JP4928071B2 - 半導体ナノ結晶の量子効率向上方法、半導体ナノ結晶および有機電気発光素子 - Google Patents

半導体ナノ結晶の量子効率向上方法、半導体ナノ結晶および有機電気発光素子 Download PDF

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Description

本発明は、半導体ナノ結晶の表面処理による量子効率の向上に関し、より詳しくは、化学的湿式方法によって形成された半導体ナノ結晶において、発光波長及び発光波長の分散度などの発光特性を変化させることなく、量子効率を向上させる方法に関する。
半導体化合物をナノサイズの結晶に製造すると、その物質のバルクエキシトンボア半径(bulk exciton Bohr radius)よりも小さい領域で、量子閉じ込め(quantum confinement)効果が見られ、このような量子閉じ込め効果によって、半導体物質の特性として現われたバンドギャップエネルギーが変化する。
半導体化合物が可視光領域で発光する場合、ナノ結晶にしてサイズを小さくすると、特定の大きさ以下で、バンドギャップエネルギーが増加し始めて、発光領域が青色領域に移動する青色シフト(blue shift)が観察される。このような量子ドット(quantum dot)物質の特性を用いて、物質自体の特性、構造、形態、及び大きさを調節して前記バンドギャップを調節することにより、様々なエネルギー準位を作り出すことができる。
近年、配位可能な有機溶媒に、前駆体物質を、界面活性剤と共に入れて様々なサイズのナノ結晶を成長させる化学的湿式合成法が多く行われている。この合成法では、結晶が成長しながら有機溶媒が自然に量子ドット結晶表面に配位されて分散剤の役割を果たし、量子ドットの成長をナノサイズに調節する。この方法は、使用される前駆体の濃度、有機溶媒の種類、合成温度、合成時間などを変化させることにより、様々なサイズの量子ドットを合成することができるという利点がある。
ところが、合成される量子ドットの大きさが非常に小さいため、体積対比表面の面積が増加し、これにより表面に欠陥(defect)が生じ易く、これらがエネルギーバンドギャップの間における様々なエネルギートラップとして作用し、量子ドットの発光効率を低くする。小さいサイズの量子ドットを合成すると、このような現象はさらに激しくなる。
従来においては、量子ドットの発光効率を増加させるための方法は2つに大別される。一つは、安定性有機物質または無機物質で、量子ドットの表面に保護膜を被覆する方法(surface passivation)である。
量子ドットの表面を取り囲んでいる有機分散剤の種類によって発光効率が異なるが、これに対してはトリオクチルホスホン酸に取り囲まれたCdSe量子ドットの表面を、アリルアミンまたはドデシルアミンで置換すると、発光効率が40〜50%増加することが知られている(非特許文献1)。
無機物保護膜は、有機物より一層安定でその効果が著しいため、さらに多くの研究が行われてきた。これらは、元々の量子ドットであるコア(core)部分と無機物質保護膜であるシェル(shell)からなる構造を有するが、発光効率の増加したコア・シェル構造を有する量子ドット物質及びその製造方法が知られている(特許文献1、及び特許文献2)。
このように形成されたコア・シェル構造の半導体化合物量子ドットは発光効率が30%〜50%まで増加することが知られている。ところが、この方法は、合成過程よりさらに煩わしいコーティングを経なければならず、コーティングを行う過程中に量子ドットの発光波長が変化し、大きさの分布が変化する可能性があって発光波長分布がさらに広くなるという欠点がある。
これと同時に、コア・シェル構造間の格子間不一致(mismatch)、シェルの厚さが厚くなるにつれて現われるインタフェースストレイン(interface strain)などによって発光効率が却って減少する虞もあり、また、コーティング工程自体が難しくて再現性が低下するうえ、コアとシェルを構成する物質の特性に応じて構成できる物質には制限がある。
もう一つは、新しい形の量子ドット合成である。本発明者は、近年、より簡単な方法で合成されながらも高い発光効率を有する、合金(alloy)型と推定される量子ドットを開発し出願した(特許文献3)。
この方法は、2つ以上の同族前駆体を他の族の前駆体と共に混合物の形で、同時に有機溶媒に加えて反応させることにより、三成分系量子ドットを合成する方法であって、既存のコア・シェル構造を有する量子ドット合成方法に比べて容易且つ簡便であるうえ、発光効率を非常に向上させるという効果がある。
これと同様に、三成分系量子ドットの合成時に合成前駆体の割合に応じて均一な合金構造(homogenous alloy)になったり、組成の変化(gradient)を有したりする量子ドットを合成すること、また、コア・シェル型の構造を合成した後、高温で熱処理し、高い発光効率を有する合金型の量子ドットを合成することが知られている(非特許文献2)。
前述した既存の方法では、いずれも、量子効率を増進させるという効果はあるが、特に、高エネルギーの青色領域で発光する量子ドットの量子効率についてはあまり知られていない。これは、小さい量子ドットを合成する際に、表面に生成されるエネルギートラップによって引き起こされる問題が解決されていないことを意味する。
米国特許6、322、901号 米国特許6、207、229号 韓国特許出願第2003−49547 Nano letters、2001、1、207〜211 JACS、2003、125、8589〜8594
