯体を形成できる物質を使用する。ここで、分散剤はその種類と濃度とによって分散剤の配位能力と特定結晶面の成長速度とが制御されるため、最終的に得られる半導体ナノ結晶のサイズ及び形態に非常に重要な影響を及ぼす因子の一つである。
前記分散剤の具体的な例としては、弱酸性の有機物であって、末端にCOOH基を有する炭素数2ないし18のアルキルカルボン酸、末端にPO3H基を有する炭素数2ないし18のアルケニルカルボン酸、末端にSO3H基を有する炭素数2ないし18のアルキルスルホン酸、炭素数2ないし18のアルケニルスルホン酸などを挙げられる。また、前記分散剤は弱塩基性の有機物であってもよく、末端にNH2基を有する炭素数2ないし18のアルキルアミンまたは末端にNH2基を有する炭素数2ないし18のアルケニルアミンを使用する。このような分散剤の具体的な例として、オレイン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、へキシルホスホン酸(hexyl phophonic acid)、n−オクチルホスホン酸(n−octyl phosphonic acid)、テトラデシルホスホン酸(tetradecyl phosphonic acid)、オクタデシルホスホン酸(octadecyl phosphonic acid)、n−オクチルアミン、へキシルデシルアミンを挙げられる。
前記12族金属または12族金属前駆体と分散剤との比率は1:0.1から1:100モル比であることが望ましく、さらに望ましくは1:1ないし1:20モル比、さらに望ましくは1:2ないし1:8モル比である。もし、分散剤の含量が前記範囲未満であれば、金属または金属前駆体を安定化させられず、前記範囲を超えれば、反応速度の調節が難しく、ナノ結晶のサイズ分布が大きくなる。
前記溶媒としては、不純物が少なく、常温では液状で存在し、配位能力が適当であるものを使用する。このような溶媒としては、炭素数6ないし22個の第1級アルキルアミン、炭素数6ないし22個の第2級アルキルアミン、炭素数6ないし22個の第3級アルキルアミン、炭素数6ないし22個の含窒素ヘテロ環化合物(nitrogen−containing hetero ring compound)、炭素数6ないし22個の含硫黄ヘテロ環化合物(sulfur−containing hetero ring compound)、炭素数6ないし22個のアルカン、炭素数6ないし22個のアルケン、炭素数6ないし22個のアルキンなどを使用する。
前記第1級アルキルアミンの具体的な例としては、ドデシルアミン、ヘキサデシルアミン、ジメチルドデシルアミンなどがあり、前記第2級アルキルアミンの具体的な例としてはジオクチルアミンがあり、前記第3級アルキルアミンの例としてはトリオクチルアミンがある。そして、前記含窒素ヘテロ環化合物の例としてはイソプロピル−2,3−ジフェニルアジリジンがあり、前記含硫黄ヘテロ環化合物の例としてはジメチルスルホランがあり、前記アルカンの例としてはオクタデカンがあり、前記アルケンの例としてはオクタデセンがあり、前記アルキンの例としてはドデシンがある。
前記溶媒は、適切な配位能力と結晶核の分散能力とを有するとともに、高温の反応温度でも安定的に存在しなければならないので、所定の長さ以上の炭素−炭素結合を有することがさらに望ましく、6−18個程度の炭素数を有することが望ましい。また、この溶媒は、化合物半導体を構成する物質の前駆体を溶解させられなければならない。
前記12族金属または12族金属前駆体と溶媒との混合比は0.1:1ないし1:100であり、望ましくは0.5:1ないし1:40であり、さらに望ましくは1:1ないし1:20である。
前記12族金属前駆体溶液の濃度は0.001ないし2Mであり、望ましくは0.005ないし0.5Mであり、さらに望ましくは0.01ないし0.1Mである。
次いで、1種以上の16族元素または1種以上の16族元素前駆体をそれと配位されうる溶媒に溶解して16族元素前駆体溶液を得る。
前記16族元素としては、硫黄(S)、セレン(Se)、テルル(Te)またはその混合物を使用し、16族元素前駆体としては硫黄粉末、セレン粉末、テルル粉末またはトリメチルシリル硫黄(S(TMS(TriMethylSilyl)))、トリメチルシリルセレン(Se(TMS))、トリメチルシリルテルル(Te(TMS))を使用する。
前記溶媒としては、前述した12族金属前駆体溶液の製造時に使用した溶媒のうち16族元素に配位されるものを使用すれば良い。前記した溶媒のうちアルカン、アルケン、アルキンは、16族元素に配位される能力がほとんどなく、アルキルアミン、アルキルホスホン酸(alkyl phosphonic acid)、含窒素ヘテロ環、含硫黄ヘテロ環は16族元素に弱く配位される。
前記16族元素または16族元素前駆体と溶媒との混合比は0.1:1ないし1:100であり、望ましくは0.5:1ないし1:40であり、さらに望ましくは1:1ないし1:20である。
前記16族元素前駆体溶液の濃度は0.001ないし2Mであり、望ましくは0.01ないし0.5Mである。前記16族元素前駆体溶液の濃度が0.01M未満の場合、ナノ結晶を反応溶液から分離するのが困難であるので望ましくなく、逆に、0.5Mを超えた場合には、結晶のサイズの分布が広くなって望ましくない。
前記過程によって12族金属前駆体溶液に16族元素前駆体溶液を注入して反応させた後、結晶を成長させて12族−16族化合物半導体ナノ結晶を得られる。
16族元素前駆体溶液が2種以上の16族元素前駆体を含む場合、16族元素前駆体溶液の添加方法として下記の2つの方法を挙げることができる。
第一の方法は、2種以上の16族元素またはその前駆体を含有する2以上の前駆体溶液をそれぞれ製造し、複数の16族元素前駆体溶液を12族金属前駆体溶液に同時に添加する方法である。
第二の方法は、2種以上の16族元素前駆体を含有する2以上の前駆体溶液をそれぞれ製造し、これらを12族金属前駆体溶液に順次に添加する方法である。
