JP4932758B2 - 発光デバイス及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、エレクトロルミネッセンス層を備えた発光デバイス及びその製造方法に関する。

有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置は、自発光型の表示装置であり、ディスプレイや照明の用途に期待されている。例えば、有機ＥＬディスプレイは、従来のＣＲＴやＬＣＤと比較して視認性が高く、視野角依存性がない等の表示性能上の利点を有している。また、ディスプレイを軽量化、薄層化できる利点もある。その一方、有機ＥＬ照明は、軽量化、薄層化が可能であるとの利点に加え、フレキシブルな基板を用いることでこれまで実現できなかった形状の照明を実現できる可能性を有している。

有機ＥＬディスプレイには、カラーフィルタを用いたトップエミッション式ディスプレイとボトムエミッション式ディスプレイがある。例えば、カラーフィルタ方式のトップエミッション型有機ＥＬディスプレイは、図８に示すようにカラーフィルタがＥＬ層を備えるアレイ側基板に設けられず、従来、以下のＡ、Ｂを別々に作製して、最後に封止接着剤で貼り合わせて製造されるのが通常であった。
（Ａ）アレイ側基板／薄膜トランジスタ（ＴＦＴ；画素）／平坦化層／メタル電極／電子輸送層／ＥＬ発光層（画素）／ホール輸送層／透明電極／保護層
（Ｂ）封止側基板／カラーフィルタ（画素）

しかしながら、アレイ側基板や封止側基板が各プロセスで変形した場合、通常は両者の変形度合は異なりやすいが、基板間の変形度合が異なっていると、両基板上にそれぞれ形成されている画素（上記（Ａ）〜（Ｂ）中の「画素」と付された部位）の位置合せが困難になる。位置合わせ不良の発生は、作製されるディスプレイの色合いや解像度などの表示特性を損ない、その程度によっては製品品質を保てないことがある。

カラーフィルタを構成する画素の形成方法としては、例えばＬＣＤの分野では、ＴＦＴを備えたアレイ側基板上に直接フォトリソグラフィ法を利用して作製する方法が知られている。この方法では、例えば、着色された硬化性の塗布液をアレイ側基板に塗布等して設け、さらに露光後に現像処理が行なわれる。そのため、有機ＥＬディスプレイの製造においては、水分の影響で劣化を来しやすいＥＬ発光層が設けられたアレイ側基板の上に直接、フォトリソグラフィ法でカラーフィルタを形成することは困難である。ＥＬ発光層上を予め保護層等でカバーすることも考えられるが、工程が煩雑化し、コスト面でも不利である。

また、画素電極や発光層が設けられる基板上に、ドナーシートを用いた転写により仕切りパターンを形成し、仕切りパターンで囲まれた開口部にインクジェット法で有機材料を充填して発光層あるいはカラーフィルタを形成する方法が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
特開２００１−１３０１４１号公報

しかしながら、この方法は、発光層を形成するか、あるいは発光層未形成の基板上にカラーフィルタを形成するものであり、発光層形成後に素子とするためにカラーフィルタを設ける場合には、発光層が既に設けられた基板上に直接、液体のインクを接触させなければならず、発光層の劣化の影響を回避するためには、発光層が設けられない別の基板に形成しなければならないのが実状である。

本発明は、上記に鑑みなされたものであり、歩留まりが高く、表示色相や解像度などの表示特性に優れた発光デバイス、並びに位置合わせ（アライメント）不良による表示特性の劣化及び歩留まりの低下を抑えることができる発光デバイスの製造方法を提供することを目的とし、該目的を達成することを課題とする。

前記課題を達成するための具体的手段は以下の通りである。
＜１＞ 第１の電極が設けられた基体と、前記基体の前記第１の電極が設けられている側に配置された透明基板と、前記第１の電極及び前記透明基板の間に設けられ、前記基体の上に配置されたカラーフィルタと、前記第１の電極と前記カラーフィルタとの間に配置されたエレクトロルミネッセンス層と、前記エレクトロルミネッセンス層と前記カラーフィルタとの間に配置された第２の電極と、前記第２の電極と前記カラーフィルタとの間に配置され、支持体上に透明受像層を有する受像シートを用いて転写することで形成された熱接着性の透明受像層と、を備えた発光デバイスである。
＜２＞ 前記透明基板は、透明性の基材フィルム上に有機領域と無機領域とを含むバリア層を有するガスバリアフィルムであることを特徴とする前記＜１＞に記載の発光デバイスである。

＜３＞ 前記バリア層は、少なくとも１層の有機層と少なくとも１層の無機層とを有することを特徴とする前記＜２＞に記載の発光デバイスである。
＜４＞ 更に、前記カラーフィルタと前記透明基板との間に、バインダーと光散乱粒子とを含有する散乱部材を備えたことを特徴とする前記＜１＞〜前記＜３＞のいずれか１つに記載の発光デバイスである。
＜５＞ 前記透明受像層は、バインダーと光散乱粒子とを含有することを特徴とする前記＜１＞〜前記＜４＞のいずれか１つに記載の発光デバイスである。
＜６＞ 前記エレクトロルミネッセンス層が、有機エレクトロルミネッセンス層であることを特徴とする前記＜１＞〜前記＜５＞のいずれか１つに記載の発光デバイスである。

＜７＞ レーザー波長域に透明性を有する支持体上に該支持体側から順にレーザー光を熱に変換する光熱変換層と色材を含む熱転写層とを有するレーザー熱転写シートを、基体上にエレクトロルミネッセンス層を備えた発光デバイスの前記エレクトロルミネッセンス層の上にさらに支持体上に透明受像層を有する受像シートを用いて転写することで設けられた熱接着性の透明受像層に、前記熱転写層が接触するように設置し、前記発光デバイス上の所定位置に合わせて前記レーザー熱転写シートの支持体側からレーザー光を照射し、前記レーザー熱転写シートを除去することにより、レーザー光が照射された領域の前記熱転写層を前記透明受像層の上に転写してカラーフィルタ層を配設する発光デバイスの製造方法である。

＜８＞ レーザー波長域に透明性を有する支持体上に該支持体側から順にレーザー光を熱に変換する光熱変換層と色材を含む熱転写層とを有するレーザー熱転写シートを、基体上にエレクトロルミネッセンス層を備えた発光デバイスの前記基体の表面にさらに支持体上に透明受像層を有する受像シートを用いて転写することで設けられた熱接着性の透明受像層に、前記熱転写層が接触するように設置し、前記発光デバイス上の所定位置に合わせて前記レーザー熱転写シートの支持体側からレーザー光を照射し、前記レーザー熱転写シートを除去することにより、レーザー光が照射された領域の前記熱転写層を前記透明受像層に転写してカラーフィルタ層を配設する発光デバイスの製造方法である。

＜９＞ 前記熱転写層の色相が異なる複数のレーザー熱転写シートを用い、所望の色相数の前記レーザー熱転写シートを順次交換して前記転写を繰り返し行ない、多色のカラーフィルタ層を配設することを特徴とする前記＜７＞又は前記＜８＞に記載の発光デバイスの製造方法である。
＜１０＞ 前記エレクトロルミネッセンス層が、有機エレクトロルミネッセンス層であることを特徴とする前記＜７＞〜前記＜９＞のいずれか１つに記載の発光デバイスの製造方法である。
＜１１＞ 前記受像シートは、支持体上に、該支持体側から順にクッション層及び透明受像層を有する前記＜７＞〜前記＜１０＞のいずれか１つに記載の発光デバイスの製造方法である。
＜１２＞ 前記＜７＞〜前記＜１１＞のいずれか１つに記載の発光デバイスの作製方法により作製された発光デバイスである。

本発明によれば、歩留まりが高く、表示色相や解像度などの表示特性に優れた発光デバイスを提供することができる。また、
本発明によれば、位置合わせ（アライメント）不良による表示特性の劣化及び歩留まりの低下を抑えることができる発光デバイスの製造方法を提供することができる。

以下、本発明の発光デバイス及びその製造方法について詳細に説明する。
本発明の発光デバイスは、陽極、陰極の一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄膜を形成した表示装置であり、具体的には、第１の電極が設けられた基体と、前記基体の第１の電極が設けられている側に配置された透明基板と、前記第１の電極及び前記透明基板の間に設けられ、前記基体の上に配置されたカラーフィルタと、前記第１の電極と前記カラーフィルタとの間に配置されたエレクトロルミネッセンス層と、前記エレクトロルミネッセンス層と前記カラーフィルタとの間に配置された第２の電極と、前記第２の電極と前記カラーフィルタとの間に配置され、支持体上に透明受像層を有する受像シートを用いて転写することで形成された熱接着性の透明受像層とを設けて構成されたものであり、第１の電極、エレクトロルミネッセンス層、第２の電極、及び透明受像層が設けられた基体側にカラーフィルタが配設されている。
エレクトロルミネッセンス層は、発光層のほか、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層を有してもよい。また、更にバリア層などの他の層を有してもよい。正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、バリア層などの各層は、それぞれ他の機能を備えたものであってもよい。

本発明の発光デバイスには、エレクトロルミネッセンス層とカラーフィルタとを備えてカラー発光が行なえる構造を有するものであれば、特に制限はなく、例えば、画像表示を行なう表示装置、照明装置などが含まれる。
また、エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略記することがある。）層は、白色発光する層、又は赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）、黄（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）等の１色又は２色以上の着色光を発する層のいずれであってもよく、有機ＥＬ層、無機ＥＬ層などが含まれる。

本発明の発光デバイスについて、有機ＥＬ表示装置を例に図１〜図７を参照して具体的に説明する。
図１に示すように、有機ＥＬ表示装置１００は、下部電極（陽極）と共にソース電極やドレイン電極等（不図示）の各種電極及びＴＦＴ１０が設けられたガラス基板１１上に、ＴＦＴ等上に重ねるように、赤色に自発光する赤発光ＥＬ層１２Ｒ、緑色に自発光する緑発光ＥＬ層１２Ｇ、青色に自発光する青発光ＥＬ層１２Ｂからなる有機ＥＬ層１２が設けられている。

有機ＥＬ層１２を構成する赤発光ＥＬ層１２Ｒ、緑発光ＥＬ層１２Ｇ、青発光ＥＬ層１２Ｂは、それぞれ発光層のほか、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層を場合により選択して設けることにより形成される。

発光層の材料は、電界印加時に陽極又は正孔注入層、正孔輸送層から正孔を注入することができると共に、陰極又は電子注入層、電子輸送層から電子を注入することができる機能や、注入された電荷を移動させる機能、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機能を有する層を形成することができるものであればよい。
好ましくは、発光層に用いる発光材料としては、例えば、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、スチリルベンゼン誘導体、ポリフェニル誘導体、ジフェニルブタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ナフタルイミド誘導体、クマリン誘導体、ペリレン誘導体、ペリノン誘導体、オキサジアゾール誘導体、アルダジン誘導体、ピラリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体、キナクリドン誘導体、ピロロピリジン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、スチリルアミン誘導体、芳香族ジメチリディン化合物、８−キノリノール誘導体の金属錯体や希土類錯体に代表される各種金属錯体等、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物等が挙げられる。
発光層の厚みは、特に限定されるものではないが、通常は１ｎｍ〜５μｍの範囲が好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。

発光層の形成は、特に限定されるものではないが、抵抗加熱蒸着、電子ビーム、スパッタリング、分子積層法、コーティング法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）、ＬＢ法などの方法により行なえる。好ましくは、抵抗加熱蒸着、コーティング法である。

正孔注入層、正孔輸送層の材料は、陽極から正孔を注入する機能、正孔を輸送する機能、陰極から注入された電子を障壁する機能のいずれかを有しているものであればよい。その具体例としては、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）誘導体、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマー等が挙げられる。
正孔注入層、正孔輸送層の厚みは、特に限定されるものではないが、通常は１ｎｍ〜５μｍの範囲が好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。正孔注入層、正孔輸送層は、上述した材料の１種又は２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。

正孔注入層、正孔輸送層の形成は、真空蒸着法やＬＢ法、前記正孔注入輸送剤を溶媒に溶解又は分散させてコーティングする方法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）により行える。コーティング法の場合、樹脂成分と共に溶解又は分散することができ、樹脂成分としては、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド、エチルセルロース、酢酸ビニル、ＡＢＳ樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂などが挙げられる。

電子注入層、電子輸送層の材料は、陰極から電子を注入する機能、電子を輸送する機能、陽極から注入された正孔を障壁する機能のいずれか有しているものであればよい。その具体例としては、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、８−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体等が挙げられる。
電子注入層、電子輸送層の厚みは、特に限定されるものではないが、通常は１ｎｍ〜５μｍの範囲が好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。電子注入層、電子輸送層は、上述した材料の１種又は２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。

電子注入層、電子輸送層の形成は、真空蒸着法やＬＢ法、前記電子注入輸送剤を溶媒に溶解又は分散させてコーティングする方法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）などにより行なえる。コーティング法の場合、樹脂成分と共に溶解又は分散することができ、樹脂成分としては、例えば、正孔注入輸送層の場合に例示したものが適用できる。

本発明の発光デバイスにおいては、図１に示す有機ＥＬ表示装置１００のように、カラーフィルタ１６のパターンに合わせて、ＲＧＢの各色にそれぞれ発光するＥＬ層（画素）がパターン状に配列された有機ＥＬ層１２が設けられた形態のほか、図２に示すように、白色発光する有機ＥＬ層２２を設け、カラーフィルタ１６により多色を得る形態に構成されてもよい。

陽極は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層などに正孔を供給するものであり、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、又はこれらの混合物などを用いることができる。好ましくは、仕事関数が４ｅＶ以上の材料である。具体例としては、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム・酸化亜鉛（ＩＺＯ：Indium Zinc Oxide）等の導電性金属酸化物、あるいは金、銀、クロム、ニッケル等の金属、さらにこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物又は積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、及びこれらとＩＴＯとの積層物などが挙げられる。好ましくは、導電性金属酸化物であり、特に、生産性、高導電性、透明性等の点からＩＴＯ、ＩＺＯが好ましい。
陽極の厚みは、材料により適宜選択可能であるが、通常は１０ｎｍ〜５μｍの範囲が好ましく、より好ましくは５０ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１００ｎｍ〜５００ｎｍである。

陽極は通常、ソーダライムガラス、無アルカリガラス、透明樹脂基板などの上に層形成されたものが用いられる。ガラスを用いる場合、その材質については、ガラスからの溶出イオンを少なくするため、無アルカリガラスを用いることが好ましい。また、ソーダライムガラスを用いる場合、シリカなどのバリアコートを施したものを使用することが好ましい。基板の厚みは、機械的強度を保つのに十分であれば特に制限はないが、ガラスを用いる場合には、通常は０．２ｍｍ以上であり、好ましくは０．７ｍｍ以上のものを用いる。
陽極のシート抵抗は低い方が好ましく、数百Ω／□以下が好ましい。

陽極の作製には、材料によって種々の方法が用いられるが、例えばＩＴＯの場合、電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、化学反応法（ゾルーゲル法など）、酸化インジウム・スズの分散物の塗布などの方法で膜形成される。陽極は、洗浄その他の処理により、表示装置の駆動電圧を下げたり、発光効率を高めることも可能である。例えばＩＴＯの場合、ＵＶ−オゾン処理などが効果的である。

上記の有機ＥＬ層１２の上には、有機ＥＬ層を覆うように共通上部電極（陰極）１３が形成されている。
陰極は、電子注入層、電子輸送層、発光層などに電子を供給するものであり、電子注入層、電子輸送層、発光層などの負極と隣接する層との密着性やイオン化ポテンシャル、安定性等を考慮して選ばれる。陰極の材料としては金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、又はこれらの混合物を用いることができる。具体例としては、アルカリ金属（例えばＬｉ、Ｎａ、Ｋ等）又はそのフッ化物、アルカリ土類金属（例えばＭｇ、Ｃａ等）又はそのフッ化物、金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金又はそれらの混合金属、リチウム−アルミニウム合金又はそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金又はそれらの混合金属、インジウム、イッテリビウム等の希土類金属等が挙げられる。好ましくは、仕事関数が４ｅＶ以下の材料であり、より好ましくはアルミニウム、リチウム−アルミニウム合金又はそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金又はそれらの混合金属等である。陰極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常は１０ｎｍ〜５μｍの範囲が好ましく、より好ましくは５０ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１００ｎｍ〜１μｍである。

陰極の作製には、電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、コーティング法などの方法が用いられ、金属を単体で蒸着することも、二成分以上を同時に蒸着することもできる。さらに、複数の金属を同時に蒸着して合金電極を形成することも可能であり、また、予め調製した合金を蒸着させてもよい。
陰極のシート抵抗は低い方が好ましく、数百Ω／□以下が好ましい。

また、陰極上に後述するガスバリアフィルムを貼り合せて、ガスの浸入を防ぐと共に、ディスプレイ表面に保護層を形成してもよい。ガスバリアフィルムについては後述する。

パシベーション層１４は、図１に示すように、共通上部電極（陰極）１３上に有機ＥＬ層等を含む全体を覆うようにして設けられており、有機ＥＬ層等の劣化を促進する水分や酸素等の進入を抑止する。

バリア層を構成する材料は、有機ＥＬ層等の劣化を促進する水分や酸素等が内部に進入するのを抑止する機能を有しているものであればよい。その具体例としては、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｎｉ等の金属、ＭｇＯ、ＳｉＯ、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＧｅＯ、ＮｉＯ、ＣａＯ、ＢａＯ、Ｆｅ_２Ｏ_３ 、Ｙ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２等の金属酸化物、ＳｉＮ_２等の金属窒化物、ＳｉＯＮ等の金属酸窒化物、ＭｇＦ_２、ＬｉＦ、ＡｌＦ_３、ＣａＦ_２等の金属フッ化物、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレート、ポリイミド、ポリウレア、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリジクロロジフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレンとジクロロジフルオロエチレンとの共重合体、テトラフルオロエチレンと少なくとも１種のコモノマーとを含むモノマー混合物を共重合させて得られる共重合体、共重合主鎖に環状構造を有する含フッ素共重合体、吸水率１％以上の吸水性物質、吸水率０．１％以下の防湿性物質等が挙げられる。