本発明は、従来技術のかかる問題点を解決するためのもので、その目的は、全ての発光波長領域で、特に、青色領域で発光する量子ドットに適用可能であり、処理後に発光特性が変化することなく量子効率を向上させることが可能な方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、量子効率が向上するように表面処理された半導体ナノ結晶及びこれを含む有機電気発光素子を提供することにある。
すなわち、本発明の一側面は、化学的湿式合成法によって製造された半導体ナノ結晶を還元剤で表面処理して量子効率を向上させる方法を提供することである。
このような方法とすることにより、表面処理後に発光特性が変化することなく、半導体ナノ結晶の量子効率を向上させることが可能となる。
本発明の他の側面は、還元剤によって表面処理された半導体ナノ結晶を提供することである。
このように表面処理された半導体ナノ結晶は、特に可視光領域で純粋なスペクトルを得ることができるので、電気発光素子の発光層形成時に有益である。
本発明のさらに他の側面は、多数の有機層及び無機層からなる電気発光素子において、発光層が、還元剤によって表面処理された半導体ナノ結晶を含むことを特徴とする有機電気発光素子を提供することである。
このような半導体ナノ結晶を含む有機電気発光素子は、無機有機化合物からなる有機発光素子であるため、特別な装置、または、方法を必要とせず、通常の発光材料を用いた有機電気発光素子の製造方法により提供することができる。
本発明によれば、化学的湿式合成法で合成した半導体ナノ結晶を簡単に表面処理して発光効率を増加させることができる。このように処理された半導体ナノ結晶は、発光領域300nm〜1300nmで優れた発光効率を有するので、ディスプレイ、センサ、エネルギー分野などの様々な分野に応用できる。
以下、本発明をより詳細に説明する。本発明が適用される半導体ナノ結晶は、一般に知られている化学的湿式合成法で形成される。これをより詳しく説明すると下記の通りであるが、これによりその形成方法が制限されるものではない。
化学的湿式方法によって半導体ナノ結晶を合成するために、ナノ結晶を安定的に分散させることが可能な分散溶媒を使用する。
この際、分散溶媒は、半導体ナノ結晶の表面に配位することが可能でなければならず、ある程度のバルキネス(bulkiness)を持つことにより、結晶の成長速度が調節可能でなければならず、また、結晶成長温度で安定し、ナノ結晶と配位された状態でナノ結晶を分散させることが可能でなければならないという特性を有する。
このような分散溶媒は、アルキルホスフィン、アルキルホスフィンオキサイド、アルキルアミンなどを例として挙げることができ、好ましくは、ホスフィン、ホスフィンオキサイドまたは窒素が量子ドットの表面と配位し、沸点が高く、アルキル基の炭素が約8〜16個程度であるアルキルアミンが用いられる。また、分散溶媒は同時に1種以上を混合して使用することもできる。
このような分散溶媒は、空気中に比較的安定して存在するが、温度が高い場合には酸化する特性を示す可能性があるので、比較的反応活性のない雰囲気を保つために合成過程で窒素またはアルゴン雰囲気を維持する必要があり、必要に応じては加圧を行う。
一方、半導体ナノ結晶の製造時には、結晶表面に配位させて安定化する目的で、選択的に分散剤が添加できる。このような分散剤としては、具体的に、炭素数2〜18のアルキルカルボン酸、炭素数2〜18のアルケニルカルボン酸、炭素数2〜18のアルキルスルホン酸、炭素数2〜18のアルケニルスルホン酸、炭素数2〜18のホスホン酸、炭素数2〜18のアルキルアミン、炭素数2〜18のアルケニルアミンなどを使用することができ、より好ましくは、オレイン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ヘキシルホスホン酸、n−オクチルホスホン酸、テトラデシルホスホン酸、オクタデシルホスホン酸、n−オクチルアミン、ヘキサデシルアミンなどの物質が用いられる。
反応は、適切な溶媒と雰囲気を維持し、反応系の温度を所望の温度に合わせて行われるが、この際、反応系の温度分布がないほど理想的であると言える。結晶の成長速度に合わせて反応の温度を設定するが、この反応温度は合成しようとする物質によって異なり、通常は、25〜500℃、好ましくは25〜350℃の間になる。
反応系の温度が一定の水準で維持されると、半導体化合物の前駆物質が注入されるが、この際、全ての前駆体が同時に反応系に注入できるように速度を調節することが重要な因子となる。
半導体化合物の前駆体として、一般に金属前駆体(metal precursor)と、カルコゲニド前駆体(chalcogenide precursor)を、別々に添加して反応させる方法が公知の方法として知られている。(J. Am. Chem. Soc. 115, 8706-8715(1993))。また、その他にも、単一系前駆体を用いて熱分解させる方法も使用することができることが知られている。(J. Mater. Chem., 9, 2433-2437(1999))。
単一系前駆体を用いる場合、溶媒で前駆体をよく溶かして分散させる。この際、溶媒は前駆体溶液の注入時に、速度を調節し得るように粘度(viscosity)が低く、また、反応系で安定的な物質を使用する。主にピリジン、アルキルアミン、アルキルホスフィンなどが好ましい。
