JP6331681B2 - 光散乱層用樹脂組成物、光散乱層、および有機エレクトロルミネッセンス装置 - Google Patents
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Description
本明細書において、「有機EL装置」とは、有機EL照明装置および有機EL表示装置等の有機EL素子を用いた装置全般を指す。
アクティブマトリクス型の有機EL装置では、例えば、上記有機層上に、上記背面電極をなす複数の画素電極とそのスイッチング素子であるTFT(薄膜トランジスタ)とがマトリクス状に形成されたTFT基板が積層される。
例えば、透光性電極を形成する工程では、電極の抵抗値を下げるための高温処理、および電極パターン形成のためのエッチング処理を行い、さらに形成した透光性電極上に有機層を積層する前に、不純物除去のための溶剤等による洗浄を行う。この際、基材と透光性電極の密着性が低い場合、透光性電極に微細な亀裂あるいは剥離が生じ、結果、有機EL素子を発光させた際、ダークスポット、輝度ムラ、あるいは寿命低下を引き起こしてしまう。
また、基材の平坦性も重要なポイントである。基材表面の凹凸が大きいと、その上に形成される透光性電極に膜厚ムラあるいは微細な突起形成が起こり、局所的に電流が大きい部分が生じ、結果、ショートあるいは寿命低下を引き起こす場合がある。
透光性基板上に従来の光散乱層を形成したものを基材とする場合、基材と透光性電極の密着性、および基材の平坦性が充分ではなく、上記課題が生じる場合がある。
本発明の光散乱層用樹脂組成物は、
有機エレクトロルミネッセンス装置の光散乱層を形成するために用いられる光散乱層用樹脂組成物であって、
少なくとも1種の樹脂(A)を含むバインダー組成物と光散乱粒子(B)と界面活性剤(X)とを含有することを特徴とする光散乱層用樹脂組成物である。
本発明の光散乱層用樹脂組成物において、光散乱粒子(B)は、前記光散乱層用樹脂組成物中の平均粒子径が100nm以上500nm以下であり、かつ、光散乱粒子(B)の全量に対する粒子径600nm以上の粒子の含有量が20体積%以下であり、かつ、前記バインダー組成物と光散乱粒子(B)との屈折率差が0.1以上である。
Xは炭素数1〜20のアルキレン基、炭素数1〜20のアリーレン基、または炭素数1〜20のアルコキシレン基を表す。
R2 、R3およびR4は互いに独立して、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数6〜20のアリールオキシ基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜30のアルキル基、炭素数7〜30のアルカリール基、置換基を有するシロキサン基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、または水素原子を表す。]
本発明の有機EL装置は、照明装置または表示装置等に適用できる。
有機エレクトロルミネッセンス装置の光散乱層を形成するために用いられる光散乱層用樹脂組成物であって、
少なくとも1種の樹脂(A)を含むバインダー組成物と光散乱粒子(B)と界面活性剤(X)とを含有することを特徴とする光散乱層用樹脂組成物である。
まず、光散乱粒子(B)について説明する。
光散乱粒子(B)は、有機EL装置内で全反射により導波している光を散乱し、取り出す効果を有するものであれば特に限定されず、有機粒子であっても、無機粒子であってもよい。
有機粒子としては、ポリメチルメタクリレートビーズ、アクリル−スチレン共重合体ビーズ、メラミン樹脂ビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリスチレンビーズ、架橋ポリスチレンビーズ、ポリ塩化ビニルビーズ、およびベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒド縮合物ビーズ等が用いられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
無機粒子としては、SiO2、ZrO2、TiO2、Al2O3、In2O3、ZnO、SnO2、およびSb2O3等が用いられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。これらは、単独で用いても2種類以上を併用してもよい。
なお、光散乱粒子(B)の平均粒子径や粒子径600nm以上の粒子の含有量については、光散乱粒子(B)を予め分散体としておき、前記分散体を用いて光散乱層用樹脂組成物を得る場合、前記分散体における光散乱粒子(B)の平均粒子径等をもって、光散乱層用樹脂組成物における光散乱粒子(B)の平均粒子径等とする。