パシベーション層の形成方法には、特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、ＭＢＥ（分子線エピタキシ）法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法（高周波励起イオンプレーティング法）、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、ガスソースＣＶＤ法、コーティング法を適用できる。

透明受像層１５は、パシベーション層１４上に積層されており、後述するようにカラーフィルタを転写形成する際にレーザーでの発熱で接着性を高めて着色された熱転写層の転写性を向上する。カラーフィルタを形成する領域に透明受像層を予め形成しておくことにより、図４に示すようにエッジのシャープな像転写（いわゆる薄膜転写）が可能であり、精細で解像度の良好なカラーフィルタを形成することができる。

透明受像層は、樹脂材料を用い、熱接着性に構成されていることが好ましい。熱接着性とは、熱が与えられないときには接着性が小さく、熱が与えられたときに接着性を示す性質をいう。
透明受像層を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン；エチレンと酢酸ビニルあるいはエチレンとアクリル酸エステルの如きエチレン共重合体；ポリ塩化ビニル；塩化ビニルと酢酸ビニルの如き塩化ビニル共重合体；ポリ塩化ビニリデン；塩化ビニリデン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル；共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロンの如きポリアミド樹脂；アクリルゴムなどの合成ゴム；塩化ゴム等の有機高分子重合体、更には、酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、アルキルアクリレート／アクリルアミド共重合体、変成ポリビニルアルコール、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、マレイン酸樹脂、ヒドロキシスチレン共重合体、スルフォンアミド樹脂、セルロース樹脂、エステルガム及びロジンを挙げることができる。特に、受像層は、ポリビニルブチラール及びアルキルアクリレート／アクリルアミド共重合体を用いて構成されていることが好ましい。

これらの樹脂の中には、各種界面における接着力の関係を満たすために、他の密着改良剤、可塑剤、離型剤、界面活性剤を添加することができる。

透明受像層の厚みは、０．１μｍ〜１０μｍの範囲（更に好ましくは０．５μｍ〜５μｍ）にあることが好ましい。

透明受像層１５は、前記樹脂材料を含む樹脂液を塗布等して形成する方法も挙げられるが、有機ＥＬ層への水分の影響を回避する点から、本発明においては、支持体上にクッション層及び透明受像層が支持体側から順に設けられた受像シートを用い、透明受像層のみをパシベーション層１４の表面に転写することにより形成する。

前記受像シートを構成する支持体は、通常、化学的及び熱的に安定なプラスチック製支持体であり、プラスチック材料としては、例えば、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエーテルサルフォン、ポリイミド、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン）、ポリ塩化ビニル、ポリウレタン、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリレート及び酢酸セルロースを挙げることができる。これらの中では、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンが好ましく、特に寸度安定性などの点から、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。
プラスチック製支持体の厚みは、５０〜２５０μｍの範囲が好ましく、更に好ましくは、７５〜１５０μｍの範囲である。なお、クッション層を設ける側の支持体の表面は、該中間層形成用塗布液を塗布するのに有利なように下塗り処理、また接着力を上げるためにコロナ放電処理、グロー放電処理などの表面処理が施されてもよいし、あるいはアンダーコート層が設けられてもよい。アンダーコート層としては、支持体とクッション層の接着力を上げるものなら限定はないが、特にシランカップリング剤が好適である。更に、支持体は、帯電防止処理、マット処理が施されていてもよい。

前記クッション層は、樹脂材料で構成されていることが好ましい。樹脂材料としては、前記透明樹脂層に使用可能な有機高分子重合体から少なくとも１つ選ばれるのが好ましい。これらの中では、特に重合度が２００〜２０００の高分子重合体（ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合体、塩化ビニルとビニルアルコールの共重合体、塩化ビニルと酢酸ビニルとマレイン酸の共重合体）が好適である。その理由は、ポリ塩化ビニル及び塩化ビニル共重合体は、常温での粘着性が殆ど無いこと、弾性率が比較的小さく、熱転写時に転写画像の凹凸に容易に追従可能なこと、共重合成分中の水酸基あるいはカルボキシル基の効果で層間密着力のコントロールが容易なこと、そして特に可塑剤により弾性率のコントロールが容易なことなどが挙げられる。

クッション層の厚みは、１μｍ〜５０μｍ（更に好ましくは５μｍ〜３０μｍ）の範囲が好ましい。その理由は、被転写体となる有機ＥＬ層が設けられた基板（ここではパシベーション層）の表面凹凸より厚くする必要があること、付着したゴミを吸収し得る厚みが必要なこと、充分なクッション性を得るにはこの程度の厚みが必要なこと等が挙げられる。また、クッション層は、２００ｋｇ・ｆ／ｃｍ²以下の弾性率で形成されていることが好ましい。弾性率を小さくすることにより、透明受像層にクッション性が生じる。

前記有機高分子重合体には、さらに可塑剤を添加することができる。可塑剤の詳細については、特開平９−１６９１６５号公報の段落番号［００５０］の記載を参照することができる。また、各種ポリマーや密着改良剤、界面活性剤、離型剤を加えてもよい。
更に、高分子重合体として塩化ビニル系樹脂を使用する場合には、ポリ塩化ビニル及び塩化ビニル共重合体の安定化剤として一般に知られるブチル錫系安定剤あるいはオクチル錫系安定剤等の有機錫系安定剤を添加することも有効である。

また、有機ＥＬ層が設けられた基板上（ここではパシベーション層上）への転写時に受像シートの剥離で層間剥離をクッション層の有機高分子物質と受像層の有機高分子物質の間で起こさせるには、各層間の密着力のバランスが重要である。層間密着力をコントロールするには、重層塗布時の混合を防ぐために、塗布溶剤の選択の他に、親水性ポリマーと親油性ポリマーあるいは極性ポリマーと非極性ポリマーの組み合わせといった素材の選択、シランカップリング剤等の密着改良剤、フッ素系やシリコーン系の離型効果を有する各種添加剤、界面活性剤をクッション層あるいは受像層に添加することが有効である。

透明受像層の上には、透明受像層の滑り性や耐傷性を向上させる目的で、上塗層として、種々の離型剤や滑剤の層を設けることができる。具体的には、例えばパルミチン酸、ステアリン酸等の高級脂肪酸、ステアリン酸亜鉛の如き脂肪酸金属塩類、脂肪酸エステル類もしくはその部分ケン化物、脂肪酸アミド類等の脂肪酸誘導体、高級アルコール類、多価アルコール類のエーテル等誘導体、パラフインワックス、カルナバワックス、モンタンワックス、ミツロウ、木ロウ、キヤンデリラワックス等のワックス類、更には長鎖脂肪族基を有するアンモニウム塩、ピリジニウム塩等のカチオン性界面活性剤、或いは同様に長鎖脂肪族基を有するアニオン、ノニオン界面活性剤、パーフロロ系界面活性剤等から１種以上選択して用いることができる。

カラーフィルタ１６は、上記の、基板上（パシベーション層上）へ既に転写された透明受像層上に形成されている。本発明においては、カラーフィルタを、既に有機ＥＬ層が形成された基板上の有機ＥＬ層の上方に直接設けるため、後述のレーザー熱転写シートを用いたレーザー転写により、有機ＥＬ層の劣化を招来せずに好適にカラーフィルタを形成することができる。
上記では、透明受像層１５の上にカラーフィルタ１６を形成する場合を説明したが、図３に示すように、透明受像層を設けずに、パシベーション層１４の表面に直接、カラーフィルタを形成してもよい。

透明受像層１５を配設した上にカラーフィルタを転写形成する際、既述のようにレーザー熱転写シートを用いて熱転写層を透明受像層１５に接触させた状態でレーザー照射し、レーザー転写する薄膜転写を行なうので、図４に示すように、昇華方式やアブレーション方式、溶融転写方式による転写に比べ、転写像のエッジがよりシャープな画像を形成することが可能である。

散乱部材１７は、カラーフィルタの露出面に形成されており、カラーフィルタを通過する光の光取出し効率が高められるようになっている。散乱部材１７は、アクリル系共重合体（バインダー）とＺｒＯ_２フィラー（屈折率調整用無機微粒子）とポリメチルメタクリレート系ビーズ（光散乱粒子）とを含有している。散乱部材は、この組成に限らず、バインダーと光散乱粒子とを含む組成の中から任意に選択して形成することができる。

散乱部材を構成するバインダーには、粘着剤、接着剤、透光性樹脂が含まれる。また、バインダーには、屈折率調整用に無機微粒子を混合することができる。

前記粘着剤の素材としては、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエーテル系粘着剤、ポリエステル系粘着剤等の感圧系の粘着剤が好ましい。
前記アクリル系粘着剤の場合、ベースポリマーであるアクリル系重合体に使用されるモノマーとして、各種（メタ）アクリル酸エステルを使用できる（以下、「（メタ）アクリル」の表記は、アクリル及びメタクリルの双方を含む。）。（メタ）アクリル酸エステルの具体例としては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル等が挙げられ、これらを単独もしくは組合せて使用できる。また、得られるアクリル系重合体に極性を付与するために、前記（メタ）アクリル酸エステルの一部に代えて（メタ）アクリル酸を少量使用することもできる。さらに、架橋性単量体として（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド等も併用できる。更に、所望により、（メタ）アクリル酸エステル重合体の粘着特性を損なわない範囲で、他の共重合可能な単量体、例えば酢酸ビニル、スチレン等を併用できる。
前記ゴム系粘着剤の場合、ベースポリマーとしては、例えば、天然ゴム、イソプレン系ゴム、スチレン−ブタジエン系ゴム、再生ゴム、ポリイソブチレン系ゴム、さらにはスチレン−イソプレン−スチレン系ゴム、スチレン−ブタジエン−スチレン系ゴム等が挙げられる。
前記シリコーン系粘着剤の場合、ベースポリマーとしては、例えば、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン等が挙げられる。
前記ポリエーテル系粘着剤の場合、ベースポリマーとしては、例えば、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルブチルエーテル、ポリビニルイソブチルエーテル等が挙げられる。

前記粘着剤は、架橋剤を含有することができる。架橋剤としては、ポリイソシアネート化合物、ポリアミン化合物、メラミン樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。また、粘着剤には、必要に応じて、さらに従来公知の、粘着付与剤、可塑剤、充填剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等を、本発明の目的を逸脱しない範囲で各適宜に使用することもできる。

粘着剤は、上記の素材に加えて、これに高屈折率を有するモノマー及び／又は高屈折率を有する金属酸化物超微粒子等を含有させてもよい。高屈折率モノマーの例には、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。高屈折率を有する金属酸化物超微粒子の例には、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、及びアンチモンから選ばれる少なくとも１つの酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子を含有することが好ましい。高屈折率を有する金属酸化物超微粒子としては、Ａｌ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｉｎ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物超微粒子が好ましく、具体例としては、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＩＴＯ等が挙げられる。これらの中でも、特にＺｒＯ_２が好ましく用いられる。高屈折率のモノマーや金属酸化物超微粒子の添加量は、粘着剤の全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であると更に好ましい。

また、粘着剤は、上記の素材に加えて、これに低屈折率を有する超微粒子等を含有させてもよい。低屈折率を有する超微粒子の例には、粒径１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下のシリカ微粒子を含有することが好ましい。また、粒子中に空気を含有してより低屈折率を発現する中空シリカを用いてもよい。低屈折率の超微粒子の添加量は、接着剤の全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であると更に好ましい。

有機ＥＬ表示装置に粘着剤を用いて散乱部材を形成する形成方法としては、特に制限されず、有機ＥＬ表示装置に粘着剤の溶液を塗布、乾燥させる方法、粘着剤が設けられた離型シートにより転写する方法、等の従来公知の方法が挙げられる。
粘着剤を用いた散乱部材の厚みは、特に限定されないが、乾燥膜厚で０．１〜４０．０μｍ程度とするのが好ましく、０．５〜１０．０μｍ程度とするのがより好ましく、１．０〜７．５μｍとするのが最も好ましい。

次に、散乱部材を構成するバインダーである接着剤について述べる。
接着剤は、加熱又は加圧により流動する接着剤であることが好ましく、特に２００℃以下の加熱又は１ｋｇｆ／ｃｍ^２以上の加圧により流動性を示す接着剤であることが好ましい。このような接着剤を用いることにより、透明基板等の部材を被着体であるディスプレイやプラスチック板に接着剤を流動させて接着することができる。流動するので、光学フィルムを被着体にラミネートや加圧成形、特に加圧成形により、また曲面、複雑形状を有する被着体にも容易に接着することができる。このためには、接着剤の軟化温度が２００℃以下であると好ましい。

加熱又は加圧により流動する接着剤としては、主に以下に示す熱可塑性樹脂が代表的なものとして挙げられる。例えば、天然ゴム(屈折率ｎ=1.52)、ポリイソプレン(n=1.521)、ポリ−１，２−ブタジエン(n=1.50)、ポリイソブテン(n=1.505〜1.51)、ポリブテン(n=1.513)、ポリ−２−ヘプチル−１，３−ブタジエン(n=1.50)、ポリ−２−ｔ−ブチル−１，３−ブタジエン(n=1.506)、ポリ−１，３−ブタジエン(n=1.515)などの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン(n=1.456)、ポリオキシプロピレン(n=1.450)、ポリビニルエチルエーテル(n=1.454)、ポリビニルヘキシルエーテル(n=1.459)、ポリビニルブチルエーテル(n=1.456)などのポリエーテル類、ポリビニルアセテート(n=1.467)、ポリビニルプロピオネート(n=1.467)などのポリエステル類、ポリウレタン(n=1.5〜1.6)、エチルセルロース(n=1.479)、ポリ塩化ビニル(n=1.54〜1.55)、ポリアクリロニトリル(n=1.52)、ポリメタクリロニトリル(n=1.52)、ポリスルホン(n=1.633)、ポリスルフィド(n=1.6)、フェノキシ樹脂(n=1.5〜1.6)、ポリエチルアクリレート(n=1.469)、ポリブチルアクリレート(n=1.466)、ポリ−２−エチルヘキシルアクリレート(n=1.463)、ポリ−ｔ−ブチルアクリレート(n=1.464)、ポリ−３−エトキシプロピルアクリレート(n=1.465)、ポリオキシカルボニルテトラメチレン(n=1.465)、ポリメチルアクリレート(n=1.472〜1.480)、ポリイソプロピルメタクリレート(n=1.473)、ポリドデシルメタクリレート(n=1.474)、ポリテトラデシルメタクリレート(n=1.475)、ポリ−ｎ−プロピルメタクリレート(n=1.484)、ポリ−３，３，５−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート(n=1.484)、ポリエチルメタクリレート(n=1.485)、ポリ−２−ニトロ−２−メチルプロピルメタクリレート(n=1.487)、ポリ−１，１−ジエチルプロピルメタクリレート(n=1.489)、ポリメチルメタクリレート(n=1.489)などのポリ（メタ）アクリル酸エステルが使用可能である。これらのアクリルポリマーは、必要に応じて、２種以上共重合してもよいし、２種類以上をブレンドして使用することも可能である。

接着剤に用いるポリマーの軟化温度は、取扱い性から２００℃以下が好適で、１５０℃以下がさらに好ましい。光拡散フィルムの用途から、使用される環境が通常８０℃以下であるので接着剤層の軟化温度は、加工性から８０〜１２０℃が最も好ましい。一方、ポリマーの質量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる標準ポリスチレンの検量線を用いて測定したもの、以下同様）は、５００以上のものを使用することが好ましい。分子量が５００未満では接着剤組成物の凝集力が低すぎるために被着体への密着性が低下するおそれがある。
接着剤には、必要に応じて、希釈剤、可塑剤、酸化防止剤、充填剤、着色剤、紫外線吸収剤や粘着付与剤などの添加剤を配合してもよい。
接着剤の層の厚みは、１〜５０μｍであることが好ましく、１〜２０μｍであることが特に好ましい。

接着剤の材料としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂やビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ポリアルコール・ポリグリコール型エポキシ樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂、脂環式やハロゲン化ビスフェノールなどのエポキシ樹脂（いずれも屈折率が1.55〜1.60）を使うことができる。
エポキシ樹脂以外では、天然ゴム(n=1.52)、ポリイソプレン(n=1.521)、ポリ１，２−ブタジエン(n=1.50)、ポリイソブテン(n=1.505〜1.51)、ポリブテン(n=1.5125)、ポリ−２−ヘプチル−１，３−ブタジエン(n=1.50)、ポリ−２−ｔ−ブチル−１，３−ブタジエン(n=1.506)、ポリ−１，３−ブタジエン(n=1.515)などの（ジ)エン類、ポリオキシエチレン(n=1.4563)、ポリオキシプロピレン(n=1.4495)、ポリビニルエチルエーテル(n=1.454)、ポリビニルヘキシルエーテル(n=1.4591)、ポリビニルブチルエーテル(n=1.4563)などのポリエーテル類、ポリビニルアセテート(n=1.4665)、ポリビニルプロピオネート(n=1.4665)などのポリエステル類、ポリウレタン(n=1.5〜1.6)、エチルセルロース(n=1.479)、ポリ塩化ビニル(n=1.54〜1.55)、ポリアクリロニトリル(n=1.52)、ポリメタクリロニトリル(n=1.52)、ポリスルホン(n=1.633)、ポリスルフィド(n=1.6)、フェノキシ樹脂(n=1.5〜1.6)などを挙げることができる。これらは、好適な可視光透過率を発現する。