前駆体の注入後、前駆体が速く反応系に分散できるように攪拌を行わなければならず、また、反応中に発生する気体などを適切に噴出し得るような装置でなければならない。結晶型の量子ドットが成長できるように、攪拌を一定の時間維持した後、反応を終了するか、または、コア・シェル型の量子ドットを合成する場合は、コアの表面にコーティングする無機物質の前駆体をさらに注入する。
シェルに該当する前駆体を注入する場合は、全ての物質が、他の核を生成することなく、既に生成されたコアの表面上に塗布されるように、反応系内で一定の濃度範囲内で徐々に注入する。
ナノ結晶の結晶成長を止めるためには、反応系の温度を急激に降温しなければならないが、このためには沸点の低い有機溶媒を加えて、溶媒の蒸発(vaporization)エネルギーで熱を吸収する。投入された溶媒の量を調節して反応系を一定の温度以下に低めることにより、結晶の成長を終了(quenching)させることができる。このように合成されたナノ結晶は、コロイド状態で溶媒内に分散しているので、遠心分離によって溶媒から量子ドットを分離することができる。
合成された半導体ナノ結晶は、反応条件によっていろいろの形、すなわち球(sphere)形、棒(rod)形、トライポッド(tripod)形、テトラポッド(tetrapod)形、立方体(cube)形、ボックス(box)形、星(star)形などを有することができ、高分解能透過電子顕微鏡(HRTEM)を用いて量子ドットの形と結晶面の表面などを分析することができる。
本発明では、前記のように湿式合成法で形成された半導体ナノ結晶を還元剤で処理し、表面に存在する分散剤とナノ結晶の表面で酸化還元反応を起こすことにより発光効率を向上させる。
本発明の方法は、半導体ナノ結晶の種類に制限されずに適用可能であるが、具体的には、CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、HgS、HgSe、HgTe、GaN、GaP、GaAs、InP、InAsなどからなる半導体ナノ結晶に適用できる。一方、コア・シェル構造のナノ結晶または合金型のナノ結晶にも制限されずに適用可能である。このような半導体ナノ結晶の発光領域は、通常300nm〜1300nmの範囲である。
還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化アルミニウムリチウムなどのヒドリドイオン(H-)を生成することが可能な全種類の塩と、ヒドラジンなどの有機還元剤と、水素、硫化水素、アンモニアなどの還元雰囲気を造成することが可能な全てのガスと、そのガスを溶かした溶液などが使用できる。
表面処理時に、ナノ結晶と、投入される還元剤との重量比は、1:10乃至10:1の範囲であることが好ましい。この範囲から外れる場合、還元剤による酸化還元の反応程度が、ナノ結晶の表面処理に対し不十分であるか、或いは還元剤によって結晶の表面を汚染させるおそれがあるという問題点がある。
表面処理時に使用可能な溶媒としては、トルエン、クロロベンゼンなどの芳香族溶媒と、ヘキサン、オクタンなどのノルマルアルカン溶媒、メチレンクロライド、クロロホルムなどの非極性溶媒、またはエタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフランなどの極性溶媒などを例として挙げることができる。
表面処理温度は、0〜100℃、好ましくは10〜50℃である。温度が100℃超過であれば、量子ドット同士がかたまり易く、温度が0℃未満であれば、反応速度が低すぎて好ましくない。処理効果が現われる時間は、量子ドットの種類によって異なるが、約1秒〜2日程度である。時間が前記範囲を外れると、反応が不十分であり、沈殿が起こる虞がある。
本発明の処理方法によれば、半導体ナノ結晶の量子効率が、好ましくは30%以上、より好ましくは85%まで向上できる。一方、本発明によって表面処理されたナノ結晶は、ディスプレイ、センサ、エネルギー分野などの様々な分野に応用でき、特に可視光領域で純粋なスペクトルを得ることができるので、電気発光素子の発光層形成に有益である。
このような半導体ナノ結晶を発光層に導入しようとする場合には、真空蒸着法、スパッタリング法、プリンティング法、コーティング法、インクジェット法、電子ビームを用いた方法などを使用することができる。ここで、半導体ナノ結晶発光層の厚さは5〜100nmであることが好ましい。
このような電気発光素子は、通常知られている陽極/発光層/陰極、陽極/バッファ層/発光層/陰極、陽極/正孔伝達層/発光層/陰極、陽極/バッファ層/正孔伝達層/発光層/陰極、陽極/バッファ層/正孔伝達層/発光層/電子伝達層/陰極、陽極/バッファ層/正孔伝達層/発光層/正孔遮断層/陰極などの構造で形成できるが、これらに限定されものではない。
この際、前記バッファ層の素材としては、通常用いられる物質を使用することができ、好ましくは銅フタロシアニン、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリフェニレンビニレン、またはこれらの誘導体を使用することができるが、これらに限定されるものではない。
前記正孔伝達層の素材としては、通常用いられる物質を使用することができ、好ましくはポリトリフェニルアミンを使用することができるが、これに限定されるものではない。
前記電子伝達層の素材としては、通常用いられる物質を使用することができ、好ましくはポリオキサジアゾールを使用することができるが、これに限定されるものではない。