前記第一の方法によれば、ナノ結晶の中心部分と外側部の構造がほとんど同じ状態の合金形態である1種以上の12族金属と2種以上の16族元素とより構成される3成分系以上の多元系半導体ナノ結晶が得られる。このような化合物半導体ナノ結晶の具体的な例として、ZnSSe、ZnSeTe、ZnSTe、CdSSe、CdSeTe、CdSTe、HgSSe、HgSeTe、HgSTe、ZnCdS、ZnCdSe、ZnCdTe、ZnHgS、ZnHgSe、ZnHgTe、CdHgS、CdHgSe、CdHgTe、ZnCdSSe、ZnHgSSe、ZnCdSeTe、ZnHgSeTe、CdHgSSe、CdHgSeTeなどがある。
前記第二の方法によれば、最初に添加される16族元素と溶媒内に存在していた12族金属との化合物が中心部を構成し、順次に添加される16族元素と溶媒内にある12族金属との化合物が外側部を構成する分離された形態のナノ結晶であって、CdSe/CdS、CdTe/CdS、CdS/CdSe、CdS/CdTe、ZnSe/ZnS、ZnTe/ZnS、ZnS/ZnSe、ZnS/ZnTe、ZnSe/ZnSなどのような半導体ナノ結晶を得られる。
前記加熱温度は100℃ないし400℃、望ましくは200℃ないし350℃、さらに望ましくは300℃ないし350℃である。この時、加熱温度が100℃未満であれば結晶の成長が難しく、400℃を超えれば安定的な溶媒が検索し難く、結晶の成長速度が調節し難くて望ましくない。
前記12族金属前駆体溶液と16族元素前駆体溶液との反応によって得られた結晶を成長させる時間は1秒ないし10時間である。望ましくは10秒ないし5時間であり、さらに望ましくは30秒ないし2時間である。もし、結晶成長時間が前記範囲を超えれば、反応速度が調節し難くなって望ましくない。
もし、12族金属前駆体溶液が1種以上の12族金属またはその前駆体を含んでいる場合、16族元素前駆体溶液と混合する時、次の2つの方法が何れも可能である。
第一の方法は、前記1種以上の12族金属前駆体を含有する前駆体溶液をそれぞれ製造し、この前駆体溶液を16族元素前駆体溶液と順次に混合する。
第二の方法は、1種以上の12族金属前駆体を含有する前駆体溶液をそれぞれ製造し、この前駆体溶液を16族元素前駆体溶液に同時に添加する。
前述した製造方法によって得られた半導体ナノ結晶の量子構造は、特別には制限されず、球型、棒型、三脚型、四脚型、立方体型、ボックス型またはスター型でありうる。
本発明の製造方法によって得た3成分系以上の化合物半導体ナノ結晶は、その発光領域が300nmないし1300nmである。そして、このような化合物半導体の量子構造の発光効率が30%以上であり、望ましくは50%以上である。
前記3成分系以上の化合物半導体は、量子構造のサイズ分布を表す光励起発光スペクトルのFWHMが50nm以下であり、望ましくは30nm以下であって、均一なサイズ分布を有するナノ粒子である。
一方、前述した1種以上の12族金属と1種以上の16族元素とより構成される3成分系またはそれ以上の合金形態の多元系半導体ナノ結晶は、ディスプレイ、センサー、エネルギー分野のような分野に多様に応用され、特に有機電界発光素子の有機膜、特に発光層の形成時に有用である。このような半導体ナノ結晶を発光層に導入しようとする場合には、真空蒸着法、スパッタリング法、プリンティング法、コーティング法、インクジェット方法、電子ビームを利用した方法などを利用できる。ここで、有機膜の厚さは50ないし100nmであることが望ましい。ここで、前記有機膜とは、発光層以外に電子輸送層、正孔輸送層のように、有機電界発光素子で一対の電極間に形成される有機化合物よりなる膜を指称する。
このような有機電界発光素子は、通常的に知られた陽極/発光層/陰極、陽極/バッファ層/発光層/陰極、陽極/正孔輸送層/発光層/陰極、陽極/バッファ層/正孔輸送層/発光層/陰極、陽極/バッファ層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極、陽極/バッファ層/正孔輸送層/発光層/ホールブロッキング層/陰極などの構造に形成されうるが、これに限定されない。
この時、前記バッファ層の素材としては、バッファ層の素材として一般的に使用される物質を使用でき、望ましくはCuフタロシアニン、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリフェニレンビニレン、またはこれらの誘導体を使用できるが、これに限定されない。
前記正孔輸送層の素材としては、正孔輸送層の素材として一般的に使用される物質を使用でき、望ましくはポリトリフェニルアミンを使用できるが、これに限定されない。
前記電子輸送層の素材としては、電子輸送層の素材として一般的に使用される物質を使用でき、望ましくはポリオキサジアゾールを使用できるが、これに限定されない。
前記ホールブロッキング層の素材としては、ホールブロッキング層の素材として一般的に使用される物質を使用でき、望ましくはLiF、BaF2またはMgF2などを使用できるが、これに限定されない。
本発明の有機電界発光素子の製作は、特別な装置や方法を用いることなく、通常の発光材料を利用した有機電界発光素子の製作方法によって製作することができる。
以下、本発明を下記実施例をさらに詳細に説明するものの、本発明が下記実施例のみに限定されるものではない。
[CdSeSナノ結晶の合成]
トリオクチルアミン(Trioctylamine、以下、TOA)16gと、オレイン酸0.5gと、酸化カドミウム0.4mmolとを同時に、還流コンデンサー(還流冷却器)が設置されている100mlのフラスコに入れ、これを攪拌しながら反応温度を300℃に調節してカドミウム前駆体溶液を形成した。
これと別途にSe粉末を、トリオクチルホスフィン(Trioctylphosphine、以下、TOP)に溶かして、Se濃度が約0.1MのSe−TOP錯体溶液を作り、S粉末をTOPに溶かしてS濃度が約4MのS−TOP錯体溶液を準備した。
前記カドミウム前駆体溶液にS−TOP錯体溶液0.5mlとSe−TOP錯体溶液0.5mlとの混合物を迅速に注入して4分ほどさらに攪拌した。