さらに上記の樹脂以外に、ポリエチルアクリレート(n=1.4685)、ポリブチルアクリレート(n=1.466)、ポリ−２−エチルヘキシルアクリレート(n=1.463)、ポリ−ｔ-ブチルアクリレート(n=1.4638)、ポリ−３−エトキシプロピルアクリレート(n=1.465)、ポリオキシカルボニルテトラメタクリレート(n=1.465)、ポリメチルアクリレート(n=1.472〜1.480)、ポリイソプロピルメタクリレート(n=1.4728)、ポリドデシルメタクリレート(n=1.474)、ポリテトラデシルメタクリレート(n=1.4746)、ポリ−ｎ−プロピルメタクリレート(n=1.484)、ポリ−３，３，５−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート(n=1.484)、ポリエチルメタクリレート(n=1.485)、ポリ−２−ニトロ−２−メチルプロピルメタクリレート(n=1.4868)、ポリテトラカルバニルメタクリレート(n=1.4889)、ポリ−１，１−ジエチルプロピルメタクリレート(n=1.4889)、ポリメチルメタクリレート(n=1.4893)などのポリ（メタ)アクリル酸エステルが使用可能である。これらのアクリルポリマーは、必要に応じて、２種以上共重合してもよいし、２種類以上をブレンドして用いることもできる。

さらに、アクリル系モノマーとアクリル系以外のモノマーとの共重合樹脂としては、エポキシアクリレート(n=1.48〜1.60)、ウレタンアクリレート(n=1.5〜1.6)、ポリエーテルアクリレート(n=1.48〜1.49)、ポリエステルアクリレート(n=1.48〜1.54)なども使うこともできる。特に接着性の点から、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートが優れており、エポキシアクリレートとしては、１、６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、アリルアルコールジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル等の（メタ）アクリル酸付加物が挙げられる。エポキシアクリレートは分子内に水酸基を有するため接着性向上に有効であり、これらの共重合樹脂は必要に応じて、２種以上併用することができる。
接着剤の主成分となるポリマーの質量平均分子量は、１，０００以上のものが使われる。分子量が１，０００以下であると、組成物の凝集力が低すぎるために、被着体への密着性が低下する。

接着剤は、上記材料に加えて、これに高屈折率を有するモノマー及び／又は高屈折率を有する金属酸化物超微粒子等を含有させてもよい。高屈折率モノマーの例には、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。高屈折率を有する金属酸化物超微粒子の例には、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つの酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子を含有することが好ましい。高屈折率を有する金属酸化物超微粒子としてはＡｌ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｉｎ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物超微粒子が好ましく、具体例としては、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＩＴＯ等が挙げられる。これらの中でも、特にＺｒＯ_２が好ましく用いられる。
高屈折率のモノマーや金属酸化物超微粒子の添加量は、接着剤の全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であると更に好ましい。

また、接着剤は、上記材料に加えて、これに低屈折率を有する超微粒子等を含有させてもよい。低屈折率を有する超微粒子の例には、粒径１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下のシリカ微粒子を含有することが好ましい。また、粒子中に空気を含有してより低屈折率を発現する中空シリカを用いてもよい。低屈折率の超微粒子の添加量は、接着剤の全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であると更に好ましい。

接着剤には、硬化剤（架橋剤）を用いてもよい。架橋剤としては、トリエチレンテトラミン、キシレンジアミン、ジアミノジフェニルメタンなどのアミン類、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水ドデシルコハク酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸などの酸無水物、ジアミノジフェニルスルホン、トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、ポリアミド樹脂、ジシアンジアミド、エチルメチルイミダゾールなどが挙げられる。 これらは、単独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。
架橋剤の添加量は、前記ポリマー１００質量部に対して、０．１〜５０質量部が好ましく、より好ましくは１〜３０質量部の範囲で選択するのがよい。この添加量は、０．１質量部以上であると硬化が良好であり、５０質量部以下であると過剰架橋にならず接着性への悪影響もない。接着剤の樹脂組成物には、必要に応じて、希釈剤、可塑剤、酸化防止剤、充填剤や粘着付与剤などの添加剤を配合してもよい。そして、この接着剤の樹脂組成物は、透明プラスチック基材の表面に導電性材料で描かれた幾何学図形を設けた構成材料の基材の一部又は全面を被覆するために、塗布され、溶媒乾燥、加熱硬化工程をへたのち、本発明に係る接着フィルムにする。上記で得られた電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルムは、該接着フィルムの接着剤によりＣＲＴ、ＰＤＰ、液晶、ＥＬなどのディスプレイに直接貼り付け使用したり、アクリル板、ガラス板等の板やシートに貼り付けてディスプレイに使用する。

接着剤は、ディスプレイ本来の表示色を変化させないために無色であることが好ましい。ただし、樹脂自体が有色であっても接着剤の厚みが薄い場合には実質的には無色とみなすことが可能である。また、紫外線吸収や赤外線吸収を目的に該波長域の光を吸収する材料を混在させてもよい。

上記の特性を有する接着剤としては、例えば、アクリル系樹脂、α−オレフィン樹脂、酢酸ビニル系樹脂、アクリル共重合物系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、塩化ビニリデン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、エチレン−ビニルアセテート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂等が挙げられる。これらの内、アクリル系樹脂が好ましい。同じ樹脂を用いる場合でも、接着剤を重合法により合成する際に架橋剤の添加量を下げる、粘着性付与材を加える、分子の末端基を変化させるなどの方法によって、粘着性を向上させることも可能である。また、同じ接着剤を用いても、接着剤を貼り合わせる面、すなわち、透明プラスチックフィルム又はガラス板の表面改質を行なうことにより密着性を向上させることも可能である。このような表面の改質方法としては、コロナ放電処理、プラズマグロー処理等の物理的手法、密着性を向上させるための下地層を形成するなどの方法が挙げられる。

有機ＥＬ表示装置に接着剤を用いて散乱部材を形成する方法としては、特に制限されず、有機ＥＬ表示装置に接着剤の溶液を塗布し紫外線を照射する方法等の従来公知の方法が挙げられる。接着剤層の厚みは、特に限定されないが、乾燥膜厚で０．１〜４０．０μｍ程度とするのが好ましく、０．５〜１０．０μｍ程度とするのがより好ましく、１．０〜７．５μｍとするのが最も好ましい。

前記透光性樹脂としては、主として紫外線・電子線によって硬化する樹脂、すなわち電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂に熱可塑性樹脂と溶剤を混合したもの、熱硬化型樹脂の３種類が使用される。

透光性樹脂は、飽和炭化水素又はポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。また、バインダーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているバインダーを得るためには、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，３，５−シクロヘキサントリオールトリメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンの誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）及びメタクリルアミドが含まれる。これらの中でも、少なくとも３つの官能基を有するアクリレートもしくはメタアクリレートモノマー、さらには少なくとも５つの官能基を有するアクリレートモノマーが、膜硬度、即ち耐傷性の観点で好ましい。ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物が市販されており、特に好ましく用いられる。

前記エチレン性不飽和基を有するモノマーは、各種の重合開始剤その他添加剤と共に、溶剤に溶解、塗布、乾燥後、電離放射線又は熱による重合反応により硬化することができる。

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わり又はそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造をバインダーに導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、架橋性を示す官能基は、直ぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋性官能基を有するバインダーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。

透光性樹脂は、前記バインダーポリマーに加えて、これに高屈折率を有するモノマーを加えてもよい。高屈折率モノマーの例には、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４‘−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。

前記溶剤として、炭素原子数が３〜１２のエーテル類：具体的には、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１,４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１,３,５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトール等、炭素数が３〜１２のケトン類：具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、及びメチルシクロヘキサノン等、炭素数が３〜１２のエステル類：具体的には、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、及びγ−プチロラクトン等、２種類以上の官能基を有する有機溶媒：具体的には、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、及びアセト酢酸エチル等が挙げられる。さらに溶剤として、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、シクロヘキサノール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ペンタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノンが挙げられる。これらは１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

透光性材料は、バーコーターもしくはスピンコーターにて有機ＥＬディスプレイのパシベーション層上もしくは第２の電極上もしくはカラーフィルタ層上に塗布することができる。

上記のような電離放射線硬化型樹脂組成物の硬化方法としては、前記電離放射線硬化型樹脂組成物の通常の硬化方法、すなわち電子線又は紫外線の照射によって硬化することができる。
例えば、電子線硬化の場合には、コックロフワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。

透光性樹脂をバインダーとする散乱部材の厚さは０．１〜４０．０μｍ程度とするのが好ましく、０．５〜１０．０μｍ程度とするのがより好ましく、１．０〜７．５μｍとするのが最も好ましい。

前記バインダーは、上記の粘着材等に加えて、高屈折率を有する金属酸化物超微粒子等を含有させてもよい。高屈折率を有する金属酸化物超微粒子の例には、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１つの酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子を含有することが好ましい。高屈折率を有する金属酸化物超微粒子としては、Ａｌ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｉｎ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物超微粒子が好ましく、具体例としては、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ_３、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＩＴＯ等が挙げられる。これらの中でも、特にＺｒＯ₂が好ましく用いられる。高屈折率のモノマーや金属酸化物超微粒子の添加量は、粘着剤の全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であると更に好ましい。

また、バインダーは、上記の粘着材等、及び前記金属酸化物超微粒子等に加えて、これに低屈折率を有する超微粒子等を含有させてもよい。低屈折率を有する超微粒子の例には、粒径１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下のシリカ微粒子を含有することが好ましい。また粒子中に空気を含有してより低屈折率を発現する中空シリカを用いてもよい。低屈折率の超微粒子の添加量は、接着剤の全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であると更に好ましい。

散乱部材を構成する光散乱粒子には、種類の限定はなく、有機微粒子であっても無機微粒子であってもよい。有機微粒子としては、ポリメチルメタクリレートビーズ、アクリル−スチレン共重合体ビーズ、メラミンビーズ、ポリカーボネートビーズ、スチレンビーズ、架橋ポリスチレンビーズ、ポリ塩化ビニルビーズ、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒドビーズ等が用いられる。無機微粒子としては、ＳｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２、Ｓｂ_２Ｏ_３、等が用いられる。

光散乱粒子の散乱部材中における添加量としては、１〜４０質量％が好ましい。該添加量は、１質量部以上であると光拡散性が充分であることがあり、４０質量部以下にすると接着力が確保される。

上記では、カラーフィルタ１６上に散乱部材１７を積層する例を中心に説明したが、散乱部材を設けずに（あるいは設けると共に）、カラーフィルタの被転写部である既述の透明受像層中に、散乱部材を構成するバインダー及び光散乱粒子並びに必要により金属酸化物超微粒子などの他の成分を含有する形態も好ましい。この場合、透明受像層は散乱部材として機能し、解像度の高いカラーフィルタの形成に寄与するのみならず、光取出し効率を高めることができる。
透明受像層中にバインダー及び光散乱粒子を含有する場合、散乱部材を構成するバインダーには、上記の粘着剤、接着剤、透光性樹脂のほか、透明受像層を構成する既述の樹脂材料を用いてもよい。散乱部材を構成するバインダー（粘着剤、接着剤、透光性樹脂など）の透明受像層中における含有量としては、全樹脂成分の１〜５０質量％の範囲であるのが好ましい。また、光散乱粒子の透明受像層中における含有量としては、受像層全体の質量に対して、１０〜９０質量％の範囲が好ましく、より好ましくは２０〜８０質量％の範囲である。

バリアフィルム２０は、有機ＥＬ層等が積層された積層構造の全体を覆うように設けられた接着層１８を介して、ガラス基板１１上の散乱部材１７の更に上方に設けられて封止している。このバリアフィルム２０は、大気中の酸素、水分を遮断する機能を有しており、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルムの一方の表面にＰＥＮフィルム側から順に、無機層、有機層、無機層、有機層、無機層、有機層、無機層、及び接着層が設けられている。

バリアフィルムは、透明性の基材フィルム上に有機領域と無機領域とを含むバリア層を有するガスバリアフィルムが好ましく、より好ましくは、有機層と無機層とが交互積層された有機無機積層型バリア層を有するガスバリアフィルムである。
有機領域と無機領域とで構成される場合、各領域が膜厚方向に連続的に変化する、いわゆる傾斜材料層であってもよい。前記傾斜材料の例としては、キムらによる論文「Journal of Vacuum Science and Technology A Vol. 23 p971−977(2005 American Vacuum Society) ジャーナル オブ バキューム サイエンス アンド テクノロジー Ａ 第２３巻 ９７１頁〜９７７ページ（２０００５年刊、アメリカ真空学会）」に記載の材料や、米国公開特許２００４−４６４９７号明細書に記載の有機層と無機層が界面を持たない連続的な層等が挙げられる。以下、記載の簡略のため、有機層と有機領域を総じて「有機層」と、無機層と無機領域を総じて「無機層」ということがある。

カスバリアフィルムを構成する層数に関しては、特に制限はないが、一般には２層〜３０層が好ましく、３層〜２０層がさらに好ましい。なお、バリア層は、透明性フィルムの片面にのみ設けられていてもよいし、両面に設けられていてもよい。

以下、ガスバリアフィルムの好ましい層構成を示す。但し、本発明におけるガスバリアフィルムの層構成は、これらに限定されるものではない。なお、接着層及び、基材フィルム、有機層、無機層の詳細については後述する。
（１）基材フィルム／有機層／無機層／接着層
（２）基材フィルム／無機層／有機層／接着層
（３）基材フィルム／無機層／有機層／無機層／有機層／接着層
（４）基材フィルム／無機層／有機層／易接着層／接着層
（５）基材フィルム／有機層／無機層／有機層／易接着層／接着層
（６）剥離層／帯電防止層／基材フィルム／無機層／有機層／無機層／有機層／接着層

本発明では、接着層の接着硬化温度は、有機層のガラス転移温度よりも低いことが好ましい。これにより、有機層を変質させずに接着できる。
また、ガスバリアフィルムは、通常、無機層が露出していると表面に傷がつきやすいた
め、表面は有機層にすることが好ましい。透明性フィルムから最も遠い最表層に接着層を設けた場合には、傷防止のための有機層を省略できる利点がある。さらに、接着層を設けたことにより、さらに、接着剤等を用いることなく、素子等に貼り付けることができるため、作業工程が簡略化できる。

<接着層>
ガスバリアフィルムを構成する接着層は、接着剤を含む組成であれば、特に制限はない。本発明では、紫外線（ＵＶ）硬化型接着剤又は熱硬化型接着剤を好ましく用いることができ、紫外線硬化型接着剤がより好ましい。接着剤の種類は、特に定めるものではなく、ＵＶ硬化型接着剤としては、エポキシ系、アクリレート系が好ましい例として挙げられ、エポキシ系がより好ましい。熱硬化型接着剤としては、エポキシ系、アクリレート系が好ましい例として挙げられ、エポキシ系がより好ましい。

前記接着層には、接着剤以外の成分が含まれていてもよい。このような成分としては、フィラー、吸湿剤、脱酸素剤等を挙げることができる。また、接着層は、他の機能層を兼ねる構成であってもよく、例えば、衝撃吸収層、クッション性層等を兼ねる層であってもよい。

前記フィラーとしては、特に定めるものではないが、例えば、シリカ等が挙げられる。
フィラーの接着層中における添加量は、接着剤の含量に対し、１〜５０質量部が好ましく、３５〜４５質量部がより好ましい。接着層に添加するフィラーは、添加部位によって添加量を調整することができる。表示部に設けられた接着層の部分と、表示部以外の部分、すなわち非表示部に設けられた接着層の部分とで、接着層の組成を変え、フィラーを非表示部上に設けられた接着層に多く入れることが好ましい。フィラーは接着性を向上させることができるが、透明性の向上には好ましくないため、前記構成とすることで有機ＥＬ表示装置とガスバリアフィルムの高い接着性と画像表示部の高い透明性を確保することができる。

有機ＥＬ表示装置の接着層１８を介して設けられたバリアフィルム２０は、好ましくは、基材フィルム上に所望数の有機層と無機層が交互積層され、有機層が設けられた側の最表面に接着層を有するガスバリアフィルムを用いて好適に形成することができる。

<基材フィルム>
ガスバリアフィルムは、一般に、透明性の基材フィルムを設けて構成することができる。「透明性」とは、基材フィルムに入射した可視光がフィルムを通過する光の割合が８５％以上である性質をいう。
基材フィルムは、有機層、無機層等の構成層を保持できるフィルムであれば材質、厚み等に特に制限はなく、使用目的等に応じて適宜選択することができる。前記基材フィルムとしては、具体的に、金属支持体（アルミニウム、銅、ステンレス等）、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン、透明フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素化ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、セルロースアシレート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、シクロオレフィルンコポリマー、フルオレン環変性カーボネート樹脂、脂環変性ポリカーボネート樹脂、アクリロイル化合物などの熱可塑性樹脂が挙げられる。これらのうち、アルミニウム及びポリエステル樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート：ＰＥＴ、ポリエチレンナフタレート：ＰＥＮなど）が好ましい。
基材フィルムの厚みは、用途によって適宜選択されるので、特に制限がないが、一般的には１〜８００μｍであり、好ましくは１０〜２００μｍである。
また、基材フィルムは、片面もしくは両面に透明導電層、プライマー層等の機能層を有していてもよい。機能層については、特開２００６−２８９６２７号公報の段落番号００３６〜００３８に詳しく記載されている。これら以外の機能層の例としては、マット剤層、保護層、帯電防止層、平滑化層、密着改良層、遮光層、反射防止層、ハードコート層、応力緩和層、防曇層、防汚層、被印刷層等が挙げられる。

<無機層>
無機層は、無機物で構成されたガスバリア性を持つ層であれば、特に制限はない。無機物としては、一般的には、ホウ素、マグネシウム、アルミニウム、珪素、チタン、亜鉛、スズの酸化物、窒化物、酸窒化物、炭化物、水素化物等が挙げられる。これらは純物質でもよいし、複数組成からなる混合物や傾斜材料層でもよい。これらのうち、アルミニウムの酸化物、窒化物若しくは酸窒化物、又は珪素の酸化物、窒化物若しくは酸窒化物が好ましい。ガスバリアフィルムを構成する各無機層の厚みは、特に限定されないが、一般的には１層あたり５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内が好ましく、さらに好ましくは１層あたり１０ｎｍ〜２００ｎｍである。