前記正孔遮断層の素材としては、通常用いられる物質を使用することができ、好ましくはLiF、BaF2、MgF2などを使用することができるが、これらに限定されるものではない。無機有機混合物からなる本発明の有機発光素子の製造は、特別な装置または方法を必要とせず、通常の発光材料を用いた有機電気発光素子の製造方法によって製造できる。
以下、実施例によって本発明をより詳細に説明する。尚、これらの実施例は本発明を説明するためのもので、本発明は、これらの実施例に制限するものではない。
[実施例1]:CdSナノ結晶の合成及び表面処理
トリオクチルアミン(以下「TOA」という)16g、オレイン酸1.9g、及びカドミウムオキサイド1.6mmolを、同時に125mlの還流凝縮器付フラスコに入れ、攪拌しながら温度を300°Cに昇温した。
これとは別途に、S粉末をTOPに溶かして、S濃度0.1M程度のS−TOP錯体溶液を作り、このS−TOP溶液1.0mlを、前記混合物に、急速に注入し、攪拌しながら反応時間を約2分に維持した。これらの反応が終了すると、混合物の温度をできる限り速く常温に降温し、非溶媒(non solvent)であるエタノールを付加して遠心分離を行った。
遠心分離された沈殿物を除いた溶液を、デカントして別の容器に移し、前記沈殿物をトルエン8mlに分散させた。このようにして作られたCdSトルエン溶液のうち1mlを、分取して0.02gのNaBH4を入れた後、常温で約30分間攪拌して処理した。
表面処理前後の光ルミネサンススペクトル(photoluminescence spectrum)と紫外線分光吸収スペクトルを測定した結果を、図1及び図2に示す。図1において、発光波長は490nmであり、FWHMは25nm程度であった。図1より、表面処理を行うことにより、発光波長または発光波長の分布などを変化させることなく、スペクトルの強度(intensity)が大きく増加したことが分かった。
図2より、表面処理を行うことにより、吸収度の差をあまり大きくすることなく、類似形態の吸収スペクトルを示し、また、この際、表面処理前後の発光効率は10%から85%に大きく向上したことが分かった。
図3は還元剤処理後のCdSナノ結晶の高解像度透過電子顕微鏡写真(HRTEM、スケールバー=5nm)であり、これにより、全体的に、粒子が均一な結晶構造を有することをが分かった。
図4は還元剤処理後、CdSナノ結晶を乾燥させて粉末状態で撮影した透過電子顕微鏡写真(TEM、スケールバー=20nm)である。図4より、ナノ結晶の大きさ分布が一定であり、乾燥時に六方パッキング(hexagonal packing)構造を有していることが分かった。
[実施例2]:CdTeナノ結晶の合成及び表面処理
TOA16g、オレイン酸0.5g、及びカドミウムアセテート0.2mmolを、同時に125mlの還流凝縮器付フラスコに入れ、攪拌しながら温度を180℃に昇温した。これとは別に、Te粉末をTOPに溶かしてTe濃度0.2M程度のTe−TOP錯体溶液を作った。
このTe−TOP溶液0.5mlを、前記混合物に、急速に注入し、攪拌しながら反応時間を約30秒に維持した。反応が終結すると、混合物の反応温度をできる限り速く常温に降温し、非溶媒のエタノールを付加して遠心分離を行った。
遠心分離された沈殿物を除いた溶液を、デカントして別の容器に移し、前記沈殿物をトルエン5mlに分散させた。このようにして作られたCdSトルエン溶液のうち1mlを、分取して0.02gのNaBH4を入れた後、常温で約10分間攪拌して処理した。
表面処理前後の光ルミネサンススペクトル(photoluminescence spectrum)を測定した結果、発光波長は全て622nmであり、FWHMは60nmであった。処理前後の光励起発光効率は約5倍増加したことが分かった。
[実施例3]:CdSeSナノ結晶の合成及び表面処理
TOA16g、オレイン酸0.5g、及びカドミウムオキサイド0.4mmolを、同時に125mlの還流凝縮器付フラスコに入れ、攪拌しながら温度を300℃に昇温した。これとは別に、Se粉末をTOPに溶かしてSe濃度0.25M程度のSe−TOP錯体溶液を作り、S粉末をTOPに溶かしてS濃度1.0M程度のS−TOP錯体溶液を作った。
前記攪拌されている反応混合物にS−TOP錯体溶液0.9mlとSe−TOP錯体溶液0.1mlの混合物を、急速に注入し、4分程度さらに攪拌した。反応が終結すると、反応混合物の反応温度をできる限り速く常温に降温し、非溶媒であるエタノールを付加して遠心分離を行った。
遠心分離された沈殿物を除いた溶液を、デカントして別の容器に移し、前記沈殿物をトルエン10mlに分散させた。このようにして作られたCdSeSトルエン溶液のうち、1mlを分取して0.02g程度のNaBH4を入れた後、常温で約30分間処理した。
表面処理前後の光ルミネサンススペクトル(photoluminescence spectrum)を測定した結果、発光波長は552nmであり、FWHMは40nm程度であった。処理前後の光励起発光効率は約3倍増加したことが分かった。
[実施例4]:CdSeナノ結晶の合成及び表面処理
TOA16g、オレイン酸0.5g、及びカドミウムオキサイド0.4mmolを、同時に125mlの還流凝縮器付フラスコに入れ、攪拌しながら温度を300℃に昇温した。これとは別に、Se粉末をTOPに溶かしてSe濃度1M程度のSe−TOP錯体溶液を作った。
前記攪拌されている反応混合物にSe−TOP錯体溶液1mlの混合物を、急速に注入し、約1分間さらに攪拌した。反応が終了すると、反応混合物の反応温度をできる限り速く常温に降温し、非溶媒であるエタノールを付加して遠心分離を行った。