前記反応混合物の反応が終了した後に、反応混合物の温度を可能な限り速く常温に下げ、非溶媒としてエタノールを添加して遠心分離を実施した。遠心分離されて沈殿が除去された溶液をデカントして捨て、沈殿をトルエンに分散させた後、光励起発光スペクトル(PL(PhotoLuminescence)スペクトル)を測定した。
前記PLスペクトルの測定結果から、発光波長は約580nmと示され、FWHMは約30nmと示された。
図1は、前記方法によって得られたCdSeSナノ結晶の高解像度の透過型電子顕微鏡(TEM;Transmission Electron Microscope)の写真を示したものである。これを参照すれば、ナノ結晶が均一な形態及びサイズに成長していることが分かる。
図2は、前記方法によって得られたCdSeSナノ結晶のSTEM(Scanning TEM;走査透過型電子顕微鏡)/EDS(Energy Dispersive Spectrometer;エネルギー分散型X線分光)イメージ(スケールバー=50nm)を示したものである。これを参照すれば、ナノ結晶の組成及びサイズ分布が均一であることが分かる。
図3は、前記方法によって得られたCdSeSナノ結晶のX線回折スペクトルを示したものである。これを参照すれば、CdSeまたはCdSの結晶による回折パターンが得られたことが分かる。
図4は、前記方法によって得られたCdSeSナノ結晶の紫外線分光器の吸収スペクトルを示したものである。これを参照すれば、特定のエネルギーによって励起される均一なナノ結晶が生成されていることが分かる。
[ZnCdSeナノ結晶の合成]
TOA16gとオレイン酸0.5g、アセチルアセトン酸亜鉛0.2mmolと酸化カドミウム0.2mmolを同時に還流コンデンサーが設置された100mlのフラスコに入れ、これを攪拌しながら反応温度を300℃に調節して亜鉛とカドミウムとの前駆体溶液を作った。
これと別途に、Se粉末をTOPに溶かしてSe濃度が約0.25MであるSe−TOP錯体溶液を作った。このSe−TOP溶液1mlを、前述した亜鉛とカドミウムとの前駆体溶液に迅速に注入して攪拌し、約2分間維持した。
反応混合物の反応が終了した後に、反応混合物の温度を可能な限り速く常温に下げ、非溶媒のエタノールを添加して遠心分離を実施した。遠心分離されて沈殿が除去された溶液はデカントして捨て、沈殿をトルエンに分散させた後、PLスペクトルを測定した。
PLスペクトルの測定結果から、発光波長は約456nmと示され、FWHMは約26nmと示された。
[CdSe/CdSナノ結晶の合成]
TOA16gとオレイン酸0.5g、酢酸カドミウム0.4mmolを同時に還流コンデンサーが設置された100mlのフラスコに入れ、これを攪拌しながら反応温度を300℃に調節してカドミウム前駆体溶液を作った。
これと別途に、Se粉末をTOPに溶かしてSe濃度が約0.25MであるSe−TOP錯体溶液を作った。このSe−TOP錯体溶液1mlを、前述したカドミウム前駆体溶液に迅速に注入して攪拌し、約4分間維持した。
S粉末はTOPに溶かしてS濃度が約2MであるS−TOP錯体溶液を準備し、S−TOP錯体溶液1mlを前記過程によって反応混合物に滴下した後に攪拌した。
前記反応混合物の反応が終了した後に、反応混合物の反応温度を可能な限り速く常温に下げ、非溶媒としてエタノールを添加して遠心分離を実施した。遠心分離されて沈殿が除去された溶液をデカントして捨て、沈殿をトルエンに分散させた後、PLスペクトルを測定した。
前記PLスペクトルの測定結果から、発光波長は約520nmと示され、FWHMは約30nmと示された。
図5は、本発明の実施例1、2、3によって得られたCdSeSナノ結晶、ZnCdSeナノ結晶、及びCdSe/CdSナノ結晶のPLスペクトルを表したものである。これを参照すれば、結晶のエネルギー準位及びサイズ分布が分かり、発光効率も把握できる。
[CdSeSナノ結晶を利用したOLEDの製作]
この実施例は、前記実施例1で得たCdSeSナノ結晶をEL(Electroluminescence;電界発光)素子の発光素材として採用した有機EL素子の製作を示すものである。
パターニングされているITO基板の上部にCdSeSナノ結晶と、1wt%のTPD(N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン)のクロロホルム溶液を1:1重量比で混合したものをスピンコーティングした後、これを乾燥して厚さ40nmの発光層を形成した。
前記発光層の上部にAlq3(トリス−(8ヒドロキシキノリン)アルミニウム)を蒸着して、厚さ40nmほどの電子輸送層を形成し、この上部にMgとAgとを10:1の元素比率で厚さ75nmに同時に蒸着して陰極を形成して、有機EL素子を完成した。
前記有機EL素子において、ELスペクトルを照射した結果、発光波長は約580nm、FWHMは約40nmであり、輝度は15cd/m2、装置の効率は約0.5%であることが分かった。図6には、本実施例4によって製作された有機EL素子のELスペクトルが示されている。
本発明の半導体ナノ結晶は、ディスプレイ、センサー、エネルギー分野のような分野に多様に応用され、特に、有機電界発光素子の有機膜、特に発光層の形成時に有用に適用されうる。
本発明の実施例1によって得られたCdSeSナノ結晶の高解像度のTEM写真(スケールバー=5nm)を表す。 本発明の実施例1によって得られたCdSeSナノ結晶のSTEM/EDS写真(スケールバー=50nm)を表す。 本発明の実施例1によって得られたCdSeSナノ結晶のX線回折スペクトルを表す。 本発明の実施例1によって得られたCdSeSナノ結晶の紫外線分光吸収スペクトルである。 本発明の実施例1、2、3によって得られたCdSeSナノ結晶、ZnCdSeナノ結晶、CdSe/CdSナノ結晶の光励起発光スペクトルを表す図面である。 本発明の実施例4によって製作された有機EL素子のELスペクトルを表す図面である。