「平均粒子径」は測定サンプルの50体積%における分散粒径の値であり、粒子径が600nm以上の粒子の含有量は、測定サンプルの分散粒径のうち、600nm以上の粒子径の体積%である。これらは動的光散乱法では日機装(株)社製「ナノトラックUPA」で測定することができる。
変動係数が30%より大きいと、光取り出し効率の波長による変化が大きくなり、色調が変化しやすいため、好ましくない場合がある。より好ましくは変動係数が20%以下である。
分散方法としては、光散乱粒子(B)の表面状態に合わせた分散剤を用い、分散機を用いる方法が好ましい。
分散機としては、ペイントコンディショナー(レッドデビル社製)、ボールミル、サンドミル(シンマルエンタープライゼス社製「ダイノーミル」等)、アトライター、パールミル(アイリッヒ社製「DCPミル」等)、コボールミル、ホモミキサー、ホモジナイザー(エム・テクニック社製「クレアミックス」等)、湿式ジェットミル(ジーナス社製「ジーナスP Y 」、ナノマイザー社製「ナノマイザー」)、微小ビーズミル(寿工業(株)社製「スーパーアペックミル」および「ウルトラアペックミル」)等が使用できる。
分散機にメディアを使う場合には、ガラスビーズ、ジルコニアビーズ、アルミナビーズ、磁性ビーズ、およびポリスチレンビーズ等を用いることが好ましい。
分散に関しては、2種類以上の分散機、または大きさの異なる2種類以上のメディアをそれぞれ用い、段階的に実施しても差し支えない。
本発明の光散乱層用樹脂組成物では、少なくとも1種の樹脂(A)を含むバインダー組成物と光散乱粒子(B)との屈折率差が0.1以上である。
ここでいう少なくとも1種の樹脂(A)を含むバインダー組成物とは、光散乱層用樹脂組成物における光散乱粒子(B)と界面活性剤(X)とを除く部分である。例えば、光散乱層用樹脂組成物が、成分(A):成分(B):界面活性剤(X):成分(C):成分(E):成分(F)=35:10:4.5:40:10:0.5(質量比)の混合物組成物である場合、バインダー組成物は、成分(A):界面活性剤(X):成分(C):成分(E):成分(F)=35:4.5:40:10:0.5(質量比)の混合組成物である。前記屈折率差が0.1以上であると、EL素子の中で全反射により導波している光がバインダー組成物と光散乱粒子(B)の界面で散乱し、光取り出し効率が向上する。屈折率差は大きくなるほど光取り出し効率は向上する。
樹脂(A)としては例えば、エポキシ樹脂:1.53〜1.57、アクリレート樹脂:1.49〜1.59である。
金属酸化物粒子としては例えば、酸化チタン(TiO2):2.5、酸化ジルコニウム(ZrO2):2.2、酸化亜鉛(ZnO):1.9、および酸化スズ(SnO2):2.0である。
樹脂(A)、及び必要に応じて金属酸化物粒子(C)を含むバインダー組成物の屈折率は、好ましくは1.5〜2.0である。
光散乱粒子(B)としては例えば、メタクリル酸エステル共重合体ビーズ:1.45〜1.60、アクリル−スチレン共重合体ビーズ:1.5〜1.6、メラミン樹脂ビーズ:1.65、SiO2:1.45、ZrO2:2.2、およびTiO2:2.5である。好ましくはバインダー組成物との屈折率差が大きく出来るトリフルオロエチルメタクリレート共重合体ビーズ:1.46、およびTiO2:2.5である。
本明細書において、「バインダー組成物の屈折率」は、アッベ屈折計により実測した値である。
樹脂(A)は、発光層から放出される光、例えば、可視光線、近赤外線あるいは近紫外線等の所定の波長帯域の光に対して透光性を有する樹脂であれば特に制限されない。熱可塑性、熱硬化性、可視光線または紫外線または赤外線等による光(電磁波)硬化性、電子線照射による電子線硬化性等の硬化性樹脂が好適に用いられる。このような樹脂としては、例えば、ポリカーボネート(PC)、ポリスチレン(PS)、ポリエーテル、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアミド、フェノール− ホルムアルデヒド樹脂(フェノール樹脂)、ポリジエチレングリコールビスアリルカーボネート、アクリロニトリル・スチレン共重合体(AS樹脂)、メチルメタクレート・スチレン共重合体(MS樹脂)、ポリ−4−メチルペンテン、ノルボルネン系ポリマー、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、およびシリコーン樹脂等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。これらは、1種を単独で、または必要に応じて任意の比率で2種以上混合して用いることができる。