無機層の形成方法は、目的の薄膜を形成できる方法であれば、いかなる方法でも用いることができる。例えば、ゾル−ゲル法、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法などが適しており、具体的には特許登録第３４００３２４号公報、特開２００２−３２２５６１号公報、特開２００２−３６１７７４号公報に記載の形成方法を採用することができる。
特に、珪素の化合物を成膜する場合、誘導結合プラズマＣＶＤ、電子サイクロトロン共鳴条件に設定したマイクロ波と磁場を印加したプラズマを用いたＰＶＤ又はＣＶＤのいずれかの形成方法を採用するのが好ましく、誘導結合プラズマＣＶＤによる形成方法を採用するのが最も好ましい。誘導結合プラズマＣＶＤや電子サイクロトロン共鳴条件に設定したマイクロ波と磁場を印加したプラズマとを用いたＣＶＤ（ＥＣＲ−ＣＶＤ）は、例えば、化学工学会、ＣＶＤハンドブック、p.２８４（１９９１）に記載の方法にて実施することができる。また、電子サイクロトロン共鳴条件に設定したマイクロ波と磁場を印加したプラズマとを用いたＰＶＤ（ＥＣＲ−ＰＶＤ）は、例えば、小野他、Jpn.J.Appl.Phys.23、No.8、L534(1984)に記載の方法にて実施することができる。前記ＣＶＤを用いる場合の原料としては、珪素供給源としてシラン等のガスソースや、ヘキサメチルジシラザン等の液体ソースを用いることができる。

<有機層>
ガスバリアフィルムは、有機層を有することが好ましい。有機層は、前記無機層の脆性及びバリア性を向上させるために、これと隣接して１層以上設けることができる。

有機層は、（１）ゾルゲル法を用いて作成した無機酸化物層を利用する方法、（２）有機物を塗布又は蒸着で積層下した後、紫外線又は電子線で硬化させる方法等を用いて形成することができる。また、前記方法（１）及び（２）は、組み合わせて使用してもよく、例えば、樹脂フィルム上に方法（１）で薄膜を形成した後、無機酸化物層を形成し、その後方法（２）で薄膜を形成してもよい。以下においてこれらの方法を順に説明する。

（１）ゾルゲル法
ゾル−ゲル法は、好ましくは溶液中又は塗膜中で金属アルコキシドを加水分解、縮重合させて、緻密な薄膜を得るものである。このとき、樹脂を併用して有機−無機ハイブリッド材料にしてもよい。

ゾル−ゲル法に用いる金属アルコキシドとしては、アルコキシシラン及び／又はアルコキシシラン以外の金属アルコキシドを挙げることができる。アルコキシシラン以外の金属アルコキシドとしては、ジルコニウムアルコキシド、チタンアルコキシド、アルミニウムアルコキシド等が好ましい。
ゾル−ゲル反応時に併用するポリマーは、水素結合形成基を有していることが好ましい。水素結合形成基を有する樹脂の例としては、ヒドロキシル基を有するポリマーとその誘導体（ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、フェノール樹脂、メチロールメラミン等とその誘導体）；カルボキシル基を有するポリマーとその誘導体（ポリ（メタ）アクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の重合性不飽和酸の単位を含む単独又は共重合体と、これらのポリマーのエステル化物（酢酸ビニル等のビニルエステル、メタクリル酸メチル等の（メタ）アクリル酸エステル等の単位を含む単独又は共重合体）等）；エーテル結合を有するポリマー（ポリアルキレンオキサイド、ポリオキシアルキレングリコール、ポリビニルエーテル、珪素樹脂等）；アミド結合を有するポリマー（＞Ｎ（ＣＯＲ）−結合〔Ｒは水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基を表す。〕を有するポリオキサゾリンやポリアルキレンイミンのＮ−アシル化物）；＞ＮＣ（Ｏ）−結合を有するポリビニルピロリドンとその誘導体；ウレタン結合を有するポリウレタン；尿素結合を有するポリマー等を挙げることができる。

また、ゾル−ゲル反応時にモノマーを併用し、ゾル−ゲル反応時、又はその後に重合させて有機−無機ハイブリッド材料を作成することもできる。

ゾル−ゲル反応時には、水、及び有機溶媒中で金属アルコキシドを加水分解、及び縮重合させるが、このとき触媒を用いることが好ましい。加水分解の触媒としては、一般に酸（有機又は無機酸）が用いられる。
酸の使用量は、金属アルコキシド（アルコキシシラン及び他の金属アルコキシドを含有する場合には、アルコキシシラン＋他の金属アルコキシド）１モル当たり、０．０００１〜０．０５モルであり、好ましくは０．００１〜０．０１モルである。加水分解後、無機塩基やアミンなどの塩基性化合物を添加して溶液のｐＨを中性付近にし、縮重合を促進してもよい。

また、中心金属にＡｌ、Ｔｉ、Ｚｒを有する金属キレート化合物、スズの化合物等の有機金属化合物、有機酸のアルカリ金属塩等の金属塩類など、他のゾル−ゲル触媒も併用することができる。
ゾルゲル触媒の組成物中の割合は、ゾル液の原料であるアルコキシシランに対し、好ましくは０．０１〜５０質量％、より好ましくは０．１〜５０質量％、さらに好ましくは０．５〜１０質量％である。

次に、ゾル−ゲル反応に用いられる溶媒について述べる。
溶媒はゾル液中の各成分を均一に混合させ、組成物の固形分調整をすると同時に、種々の塗布方法に適用できるようにし、組成物の分散安定性及び保存安定性を向上させるものである。これらの溶媒は上記目的の果たせるものであれば特に限定されない。これらの溶媒の好ましい例として、水、及び水と混和性の高い有機溶媒が挙げられる。

ゾル−ゲル反応の速度を調節する目的で、多座配位可能な有機化合物を添加して、金属アルコキシドを安定化してもよい。多座配位可能な有機化合物の例としては、β−ジケトン及び／又はβ−ケトエステル類、及びアルカノールアミンが挙げられる。
このβ−ジケトン類及び／又はβ−ケトエステル類の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−ｎ−プロピル、アセト酢酸−ｉ−プロピル、アセト酢酸−ｎ−ブチル、アセト酢酸−ｓｅｃ−ブチル、アセト酢酸−ｔｅｒｔ−ブチル、２，４−ヘキサン−ジオン、２，４−ヘプタン−ジオン、３，５−ヘプタン−ジオン、２，４−オクタン−ジオン、２，４−ノナン−ジオン、５−メチル−ヘキサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチル及びアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン類及び／又はβ−ケトエステル類は、１種単独で又は２種以上を混合して使用することもできる。
これらの多座配位可能な化合物は、ゾル−ゲル触媒として前記の金属キレート化合物を
用いた場合、その反応速度を調節する目的にも用いることができる。

次に、ゾル−ゲル反応組成物を塗設する方法について述べる。
ゾル液は、カーテンフローコート、ディップコート、スピンコート、ロールコート等の塗布法によって、透明フィルム上に薄膜を形成することができる。この場合、加水分解のタイミングは、製造工程中のいずれの時期であってもよい。例えば、予め必要な組成の液を加水分解部分縮合して目的のゾル液を調製し、それを塗布−乾燥する方法、必要な組成の液を調製し塗布と同時に加水分解部分縮合させながら乾燥する方法、塗布−一次乾燥後、加水分解に必要な水含有液を重ねて塗布し加水分解させる方法等を好適に採用できる。また、塗布方法としては、様々な形態をとることが可能であるが、生産性を重視する場合には多段の吐出口を有するスライドギーサー上で下層塗布液と上層塗布液のそれぞれが必要な塗布量になる様に吐出流量を調整し、形成した多層流を連続的に支持体に乗せ、乾燥させる方法（同時重層法）が好適に用いられる。

塗設後の乾燥温度は、好ましくは１５０〜３５０℃、より好ましくは１５０〜２５０℃、さらに好ましくは１５０〜２００℃である。

塗布、乾燥後のフィルムをさらに緻密にするため、エネルギー線の照射を行なってもよい。その照射線種に特に制限はないが、支持体の変形や変性に対する影響を勘案し、紫外線、電子線あるいはマイクロ波の照射を特に好ましく用いることができる。照射強度は、３０ｍＪ／ｃｍ^２〜５００ｍＪ／ｃｍ^２であり、特に好ましくは５０ｍＪ／ｃｍ^２〜４００ｍＪ／ｃｍ^２である。照射温度は、室温から支持体の変形温度の間を制限なく採用することが可能であり、好ましくは３０℃〜１５０℃、特に好ましくは５０℃〜１３０℃である。

（２）有機物を塗布又は蒸着で積層した後、紫外線又は電子線で硬化させる方法
モノマーを架橋させて得られた高分子を主成分とする有機層を形成する方法について説明する。この方法で用いるモノマーとしては、紫外線あるいは電子線で架橋できる基を含有していれば特に限定はなく、アクリロイル基又はメタクリロイル基、オキセタン基を有するモノマーを用いることが好ましい。例えば、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレートなどのうち、２官能以上のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するモノマーを架橋させて得られる高分子を主成分とすることが好ましい。これらの２官能以上のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するモノマーは２種類以上を混合して用いても、また１官能の（メタ）アクリレートを混合して用いてもよい。
また、オキセタン基を有するモノマーとしては、特開２００２−３５６６０７号公報の一般式（３）〜（６）に記載されている構造を有するモノマーを使うことが好ましい。この場合、これらを任意に混合してもよい。

また、耐熱性、耐溶剤性の観点から、特に架橋度が高く、ガラス転移温度が２００℃以上である、イソシアヌル酸アクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートを主成分とすることがさらに好ましい。有機層の厚みについては、特に限定されないが、１０ｎｍ〜５０００ｎｍが好ましく、さらに好ましくは１０〜２０００ｎｍであり、最も好ましくは１０ｎｍ〜５０００ｎｍである。有機層の厚みは、１０ｎｍ以上であると、厚みの均一性が得られ、無機層の構造欠陥を効率よく有機層で埋めることができ、バリア性が向上する。また、５０００ｎｍ以下であると、曲げ等の外力により有機層がクラックを発生しにくく、バリア性に優れる。

有機層を形成するための方法としては、塗布による方法、真空成膜法等を挙げることができる。真空成膜法としては、特に制限はないが、蒸着、プラズマＣＶＤ等の成膜方法が好ましく、有機物質モノマーの成膜速度を制御しやすい抵抗加熱蒸着法がより好ましい。モノマーの架橋方法に関しては、制限はないが、電子線や紫外線等による架橋が、真空槽内に容易に取り付けられる点や架橋反応による高分子量化が迅速である点で望ましい。
塗布による場合は、従来用いられる種々の塗布方法、例えば、スプレーコート、スピンコート、バーコート等の方法を用いることができる。

さらに、ガスバリアフィルムには、上記のほか、基材フィルム、有機層、無機層の間、あるいはガスバリアフィルムと接着剤層の間、該フィルムの最外側に所望の機能層を設置することができる。このような機能層の例としては、前述の平滑化層、密着改良層、反射防止層等が挙げられる。

ガスバリアフィルムの４０℃・相対湿度９０％における水蒸気透過率は、０．０１ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることが好ましく、０．００１ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることがより好ましく、０．０００１ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることが特に好ましい。
また、ガスバリアフィルムの厚さは、１０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２５０μｍであることがより好ましい。

ガスバリアフィルムを構成する基材フィルムは、その片面もしくは両面に透明導電層、プライマー層等の機能層を有していてもよい。機能層については、特開２００６−２８９６２７号公報の段落番号００３６〜００３８に詳しく記載されている。これら以外の機能層の例としてはマット剤層、保護層、帯電防止層、平滑化層、密着改良層、遮光層、反射防止層、ハードコート層、応力緩和層、防曇層、防汚層、被印刷層等が挙げられる。また、このフィルムは、易剥離性の保護フィルムによってラミネートしてもよい。保護フィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられる。

バリアフィルム２０の更に上には、図１に示すように、ハードコート層２１が設けられている。このハードコート層には、活性線硬化性樹脂（活性線硬化性樹脂層）あるいは熱硬化樹脂が好ましく用いられる。

前記活性線硬化性樹脂層とは、紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応などを経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をいう。前記活性線硬化性樹脂としては、紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂などが代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性線照射によって硬化する樹脂でもよい。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることができる。
前記紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物にさらに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下、アクリレートにはメタクリレートを包含するものとし、アクリレートのみを表示する。）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができ、例えば特開昭５９−１５１１１０号公報に記載されている。
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができ、例えば特開昭５９−１５１１１２号公報に記載されている。
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させたものを挙げることができ、例えば、特開平１−１０５７３８号公報に記載されている。
前記光反応開始剤としては、ベンゾイン誘導体、オキシムケトン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体等のうちから、１種もしくは２種以上を選択して使用することができる。
また、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。これらの樹脂は通常公知の光増感剤と共に使用される。
また、上記光反応開始剤も光増感剤としても使用できる。具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。また、エポキシアクリレート系の光反応剤の使用に際しては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。
塗布乾燥後に揮発する溶媒成分を除いた紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる光反応開始剤又は光増感剤の含有量は、該組成物の２．５〜６質量％であることが特に好ましい。該含有量は、２．５％以上であると樹脂フィルムから溶出する可塑剤及び／又は紫外線吸収剤による硬化阻害が小さく、耐擦傷性が良好になり、６質量％以下であると相対的に紫外線硬化性樹脂成分が減りすぎないため、耐擦傷性の低下、塗布性の悪化が抑えられ、塗膜の面品質を良好になる。
樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、酢酸ビニル、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることができる。また、不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、１，４−シクロヘキシルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることができる。

前記活性線硬化性樹脂の塗布組成物中における固形分濃度は、１０〜９５質量％であることが好ましく、塗布方法により適当な濃度が選ばれる。
活性線硬化性樹脂を光硬化反応により硬化皮膜層を形成するための光源としては、紫外線を発生する光源であればいずれも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。照射条件は、それぞれのランプによって異なるが、照射光量は２０〜１００００ｍＪ／ｃｍ^２であればよく、好ましくは５０〜２０００ｍＪ／ｃｍ^２である。近紫外線領域から可視光線領域にかけてはその領域に吸収極大のある増感剤を用いることによって使用できる。紫外線照射は１回でもよく、２回以上でもよい。

活性線硬化性樹脂層を塗設する際に用いる溶媒としては、前記樹脂層の塗設に用いられる溶媒、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒の中から適宜選択し、あるいは混合されて利用できる。好ましくは、プロピレングリコールモノ（炭素数１〜４）アルキルエーテル又はプロピレングリコールモノ（炭素数１〜４）アルキルエーテルエステルを５質量％以上、さらに好ましくは５〜８０質量％含有する溶媒が用いられる。
活性線硬化性樹脂層形成用の塗布液の塗布に用いられる塗布装置としては、例えば、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コーター、エアードクターコーター等公知の装置を用いることができる。塗布量は、ウェット膜厚で０．１μｍ〜２００μｍが適当であり、好ましくは０．５μｍ〜１００μｍである。塗布速度は、好ましくは５〜２００ｍ／ｍｉｎである。膜厚が厚い場合は、２回以上に分割して塗布し、透明ハードコート層としてもよい。紫外線硬化性樹脂組成物は、塗布乾燥された後、紫外線を光源より照射するが、照射時間は０．５秒〜５分が好ましく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率から３秒間〜２分間がより好ましい。

得られるハードコート層の乾燥時の膜厚は、０．２〜１００μｍが好ましく、より好ましくは１〜５０μｍであり、特に好ましくは２〜４５μｍである。
このような層には滑り性を付与するために、前述の無機あるいは有機の微粒子を加えることもできる。また、前記マット剤を利用することもできる。さらに、既述したように帯電防止層等の樹脂層の上にこれら活性線硬化性樹脂層を設けることもできる。帯電防止層あるいは透明ハードコート層は、それぞれ単独でもしくは積層して設けることができる。具体的には、特開平６−１２３８０６号、特開平９−１１３７２８号、特開平９−２０３８１０号各公報等の帯電防止付き光学フィルム、偏光板保護フィルム、セルロースアシレートフィルム等のどちらかの面に直接もしくは下引き層を介して設けることができる。

本発明の発光デバイスは、既述のように、ＥＬ層を備えたアレイ側基板の側に直接カラーフィルタが形成されたデバイス構造に構成することが可能な方法の中から選択して作製することができるが、好ましくは、以下に示す本発明の発光デバイスの製造方法により作製される。
すなわち、本発明の発光デバイスの製造方法は、レーザー波長域に透明性を有する支持体上に、該基材側から順にレーザー光を熱に変換する光熱変換層と色材を含む熱転写層とを有するレーザー熱転写シートを、（１）基体上にエレクトロルミネッセンス層を備えた発光デバイスの前記エレクトロルミネッセンス層の上にさらに「支持体上に透明受像層を有する受像シートを用いて転写することで」設けられた熱接着性の透明受像層に、又は（２）基体上にエレクトロルミネッセンス層を備えた発光デバイスの前記基体の表面にさらに「支持体上に透明受像層を有する受像シートを用いて転写することで」設けられた熱接着性の透明受像層に、前記熱転写層が接触するように設置し、前記発光デバイス上の所定位置に合わせて前記レーザー熱転写シートの支持体側からレーザー光を照射して、レーザー光が照射された領域の前記熱転写層を前記エレクトロルミネッセンス層の上又は基体の表面に転写することにより、カラーフィルタ層を配設する工程（以下、「カラーフィルタ形成工程」ということがある。）を設けて構成されている。
レーザー熱転写シートの設置を、前記態様（１）で行なう第１の態様では、トップエミッション型の例えば図１に示す有機ＥＬ表示装置を作製することができ、また、前記態様（２）で行なう第２の態様では、ボトムエミッション型の例えば図５に示す有機ＥＬ表示装置を作製することができる。