Claims (11)

  1. (a)1種以上の12族金属前駆体を分散剤及び溶媒と混合し、これを加熱して12族金属前駆体溶液を得る段階と、
    (b)1種以上の16族元素前駆体をこれと配位可能な溶媒に溶解して16族元素前駆体溶液を得る段階と、
    (c)前記1種以上の12族金属前駆体溶液と1種以上の16族元素前駆体溶液とを混合して反応させた後、結晶を成長させる段階と、を含み、
    前記(a)12族金属前駆体溶液を得る段階において1種の12族金属前駆体を分散剤及び溶媒と混合した場合には、前記(b)段階で少なくとも2種以上の16族元素前駆体をこれと配位可能な溶媒に溶解して少なくとも2種以上の16族元素前駆体溶液を得て、
    前記(a)12族金属前駆体溶液を得る段階において2種の12族金属前駆体を分散剤及び溶媒と混合した場合には、前記(b)段階で少なくとも1種以上の16族元素前駆体をこれと配位可能な溶媒に溶解して少なくとも1種以上の16族元素前駆体溶液を得て、
    前記(c)段階において、成長させた前記結晶は1種以上の12族金属と、1種以上の16族元素とより構成される3成分系以上の合金形態を有し、前記結晶のサイズ分布を表す光励起発光スペクトルの半値幅が50nm以下、かつ、発光効率が30%以上であり、
    前記12族金属前駆体は、酸化カドミウム、酢酸カドミウム、アセチルアセトン酸亜鉛、またはその混合物であり、
    前記分散剤は、オレイン酸であり、
    前記12族金属前駆体と前記分散剤の混合比は1:0.1から1:100モル比であり、
    前記溶媒は、トリオクチルアミン、またはトリオクチルホスフィンであり、
    前記12族金属前駆体溶液の濃度は0.001Mないし2Mであり、
    前記16族元素前駆体は、硫黄粉末、またはセレン粉末であり、
    前記16族元素前駆体溶液の濃度は0.001Mないし2Mであり、
    前記16族元素前駆体溶液と溶媒との混合比は0.1:1ないし1:100モル比である、
    ことを特徴とする半導体結晶の製造方法。
  2. 前記(b)段階の前駆体として2種以上の16族元素前駆体を使用する場合、
    前記(c)段階において、前記12族金属前駆体溶液に前記2種以上の16族元素前駆体溶液を同時に添加するか、または順次に添加することを特徴とする請求項1に記載の半導体結晶の製造方法。
  3. 前記(a)段階において、加熱が100ないし400℃で実施されることを特徴とする請求項1に記載の半導体結晶の製造方法。
  4. 前記(c)段階において、反応温度を50℃ないし400℃で反応させることを特徴とする請求項1に記載の半導体結晶の製造方法。
  5. 前記結晶成長させる時間が1秒ないし10時間であることを特徴とする請求項1に記載の半導体結晶の製造方法。
  6. 請求項1に記載の半導体結晶の製造方法によって製造され、1種以上の12族金属と、1種以上の16族元素とより構成される3成分系以上の合金形態の半体結晶。
  7. ZnSSe、CdSSe、ZnCdS、ZnCdSe、またはZnCdSSeであることを特徴とする請求項に記載の半導体結晶。
  8. 前記半導体結晶が球型、棒型、または立方体型であることを特徴とする請求項に記載の半導体結晶。
  9. 一対の電極間に有機膜を含む有機電界発光素子において、
    前記有機膜が請求項に記載の半導体結晶を含むことを特徴とする有機電界発光素子。
  10. 前記半導体結晶がZnSSe、CdSSe、ZnCdS、ZnCdSe、またはZnCdSSeであることを特徴とする請求項に記載の有機電界発光素子。
  11. 前記半導体結晶が球型、棒型、または立方体型であることを特徴とする請求項に記載の有機電界発光素子。
JP2004206818A 2003-07-19 2004-07-14 合金形態の半導体結晶、その製造方法及び有機電界発光素子 Active JP4933723B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020030049547A KR100657891B1 (ko) 2003-07-19 2003-07-19 반도체 나노결정 및 그 제조방법
KR2003-049547 2003-07-19