有機EL装置は概略、透光性基板上に、透光性電極、発光層を含む有機層、および背面電極を順次積層して製造する。この際、各層間の密着性は、有機EL装置の性能を左右する重要なポイントである。中でも、基材と透光性電極間の密着性は特に重要である。例えば、透光性電極を形成する工程では、電極の抵抗値を下げるための高温処理、および電極パターン形成のためのエッチング処理を行い、さらに形成した透光性電極上に有機層を積層する前に、不純物除去のための溶剤等による洗浄を行う。この際、基材と透光性電極の密着性が低い場合、透光性電極に微細な亀裂あるいは剥離が生じ、結果、有機EL装置を発光させた際、ダークスポット、輝度ムラ、あるいは寿命低下を引き起こしてしまう。
樹脂(A)の特性が上記範囲であると、光散乱層上に透光性電極を積層し、必要な加熱、エッチング、および溶剤洗浄等の処理を行う際、光散乱層用組成物の硬化収縮を低減し、透光性電極に生じる微細な亀裂あるいは剥離を抑制する効果がある。
本明細書における「5%熱分解温度」とは、加熱により5%の質量が減少したときの温度を示し、熱重量測定で測定した値である。例えば、セイコーインスツルメンツ(株)社製の示差熱熱重量同時測定装置EXSTER TG/DTA6300で測定できる。樹脂(A)の5%熱分解温度が200℃未満であると、耐熱性が低く、透光性電極の積層工程で充分に加熱できず、電極の抵抗値が下げられないおそれがある。
具体的には、
水添ビスフェノールA骨格、シクロヘキシル骨格、ノルボルネン骨格、およびアダマンタン骨格等の脂肪族環;
フェニル基、フェニレン基、インデン、ビスフェノールA骨格、およびフルオレン骨格等の芳香族環;
テトラヒドロフラン骨格、フラン骨格、テトラヒドロピラン骨格、ピラン骨格、イソシアヌレート骨格、およびオキサゾリドン骨格等のO原子および/またはN原子を含む複素環から選ばれる1種または2種以上の環状骨格を有する、エステル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、およびアクリル樹脂等が挙げられる。
中でも、アクリル樹脂が耐熱性、耐光性の点から好適に使用される。
二重結合としては、(メタ)アクリレート基、およびマレイミド基のような不飽和基が挙げられる。また、架橋性基としては、熱架橋性基あるいは紫外線または電子線架橋性基を有することが好ましい。熱架橋性部位としては、水酸基、エポキシ基、オキセタニル基、酸(カルボキシル)基、およびイソシアネート基が挙げられる。紫外線または電子線架橋性部位としては、エポキシ基、およびオキセタニル基などが挙げられる。これらは、1種または2種以上用いることができる。
例えば、水酸基、エポキシ基、酸(カルボキシル)基、およびイソシアネート基の中から選ばれる1種または2種以上の官能基を有するエチレン性不飽和単量体を含む不飽和単量体成分を重合させてなる共重合体中の官能基を、この官能基と反応可能な官能基を有するエチレン性不飽和単量体で変性する方法が挙げられる。
共重合体の官能基と、変性に使用するエチレン性不飽和単量体の官能基の組み合わせは特に制限は無いが、例えば、水酸基とイソシアネート基、水酸基とエポキシ基、およびエポキシ基と酸(カルボキシル)基等が挙げられる。
水酸基を有するエチレン性不飽和単量体としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−若しくは3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−若しくは3−若しくは4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、およびシクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、β−メチルグリシジル(メタ)アクリレート、β−プロピルグリシジル(メタ)アクリレート、β−メチルグリシジル−α−エチルアクリレート、3−メチル−3,4−エポキシブチル(メタ)アクリレート、4−メチル−4,5−エポキシペンチル(メタ)アクリレート、5−メチル−5,6−エポキシヘキシル(メタ)アクリレート、およびグリシジルビニルエーテルなどが挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。中でも、グリシジル(メタ)アクリレートが好ましい。
酸基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、