本発明においては、基体上にエレクトロルミネッセンス層を備えた発光デバイスの、エレクトロルミネッセンス層の上に直接、又は基体の表面に直接、転写によりカラーフィルタ層を設けるので、湿式処理時の水分による有機ＥＬ層の劣化促進を回避できると共に、表示装置を構成するアレイ側基板と最終的に封止を行なう封止用基板の２枚を貼り合わせるときの位置合わせ（アライメント）が容易になり、封止用基板の寸法精度要求幅が緩和される。例えば、従来は両基板ともガラス基板を用いることが通例であったが、封止側及びアレイ側に樹脂製のフィルム基板を用いることが可能となる。この場合、デバイス全体の軽量化、薄型化が実現される。
すなわち、従来は、アレイ側に表示用の発光画素を設け、封止側にカラーフィルターを設けることが一般的であったが、アレイ側及び封止側の両基板の変形が不規則（台形変形等）な場合は、原理的にアライメントが不可能となった。本発明においては、アレイ側基板にアライメントマークを多数配置するか、画素自体をアライメントマークの代わりに利用すると、不規則変形した場合であっても、その画素位置に合わせてカラーフィルタを形成することが可能になる。したがって、アレイ側の寸法精度要求も低減できるため、基板材料の選択肢が広がる。例えば、アレイ側にもフィルム基板を用いることが容易となる。その場合、素子の更なる軽量化、薄型化を実現できる上、不慮の事故によるガラス破損による怪我防止の効果もある。更に、デバイス全体を曲面状等に変形できるため、ディスプレイや照明を丸い柱に巻き付けたり設置することができ、あるいは垂幕様に天井から吊るしたり、ガラス基板では実現できなかった様々な使用形態を実現できる。

本発明の発光デバイスの製造方法においては、レーザー熱転写シートの熱転写層を前記態様（１）又は（２）で接触させた状態で、発光デバイス上の所定位置（例えば画素位置）に合わせてレーザー光をレーザー熱転写シートの支持体側から照射することにより、レーザー照射された領域を発熱させ、その熱で熱転写層をエレクトロルミネッセンス層の上、具体的には前記態様（１）では例えば図１の透明樹脂層１５の表面や図３のパシベーション層１４の表面に、あるいは前記態様（２）では例えば図５の透明樹脂層３５の表面や図６のガラス基板又はバリアフィルム３１の表面に密着し、レーザー熱転写シートを除去して転写する。

レーザー照射の際は、レーザー熱転写シートの熱転写層は被転写体と接触させた状態にし、この状態でレーザー熱転写シートの背面からレーザー光を照射すると、照射領域は光熱変換層で発熱し、熱転写層は照射領域のみにおいて被転写面と密着すると共に、例えばレーザ光の照射された熱剥離層は熱で分解等を起して易剥離性になり、レーザ照射領域の熱転写層／光熱変換層間の接合力は、レーザ未照射領域の熱転写層／光熱変換層間の接合力に比べて弱くなる。このとき、レーザー熱転写シートを取り除いて被転写面から熱転写層を剥離することにより照射領域の熱転写層が像として被転写面に転写して残る。ここでの転写は、図４に示す薄膜転写方式によるものであり、熱転写層を被転写面に接触させた状態から加熱、剥離を行なって転写する方法である。シャープな画像形成性の点で、特に透明受像層上に熱転写層を転写する形態が望ましく、前記態様（１）では例えば図１の透明樹脂層１５の表面、あるいは前記態様（２）では例えば図５の透明樹脂層３５の表面に転写する場合が好ましい。この方法によると、エッジのシャープな像形成が可能であり、特に画素サイズ１００×１００μｍ以下のパターン画像を形成するのに有効である。

レーザー熱転写シートを熱転写層が接触するように設置する方法としては、真空吸着、静電吸着、粘着等を挙げることができる。
レーザー光の照射は、従来同様の方法で行なうことができる。すなわち、被転写面、特に透明受像層が設けられているときには透明受像層の表面に、レーザー熱転写シートをその熱転写層が密着するように重ね合わせ（以下、これを「積層体」ともいう。）、レーザー熱転写シートの背面側よりレーザー光を照射する方法により行なえる。レーザー光の照射は、露光ヘッドを固定し、Ｘ−Ｙ方向に移動可能な露光ステージ（内部に真空形成機構を有し、表面に多数の微小な開口を設けて真空引きして固定してもよい）にＥＬ層が形成されたアレイ側基板を積載して固定し移動させることにより、主走査方向に主走査し、１走査ごとに副走査方向に一定の速度で移動（副走査）させて行なうことができる。

例えば、図７（Ａ）に示すように、基板（積層体）を吸着（例えば、ステージの基板設置面に複数の孔を有し、孔から真空引きすることにより真空吸着）して固定する吸着ステージ６１と、半導体レーザーを搭載したレーザーユニット６４を有し、レーザーユニットからのレーザー光を積層体に照射可能に構成されたレーザーヘッドアッセンブリ６５と、レーザーヘッドアッセンブリに固定配置されたＣＣＤカメラユニット６６とを備えたレーザー露光装置６０を用い、リニアガイド６２に沿って図中の矢印Ｂの方向に、積層体が吸着固定された吸着ステージ６１を定速で移動させながら、吸着ステージ６１が一方の方向に向かう往路でＣＣＤカメラユニット６６により積層体のレーザー熱転写シート背面側から予め決められた複数の標準画像パターンの位置の近傍にあるＥＬ層、電極層、ＴＦＴ層等の画像を撮影し、これらの画像中から、標準画像パターンと形状が一致するパターン画像を検出し、この位置座標を求め、予め決められた標準画像パターンの座標と比較して、実際のステージ上の基板（積層体）の位置ズレと寸法（倍率）ズレ、角度ズレを算出して、ビットマップ形式の露光データを座標変換した後、撮影終了後は往路と逆方向に向かう復路で、変換された露光データに従ってレーザーヘッドアッセンブリ６５でレーザー露光を行なうようにすることができる。レーザーヘッドアッセンブリ６５（及びＣＣＤカメラユニット６６）は、長手方向が吸着ステージの移動方向（矢印Ｂの方向）と直交する方向に平行に配置されたレールに取り付けられており、図中の矢印Ａの方向に移動可能なようになっている。レーザーヘッドアッセンブリ６５は、図７（Ｂ）に示すように、レーザーユニット６４から発振されたレーザー光がレンズを介して多面のポリゴンミラー６７に入射し、入射光は定速回転するポリゴンミラー６７で所定の角度で反射されてミラー６８を介してｆθレンズ６９に入射し、吸着ステージ上の積層体７０にレーザー照射できるようになっている。
このとき、撮影及びレーザー露光は、図７（Ａ）及び（Ｃ）に示すように、まずＣＣＤカメラユニット６６を、所定のスタート位置から矢印方向Ｂに定速移動させて積層体７０のレーザー熱転写シートの背面側からＥＬ層等の画素パターンを撮影し（往路）、撮影終了後、撮影終了位置近傍の所定の地点から矢印Ｂの方向に戻しながら、ａ方向（主走査方向）にレーザービームを高速で走査（主走査）してレーザー露光する。その際、レーザーは、ビームで露光しようとする座標位置に対応する、変換後の露光データに応じてＯＮ／ＯＦＦ制御される。それと同時に、ｂ方向（副走査方向）に副走査する速度は、連続する２回の主走査方向ａのピッチが一定になるように同期制御される。各走査間の副走査方向ｂのピッチは、露光量のムラが発生しないようにするため、ビーム径以下にすることが望ましく、更に好ましくはビーム径の１／５以下にすることが望ましい。ここで、ビーム径とは、半値径をいい、最大ピーク値の半分の位置における半値全幅（full width at half maximum）のことである。最終的に、吸着ステージを元のスタート位置まで露光（１回目走査）が終了した後、レーザーヘッドアッセンブリ６５及びＣＣＤカメラユニット６６を図７（Ａ）の矢印Ａの方向に所定の距離移動させ、同様に主走査方向ａ及び副走査方向ｂに撮影、レーザー露光を行ない、２回目走査の終了後、さらに３回目、４回目、・・・、ｎ回目の走査を継続することにより行なう。

レーザー光は、アルゴンイオンレーザー光、ヘリウムネオンレーザー光、ヘリウムカドミウムレーザー光などのガスレーザー光、ＹＡＧレーザー光などの固体レーザー光、半導体レーザー、色素レーザー光、エキシマレーザー光などの直接的なレーザー光を利用できる。あるいは、これらのレーザー光を二次高調波素子を通して、半分の波長に変換した光なども用いることができる。中でも、出力パワーや変調のし易さなどを考慮すると、半導体レーザーが好ましい。また、画像形成方法の実施に際し、レーザー光は、光熱変換層上でのビーム径（半値径）が３〜５０μｍ（特に６〜３０μｍ）の範囲となるような条件で照射することが好ましく、走査速度は０．１ｍ／秒以上（特に３ｍ／秒以上）が好ましい。

ここで、レーザー熱転写シートについて説明する。
レーザー熱転写シートは、レーザー波長域に透明性を有する支持体上に、該支持体側から順にレーザー光を熱に変換する光熱変換層と色材を含む熱転写層とを有してなり、好ましくは熱剥離層を有し、必要に応じて更に他の層が設けられていてもよい。

支持体には、特に限定はなく、各種の材料を目的に応じて用いることができる。支持体の材料の好ましい例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体などの合成樹脂材料から形成されたシートを挙げることができる。なかでも、機械的強度や熱に対する寸法安定性を考慮すると二軸延伸ポリエチレンテレフタレートが好ましい。なお、感熱転写シートの支持体はレーザ光を透過させる透明な合成樹脂材料から形成することが好ましい。

支持体には、その上に設けられる光熱変換層との密着性を向上させるために、表面活性化処理及び／又は一層又は二層以上の下塗層の付設を行なうことが好ましい。表面活性化処理の例としては、グロー放電処理、コロナ放電処理などを挙げることができる。下塗層の材料としては、支持体と光熱変換層の両表面に高い接着性を示し、かつ熱伝導性が小さく、また耐熱性に優れたものであることが好ましい。下塗層の材料の例としては、スチレン、スチレン−ブタジエン共重合体、ゼラチンなどを挙げることができる。下塗層の厚さは下塗層全体の厚さとして、通常０．０１〜２μｍの範囲に入るように選ばれる。また、感熱転写シートの光熱変換層付設側とは反対側の表面には、必要に応じて、反射防止層などの各種の機能層の付設、あるいは表面処理を行なうこともできる。

光熱変換層は、一般的にはレーザー光を吸収することのできる光吸収材料（色素、顔料など）とバインダーとからなる基本構成を有する。すなわち、レーザー光吸収特性のみを求めるのであれば、光熱変換層を色素のみから構成しても問題ないが、画像形成方法において、透明受像層との接合や透明受像層からの剥離などの工程が含まれるため、そのような工程においても充分な自己形状保持性と支持体と光熱変換層への接着性を保持するためには、通常はバインダーが併用される。但し、後述するような金属蒸着膜を利用する光熱変換層では、バインダーは必要としない。

前記色素、顔料などの例としては、カーボンブラックのような黒色顔料、フタロシアニン、ナフタロシアニンのような可視から近赤外域に吸収を有する大環状化合物の顔料、光ディスクなどの高密度レーザ記録のレーザ吸収材料として使用される有機染料（インドレニン染料等のシアニン染料、アントラキノン系染料、アズレン系色素、フタロシアニン系染料）及びジチオールニッケル錯体等の有機金属化合物色素を挙げることができる。なお、記録感度を高めるために光熱変換層はできるだけ薄いことが好ましく、そのためレーザ光波長領域において大きい吸光係数を示すシアニン系色素やフタロシアニン系色素を用いることが望ましい。なお、光熱変換層のレーザ光吸収性材料としては、金属材料などの無機材料も使用できる。金属材料は、粒子状（例えば黒化銀）としてバインダーと共に層を形成させてもよく、また蒸着膜などとして支持体上に形成させてもよい。あるいは、ベヘン酸銀などの有機金属化合物を、溶液中又はフィルムとして還元剤と共存させながら加熱することにより、ｉｎ−ｓｉｔｕで金属微粒子を析出させて光熱変換層とすることもできる。

光熱変換層のバインダーとしては、特に限定はないが、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルなどのアクリル酸系モノマーの単独重合体又は共重合体、メチルセルロース、エチルセルロース、セルロースアセテートのようなセルロース系ポリマー、ポリスチレン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルピロリドン、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコールのようなビニル系ポリマー及びビニル化合物の共重合体、ポリエステル、ポリアミドのような縮合系ポリマー、ブタジエン−スチレン共重合体のようなゴム系熱可塑性ポリマー、エポキシ化合物などの光重合性又は熱重合性化合物を重合・架橋させたポリマーなどを挙げることができる。
上記以外のバインダーとしては、ポリアミド酸も好ましい。

なお、光熱変換層は、画像形成方法の実施においてレーザーを照射された場合に、極めて高い温度まで上昇する。そして、高温となった光熱変換層は、その上に熱剥離層（光熱変換層で発生した熱の作用により気体を発生する感熱材料を含む層）が設けられているときには熱剥離層に熱を伝え、熱剥離層の感熱材料は、その熱により分解して気体を発生するか、あるいは付着水などを放出する。これにより、光熱変換層と熱転写層との間の接合強度を弱める作用をする。したがって、独立した熱剥離層を設ける場合には、光熱変換層のバインダーの耐熱性は、熱剥離層の感熱材料よりも高いことが望ましい。すなわち、光熱変換層のバインダーの熱変形温度や熱分解温度などは、熱剥離層の感熱材料の熱変形温度や熱分解温度などよりも高いことが好ましい。

あるいは、光熱変換層に感熱材料が含まれる結果、光熱変換層自体が熱剥離層を兼ねる場合には、高温となった光熱変換層に含まれる感熱材料が、その熱により分解して気体を発生するか、あるいは付着水などを放出する。これにより、光熱変換層と熱転写層との間の接合強度を弱める作用をする。光熱変換層が、色材（染料又は顔料）とバインダーからなる場合には、固形分重量比で１：２０〜２：１（色材：バインダー）の範囲にあることが好ましく、特に１：１０〜２：１の範囲にあることが好ましい。バインダーの量が少なすぎると、光熱変換層の凝集力が低下し、形成像が受像シートに転写される際に、一緒に転写されやすくなり、像の混色の原因となる。またバインダーが多すぎると、一定の光吸収率を達成するためには光熱変換層の層厚を大きくする必要があり、感度低下を招きやすい。上記の色材とバインダーとからなる光熱変換層の層厚は、一般に０．０３〜２μｍ、好ましくは、０．０５〜１μｍ、更に好ましくは、０．１〜０．８μｍである。また光熱変換層は、光記録に用いるレーザ光の波長で光吸収率として７０％以上を示すことが好ましい。

光熱変換層には、その光熱変換層内で発生した熱の作用により気体を発生する感熱材料が含まれていてもよい。そのような感熱材料としては、それ自身が熱により分解もしくは変質して気体を発生する化合物（ポリマーまた低分子化合物）、あるいはその材料の特性として水分などの易気化性気体を相当量吸収もしくは吸着している化合物（ポリマーまた低分子化合物）などを用いることができる。なお、それらは併用することも可能である。熱により分解もしくは変質して気体を発生するポリマーの例としては、ニトロセルロースのような自己酸化性ポリマー、塩素化ポリオレフィン、塩素化ゴム、ポリ塩化ゴム、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンのようなハロゲン含有ポリマー、水分などの揮発性化合物が吸着されているポリイソブチルメタクリレートなどのアクリル系ポリマー、水分などの揮発性化合物が吸着されているエチルセルロースなどのセルロースエステル、水分などの揮発性化合物が吸着されているゼラチンなどの天然高分子化合物などを挙げることができる。熱により分解もしくは変質して気体を発生する低分子化合物の例としては、ジアゾ化合物やアジド化合物のような発熱分解して気体を発生する化合物を挙げることができる。なお、上記のような、熱による感熱材料による分解や変質等は、２８０℃以下で発生することが好ましく、特に２３０℃以下で発生することが好ましい。

また、光熱変換層には、該光熱変換層で発生した熱の作用により気体を発生する感熱材料を含む熱剥離層が含まれてもよい。そのような感熱材料としては、それ自身が熱により分解もしくは変質して気体を発生する化合物（ポリマー又は低分子化合物）、あるいはその材料の特性として水分などの易気化性気体を相当量吸収もしくは吸着している化合物（ポリマーまた低分子化合物）などを用いることができる。それらは併用することも可能である。なお、熱剥離層に導入する、光熱変換層で発生した熱の作用により気体を発生する感熱材料の例は、上記の説明で挙げたものと同様である。なお、熱剥離層で、感熱材料として低分子化合物を用いる場合には、バインダーと組合せることが望ましい。その場合のバインダーとしては、上記のそれ自身が熱により分解もしくは変質して気体を発生するポリマーでもよく、あるいはそのような性質を持たない通常のポリマーバインダーでもよい。感熱性の低分子化合物とバインダーとを併用する場合には、前者と後者の重量比で、０．０２：１〜３：１、特に０．０５：１〜２：１の範囲にあることが好ましい。熱剥離層は、光熱変換層をそのほぼ全面にわたって被覆していることが望ましく、その厚さは一般に０．０３〜１μｍ、特に０．０５〜０．５μｍの範囲にあることが好ましい。