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012001577A Division JP5540025B2 (ja) 2003-07-19 2012-01-06 半導体結晶の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005048171A JP2005048171A (ja) 2005-02-24
JP4933723B2 true JP4933723B2 (ja) 2012-05-16

Family

ID=34056917

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004206818A Active JP4933723B2 (ja) 2003-07-19 2004-07-14 合金形態の半導体結晶、その製造方法及び有機電界発光素子
JP2012001577A Active JP5540025B2 (ja) 2003-07-19 2012-01-06 半導体結晶の製造方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012001577A Active JP5540025B2 (ja) 2003-07-19 2012-01-06 半導体結晶の製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (2) US7250082B2 (ja)
JP (2) JP4933723B2 (ja)
KR (1) KR100657891B1 (ja)
CN (1) CN1610062B (ja)

Families Citing this family (90)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100657891B1 (ko) * 2003-07-19 2006-12-14 삼성전자주식회사 반도체 나노결정 및 그 제조방법
US7253452B2 (en) 2004-03-08 2007-08-07 Massachusetts Institute Of Technology Blue light emitting semiconductor nanocrystal materials
GB0409877D0 (en) 2004-04-30 2004-06-09 Univ Manchester Preparation of nanoparticle materials
KR100621308B1 (ko) * 2004-05-28 2006-09-14 삼성전자주식회사 다중 파장에서 발광하는 황화 카드뮴 나노 결정의 제조방법 및 그에 의해 수득된 황화 카드뮴 나노 결정
KR100632632B1 (ko) 2004-05-28 2006-10-12 삼성전자주식회사 나노 결정의 다층 박막 제조 방법 및 이를 이용한유·무기 하이브리드 전기 발광 소자
US8454927B2 (en) * 2004-08-04 2013-06-04 Crystalplex Corporation Alloyed semiconductor nanocrystals
JP4785363B2 (ja) * 2004-09-15 2011-10-05 シャープ株式会社 蛍光体粒子、蛍光体粒子分散体ならびにこれらを含む照明装置および表示装置
KR100657639B1 (ko) * 2004-12-13 2006-12-14 재단법인서울대학교산학협력재단 반도체 양자점의 대량 합성 방법
JP4817298B2 (ja) * 2005-03-17 2011-11-16 独立行政法人産業技術総合研究所 半導体ナノ粒子を分散した青色発光蛍光体
AU2006239154A1 (en) * 2005-04-28 2006-11-02 Ventana Medical Systems, Inc Nanoparticle conjugates
EP1877101B1 (en) 2005-04-28 2016-11-16 Ventana Medical Systems, Inc. Enzymes conjugated to antibodies via a peg heterobifuctional linker
KR100753095B1 (ko) * 2005-06-24 2007-08-31 삼성전기주식회사 금속 나노 입자와 그 제조방법
US8845927B2 (en) * 2006-06-02 2014-09-30 Qd Vision, Inc. Functionalized nanoparticles and method
US9297092B2 (en) 2005-06-05 2016-03-29 Qd Vision, Inc. Compositions, optical component, system including an optical component, devices, and other products
GB2472542B (en) * 2005-08-12 2011-03-23 Nanoco Technologies Ltd Nanoparticles
CN1966401B (zh) * 2005-11-14 2010-08-18 中国科学院福建物质结构研究所 一种半导体材料
DK1951316T3 (en) 2005-11-23 2015-08-31 Ventana Med Syst Inc molecular conjugate
JP2009523071A (ja) * 2005-11-28 2009-06-18 ナショナル リサーチ カウンシル オブ カナダ 多機能ナノ構造体及びその製造方法
JP2009527437A (ja) * 2006-01-20 2009-07-30 エージェンシー フォー サイエンス, テクノロジー アンド リサーチ 水性または水溶性溶媒中での合金ナノ結晶の合成
KR100678764B1 (ko) * 2006-02-28 2007-02-06 한국화학연구원 콜로이드상 양자점의 제조방법
JP5181492B2 (ja) * 2006-02-28 2013-04-10 三菱化学株式会社 蛍光体原料及び蛍光体原料用合金の製造方法
US8849087B2 (en) 2006-03-07 2014-09-30 Qd Vision, Inc. Compositions, optical component, system including an optical component, devices, and other products
WO2007143197A2 (en) 2006-06-02 2007-12-13 Qd Vision, Inc. Light-emitting devices and displays with improved performance
US20080038558A1 (en) * 2006-04-05 2008-02-14 Evident Technologies, Inc. I-iii-vi semiconductor nanocrystals, i-iii-vi water stable semiconductor nanocrystals, and methods of making same
JPWO2007132625A1 (ja) * 2006-05-11 2009-09-24 コニカミノルタエムジー株式会社 ナノ半導体粒子の製造方法
US9212056B2 (en) 2006-06-02 2015-12-15 Qd Vision, Inc. Nanoparticle including multi-functional ligand and method
WO2008021962A2 (en) 2006-08-11 2008-02-21 Massachusetts Institute Of Technology Blue light emitting semiconductor nanocrystals and devices