(メタ)アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、o−、m−、p−ビニル安息香酸、(メタ)アクリル酸のα位ハロアルキル、アルコキシル、ハロゲン、ニトロ、またはシアノ置換体等のモノカルボン酸等のカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体(不飽和一塩基酸);
テトラヒドロ無水フタル酸、無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸、および無水マレイン酸等の多塩基酸無水物等が挙げられる。
これらの中でも特に、(メタ)アクリル酸が好ましい。
イソシアネート基を有するエチレン性不飽和単量体としては、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、および1,1−ビス〔(メタ)アクリロイルオキシ〕エチルイソシアネート等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
主鎖に環状骨格を導入するエチレン性不飽和単量体としては、
インデン、ベンゾフラン、ノルボルネン、およびシクロヘキセン等の環状ジエン類;
および、
ビニルシクロプロパン等のメタクリル酸エステル類との共重合時に分子内環化反応が進行し、主鎖に五または六員環が形成される単量体等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
側鎖に環状骨格を導入するエチレン性不飽和単量体としては、
イソボルニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、および1−アダマンダン(メタ)アクリレート等の脂肪族環含有(メタ)アクリレート;
ベンジル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、およびパラクミルEO変性(メタ)アクリレート等の芳香族環含有(メタ)アクリレート;
スチレンおよびその誘導体、メチルスチレン等のスチレン類;
テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、環状トリメチロールプロパンフォルマル(メタ)アクリレート、(2−エチル−2−メチル−1,3−ジオキソラン−4−イル)(メタ)アクリレート、(2−イソブチル−2−メチル−1,3−ジオキソラン−4−イル)(メタ)アクリレート、(1,4−ジオキサスピロ[4,5]デカ−2−イル)(メタ)アクリレート、ペンタメチルピペリジル(メタ)アクリレート、およびオキサゾリドン(メタ)アクリレート等のO原子および/またはN原子を含む複素環含有(メタ)アクリレート等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
これらは、1種を単独で、または必要に応じて任意の比率で2種以上混合して用いることができる。
(メタ)アクリルアミド、メチロール(メタ)アクリルアミド、アルコキシメチロール(メタ)アクリルアミド、ジアセトン(メタ)アクリルアミド等のアクリルアミド類;
(メタ)アクリロニトリル、エチレン、プロピレン、ブチレン、塩化ビニル、および酢酸ビニル等のビニル化合物;
等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
これらは、1種を単独で、または必要に応じて任意の比率で2種以上混合して用いることができる。
例えば、樹脂(A)に、現像性を付与する場合、アルカリ可溶性を発現するために、カルボキシル基などの酸基を導入する。酸基の導入方法としては、特に制限されないが、上述した酸基を有するエチレン性不飽和単量体を含む共重合体を、酸基が残存するように変性を行う方法、あるいは、上述した水酸基を有するエチレン性不飽和単量体を含む共重合体を、上述した多塩基酸無水物で変性する方法等が挙げられる。
現像性を付与する場合、樹脂(A)の酸価は、30mgKOH/g以上200mgKOH/g未満が好ましい。酸価が30mgKOH/g未満であると充分な現像性を確保できず、200mgKOH/g以上であると後述するシラン化合物(E)の加水分解を促進し、光散乱層の密着性が経時と共に低下するおそれがある。
本明細書で言う「光散乱層の密着性」(以下、単に「密着性」という場合もある。)とは、透光性基板および透光性電極に対する光散乱層の密着性である。