遠心分離された沈殿物を除いた溶液はデカントして別の容器に移し、前記沈殿物はトルエン10mlに分散させた。このようにして作られたCdSeトルエン溶液のうち1mlを、分取して0.02g程度のNaBH4を入れた後、常温で約30分間処理した。
表面処理前後の光ルミネサンススペクトル(photoluminescence spectrum)を測定した結果、発光波長は全て520nmであり、FWHMはそれぞれ35nm程度であった。処理前後の光励起発光効率は約7倍増加したことが分かった。
[実施例5]:表面処理したCdSeナノ結晶を用いた電気発光素子の製作
パターニングされているITO基板の上部に正孔伝達層としてPEDOT(Poly-3,4-Ethylenedioxythiophene)を、50nmの厚さにスピンコーティングして110℃で10分間熱処理し、その後、表面処理したCdSe濃度1重量%で製造されたクロロベンゼン溶液をスピンコーティングした後、これを乾燥させて厚さ10nmの発光層を形成した。
前記発光層の上部にAlq3(tris(8-hydroxyquinoline)aluminum)を蒸着して、40nm程度の電子輸送層を形成し、さらにLiFを1nmの厚さに蒸着し、アルミニウムを200nmの厚さに蒸着して電気発光素子を製造した。製造された電気発光素子の電気発光スペクトルを測定してこれを図5に示した。発光波長は約520nmであり、FWHMは約40nmであり、明るさは10Cd/m2、装置の効率は0.1%程度であった。
本発明の実施例1で形成されたCdSナノ結晶の表面処理前後の光励起発光スペクトルである。 本発明の実施例1で形成されたCdSナノ結晶の表面処理前後の紫外線分光吸収スペクトルである。 本発明の実施例1で形成されたCdSナノ結晶の高解像度透過電子顕微鏡写真である。 本発明の実施例1で形成されたCdSナノ結晶の透過電子顕微鏡写真である。 本発明の実施例5で製造された電気発光素子の発光スペクトルである。

Claims (12)

  1. 半導体ナノ結晶の表面が、分散剤によって配位され、当該分散剤と親和力のある溶媒に前記半導体ナノ結晶が分散された状態で、前記半導体ナノ結晶を還元剤で表面処理して、前記分散剤と前記半導体ナノ結晶の表面において酸化還元反応を起こすことにより前記半導体ナノ結晶の量子効率を向上させる方法であって、
    前記還元剤としては、ヒドリドイオン(H-)を形成することが可能な塩、有機還元剤、または還元性ガスを溶かした溶液を使用することを特徴とする半導体ナノ結晶の量子効率向上方法。
  2. 前記半導体ナノ結晶がCdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、HgS、HgSe、HgTe、GaN、GaP、GaAs、InP及びInAsよりなる群から選択された少なくとも1種以上の物質で構成されたコア・シェル、合金型または変化(gradient)構造であることを特徴とする請求項1に記載の半導体ナノ結晶の量子効率向上方法。
  3. 前記分散剤が、炭素数2〜18のアルキルカルボン酸、炭素数2〜18のアルケニルカルボン酸、炭素数2〜18のアルキルスルホン酸、炭素数2〜18のアルケニルスルホン酸、炭素数2〜18のホスホン酸、炭素数2〜18のアルキルアミン、及び炭素数2〜18のアルケニルアミンよりなる群から選択された少なくとも1種以上の物質であることを特徴とする請求項に記載の半導体ナノ結晶の量子効率向上方法。
  4. 前記分散剤が、オレイン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ヘキシルホスホン酸、n−オクチルホスホン酸、テトラデシルホスホン酸、オクタデシルホスホン酸、n−オクチルアミン及びヘキサデシルアミンよりなる群から選択された少なくとも1種以上の物質であることを特徴とする請求項に記載の半導体ナノ結晶の量子効率向上方法。
  5. 前記半導体ナノ結晶と、前記還元剤の重量比が、1:10乃至10:1であることを特徴とする請求項1に記載の半導体ナノ結晶の量子効率向上方法。
  6. 前記半導体ナノ結晶の表面処理が、0〜100℃の温度範囲で行われることを特徴とする請求項1に記載の半導体ナノ結晶の量子効率向上方法。
  7. 前記半導体ナノ結晶の表面処理が1秒〜2日間行われることを特徴とする請求項1に記載の半導体ナノ結晶の量子効率向上方法。
  8. 前記半導体ナノ結晶が球形、棒形、トライポッド形、テトラポッド形、立方体形、ボックス形、星形であることを特徴とする請求項1に記載の半導体ナノ結晶の量子効率向上方法。
  9. 前記半導体ナノ結晶の大きさが1乃至50nmであることを特徴とする請求項1に記載の半導体ナノ結晶の量子効率向上方法。
  10. 前記還元性ガスが、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化アルミニウムリチウム、ヒドラジン、水素、硫化水素、アンモニア、またはこれらの組み合わせであることを特徴とする請求項1に記載の半導体ナノ結晶の量子効率向上方法。
  11. 請求項1に記載の方法によって形成された半導体ナノ結晶。
  12. 多数の有機層及び無機層からなる電気発光素子において、発光層が、請求項11に記載の半導体ナノ結晶を含むことを特徴とする有機電気発光素子。
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Families Citing this family (59)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100657891B1 (ko) * 2003-07-19 2006-12-14 삼성전자주식회사 반도체 나노결정 및 그 제조방법