US7695929B2 (en) 2006-11-01 2010-04-13 Ventana Medical Systems, Inc. Haptens, hapten conjugates, compositions thereof and method for their preparation and use
WO2008063653A1 (en) * 2006-11-21 2008-05-29 Qd Vision, Inc. Semiconductor nanocrystals and compositions and devices including same
WO2008063658A2 (en) 2006-11-21 2008-05-29 Qd Vision, Inc. Semiconductor nanocrystals and compositions and devices including same
WO2008133660A2 (en) * 2006-11-21 2008-11-06 Qd Vision, Inc. Nanocrystals including a group iiia element and a group va element, method, composition, device and other prodcucts
WO2008063652A1 (en) * 2006-11-21 2008-05-29 Qd Vision, Inc. Blue emitting semiconductor nanocrystals and compositions and devices including same
WO2008063657A2 (en) * 2006-11-21 2008-05-29 Qd Vision, Inc. Light emitting devices and displays with improved performance
KR100841186B1 (ko) * 2007-03-26 2008-06-24 삼성전자주식회사 다층 쉘 구조의 나노결정 및 그의 제조방법
US7682789B2 (en) * 2007-05-04 2010-03-23 Ventana Medical Systems, Inc. Method for quantifying biomolecules conjugated to a nanoparticle
US7985557B2 (en) 2007-05-23 2011-07-26 Ventana Medical Systems, Inc. Polymeric carriers for immunohistochemistry and in situ hybridization
WO2009025913A2 (en) * 2007-05-31 2009-02-26 Invitrogen Corporation Magnesium-based coatings for nanocrystals
US20120032122A1 (en) * 2007-08-06 2012-02-09 Agency For Science, Technology And Research Method for forming a cadmium containing nanocrystal
WO2009020436A1 (en) * 2007-08-06 2009-02-12 Agency For Science, Technology And Research Process of forming a cadmium and selenium containing nanocrystalline composite and nanocrstalline composite obtained therefrom
US9525148B2 (en) 2008-04-03 2016-12-20 Qd Vision, Inc. Device including quantum dots
CN102047098B (zh) 2008-04-03 2016-05-04 Qd视光有限公司 包括量子点的发光器件
ES2557594T3 (es) 2008-06-05 2016-01-27 Ventana Medical Systems, Inc. Método para el procesamiento histoquímico y el uso de una composición para el procesamiento histoquímico
CN102239109A (zh) * 2008-10-03 2011-11-09 生命科技公司 使用弱电子转移剂和失配的壳前体制备纳米晶的方法
CN102239107B (zh) * 2008-10-03 2016-11-16 生命科技公司 使用电子转移剂制备纳米晶的方法
CN101830445B (zh) * 2009-12-15 2014-12-10 河南大学 一种以乙酰丙酮盐为原料合成无机纳米晶的方法
WO2011097248A2 (en) 2010-02-02 2011-08-11 Ventana Medical Systems, Inc. Composition and method for stabilizing fluorescent particles
WO2011100023A1 (en) 2010-02-10 2011-08-18 Qd Vision, Inc. Semiconductor nanocrystals and methods of preparation
USPP22463P3 (en) * 2010-02-16 2012-01-17 Menachem Bornstein Gypsophila plant named ‘Pearl Blossom’
WO2011106495A1 (en) 2010-02-26 2011-09-01 Ventana Medical Systems, Inc. Cytogenic analysis of metaphase chromosomes
ES2606012T3 (es) 2010-02-26 2017-03-17 Ventana Medical Systems, Inc. Hibridación in situ con sondas PolyTag
AU2011274369A1 (en) 2010-07-02 2012-12-06 Ventana Medical Systems, Inc. Hapten conjugates for target detection
EP2596119B8 (en) 2010-07-23 2021-06-02 Astellas Institute for Regenerative Medicine Methods for detection of rare subpopulations of cells and highly purified compositions of cells
WO2012099653A2 (en) 2010-12-08 2012-07-26 Qd Vision, Inc. Semiconductor nanocrystals and methods of preparation
US9448231B2 (en) 2011-02-28 2016-09-20 Ventana Medical Systems, Inc. Application of quantum dots for nuclear staining
AU2012228424B2 (en) 2011-03-14 2015-05-07 Ventana Medical Systems, Inc. A method of analyzing chromosomal translocations and a system therefore
CN102181920B (zh) * 2011-04-21 2012-11-14 浙江大学 制备荧光从紫外到红的硫硒化镉锌纳米线的方法及装置