重合温度および下記式で定義される重合濃度は、使用する単量体成分の種類、比率、および目標とするポリマーの分子量によって異なるが、好ましくは、重合温度40〜150℃、重合濃度5〜50%であり、さらに好ましくは、重合温度60〜130℃、重合濃度10〜40%である。
重合濃度(%)=[単量体成分の全質量/(単量体成分の全質量+溶媒質量)]×100
有機過酸化物としては、ベンゾイルパーオキサイド、クメンヒドロパーオキサイド、t−ブチルヒドロパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート、ジt−ブチルパーオキサイド、およびt−ブチルパーオキシベンゾエート等が例示できる。
また、アゾ化合物としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物等が挙げられる。
重合開始剤は、上記エチレン性不飽和単量体100質量部に対して、好ましくは1〜20質量部の範囲で使用される。
水混和性有機溶剤としては、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、およびn−プロピルアルコール等のアルコール系溶剤、および、エチレングリコールまたはジエチレングリコールのモノまたはジアルキルエーテル等が挙げられる。
酢酸エステルとしては、エチルセルソルブアセテート、およびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどが例示できる。
ケトン類としては、シクロヘキサノン、およびメチルイソブチルケトンなどが挙げられる。
光散乱層用樹脂組成物は、バインダー組成物や散乱粒子の他に、界面活性剤を含む。これにより、光散乱層用樹脂組成物中の分散性を良好にし、凝集物を低減させることが出来、光散乱層の平坦性を向上できる。界面活性剤は、散乱粒子あるいはバインダー組成物中の樹脂(A)または金属酸化物微粒子(C)に対して分散性を良好にするものであれば特に限定されない。ここで言う分散性とは、規定範囲で目視による凝集物が少ないことを表す。
具体的には、花王社製エマルゲン110S、エマルゲン1108、エマルゲン1118S−70、エマルゲン1135S−70、エマルゲン1150S−60、エマルゲン103、エマルゲン104P、エマルゲン105、エマルゲン106、エマルゲン108、エマルゲン109P、エマルゲン120、エマルゲン123P、エマルゲン130K、エマルゲン147、エマルゲン150、エマルゲン210P、エマルゲン220、エマルゲン2020G−HA、エマルゲン2025G、エマルゲン306P、エマルゲン320P、エマルゲン350、エマルゲン404、エマルゲン408、エマルゲン409PV、エマルゲン420、エマルゲン430、エマルゲン705、エマルゲン707、エマルゲン709、エマルゲン1108、エマルゲン1118S−70、エマルゲン1135S−70、エマルゲン1150S−60、エマルゲン4085、エマルゲン2020G−HA、エマルゲン2025G、エマルゲンA−500、エマルゲンA−60、エマルゲンA−90、エマルゲンB−65、エマルゲンLS−106、エマルゲンLS−110,エマルゲンLS−114、エマルゲンMS−110,エマルゲンPP−290、
日信化学工業株式会社サーフィノール104E、サーフィノール104H、サーフィノール104A、サーフィノール104PA、サーフィノール104PG−50、サーフィノール104S、サーフィノール420、サーフィノール440、サーフィノール465、サーフィノール485、サーフィノールSE、サーフィノールSE−F、サーフィノールPSA−336、サーフィノール61、ダイノール604、ダイノール607、サーフィノール2502、サーフィノール82、サーフィノールDF110D、サーフィノールDF37、サーフィノールDF58、サーフィノールDF75、サーフィノールDF220、エンバイロジェムAD01、サーフィノールMD−20、
第一工業製薬株式会社ノイゲンLF−60X、ノイゲンLF−80X、ノイゲンLF−100X、ノイゲンLF−202N、ノイゲンEA−87、ノイゲンEA−137、ノイゲンEA−157、ノイゲンEA−167、ノイゲンEA−177、ノイゲンEA−197D、ノイゲンEA−207D、エパン410、エパン420、エパン450、エパン485,エパン610、エパン680、エパン710、エパン720、エパン740、エパン750、エパン785、エパンU−103、エパンU−105、エパンU−108、