なお、支持体の上に、光熱変換層（熱剥離層を含む）及び熱転写層がこの順に積層された構成の場合には、熱剥離層は、光熱変換層から伝えられる熱により分解、変質などを起し、気体を発生する。そして、この分解あるいは気体発生により、熱剥離層が一部消失するか、あるいは熱剥離層内で凝集破壊が発生し、光熱変換層と熱転写層との間の結合力が低下する。このため、熱剥離層の挙動によっては、その一部が熱転写層に付着して、最終的に形成される像の表面に現われ、像の混色の原因となることがある。したがって、そのような熱剥離層の転写が発生しても、形成された画像に混色が目視的に現われないように、熱剥離層は着色が小さいこと（すなわち可視光に対して高い透過性を示すこと）が望ましい。具体的には、熱剥離層は、可視光に対し、光吸収率が５０％以下、好ましくは１０％以下である。

支持体の上に光熱変換層（熱剥離層を含む）及び熱転写層がこの順に積層された構成の場合、光熱変換層の上には熱剥離層を介して熱転写層が設けることができる。また、光熱変換層の上に直接熱転写層を設けることもできる。これらの熱転写層は、カラーフィルターを形成するための顔料等の色材と熱可塑性バインダーとを主構成材料とする層である。
顔料は、一般に有機顔料と無機顔料とに大別され、前者は特に塗膜の透明性に優れ、後者は一般に隠蔽性に優れる。従って、カラーフィルター用には有機顔料が好適である。好適に使用される顔料の例は、アゾ系顔料、フタロシアニン系顔料、アントリキノン系顔料、ジオキサジン系顔料、キナクリドン系顔料、イソインドリノン系顔料、ニトロ系顔料である。また、色相別に代表的な顔料を分けて記載すれば以下のようになる。

（１）レッド顔料
Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ（ピグメント・レッド）４８：１（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．１５８６５：１）
例）Ｌｉｏｎｏｌ Ｒｅｄ（リオノールレッド）２Ｂ−ＦＧ３３００（東洋インキ製造（株）製）、Ｓｙｍｕｌｅｒ Ｒｅｄ（シムラー・レッド）ＮＲＹ、シムラー・レッド ３１０８（大日本インキ化学工業（株）製）
Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ（ピグメントレッド） ４８：３（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．１５８６５：３）
例）Ｐｅｒｍａｎｅｎｔ Ｒｅｄ（パーマネントレッド）３ＲＬ（クラリアントジャパン（株）製）、Ｓｙｍｕｌｅｒ Ｒｅｄ（シムラー・レッド）２ＢＳ（大日本インキ化学工業（株）製）
（２）ブルー顔料
Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ（ピグメントブルー） １５：６（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７４１６０）
例）Ｌｉｏｎｏｌ Ｂｌｕｅ（リオノールブルー） ＥＳ（東洋インキ製造（株）製）
Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ（ピグメントブルー） ６０（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．６９８００）
例）Ｈｏｓｔｅｒｐｅｒｍ Ｂｌｕｅ（ホスターパーム・ブルー）ＲＬ０１（クラリアントジャパン（株）製）、Ｌｉｏｎｏｇｅｎ Ｂｌｕｅ（リオノゲン・ブルー）６５０１（東洋インキ製造（株）製）
（３）グリーン顔料
Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ（ピグメント・グリーン）７（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７４２６０）
例）Ｆａｓｔｏｇｅｎ Ｇｒｅｅｎ（ファストゲングリーン）Ｓ（大日本インキ化学工業（株）製）

熱転写層の熱可塑性バインダーの例としては、次のような熱可塑性ポリマーを挙げることができる。メチルセルロース、エチルセルロース、三酢酸セルロースのようなセルロース誘導体、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルなどのアクリル酸系モノマーの単独重合体又は共重合体、ポリ塩化ビニル、酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマールなどのビニル系ポリマー、ポリスチレン、スチレン−マレイン酸共重合体などのスチレン系ポリマー、ポリブタジエン、ポリイソプレンなどのゴム系ポリマー、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体などのポリオレフィン及びその共重合体、フェノール樹脂、アイオノマー樹脂。上記の樹脂のなかでも、Ｔｇが３０〜１２０℃の範囲にあるものが好ましく、たとえば、ポリビニルブチラールやアクリル系ポリマーが好ましい。また、熱可塑性ポリマーの平均分子量は５０００〜１０００００の範囲にあることが望ましい。熱転写層中の顔料と熱可塑性樹脂バインダーとの重量比は、０．５：１〜４：１の範囲にあることが好ましい。

熱転写層には、ワックスを含有させることが好ましい。ワックスは、その融点は４０〜１６０℃の範囲にあることが好ましく、通常は鉱物系のワックスや天然ワックス、合成ワックスが使用される。
鉱物系のワックスの例としては、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、エステルワックス、酸化ワックス等の石油ロウ、モンタンロウ、オゾケライト、セレシン等を挙げることができる。中でも、パラフィンワックスが好ましい。パラフィンワックスは、石油から分離されるものであり、その融点によって各種のものが市販されている。 天然ワックスの例としては、カルナバロウ、木ロウ、オウリキュリーロウ、エスパルロウ等の植物ロウ、密ロウ、昆虫ロウ、セラックロウ、鯨ロウ等の動物ロウが挙げられる。
合成ワックスは、一般に滑剤として用いられ、通常は高級脂肪酸系の化合物からなり、合成ワックスの例としては、下記のものがある。
１）脂肪酸系ワックス
一般式：ＣＨ₃（ＣＨ₂）_nＣＯＯＨ（ｎは６〜２８の整数）で表される直鎖飽和脂肪酸。例、ステアリン酸、ベヘン酸、パルミチン酸、１２−ヒドロキシステアリン酸、アゼライン酸。
２）脂肪酸エステル系ワックス
前記脂肪酸のエステル。例、ステアリン酸エチル、ステアリン酸ラウリル、ベヘン酸エチル、ベヘン酸ヘキシル、ミリスチン酸ベヘニル。
３）脂肪酸アミド系ワックス
前記脂肪酸のアミド。例、ステアリン酸アミド、ラウリン酸アミド。
４）脂肪族アルコール系ワックス
一般式：ＣＨ₃（ＣＨ₂）_nＯＨ（ｎは６〜２８の整数）で表される直鎖飽和脂肪族アルコール。例、ステアリルアルコール。
合成ワックスの中でも、特にステアリン酸アミド、ラウリン酸アミドなどの高級脂肪酸アミド及びその誘導体が好適である。ワックスは所望により単独もしくは適宜組合せて使用することができる。ワックスは、熱転写層中に、顔料及びバインダー（熱可塑性樹脂）の合計量１００質量部に対して、５０質量部以内の範囲で、好ましくは３〜２０質量部の範囲の量で用いられる。

感熱転写層には、界面活性剤を含有させることが好ましい。界面活性剤は、特に制限されることなく、一般的な界面活性剤を使用することができる。これらの例としては、陰イオン界面活性剤（ステアリン酸ナトリウムなどの高級脂肪酸塩）、非イオン系界面活性剤（ポリオキシエチレンアルキルエーテル等のオキシエチレン鎖を有する化合物）、陽イオン界面活性剤（テトラアルキルアンモニウム塩など）、両イオン性界面活性剤（分子中に酸基、塩基性基の両者を有するもので、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキレンカルボン酸塩等）を挙げることができる。特に、親油基中にフッ素や、シリコーン等の元素を有する界面活性剤は、少量で効果が大きい点で好ましい。
また、感熱転写層は更に可塑剤を含むこともある。すなわち、特に多色画像を作成するために、同一の透明受像層に多数の熱転写層を繰返し重ね合せるような操作を行なう場合には、密着性を高めるために熱転写層に可塑剤を含ませることが好ましい。
上記の界面活性剤および可塑剤の詳細については、特開平９−１６９１６５号公報の段落番号［００４０］〜［００４２］に記載がある。

なお、前記カラーフィルタ形成工程の前に予め用意される「基体上にエレクトロルミネッセンス層を備えた発光デバイス（デバイス基板）」は、例えば有機ＥＬ素子の場合、陽極、発光層、必要に応じて正孔注入・輸送層及び必要に応じて電子注入・輸送層を形成し、さらに陰極を形成することにより作製することができる。また、陰極から陽極へ、前記と逆の順序で有機ＥＬ素子を作製することもできる。
以下、基体上に陽極／正孔注入層／発光層／電子注入層／陰極が順次設けられた構成の有機ＥＬ素子の作製例を示す。まず、適当な透光性の基体上に陽極材料からなる薄膜を１μｍ以下の範囲の膜厚になるように蒸着やスパッタリング等の方法により形成して陽極を作製する。次に、この陽極上に、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法等の方法により正孔注入層を設ける。均質な膜が得られ易く、かつピンホールが発生しにくい等の点から真空蒸着法によるのが好ましい。真空蒸着法により正孔注入層を形成する場合、その蒸着条件は使用する化合物（正孔注入層の材料）、目的とする正孔注入層の結晶構造や再結合構造等により異なるが、一般に蒸着源温度５０〜４５０℃、真空度１０^−７〜１０^−３ｔｏｒｒ、蒸着速度０．０１〜５０ｎｍ／秒、基板温度−５０〜３００℃、膜厚５ｎｍ〜５μｍの範囲で適宜選択することが好ましい。次に、正孔注入層上に、所望の有機発光材料を用いて真空蒸着法、スパッタリング、スピンコート法、キャスト法等により有機発光材料を薄膜形成することにより発光層を設ける。均質な膜が得られ易く、かつピンホールが発生しにくい等の点から真空蒸着法によるのが好ましい。次に、この発光層上に電子注入層を設ける。均質な膜を得る必要から真空蒸着法によるのが好ましい。蒸着条件は、正孔注入層、発光層と同様の条件範囲から選択することができる。その後、蒸着法、スパッタリングにより金属膜を積層して陰極を形成することで有機ＥＬ素子が得られる。なお、有機ＥＬ素子の作製は、１回の真空引きで一貫して陽極から陰極まで作製することが好ましい。

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は質量基準である。

（実施例１）：トップエミッション型有機ＥＬ表示装置
以下に示すように、図１に示すトップエミッション型有機ＥＬ表示装置を作製した。
まず、絶縁性のガラス基板１１上にバッファ層を介して画素数分のＴＦＴ（薄膜トランジスタ）をフォトリソ法で形成し、ＴＦＴが形成されたバッファ層の全面にＳｉＮ膜からなる層間絶縁膜層を堆積させた。その後、通常のフォトエッチング工程を利用して、ソース領域及びドレイン領域に達するコンタクトホールをそれぞれ形成した。次いで、全面にＡｌ／Ｔｉ／Ａｌ多層構造導電層を堆積させた後、通常のフォトエッチング工程を利用してパターニングすることによって、ＴＦＴ上にも延在するようにソース電極を形成すると共に、ドレイン電極を形成した。なお、ソース電極は共通ソース線から４つの分岐線に分岐して設けられている。その後、スピンコート法を用いて全面に感光性樹脂を塗布して層間絶縁膜とし、この層間絶縁膜を所定のマスクを用いて露光した後、所定の現像液を用いて現像することによって、ソース電極の分岐線に対するコンタクトホールを形成した。なお、便宜的に共通ソース線に対してコンタクトホールが形成されている。
以上のようにしてガラス基板１１上にＴＦＴ及び各種電極を配設した。
その上に、アクリル系感光性樹脂（ＪＳＲ社製、オプトマーＰＣシリーズ）を塗布して不図示の平坦化層を形成し、フォトマスク露光によりコンタクトホールを形成した。

続いて、スパッタ法によりＡｌ膜を全面に堆積させた後、通常のフォトエッチング工程を利用して所定の形状にパターニングすることによって、コンタクトホールを介してソース電極の分岐線に接続する、図示しない分割下部電極（陽極）を形成した。

この分割下部電極上に、真空蒸着法により以下の有機化合物層を順次蒸着し、赤発光ＥＬ層１２Ｒ、緑発光ＥＬ層１２Ｇ、青発光ＥＬ層１２Ｂからなる有機ＥＬ層１２を形成した。
（第１正孔輸送層）
銅フタロシアニン：膜厚１０ｎｍ
（第２正孔輸送層）
Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジナフチルベンジジン：膜厚４０ｎｍ
（赤色発光層兼電子輸送層）
トリス（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム９０％にナイルレッド５％含有：膜厚６０ｎｍ
（緑色発光層兼電子輸送層）
トリス（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム９０％にクマリン６を５％含有：膜厚６０ｎｍ
（青色発光層兼電子輸送層）
トリス（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム９０％にテトラフェニルブタジエンを５％含有：膜厚６０ｎｍ

その後、有機ＥＬ層１２上に更に、マスク蒸着法により有機ＥＬ層を覆うように、厚み１０ｎｍのＡｌ膜と厚み３０ｎｍのＩＺＯ膜〔酸化インジウム・酸化亜鉛（Indium Zinc Oxide）〕とを順次堆積させて共通上部電極（陰極）１３を形成した。各分割下部電極に対応する領域が、それぞれ分割画素部となる。

その後、有機ＥＬ層等の全体を覆うように共通上部電極（陰極）１３の全面にＣＶＤ法によりＳｉＮ膜、ＳｉＯＮ膜を順次堆積させて厚み５μｍのパシベーション層１４を形成した。

次に、下記の手順１）〜４）に従い、透明受像層を形成するための受像シートを作製した。
１）クッション層形成用塗布液の調製
下記組成の各成分をスターラーで撹拌下に混合し、クッション層形成用塗布液を調製した。
<塗布液の組成>
・ポリ塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体 ・・・４４部
（ＭＰＲ−ＴＳＬ、日信化学（株）製）
・アクリルゴム（ＲＳ−０８、日信化学（株）製） ・・・２２部
・可塑剤（ポリサイザーＷ２０、大日本インキ化学工業（株）製） ・・・２２部
・ジオクチルメルカプト錫 ・・・０．３３部
（ＫＳ−２０００Ａ、共同薬品工業（株）製）
・界面活性剤 ・・・０．６部
（メガファックＦ−１７７ＰＦ、大日本インキ化学工業（株）製）
・メチルエチルケトン ・・・１３５部
・トルエン ・・・１１部
・Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ・・・０．４部

２）クッション層の形成
支持体（厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム）の一方の表面上に、得られたクッション層形成用塗布液をホワイラーを用いて塗布した後、１００℃のオーブン中で５分間乾燥して、支持体上にクッション層（膜厚２３μｍ）を形成した。

３）受像層用塗布液の調製
下記組成の各成分をスターラーで撹拌下に混合し、受像層用塗布液を調製した。
<塗布液組成>
・ポリビニルブチラール ・・・１２．５部
（デンカブチラール＃２０００−Ｌ、電気化学工業（株）製）
・Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド／ブチルアクリレート共重合体（共重合組成比：５０／５０） ・・・３．２部
・界面活性剤 ・・・０．０７部
（メガファックＦ−１７７ＰＦ、大日本インキ化学工業（株）製）
・ｎ−プロピルアルコール ・・・１６４部
・１−メトキシ−２−プロパノール ・・・１０部
・Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ・・・０．４部

４）受像層の形成
支持体上のクッション層の表面に、得られた受像層用塗布液をホワイラーを用いて塗布した後、１００℃のオーブン中で５分間乾燥して、クッション層の表面に膜厚２μｍの受像層を形成した。
このようにして、支持体上にクッション層／受像層が積層された受像シートを得た。

上記より得られた受像シートを室温で一日放置した後、この受像シートを、上記のパシベーション層１４の表面に受像層表面にて接触するように重ね、この状態のまま表面温度１００℃のヒートローラー（表面ゴム硬度Ａ＝６０度）を１０ｋｇ／ｃｍ^２の圧力で押し当てて密着させた後、受像シートをクッション層と受像層との間で剥離して引き剥がし、パシベーション層１４上に透明受像層１５を転写した。

次に、下記の手順ａ）〜ｇ）に従い、カラーフィルタを形成するための転写シートＲ，Ｇ，Ｂを作製した。
ａ）光熱変換層用塗布液の調製
下記組成の各成分をスターラーで撹拌下に混合し、光熱変換層用塗布液を調製した。
<塗布液の組成>
・赤外線吸収色素（ＩＲ−８２０Ｂ、日本化薬（株）製） ・・・５部
・バインダー ・・・４０部
（ＰＡＡ−Ａ（芳香族のテトラカルボン酸に無水物とジアミンとの反応により得られた、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドの２５％溶液）、三井東圧化学（株）製；ポリアミド酸）
・メチルエチルケトン ・・・１０００部
・１−メトキシ−２−プロパノール ・・・１０００部
・界面活性剤 ・・・１部
（メガファックＦ−１７７Ｐ、 大日本インキ化学工業（株）製）

ｂ）光熱変換層の形成
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの一方の表面上に、スチレン・ブタジエン共重合体（厚さ０．５μｍ）からなる層とゼラチン層（厚さ０．１μｍ）とをこの順に形成して、下塗り層付支持体を作製した。この下塗り層付支持体のゼラチン層の上に、得られた光熱変換層用塗布液を回転塗布機（ホワイラー）を用いて塗布した後、１００℃のオーブン中で２分間乾燥し、膜厚０．２μｍの光熱変換層を形成した。

ｃ）熱剥離層用塗布液の調製
下記組成の各成分をスターラーで撹拌下に混合し、熱剥離層用塗布液を調製した。
<塗布液の組成>
・ニトロセルロース（タイプＨＩＧ１２０、旭化成（株）製） ・・・１６部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・４８０部
・トルエン ・・・１１２０部
・界面活性剤 ・・・０．２部
（メガファックＦ−１７７Ｐ、 大日本インキ化学工業（株）製）

ｄ）熱剥離層の形成
支持体上に設けられた光熱変換層の表面に、得られた熱剥離層用塗布液をホワイラーを用いて１分間塗布した後、１００℃のオーブン中で２分間乾燥して、支持体上に熱剥離層を形成した。膜厚は、走査型電子顕微鏡により熱剥離層の断面を観察したところ、平均で０．１μｍであった。