KR101371883B1 (ko) 2011-09-20 2014-03-07 엘지이노텍 주식회사 나노 입자, 이를 포함하는 나노 입자 복합체 및 이의 제조방법
WO2013052541A2 (en) 2011-10-04 2013-04-11 Arizona Board Of Regents, A Body Corporate Of The State Of Arizona Acting For And On Behalf Of Arizona State University Quantum dots, rods, wires, sheets, and ribbons, and uses thereof
US9696317B2 (en) 2011-10-18 2017-07-04 The Trustees Of Princeton University Greener process to synthesize water-soluble Mn2+-doped CdSSe(ZnS) core(shell) nanocrystals for ratiometric temperature sensing, nanocrystals, and methods implementing nanocrystals
US9290671B1 (en) * 2012-01-03 2016-03-22 Oceanit Laboratories, Inc. Low cost semiconducting alloy nanoparticles ink and manufacturing process thereof
WO2013173409A1 (en) 2012-05-15 2013-11-21 Qd Vision, Inc. Semiconductor nanocrystals and methods of preparation
CN102701268B (zh) * 2012-05-17 2013-10-30 天津理工大学 一种非水相ZnS量子点的合成方法
CN102676174B (zh) * 2012-06-01 2013-11-06 广东普加福光电科技有限公司 CdZnSeS量子点的制备方法
US10287490B2 (en) 2012-10-25 2019-05-14 Lumileds Llc PDMS-based ligands for quantum dots in silicones
CN111500281A (zh) 2012-10-25 2020-08-07 亮锐控股有限公司 用于硅酮中的量子点的基于pdms的配体
KR101644053B1 (ko) 2012-12-07 2016-08-01 삼성전자 주식회사 나노 결정 합성 방법 및 나노 결정 조성물
US20150315721A1 (en) * 2012-12-10 2015-11-05 Xinhua Zhong One step synthesis of core/shell nanocrystal quantum dots
CN103131420B (zh) * 2012-12-25 2014-10-29 深圳先进技术研究院 CdHgTe量子点溶液、CdHgTe量子点、双模态半导体纳米材料的制备方法及应用
WO2014139979A1 (en) 2013-03-12 2014-09-18 Ventana Medical Systems, Inc. Quantum dot in situ hybridization
CN103275724B (zh) * 2013-05-31 2015-03-11 合肥京东方光电科技有限公司 一种荧光纳米颗粒的制备方法
KR20150016436A (ko) * 2013-08-01 2015-02-12 삼성전자주식회사 마그네슘-셀레나이드 나노 결정 합성 방법
CN103936058B (zh) * 2014-05-07 2016-02-17 吉林大学 一种硫化镉量子点的制备方法
GB201414110D0 (en) 2014-08-08 2014-09-24 Isis Innovation Thin film production
CA2962115A1 (en) 2014-09-24 2016-03-31 Cemm Forschungszentrum Fur Molekulare Medizin Gmbh Monolayer of pbmcs or bone-marrow cells and uses thereof
CN104894635B (zh) * 2015-04-27 2018-03-16 武汉理工大学 尺寸可控的铜锑硫纳米晶材料及其制备方法
US10597580B2 (en) * 2015-10-28 2020-03-24 Samsung Electronics Co., Ltd. Quantum dots, production methods thereof, and electronic devices including the same
KR20180052170A (ko) * 2016-11-09 2018-05-18 시노코 유한회사 결정 경계 결함이 최소화된 연속적 결정성장 구조를 가지는 양자점 합성 방법 및 이에 의해 제조된 양자점
EP3367098A1 (en) 2017-02-24 2018-08-29 CeMM - Forschungszentrum für Molekulare Medizin GmbH Methods for determining interaction between biological cells
CN107093638A (zh) * 2017-05-07 2017-08-25 苏州市皎朝纳米科技有限公司 一种光电器件及其制备方法
CN107123709A (zh) * 2017-05-07 2017-09-01 佛山市领卓科技有限公司 一种能同时产生光电效应与电致发光的器件及其制备方法
CN107123708A (zh) * 2017-05-07 2017-09-01 佛山市领卓科技有限公司 一种异质结纳米棒及其制备方法
US10768485B2 (en) * 2017-07-05 2020-09-08 Nanoco Technologies Ltd. Quantum dot architectures for color filter applications
SG11202002570WA (en) 2017-10-31 2020-04-29 Cemm Forschungszentrum Fuer Molekulare Medizin Gmbh Methods for determining selectivity of test compounds
KR102588630B1 (ko) 2017-11-20 2023-10-11 삼성전자주식회사 반도체 나노결정 입자 및 이를 포함하는 소자
CN108394873B (zh) * 2018-02-27 2020-09-01 清远先导材料有限公司 封管合成碲硒镉的方法
CN108439456A (zh) * 2018-04-16 2018-08-24 苏州星烁纳米科技有限公司 ZnLiMgO纳米颗粒的制备方法和由其制备的产品
EP3844240B1 (en) 2018-05-30 2024-02-14 Shoei Chemical Inc. Method for synthesis of blue-emitting znse1-xtex alloy nanocrystals
CN110655913A (zh) * 2018-06-28 2020-01-07 深圳市晟诚世纪科技有限公司 一种纳米晶体的制备方法
CN114867818A (zh) 2019-08-12 2022-08-05 纳米系统公司 具有低半峰全宽的蓝光发射ZnSe1-xTex合金纳米晶体的合成
CN114217012B (zh) * 2021-11-10 2023-09-12 中国科学院上海技术物理研究所 一种汞系量子点传统热注入流程中原位修饰的方法