ライオン株式会社製レオコールTD−50、レオコールTD−70、レオコールTD−90、レオコールTD−90D、レオコールTDA−90−25、レオコールTDN−90−80、レオコールTD−120、レオコールTD−150、レオコールTD−200、レオコールTD−400−75、レオコールSC−50、レオコールSC−70、レオコールSC−80、レオコールSC−90、レオコールSC−120、レオコールSC−150、レオコールSC−200、レオコールSC−300、レオコールSC−400、レオックスLC−300、レオックスCL−30、レオックスCL−40、レオックスCL−50、レオックスCL−60、レオックスCL−70、レオックスCL−80、レオックスCL−80−90、レオックスCL−90、レオックスCL−230、レオックスTC−150、
日本乳化剤株式会社ニューコール2302、ニューコール2303、ニューコール2305、ニューコール2307、ニューコール2308、ニューコール2308−HE、ニューコール2310、ニューコール2312、ニューコール2314、ニューコール2318、ニューコール2320、ニューコール2327(20)、ニューコール2330、ニューコール2344、ニューコール2360、ニューコール2399−S、ニューコール2399−S(25)、ニューコール1525、ニューコール1533、ニューコール1545、ニューコール1500−S、ニューコール2303−Y、ニューコール2304−YM、ニューコール2304−Y、ニューコール2306−Y、ニューコール2308−Y、ニューコール2314−Y、ニューコール2306−HY、ニューコール2308−LY、ニューコール2300FC、ニューコール2300−FE、ニューコール1008−F1、ニューコール1902−Y、ニューコール1308−FA(90)、ニューコール714,ニューコール714(80)、ニューコール719、ニューコール723、ニューコール723(60)、ニューコール729、ニューコール733,ニューコール740、ニューコール740(60)、ニューコール747、ニューコール780(60)、ニューコールB10、ニューコールB13、ニューコールBN−F6、ニューコールCMP−1、ニューコールCMP−6、ニューコールCMP−8、ニューコールCMP−11、ニューコール3240、ニューコール3280、ニューコール170、ニューコールLA−407、ニューコールOD−410、ニューコールOD−420、ニューコールTA−420、
シグマアルドリッチ社ポリ(エチレングリコール)オクチルエーテル、日本エマルジョン株式会社べへネス−10などが挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
中でも、エマルゲン150、エマルゲン220、サーフィノール420、サーフィノール440、サーフィノール485など、エチレンオキシド鎖を持つものがより好ましい。
日本乳化剤株式会社製テクスノールR2、テクスノールR5(50)、テクスノーツIL55、テクスノールCP−81、テクスノールRS−811、
第一工業製薬株式会社製カチオーゲンTML、カチオーゲンTMP、カチオーゲンTMS、カチオーゲンES−O、カチオーゲンES−OW、カチオーゲンES−L、カチオーゲンES−L−9、カチオーゲンES−P、カチオーゲンDOM−PG、カチオーゲンBC−50、カチオーゲンD2、カチオーゲンSPA、カチオーゲンTBB、
ライオン株式会社製アーカードC−50、アーカードT−28、アーカードT−30、アーカードT−50、アーカードT−800、アーカード16−29、アーカード16−50、アーカード18−63、アーカード22−80などが挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
日本乳化剤株式会社製ニューコール210、ニューコール211−MB、ニューコール220−L(65)、ニューコール263−H、ニューコール240、ニューコール290−A、ニューコール290−KS、ニューコール291−M、ニューコール291−PG、ニューコール291−GL、ニューコール292−PG、ニューコール293、ニューコール297、ディスロールSH、エスコール(30)、ニューコール707−SF、ニューコール707−SFC、ニューコール707−SN、ニューコール714−SF、ニューコール723−SF、ニューコール740−SF、ニューコール780−SF、ニューコール2607−SF、ニューコール2614−SF、ニューコールB4−SN、ニューコールB13−SN、ニューコール1020−SN、ニューコール2308−SF、ニューコール2320−SN、ニューコール2360−SN、ニューコール1305−SN、ニューコール1330−SF、ニューコール1703−SFD、ニューコール1525−SFC、ニューコール1000−FCP、アントックスEHD−400、アントックスEHD−PNA、アントックスEP−41、ディスロールEP−41、ディスロールH14−N、ディスロールAQ−3、ディスロールDE12−T、テクスノールR2、テクスノールR5(50)、テクスノールIL55、テクスノールL7、テクスノールRS−811、