ｅ）Ｒｅｄ画像形成層（熱転写層）用塗布液の調製
−Ｒｅｄ顔料分散母液の調製−
下記の各成分をニーダーのミルに入れ、少量の溶剤を添加しつつ剪断力を加え、分散前処理を行なった。その分散物に、更に溶剤を加えて、最終的に下記組成となるように調製し、サンドミル分散を２時間行ない、顔料分散母液を得た。
<顔料分散母液の組成>
〜顔料分散液１〜
・Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ４８：１（C.I.No.15865:1） ・・・８．９３部
（Ｌｉｏｎｏｌ Ｒｅｄ（リオノール・レッド）２Ｂ−ＦＧ３３００、東洋インキ製造（株）製）
・ポリビニルブチラール ・・・７．５０部
（エスレックＢ ＢＬ−ＳＨ、積水化学工業（株）製）
・分散助剤（ソルスパースＳ−２００００、ＩＣＩ（株）製） ・・・０．４７部
・ｎ−プロピルアルコール ・・・８３．１０部
〜顔料分散液２〜
・Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ４８：３（C.I.No.15865:3） ・・・８．９３部
（Ｓｙｍｕｌｅｒ Ｒｅｄ（シムラーレッド）３１０８、大日本インキ化学工業（株）製）
・ポリビニルブチラール ・・・７．５０部
（エスレックＢ ＢＬ−ＳＨ、積水化学工業（株）製）
・分散助剤（ソルスパースＳ−２００００、ＩＣＩ（株）製） ・・・０．４７部
・ｎ−プロピルアルコール ・・・８３．１０部

得られた顔料分散液１、２の粒子を、レーザー散乱方式の粒度分布測定器を用いて測定したところ、平均粒径はそれぞれ１９２ｎｍ、１９３ｎｍであった。

−Ｒｅｄ画像形成層用塗布液を調製−
次に、下記の成分をスターラーで攪拌しながら混合して、レッド画像形成層用塗布液を調製した。
<Ｒｅｄ画像形成層用塗布液の組成>
・ｎ−プロピルアルコール ・・・３２１．５部
・メチルエチルケトン ・・・８９．３部
・ワックス系化合物
（ステアリン酸アミド「ニュートロン２」、日本精化（株）製） ・・・０．８２４部
（ベヘン酸アミド「ダイヤミッドＢＭ」、日本化成（株）製） ・・・０．８２４部
（ラウリル酸アミド「ダイヤミッドＹ」、日本化成（株）製） ・・・０．８２４部
（パルミチン酸アミド「ダイヤミッドＫＰ」、日本化成（株）製） ・・・０．８２４部
（オレイン酸アミド「ダイヤミッドＯ−２００」、日本化成（株）製） ・・・０．８２４部
（エルカ酸アミド「ダイヤミッドＬ−２００」、日本化成（株）製） ・・・０．８２４部
・ロジン（ＫＥ−３１１、荒川化学（株）製） ・・・２．３６０部
（成分：樹脂酸８０〜９７％；樹脂酸成分：アビエチン酸３０〜４０％、ネオアビエチン酸１０〜２０％、ジヒドロアビエチン酸１４％、テトラヒドロアビエチン酸１４％）
・ポリビニルブチラール ・・・１．４５５部
（エスレックＢ ＢＬ−ＳＨ、積水化学工業（株）製）
・前記顔料分散液１ ・・・７７．４０部
・前記顔料分散液２ ・・・２４．４０部
・界面活性剤 ・・・１．２１６部
（メガファックＦ−１７６ＰＦ（固形分２０％）、大日本インキ化学工業（株）製）

ｆ）Ｒｅｄ画像形成層の形成
前記熱剥離層の表面に、上記のＲｅｄ画像形成層用塗布液をワイヤーバーを用いて１分間塗布した後、塗布物を１００℃のオーブン中で２分間乾燥して、熱剥離層の上にＲｅｄ画像形成層を形成した。以上の工程により、支持体上に、光熱変換層、熱剥離層、及びＲｅｄ画像形成層が、この順で設けられた熱転写シートＲを作製した。
熱転写シートＲのＲｅｄ画像形成層の層厚を測定したところ、平均で０．７１μｍであった。

ｇ）転写シートＧ，Ｂの作製
−熱転写シートＧ（グリーン）の作製−
上記の熱転写シートＲの作製において、Ｒｅｄ画像形成層用塗布液に代えて、下記組成のＧｒｅｅｎ画像形成層用塗布液を用いた以外は、熱転写シートＲの作製と同様にして、熱転写シートＧを作製した。得られた熱転写シートＧの画像形成層の層厚は、０．７０μｍであった。

［グリーン顔料分散母液組成］
〜顔料分散液３〜
・Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ７（C.I.No.74260） ・・・８．９３部
（Ｆａｓｔｏｇｅｎ Ｇｒｅｅｎ Ｓ、大日本インキ化学工業（株）製）
・ポリビニルブチラール ・・・７．５０部
（エスレックＢ ＢＬ−ＳＨ、積水化学工業（株）製）
・分散助剤 ・・・０．４７部
（ソルスパース Ｓ−２００００、ＩＣＩ（株）製）
・ｎ−プロピルアルコール ・・・８３．１０部
〜顔料分散液４〜
・ポリビニルブチラール ・・・７．１部
（エスレックＢ ＢＬ一ＳＨ、積水化学工業（株）製）
・Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １８０（C.I.No.21290） ・・・１２．９部
（Ｎｏｖｏｐｅｒｍ Ｙｅｌｌｏｗ Ｐ−ＨＧ、クラリアントジャパン（株）製）
・分散助剤（ソルスパース Ｓ−２００００、ＩＣＩ（株）製） ・・・０．６部
・ｎ−プロピルアルコール ・・・７９．４部

得られた顔料分散液３，４の粒子を、レーザー散乱方式の粒度分布測定器を用いて測定したところ、平均粒径はそれぞれ１６１ｎｍ、３３０ｎｍであった。
次に、下記の成分をスターラーで攪拌しながら混合して、Ｇｒｅｅｎ画像形成層用塗布液を調製した。

［グリーン画像形成層用塗布液組成］
・ｎ−プロピルアルコール ・・・３２１．５部
・メチルエチルケトン ・・・８９．３部
・ワックス系化合物
（ステアリン酸アミド「ニュートロン２」、日本精化（株）製） ・・・０．８２４部
（ベヘン酸アミド「ダイヤミッドＢＭ」、日本化成（株）製） ・・・０．８２４部
（ラウリル酸アミド「ダイヤミッドＹ」、日本化成（株）製） ・・・０．８２４部
（パルミチン酸アミド「ダイヤミッドＫＰ」、日本化成（株）製） ・・・０．８２４部
（オレイン酸アミド「ダイヤミッドＯ−２００」、日本化成（株）製） ・・・０．８２４部
（エルカ酸アミド「ダイヤミッドＬ−２００」、日本化成（株）製）・・・０．８２４部
・ロジン（ＫＥ−３１１、荒川化学（株）製） ・・・２．３６０部
・ポリビニルブチラール ・・・１．４５５部
（エスレックＢ ＢＬ−ＳＨ、積水化学工業（株）製）
・前記顔料分散液３ ・・・７７．１１部
・前記顔料分散液４ ・・・２４．６０部
・界面活性剤 ・・・１．２１６部
（メガファック Ｆ−１７６ＰＦ（固形分２０％）、大日本インキ化学工業（株）製）

−熱転写シートＢ（ブルー）の作製−
上記の熱転写シートＲの作製において、Ｒｅｄ画像形成層用塗布液に代えて、下記組成のＢｌｕｅ画像形成層用塗布液を用いた以外は、熱転写シートＲの作製と同様にして、熱転写シートＢを作製した。得られた熱転写シートＢの画像形成層の層厚は、０．９５μｍであった。

［ブルー顔料分散母液組成］
〜顔料分散液５〜
・Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ ６０（C.I.No.69800） ・・・４．０２部
（Ｆａｓｔｏｇｅｎ Ｓｕｐｅｒ Ｂｌｕｅ ６０７０Ｓ、大日本インキ化学工業（株）製）
・Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６（C.I.No.74160） ・・・４．０２部
（Ｌｉｏｎｏｌ Ｂｌｕｅ ７６００、東洋インキ製造（株）製）
・Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３（C.I.No.51319） ・・・０．８９部
（Ｈｏｓｔｅｒｐｅｒｍ Ｖｉｏｌｅｔ ＲＬ−ＮＦ、クラリアントジャパン（株）製）
・ポリビニルブチラール ・・・７．５０部
（エスレックＢ ＢＬ−ＳＨ、積水化学工業（株）製）
・分散助剤（ソルスパース Ｓ−２００００、ＩＣＩ（株）製） ・・・０．４７部
・ｎ−プロピルアルコール ・・・８３．１０部

得られた顔料分散液５の粒子を、レーザー散乱方式の粒度分布測定器を用いて測定したところ、平均粒径は２４２ｎｍであった。
次に、下記の成分をスターラーで攪拌しながら混合して、ブルー画像形成層用塗布液を調製した。

［ブルー画像形成層用塗布液組成］
・ｎ−プロピルアルコール ・・・３２１．５部
・メチルエチルケトン ・・・８９．３部
・ワックス系化合物
（ステアリン酸アミド「ニュートロン２」、日本精化（株）製） ・・・０．８２４部
（ベヘン酸アミド「ダイヤミッドＢＭ」、日本化成（株）製） ・・・０．８２４部
（ラウリル酸アミド「ダイヤミッドＹ」、日本化成（株）製） ・・・０．８２４部
（パルミチン酸アミド「ダイヤミッドＫＰ」、日本化成（株）製） ・・・０．８２４部
（オレイン酸アミド「ダイヤミッドＯ−２００」、日本化成（株）製） ・・・０．８２４部
（エルカ酸アミド「ダイヤミッドＬ−２００」、日本化成（株）製） ・・・０．８２４部
・ロジン（ＫＥ−３１１、荒川化学（株）製） ・・・２．３６０部
・ポリビニルブチラール ・・・１．４５５部
（エスレックＢ ＢＬ−ＳＨ、積水化学工業（株）製）
・前記顔料分散液５ ・・・１０１．８０部
・界面活性剤 ・・・１．２１６部
（メガファック Ｆ−１７６ＰＦ（固形分２０％）、大日本インキ化学工業（株）製）

上記より得られた転写シートＲ，Ｇ，Ｂを用い、下記のようにして、図１に示すように透明受像層１５上に赤色画素１６Ｒ、緑色画素１６Ｇ、青色画素１６Ｂの３色からなるカラーフィルタ１６を形成した。
露光装置として、図７（Ａ）に示すように、基板（積層体）を真空吸着して固定する吸着ステージ６１と、赤外線半導体レーザーを搭載したレーザーユニット６４を有し、レーザーユニットからの赤外線レーザー光を積層体に照射可能に構成されたレーザーヘッドアッセンブリ６５と、レーザーヘッドアッセンブリに固定配置されたＣＣＤカメラユニット６６とを備えた赤外線レーザー照射装置を準備した。まず、転写シートＲをそのＲｅｄ画像形成層の表面にて接触するように透明受像層上に重ね、真空吸着して固定し、重ねた状態で表面温度１００℃のヒートローラーを１０ｋｇ／ｃｍ^２の圧力で押し当てて密着させた。その後、室温で約１０分間放置して冷却した。そして、Ａｌ膜の分割下部電極上の有機ＥＬ層の予め決められた３箇所以上の画素パターンの位置を含む周辺の画像をＣＣＤカメラで撮影し、その撮影画像内で、予め決められた標準画素パターンと一致する画素パターンをパターンマッチングアルゴリズムにより検出し、その位置座標を求め、予め決められた位置座標と比較し、それぞれの座標の差異から全体の位置ズレと寸法（倍率）ズレと角度ズレを算出し、その結果に基づいて、ビットマップ露光データの座標変換を行なった。レーザーユニットを搭載したレーザーヘッドアッセンブリにより、転写シートＲのＰＥＴ支持体側から波長８３０ｎｍの半導体レーザー光を、光熱変換層の熱剥離層と接する表面で７μｍ±１μｍのビーム径（半値径）となるように集光し、主走査方向ａに走査させながら、変換した露光データ信号に応じてＯＮ／ＯＦＦ変調して照射すると共に、１走査毎に主走査方向に略直交する副走査方向ｂに０．５μｍのピッチで移動し、透明受像層上の有機ＥＬ層の赤発光ＥＬ層上にのみ、Ｒｅｄ色のカラーフィルタ層を転写した。この操作を、赤発光ＥＬ層の全画素分が終了した後、真空吸着を解除した。
このときのレーザー照射条件は、次の通りである。

〜レーザー照射条件〜
・レーザーパワー（画像形成層上）：１１０ｍＷ／ｃｍ^２
・主走査方向の走査速度：線速８ｍ／秒
・副走査ピッチ：０．５μｍ
・記録画像：制御装置からのデータ信号（Ｒｅｄカラーフィルタ用のマスクパターン）により半導体レーザーを変調

続いて、転写シートＲを、熱剥離層とＲｅｄ画像形成層との間で透明受像層から剥離して、透明受像層上に赤色画素（カラーフィルタ層）１６Ｒを形成した。その後さらに、転写シートＲを転写シートＧ、転写シートＢに順次代え、赤色画素の形成と同様にして、緑色画素１６Ｇ、青色画素１６Ｂを形成した。

更に、下記組成の各成分を混合して調製した散乱層用粘着剤をカラーフィルタ１６上に塗布し、厚み５μｍの散乱部材１７を設けた。
<散乱層用粘着材の組成>
・下記アクリル系共重合体エマルジョン ・・・１００．０部
・光散乱粒子（ポリメチルメタクリレート系ビーズ） ・・・１７部
（ＭＸ１５０（粒径１．５μｍ、屈折率１．４９）、綜研化学（株）製）
・屈折率調整用無機微粒子（ＺｒＯ_２フィラー） ・・・１００．０部
・分散剤（ネオゲンＰ、第一工業製薬（株）製） ・・・０．１部
・消泡剤（ＳＮデフォーマー、サンノプコ（株）製） ・・・０．１部

〜アクリル系共重合体エマルジョンの調製〜
攪拌機、還流冷却管、温度計、窒素吹き込みラインを備えた４口フラスコに、水３０部及び過硫酸アンモニウム０．１部を仕込み、窒素パージの中で７０℃まで昇温した後、下記組成の乳化モノマー混合物を４時間かけて滴下し、滴下終了後さらに３時間反応させて、固形分５０％のアクリル系共重合体エマルジョンを調製した。
<乳化モノマー混合物の組成>
・ｎ−ブチルアクリレート ・・・４９．５部
・２−エチルヘキシルアクリレート ・・・５０部
・アクリル酸 ・・・０．５部
・水 ・・・７０部
・ドデシルメルカプタン ・・・０．０５部
・ラウリル硫酸ナトリウム ・・・０．５部
・ノニオン系乳化剤（ノイゲンＥＡ１４０、第一工業製薬（株）製） ・・・１．０部

次に、封止フィルムとして、下記のように作製した、接着剤層を有するガスバリアフィルム（１）を用い、有機ＥＬ層等の積層構造部分の上（散乱部材１７上）にガスバリアフィルムを、その接着剤層面にて接触するように重ね、窒素パージグローブボックス中に設置したバキュームラミネータでラミネートし、１００℃で１時間加熱することにより、図１のように有機ＥＬ層等の積層構造部分が接着剤層１８で覆われるように、バリアフィルム２０を設けて封止した。ガスバリアフィルム（１）の層構造については、下記表１の通りである。その後、更に紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂を塗布後、紫外線で硬化することによって、バリアフィルム２０上にハードコート層２１を形成した。
このようにして、本発明のトップエミッション型有機ＥＬ表示装置を作製した。

〜ガスバリアフィルムの作製〜
基材フィルムとしてポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ；Ｑ６５Ａ（厚み１００μｍ）、帝人デュポン（株）製）フィルムを用い、その一方の表面にＰＥＮフィルム側から順に、無機層、有機層、無機層、有機層、無機層、有機層、無機層、及び接着層を設け、ガスバリアフィルムを作製した。無機層、有機層及び接着層の形成については下記に示す。

（１．無機層（Ｘ）の形成）
リアクティブスパッタリング装置を用いて、ＰＥＮフィルムに酸化アルミニウムの無機層を形成した。以下に具体的な成膜条件を示す。
リアクティブスパッタリング装置の真空チャンバーを、油回転ポンプとターボ分子ポンプとで到達圧力５×１０^−４Ｐａまで減圧した。次に、プラズマガスとしてアルゴンを導入し、プラズマ電源から電力２０００Ｗを印加した。チャンバー内に高純度の酸素ガスを導入し、成膜圧力を０．３Ｐａになるように調整して一定時間成膜し、酸化アルミニウムの無機層を形成した。得られた酸化アルミニウム膜は、膜厚４０ｎｍ、膜密度３．０１ｇ／ｃｍ^３であった。

（２．有機層（Ｙ、Ｚ）の形成）
有機層は、常圧下での溶剤塗布による成膜方法（有機層Ｙ）と、減圧下でフラッシュ蒸着法による成膜方法（有機層Ｚ）の２通りを用いて行なった。以下に具体的な成膜内容を示す。
−２−１．常圧下での溶剤塗布による成膜（有機層Ｙ）−
［２−１−１］有機層（Ｙ−１）の成膜
光重合性アクリレートとしてトリプロピレングリコールジアクリレート（ＴＰＧＤＡ：ダイセル・サイテック社製）９ｇと、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７）０．１ｇとを、メチルエチルケトン１９０ｇに溶解させて塗布液とした。この塗布液を、ワイヤーバーを用いて可撓性支持基板に塗布し、酸素濃度０．１％以下の窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３５０ｍＷ／ｃｍ^２、照射量５００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して有機層Ｙ−１を形成した。膜厚は、約５００ｎｍとした。
［２−１−２］有機層（Ｙ―２）の成膜
前記有機層（Ｙ−１）の成膜において、光重合性アクリレートとして用いたトリプロピレングリコールジアクリレート（ＴＰＧＤＡ）を、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ：新中村化学工業（株）製）に代えたこと以外は、有機層Ｙ−１の成膜条件に従った。膜厚は、約５００ｎｍとした。
［２−１−３］有機層（Ｙ―３）の成膜
前記有機層（Ｙ−１）の成膜において、光重合性アクリレートとして用いたトリプロピレングリコールジアクリレート（ＴＰＧＤＡ）を、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＡ：新中村化学工業（株）製）に代えたこと以外は、有機層Ｙ−１の成膜条件に従った。膜厚は、約５００ｎｍとした。