US7553775B2 (en) * 2004-08-30 2009-06-30 Kabushiki Kaisha Toshiba Method for coating semiconductor surface, process for production of semiconductor particles using said method, and optical element using said semiconductor particles
EP1666562B1 (en) * 2004-11-11 2018-03-07 Samsung Electronics Co., Ltd. Interfused nanocrystals and method of preparing the same
US9637682B2 (en) 2004-11-11 2017-05-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Interfused nanocrystals and method of preparing the same
KR100719574B1 (ko) * 2005-11-04 2007-05-17 삼성에스디아이 주식회사 평판 디스플레이 장치 및 전자 방출 소자
TWI307646B (en) * 2005-12-06 2009-03-21 Lg Chemical Ltd Core-shell type nanoparticles and method for preparing the same
US7517718B2 (en) * 2006-01-12 2009-04-14 International Business Machines Corporation Method for fabricating an inorganic nanocomposite
EP1978072A4 (en) * 2006-01-27 2009-04-08 Konica Minolta Med & Graphic SEMICONDUCTOR PROOF WITH CORE / COVER STRUCTURE AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF
KR100754396B1 (ko) * 2006-02-16 2007-08-31 삼성전자주식회사 양자점 발광소자 및 그 제조방법
KR100678764B1 (ko) * 2006-02-28 2007-02-06 한국화학연구원 콜로이드상 양자점의 제조방법
WO2007143197A2 (en) 2006-06-02 2007-12-13 Qd Vision, Inc. Light-emitting devices and displays with improved performance
CN101410478B (zh) * 2006-03-28 2012-10-24 夏普株式会社 第13族氮化物半导体粒子荧光体及其制造方法
US11031567B2 (en) * 2006-07-11 2021-06-08 The Regents Of The University Of Michigan Efficient solar cells using all-organic nanocrystalline networks
JP2010508620A (ja) * 2006-09-12 2010-03-18 キユーデイー・ビジヨン・インコーポレーテツド 所定のパターンを表示するために有用なエレクトロルミネセントディスプレイ
WO2008032618A1 (fr) * 2006-09-15 2008-03-20 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Nanoparticule semi-conductrice et procédé de production correspondant
KR100759715B1 (ko) * 2006-09-26 2007-10-04 고려대학교 산학협력단 균일한 크기의 복합기능 나노 입자 제조방법
KR100759716B1 (ko) * 2006-09-26 2007-10-04 고려대학교 산학협력단 복합기능 자성체 코어 - 반도체 쉘 나노 입자 및 그의제조방법
JP4318710B2 (ja) * 2006-10-12 2009-08-26 シャープ株式会社 ナノ結晶粒子蛍光体と被覆ナノ結晶粒子蛍光体、ならびに被覆ナノ結晶粒子蛍光体の製造方法
WO2008133660A2 (en) 2006-11-21 2008-11-06 Qd Vision, Inc. Nanocrystals including a group iiia element and a group va element, method, composition, device and other prodcucts
WO2008063657A2 (en) * 2006-11-21 2008-05-29 Qd Vision, Inc. Light emitting devices and displays with improved performance