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0193407A (ja) * 1987-09-30 1989-04-12 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 半導体結晶およびその製造方法
JPH03262170A (ja) * 1990-03-13 1991-11-21 Toshiba Corp 有機/無機接合型半導体素子
JPH04100889A (ja) * 1990-08-20 1992-04-02 Hitachi Ltd 発光材料薄膜、その製造方法及び薄膜エレクトロルミネッセンス素子
US5294874A (en) * 1992-08-13 1994-03-15 Milwaukee Electric Tool Corporation Dynamic brake circuit for an electric motor
JPH07133102A (ja) * 1993-11-04 1995-05-23 Asahi Chem Ind Co Ltd 金属カルコゲナイド膜の製造方法
US5559057A (en) * 1994-03-24 1996-09-24 Starfire Electgronic Development & Marketing Ltd. Method for depositing and patterning thin films formed by fusing nanocrystalline precursors
US6126740A (en) * 1995-09-29 2000-10-03 Midwest Research Institute Solution synthesis of mixed-metal chalcogenide nanoparticles and spray deposition of precursor films
DE19543205A1 (de) * 1995-11-20 1997-05-22 Bayer Ag Zwischenschicht in elektrolumineszierenden Anordnungen enthaltend feinteilige anorganische Partikel
US6322901B1 (en) * 1997-11-13 2001-11-27 Massachusetts Institute Of Technology Highly luminescent color-selective nano-crystalline materials
US6236060B1 (en) * 1997-11-19 2001-05-22 International Business Machines Corporation Light emitting structures in back-end of line silicon technology
US6127202A (en) * 1998-07-02 2000-10-03 International Solar Electronic Technology, Inc. Oxide-based method of making compound semiconductor films and making related electronic devices
WO2000067531A1 (fr) * 1999-04-30 2000-11-09 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Dispositif organique electroluminescent et procede de fabrication
US6225198B1 (en) 2000-02-04 2001-05-01 The Regents Of The University Of California Process for forming shaped group II-VI semiconductor nanocrystals, and product formed using process
US6306736B1 (en) 2000-02-04 2001-10-23 The Regents Of The University Of California Process for forming shaped group III-V semiconductor nanocrystals, and product formed using process
JP4434411B2 (ja) * 2000-02-16 2010-03-17 出光興産株式会社 アクティブ駆動型有機el発光装置およびその製造方法
KR20010095429A (ko) * 2000-03-30 2001-11-07 윤덕용 단일 이온 전도체를 전자 혹은 정공 주입층으로 이용하는유기/고분자 전기 발광 소자
JP2002079075A (ja) * 2000-05-24 2002-03-19 Mitsubishi Chemicals Corp 半導体超微粒子の製造方法及び製造装置
US6780242B2 (en) * 2000-07-26 2004-08-24 Nec Laboratories America, Inc. Method for manufacturing high-quality manganese-doped semiconductor nanocrystals
IL138471A0 (en) 2000-09-14 2001-10-31 Yissum Res Dev Co Novel semiconductor materials and their uses
US6803122B2 (en) * 2000-12-12 2004-10-12 Tdk Corporation EL device
WO2002083774A2 (en) 2001-04-11 2002-10-24 Rutgers, The State University Of New Jersey Hybrid nanostructured materials based on ii-vi semiconductors
DE60235306D1 (de) * 2001-07-30 2010-03-25 Univ Arkansas Verfahren zur herstellung von kolloidale nanokrist
AU2002323168A1 (en) * 2001-09-05 2003-03-18 Rensselaer Polytechnic Institute Passivated nanoparticles, method of fabrication thereof, and devices incorporating nanoparticles
AU2002326920B2 (en) * 2001-09-17 2007-09-13 Massachusetts Institute Of Technology Semiconductor nanocrystal composite
US20040004433A1 (en) * 2002-06-26 2004-01-08 3M Innovative Properties Company Buffer layers for organic electroluminescent devices and methods of manufacture and use
US6878184B1 (en) * 2002-08-09 2005-04-12 Kovio, Inc. Nanoparticle synthesis and the formation of inks therefrom
US6872450B2 (en) * 2002-10-23 2005-03-29 Evident Technologies Water-stable photoluminescent semiconductor nanocrystal complexes and method of making same
US7056471B1 (en) * 2002-12-16 2006-06-06 Agency For Science Technology & Research Ternary and quarternary nanocrystals, processes for their production and uses thereof
KR100657891B1 (ko) * 2003-07-19 2006-12-14 삼성전자주식회사 반도체 나노결정 및 그 제조방법
KR100796122B1 (ko) * 2003-09-09 2008-01-21 삼성전자주식회사 화합물 반도체 나노결정의 표면 처리를 통한 양자효율 향상
JP2009527437A (ja) * 2006-01-20 2009-07-30 エージェンシー フォー サイエンス, テクノロジー アンド リサーチ 水性または水溶性溶媒中での合金ナノ結晶の合成
KR100901947B1 (ko) * 2006-07-14 2009-06-10 삼성전자주식회사 반도체 나노결정을 이용하는 백색 발광 다이오드 및 그의제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
JP5540025B2 (ja) 2014-07-02
US7829189B2 (en) 2010-11-09
KR20050010336A (ko) 2005-01-27
JP2012131701A (ja) 2012-07-12
US20050012182A1 (en) 2005-01-20
CN1610062A (zh) 2005-04-27
US20070273275A1 (en) 2007-11-29
US7250082B2 (en) 2007-07-31
CN1610062B (zh) 2010-05-12
KR100657891B1 (ko) 2006-12-14
JP2005048171A (ja) 2005-02-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4933723B2 (ja) 合金形態の半導体結晶、その製造方法及び有機電界発光素子
JP5175426B2 (ja) 多重波長で発光する硫化カドミウムナノ結晶の製造方法、それにより製造された硫化カドミウムナノ結晶、およびこれを用いた白色発光ダイオード素子
JP4800006B2 (ja) 多層構造のナノ結晶およびその製造方法
US10351767B2 (en) Group III-V/Zinc chalcogenide alloyed semiconductor quantum dots
EP1988142B1 (en) Nanocrystal, method for preparing the same and electronic device comprising the same
US7455825B2 (en) Method for manufacturing metal sulfide nanocrystals using thiol compound as sulfur precursor
JP4928071B2 (ja) 半導体ナノ結晶の量子効率向上方法、半導体ナノ結晶および有機電気発光素子
JP5602104B2 (ja) 多層構造のナノ結晶およびその製造方法
US10202545B2 (en) Interfused nanocrystals and method of preparing the same
TW201708505A (zh) 經種晶之奈米顆粒
US7850943B2 (en) Method of preparing cadmium sulfide nanocrystals emitting light at multiple wavelengths, and cadmium sulfide nanocrystals prepared by the method
JP5717232B2 (ja) ナノ結晶の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070309

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100702

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100713

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20101013

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20101018

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101115

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110906

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20111205

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20111208

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120106

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120131

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120217

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4933723

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150224

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250