−２−２．減圧下でフラッシュ蒸着法による成膜（有機層Ｚ）−
［２−２−１］有機層（Ｚ−１）の成膜
光重合性アクリレートとしてブチルエチルプロパンジオールジアクリレート（ＢＥＰＧＡ：共栄社化学（株）製）９．７ｇと、光重合開始剤（Ｌａｍｂｅｒｔｉ ｓｐａ社製、ＥＺＡＣＵＲＥ−ＴＺＴ）０．３ｇとを混合し蒸着液とした。この蒸着液を、真空チャンバーの内圧が３Ｐａの条件でフラッシュ蒸着法により有機層上に蒸着した。続いて、同じ真空度の条件で、照射量２Ｊ／ｃｍ^２の紫外線を照射して有機層Ｚ−１を形成した。膜厚は、約１２００ｎｍとした。有機層Ｚ−１の形成には、有機無機積層成膜装置Ｇｕａｒｄｉａｎ２００（ヴァイテックス・システムズ社製）を用いて実施した。
［２−２−２］有機層（Ｚ−２）の成膜
前記有機層（Ｚ−１）の成膜において、光重合性アクリレートとして用いたブチルエチルプロパンジオールジアクリレート（ＢＥＰＧＡ）を、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ：新中村化学工業（株）製）に代えたこと以外は、有機層Ｚ−１の成膜条件に従った。膜厚は、約１２００ｎｍとした。
［２−２−３］有機層（Ｚ−３）の成膜
前記有機層（Ｚ−１）の成膜において、光重合性アクリレートとして用いたブチルエチルプロパンジオールジアクリレート（ＢＥＰＧＡ）を、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＡ：新中村化学工業（株）製）に代えたこと以外は、有機層Ｚ−１の成膜条件に従った。膜厚は、約１２００ｎｍとした。

（３．ガスバリアフィルムの作製）
ＰＥＮフィルムに上記の無機層と有機層とを下記表１に示す構成になるように順次積層し、無機層上に更に下記の接着層を積層することにより、ガスバリアフィルムを作製した。また、無機層及び有機層の積層方法は、次の２通りで行なった。
−無機層及び有機層の形成−
［３−１］溶剤塗布による有機層形成と減圧下での無機層形成を繰り返す方法（積層Ａ）
基板上に有機層と無機層とを交互に積層した。有機層の上に無機層を積層するときは、溶剤塗布で有機層を成膜した後に真空チャンバーに入れて減圧し、真空度が１０^−３Ｐａ以下の状態で一定時間保持してから無機層を成膜した。また、無機層の上に有機層を積層するときは、無機層を成膜後直ちに、溶剤塗布で有機層を成膜した。
［３−２］減圧下で有機層と無機層とを一貫成膜する方法（積層Ｂ）
上述の有機無機積層成膜装置Ｇｕａｒｄｉａｎ２００を用い、有機層と無機層とを積層した。この装置は、有機層及び無機層とも減圧環境下で成膜を行ない、かつ有機層と無機層の成膜チャンバーが連結しているので、減圧環境下で連続成膜することが可能である。そのため、有機層と無機層からなるバリア層が完成するまで大気に開放されることがない。

−接着層の形成−
ＰＥＮフィルム上の最上層である無機層の上に、熱硬化型接着剤２０Ｘ−３２５Ｃ（スリーボンド社製、接着温度９０℃）を設け、熱硬化型の接着層を積層した。

上記の実施例では、有機層Ｙの形成方法は、常圧下での溶剤塗布による成膜方法として有機層Ｙ−１〜Ｙ−３を成膜する場合を中心に説明したが、下記の有機層（Ｙ―４）を成膜する方法でもよい。下記の実施例においても同様である。
（有機層（Ｙ―４）の成膜）
前記有機層（Ｙ−１）の成膜において、光重合性アクリレートとして用いたトリプロピレングリコールジアクリレート（ＴＰＧＤＡ）を、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ：新中村化学工業（株）製）に代えたこと以外、前記有機層Ｙ−１の成膜条件に従って同様に有機層Ｙ−４を形成する。膜厚は、約５００ｎｍである。
また、無機層及び有機層の形成方法は、積層Ａ及び積層Ｂによる場合を中心に説明したが、下記のように、第１層を溶剤塗布で有機層とし、残る層（有機層及び無機層）を減圧下で一貫成膜する方法（積層Ｃ）による方法でもよい。下記の実施例においても同様である。
（積層Ｃ）
基板上に溶剤塗布法で第１層として有機層を形成し、続いて有機層が形成されたＰＥＮフィルムを真空チャンバーに入れて減圧し、真空度が１０^−３Ｐａ以下の状態で一定時間保持した後に、無機層と有機層とを交互に成膜する。

（実施例２〜６）
実施例１において、ガスバリアフィルム（１）を下記表１に示すガスバリアフィルム（２）〜（６）に代えたこと以外は、実施例１と同様にして、本発明のトップエミッション型有機ＥＬ表示装置を作製した。

（実施例７）
実施例１において、散乱層用粘着剤の調製に用いた光散乱粒子及び屈折率調整用無機微粒子をそれぞれ、ベンゾグアナミン系ビーズ（エポスターＭＳ（粒径１．０μｍ、屈折率１．６６）、日本触媒（株）製；光散乱粒子）及びＳｉＯ_２フィラー（屈折率調整用無機微粒子）に代えたこと以外は、実施例１と同様にして、本発明のトップエミッション型有機ＥＬ表示装置を作製した。

（実施例８）
実施例１において、カラーフィルタ１６上に散乱部材１７を設けず、受像シートを作製する際の「３）受像層用塗布液の調製」での塗布液組成を、光散乱粒子及び屈折率調整用無機微粒子を含有する下記の塗布液組成に変更したこと以外は、実施例１と同様にして、本発明のトップエミッション型有機ＥＬ表示装置を作製した。
<塗布液組成>
・ポリビニルブチラール ・・・１２．５部
（デンカブチラール＃２０００−Ｌ、電気化学工業（株）製）
・Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド／ブチルアクリレート共重合体（共重合組成比：５０／５０） ・・・３．２部
・界面活性剤 ・・・０．０７部
（メガファックＦ−１７７ＰＦ、大日本インキ化学工業（株）製）
・ｎ−プロピルアルコール ・・・１６４部
・１−メトキシ−２−プロパノール ・・・１０部
・Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ・・・０．４部
・光散乱粒子（ポリメチルメタクリレート系ビーズ） ・・・１部
（ＭＸ１５０（粒径１．５μｍ、屈折率１．４９）、綜研化学（株）製）
・屈折率調整用無機微粒子（ＺｒＯ_２フィラー） ・・・５部

（実施例９）
実施例１において、赤発光層１２Ｒ、緑発光層１２Ｇ、及び青発光層１２Ｂからなる有機ＥＬ層１２に代えて、図２に示すように、分割下部電極上に白色発光する有機ＥＬ層２２を設けたことを以外は、実施例１と同様に、本発明のトップエミッション型有機ＥＬ表示装置を作製した。
白色発光する有機ＥＬ層２２は、図示しないが、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）で高いホール輸送性を有するが電子輸送性を有しないホール輸送層と、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）中に電子輸送性のオキサジアゾ−ル誘導体（ＰＢＤ）と発光中心であるテトラフェニルブタジエン（ＴＰＢ）、クマリン６、ＤＣＭ１、及びナイルレッドの蛍光色素を少量含ませてなる電子輸送性白色発光層と、金属電極とからなり、分割下部電極にプラス(+)、金属電極にマイナス(-)の直流電圧を印加することにより白色発光が得られるようになっている。これらの蛍光色素は、それぞれ青（ＴＰＢ）、緑（クマリン６）、黄（ＤＣＭ１）、赤（ナイルレッド）に発光し、同時に発光することにより白色となる。
発光原理は次の通りである。すなわち、まずホールが分割下部電極よりＰＶＫへ注入され、ＰＭＭＡとの界面に達する。ＰＭＭＡ層は電子輸送性であり、ホールの輸送性が低いのでホールはＰＶＫとＰＭＭＡの界面付近でＰＭＭＡにブロックされ、陰極に達しない。同様に陰極の金属電極から電子輸送性のＰＢＤを通してＰＭＭＡ層中に注入された電子は電子輸送性を持たないＰＶＫ層にブロックされ陽極に到達しない。その結果、電子をホールの再結合が有機層の界面付近あるいは若干ホール輸送性を有するＰＢＤを有するＰＭＭＡ層中で起こり蛍光色素を励起し白色に発光する。

（実施例１０）：ボトムエミッション型有機ＥＬ表示装置
以下に示すように、図５に示すボトムエミッション型有機ＥＬ表示装置を作製した。
まず、０．２ｍｍ厚のＰＥＳ基板３１上に、バッファ層３３を介して図示しないＴＦＴ（薄膜トランジスタ）をフォトリソ法で形成した上に、アクリル系感光性樹脂（ＪＳＲ社製、オプトマーＰＣシリーズ）を塗布して不図示の平坦化層を形成した後、実施例１と同様に真空蒸着法により以下の有機化合物層を順次蒸着し、赤発光ＥＬ層３２Ｒ、緑発光ＥＬ層３２Ｇ、青発光ＥＬ層３２Ｂからなる有機ＥＬ層３２を形成した。そして、この有機ＥＬ層上にはアルミニウムを真空蒸着することにより反射電極３０を積層した。続いて、この積層物の全体を覆うようにして、ＣＶＤ法によりＳｉＮ膜、ＳｉＯＮ膜を順次堆積させて厚み５μｍのパシベーション層３４を形成した。次に、実施例１と同様にして作製した受像シートを用意し、ガラス基板３１のＥＬ層等が形成されていない裏面に受像層表面にて接触するように重ね、この状態のまま表面温度１００℃のヒートローラーを１０ｋｇ／ｃｍ^２の圧力で押し当てて密着させた後、受像シートをクッション層と受像層との間で剥離して引き剥がし、ガラス基板３１上に透明受像層３５を転写した。
次に、実施例１と同様に、転写シートＲ，Ｇ，Ｂを用意し、図５に示すように透明受像層３５上に、赤色画素３６Ｒ、緑色画素３６Ｇ、青色画素３６Ｂの３色からなるカラーフィルタ３６を形成した。このカラーフィルタ３６の露出面には、実施例１と同様に散乱部材３７を設けた。
このようにして、本発明のボトムエミッション型有機ＥＬ表示装置を作製した。

（比較例１）
実施例１において、パシベーション層１４上への透明受像層１５、カラーフィルタ１６、及び散乱部材１７の形成を行なわずに、封止用バリアフィルムの表面（バリア層（有機層又は無機層）と接着層との間）にカラーフィルタをフォトリソグラフィ法で形成したこと以外は、実施例１と同様にして、トップエミッション型有機ＥＬ表示装置を作製した。

（評価）
上記の各実施例及び比較例で作製した有機ＥＬ表示装置の基板を貼り合せる際の位置ズレの評価について、下記方法により試験を行なった。
サイズ２０ｍｍ×３０ｍｍの長方形の四隅にアライメントマークをフォトリソグラフィー法で形成した後、発光画素が、サイズ９０μｍ×９０μｍ、間隔１０μｍで、該長方形を埋め尽くすように配置されるように、フォトリソグラフィ用のガラスマスクのアライメントマークを前記アライメントマークに合わせて形成した（寸法はガラスマスクの絶対寸法で決まるため調整できない。）。カラーフィルタの形成は、比較例においては発光画素と同様にガラスマスクの寸法で形成し、実施例においては前記アライメントマークをＣＣＤカメラで検出してアライメントマークの位置を読み取り、その読取位置のズレに合わせてカラーフィルタの画素位置データを補正してレーザー照射することで、発光画素の位置変形に合わせて補正した位置にカラーフィルタを形成した。
評価は、該長方形の各辺中央の画素の重心が、発光画素とカラーフィルタとでどの程度ずれているかを顕微鏡で観察し、その４つのズレ値の最大値が５μｍ以下である場合は合格（○）とし、５μｍを超える場合は不合格（×）として判定した。

前記表２に示すように、本発明の有機ＥＬ表示装置は、図８に示すような従来構成の有機ＥＬ表示装置に比べ、位置合わせ（アライメント）が容易もしくは不要になる。これより、位置合わせ（アライメント）不良による表示特性の劣化及び歩留まりの低下を抑えられ、歩留まりが高く、表示色相や解像度等の表示特性に優れた発光デバイスが得られる。

本発明の実施形態に係るトップエミッション型有機ＥＬ表示装置の構成例を示す概略断面図である。 本発明の実施形態に係るトップエミッション型有機ＥＬ表示装置の他の構成例を示す概略断面図である。 本発明の実施形態に係るトップエミッション型有機ＥＬ表示装置の他の構成例を示す概略断面図である。 画像を転写形成する方式を説明するための図である。 本発明の実施形態に係るボトムエミッション型有機ＥＬ表示装置の構成例を示す概略断面図である。 本発明の実施形態に係るボトムエミッション型有機ＥＬ表示装置の他の構成例を示す概略断面図である。 （Ａ）はカラーフィルタ層の転写形成時のレーザー露光を行なうレーザー露光装置の一例を示す斜視図であり、（Ｂ）は（Ａ）のレーザーヘッドユニットを示す斜視図であり、（Ｃ）はレーザー走査の方法の一例を説明するための説明図である。 従来のトップエミッション型有機ＥＬ表示装置の構成例を示す概略断面図である。

符号の説明

１２，２２，３２…有機ＥＬ層
１３…共通上部電極（陰極）
１４，３４…パシベーション層
１５，３５…透明受像層
１６，３６…カラーフィルタ
１７…散乱部材
２０，４０…バリアフィルム
６１…吸着ステージ
６４…レーザーユニット
６５…レーザーヘッドアッセンブリ
６６…ＣＣＤカメラユニット

Claims (12)

1. 第１の電極が設けられた基体と、
   前記基体の前記第１の電極が設けられている側に配置された透明基板と、
   前記第１の電極及び前記透明基板の間に設けられ、前記基体の上に配置されたカラーフィルタと、
   前記第１の電極と前記カラーフィルタとの間に配置されたエレクトロルミネッセンス層と、
   前記エレクトロルミネッセンス層と前記カラーフィルタとの間に配置された第２の電極と、
   前記第２の電極と前記カラーフィルタとの間に配置され、支持体上に透明受像層を有する受像シートを用いて転写することで形成された熱接着性の透明受像層と、
   を備えた発光デバイス。
2. 前記透明基板は、透明性の基材フィルム上に有機領域と無機領域とを含むバリア層を有するガスバリアフィルムであることを特徴とする請求項１に記載の発光デバイス。
3. 前記バリア層は、少なくとも１層の有機層と少なくとも１層の無機層とを有することを特徴とする請求項２に記載の発光デバイス。
4. 更に、前記カラーフィルタと前記透明基板との間に、バインダーと光散乱粒子とを含有する散乱部材を備えたことを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の発光デバイス。
5. 前記透明受像層は、バインダーと光散乱粒子とを含有することを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の発光デバイス。
6. 前記エレクトロルミネッセンス層が、有機エレクトロルミネッセンス層であることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の発光デバイス。
7. レーザー波長域に透明性を有する支持体上に該支持体側から順にレーザー光を熱に変換する光熱変換層と色材を含む熱転写層とを有するレーザー熱転写シートを、基体上にエレクトロルミネッセンス層を備えた発光デバイスの前記エレクトロルミネッセンス層の上にさらに支持体上に透明受像層を有する受像シートを用いて転写することで設けられた熱接着性の透明受像層に、前記熱転写層が接触するように設置し、前記発光デバイス上の所定位置に合わせて前記レーザー熱転写シートの支持体側からレーザー光を照射し、前記レーザー熱転写シートを除去することにより、レーザー光が照射された領域の前記熱転写層を前記透明受像層の上に転写してカラーフィルタ層を配設する発光デバイスの製造方法。
8. レーザー波長域に透明性を有する支持体上に該支持体側から順にレーザー光を熱に変換する光熱変換層と色材を含む熱転写層とを有するレーザー熱転写シートを、基体上にエレクトロルミネッセンス層を備えた発光デバイスの前記基体の表面にさらに支持体上に透明受像層を有する受像シートを用いて転写することで設けられた熱接着性の透明受像層に、前記熱転写層が接触するように設置し、前記発光デバイス上の所定位置に合わせて前記レーザー熱転写シートの支持体側からレーザー光を照射し、前記レーザー熱転写シートを除去することにより、レーザー光が照射された領域の前記熱転写層を前記透明受像層に転写してカラーフィルタ層を配設する発光デバイスの製造方法。
9. 前記熱転写層の色相が異なる複数のレーザー熱転写シートを用い、所望の色相数の前記レーザー熱転写シートを順次交換して前記転写を繰り返し行ない、多色のカラーフィルタ層を配設することを特徴とする請求項７又は請求項８に記載の発光デバイスの製造方法。
10. 前記エレクトロルミネッセンス層が、有機エレクトロルミネッセンス層であることを特徴とする請求項７〜請求項９のいずれか１項に記載の発光デバイスの製造方法。
11. 前記受像シートは、支持体上に、該支持体側から順にクッション層及び透明受像層を有する請求項７〜請求項１０のいずれか１項に記載の発光デバイスの製造方法。
12. 請求項７〜請求項１１のいずれか１項に記載の発光デバイスの作製方法により作製された発光デバイス。

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