KR100853086B1 (ko) * 2007-04-25 2008-08-19 삼성전자주식회사 나노결정-금속산화물 복합체 및 그의 제조방법
WO2008139811A1 (ja) * 2007-04-26 2008-11-20 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 無機ナノ粒子蛍光体の製造方法及び蛍光体標識化合物
US9525148B2 (en) 2008-04-03 2016-12-20 Qd Vision, Inc. Device including quantum dots
CN102047098B (zh) 2008-04-03 2016-05-04 Qd视光有限公司 包括量子点的发光器件
KR101462652B1 (ko) * 2008-04-23 2014-11-17 삼성전자 주식회사 양자점-무기 매트릭스 복합체의 제조방법
US11198270B2 (en) 2008-12-30 2021-12-14 Nanosys, Inc. Quantum dot films, lighting devices, and lighting methods
GB2467162A (en) * 2009-01-26 2010-07-28 Sharp Kk Fabrication of nitride nanoparticles
GB2467161A (en) * 2009-01-26 2010-07-28 Sharp Kk Nitride nanoparticles
WO2011060180A1 (en) 2009-11-11 2011-05-19 Qd Vision, Inc. Device including quantum dots
WO2011100023A1 (en) 2010-02-10 2011-08-18 Qd Vision, Inc. Semiconductor nanocrystals and methods of preparation
KR102098682B1 (ko) 2010-11-10 2020-05-22 나노시스, 인크. 양자 도트 필름들, 조명 디바이스들, 및 조명 방법들
WO2012099653A2 (en) 2010-12-08 2012-07-26 Qd Vision, Inc. Semiconductor nanocrystals and methods of preparation
CN103384595B (zh) * 2010-12-28 2016-08-10 生命科技公司 具有高消光系数的纳米晶体以及这种纳米晶体的制备和使用方法
TWI596188B (zh) 2012-07-02 2017-08-21 奈米系統股份有限公司 高度發光奈米結構及其製造方法
CN103122484B (zh) * 2013-01-10 2015-04-15 华北电力大学 一种调控CsI(Na)晶体发光特性的方法
US10224422B2 (en) * 2014-12-18 2019-03-05 The Regents Of The University Of California Method to fabricate quantum dot field-effect transistors without bias-stress effect
CN104650856B (zh) * 2015-02-26 2017-01-04 江汉大学 一种硫化镉量子点溶液的制备方法
CN107531485B (zh) * 2015-05-15 2021-05-04 富士胶片株式会社 核壳粒子、核壳粒子的制造方法及薄膜
TWI737610B (zh) * 2015-05-20 2021-09-01 美商納諾光子公司 用於改進發光二極體之效率的程序
CN104926155B (zh) * 2015-05-28 2017-09-22 福州大学 一种金属/有机壳核量子点‑半导体量子点复合发光膜的制备方法
EP3347432B1 (de) * 2015-09-10 2019-11-27 Merck Patent GmbH Lichtkonvertierendes material
CN108026444B (zh) 2015-09-15 2020-08-04 3M创新有限公司 添加剂稳定的复合纳米粒子
KR20180054675A (ko) 2015-09-15 2018-05-24 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 첨가제 안정화된 복합 나노입자
JP2018533658A (ja) 2015-10-27 2018-11-15 ルミレッズ リミテッド ライアビリティ カンパニー 発光装置用の波長変換材料
US10899961B2 (en) 2016-02-17 2021-01-26 3M Innovative Properties Company Quantum dots with stabilizing fluorochemical copolymers
CN109476986B (zh) 2016-07-20 2022-07-01 3M创新有限公司 用于量子点的稳定苯乙烯聚合物
CN109476987A (zh) 2016-07-20 2019-03-15 3M创新有限公司 用于量子点的稳定苯乙烯系聚合物
JP6756251B2 (ja) * 2016-11-29 2020-09-16 東洋インキScホールディングス株式会社 量子ドットおよび量子ドット含有組成物