第一工業製薬株式会社製ハイテノールNF−08、ハイテノールNF−0825、ハイテノールNF−13、ハイテノールNF−17、ハイテノールXJ−630S、ハイテノールPS−06、ハイテノールPS−15、ハイテノール330T、ハイテノール227L、ハイテノール325L、ハイテノールLA−10、ハイテノールLA−12、ハイテノールLA−16、ハイテノール325SM、ハイテノール08E、ハイテノール18E、ハイテノールW−2320、プライサーフA212C、プライサーフA215C、プライサーフA208F、プライサーフM208F、プライサーフA208N、プライサーフA208B、プライサーフA219B、プライサーフDB−01、プライサーフA2100、プライサーフAL、プライサーフAL12H、プライサーフDBS、プライサーフDOM、ネオハイテノールECL−45、ネオハイテノールLS、ネオハイテノールL−30、ネオハイテノールS−70、ネオゲンS−20F、SAS−12F、ネオゲンAO−90、PSA−C、ネオコールSW−C、ネオコールP、ネオコールYSK、モノゲンY−100、モノゲンY−500T、カリセッケンHY、
ライオン株式会社製リポランPJ−400、KリポランPJ−400、リポランLB−440、リポランLJ−441、リポランLB−840、リポランPB−800、リポラン2800、ライポンLH−200、ライポンLH−900、ライポンLS−250、ライポンPS−230、ライポンPS−260、ライポンPS−860、サンノールEH−1145M、サンノールLM−1130、サンノールLM−1140T、サンノールLMT−1430、サンノールTD−3130、リポタックTE、エナジコールL−30AN、エナジコールL−30ANT、リパール835I、リパール860K、リパール870P、リパールMSC、リパールMSE、リパールNTD、ロータットOH−104K、エナジコールEC−30、エナジコールECA−1090、サンノールPP−2030などが挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
バインダー組成物は、樹脂(A)の他に、金属酸化物微粒子(C)を含むことができる。これにより、バインダー組成物を任意の屈折率に調整することが出来る。
本発明で用いられる金属酸化物微粒子(C)は、可視光域において1.8〜2.8の屈折率を有することが望ましい。
本明細書において、「金属酸化物微粒子(C)の屈折率」とは、金属酸化物微粒子を構成する材料のバルクの屈折率を意味する。バルク材料の屈折率は、アッベ屈折率計あるいはV ブロック方式の屈折率計を用いて測定することができる。
本明細書における「平均1次粒子径」とは凝集を加味しない個々の粒子径のことを示し、例えば、透過型電子顕微鏡(TEM)または走査型電子顕微鏡(SEM)などを用いて実測した50個の粒子直径の平均値である。
分散方法は、光散乱粒子(B)と同様、金属酸化物微粒子(C)の表面状態に合わせた分散剤を用い、分散機を用いる方法が好ましい。
二重結合当量が80g/mol以上140g/mol以下であるエチレン性不飽和単量体(D)としては、例えば、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1.4−ブタンジオールジ(メタ) アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、およびトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等のトリ(メタ)アクリレート;
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ−トリメチロールプロパンテトラアクリレート、およびジペンタエリスリトール(モノヒドロキシ)ペンタアクリレート等の脂肪族多官能(メタ)アクリレート;
ジシクロペンタジエニルジ(メタ)アクリレート等の多官能型脂環式(メタ)アクリレート;
その他、二重結合当量が80g/mol以上140g/mol以下で2官能以上のポリウレタンエーテル(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、およびエポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