EP3844240B1 (en) * 2018-05-30 2024-02-14 Shoei Chemical Inc. Method for synthesis of blue-emitting znse1-xtex alloy nanocrystals
CN110616072A (zh) * 2018-06-20 2019-12-27 深圳Tcl工业研究院有限公司 一种InP量子点的后处理方法
WO2020073927A1 (zh) * 2018-10-09 2020-04-16 Tcl集团股份有限公司 核壳结构纳米晶的制备方法
US20220158108A1 (en) * 2019-02-27 2022-05-19 Sharp Kabushiki Kaisha Light-emitting element and display device using light-emitting element
KR20200122717A (ko) 2019-04-18 2020-10-28 삼성전자주식회사 리튬 함유 무카드뮴 양자점, 그 제조 방법, 및 이를 포함하는 전자 소자
KR102652436B1 (ko) * 2019-04-18 2024-03-27 삼성전자주식회사 ZnTeSe 기반의 양자점
CN112397657B (zh) * 2019-08-19 2022-05-03 Tcl科技集团股份有限公司 一种改性硫化锌及其制备方法与量子点发光二极管
CN112397671B (zh) * 2019-08-19 2022-08-23 Tcl科技集团股份有限公司 一种改性硫化锌及其制备方法与量子点发光二极管
CN113046064A (zh) * 2019-12-28 2021-06-29 Tcl集团股份有限公司 量子点材料及其制备方法、量子点发光二极管和发光装置
CN111592877B (zh) * 2020-03-02 2021-05-14 河南大学 一种核壳结构量子点及其制备方法
CN113060706B (zh) * 2021-03-23 2024-02-09 中国科学技术大学 一种尺寸可调的胶体ZnSe量子线的制备方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6241819B1 (en) * 1993-04-20 2001-06-05 North American Philips Corp. Method of manufacturing quantum sized doped semiconductor particles
US6322901B1 (en) 1997-11-13 2001-11-27 Massachusetts Institute Of Technology Highly luminescent color-selective nano-crystalline materials
WO2002029140A1 (en) * 2000-10-04 2002-04-11 The Board Of Trustees Of The University Of Arkansas Synthesis of colloidal nanocrystals
US6576291B2 (en) * 2000-12-08 2003-06-10 Massachusetts Institute Of Technology Preparation of nanocrystallites
CN1169906C (zh) * 2000-12-14 2004-10-06 中国科学院长春应用化学研究所 有机/无机纳米硫化镉杂化发光材料的合成方法
AU2002323168A1 (en) * 2001-09-05 2003-03-18 Rensselaer Polytechnic Institute Passivated nanoparticles, method of fabrication thereof, and devices incorporating nanoparticles
WO2003025260A1 (en) * 2001-09-19 2003-03-27 Evergreen Solar, Inc. High yield method for preparing silicon nanocrystals with chemically accessible surfaces
US7147712B2 (en) * 2001-10-02 2006-12-12 Invitrogen Corporation Method of semiconductor nanoparticle synthesis
KR100449860B1 (ko) 2001-12-15 2004-09-22 에스케이 텔레콤주식회사 이동 통신망에서의 심플 인터넷 프로토콜 패킷 망 기반이동 화상전화 서비스 제공 방법
US6878184B1 (en) * 2002-08-09 2005-04-12 Kovio, Inc. Nanoparticle synthesis and the formation of inks therefrom
CN1174080C (zh) * 2002-10-10 2004-11-03 武汉大学 CdSe/CdS或CdSe/ZnS核/壳型量子点的制备方法
US6853669B2 (en) * 2002-12-10 2005-02-08 Ut-Battelle, Llc Nanocrystal waveguide (NOW) laser

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