これらは1種を単独で、または必要に応じて任意の比率で2種以上混合して用いることができる。
バインダー組成物は、さらに、ウレタン骨格またはアミド骨格を有する下記一般式(1)で表されるシラン化合物(E)を含有することが好ましい。
Xは炭素数1〜20のアルキレン基、炭素数1〜20のアリーレン基、または炭素数1〜20のアルコキシレン基を表す。
R2 、R3およびR4は互いに独立して、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数6〜20のアリールオキシ基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜30のアルキル基、炭素数7〜30のアルカリール基、置換基を有するシロキサン基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、または水素原子を表す。]
一般式(1)で表わされるシラン化合物(E)は、光散乱層用組成物に、加水分解物であるシラノール化合物の形態で、あるいは縮合物であるポリオルガノシロキサン化合物の形態で添加してもよい。
対して、一般式(1)で表されるシラン化合物(E)は、イソシアネート基のような高い反応性部位を持たないため、熱的、および化学的に安定であり、光散乱層用樹脂組成物中でも経時安定性に優れており、安定して良好な密着性を示すことができる。
本発明の光散乱層用樹脂組成物は、重合開始剤を配合しなくても熱重合させることができる。しかし、UV光で短時間に硬化させたい場合、または、溶剤現像型あるいはアルカリ現像型の感光性光散乱層用樹脂組成物としてフォトリソグラフィー法により光散乱層を形成したい場合などには、バインダー組成物に光重合開始剤を添加することができる。
4−フェノキシジクロロアセトフェノン、4−t−ブチル−ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン、および2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン等のアセトフェノン系光重合開始剤;
1,2−オクタンジオン−1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−2−(o−ベンゾイルオキシム)、および、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(o−アセチルオキシム)等のオキシムエステル系光重合開始剤;
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、およびベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系光重合開始剤;
ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、および4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド等のベンゾフェノン系光重合開始剤;
チオキサンソン、2−クロルチオキサンソン、2−メチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、および2,4−ジイソプロピルチオキサンソン等のチオキサンソン系光重合開始剤;
2,4,6−トリクロロ−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ピペロニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−スチリル−s−トリアジン、2−(ナフト−1−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4−トリクロロメチル−(ピペロニル)−6−トリアジン、および2,4−トリクロロメチル(4’−メトキシスチリル)−6−トリアジン等のトリアジン系光重合開始剤;
ボレート系光重合開始剤;
カルバゾール系光重合開始剤:
およびイミダゾール系光重合開始剤等が用いられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
これらを単独で、あるいは2種以上混合して用いることができる。
増感剤は、光重合開始剤100質量部に対して、0.1〜150質量部の量で用いることができる。
本発明の光散乱層用樹脂組成物は、塗膜耐久性を更に付与すべく、更に熱反応性化合物を添加する事が出来る。前記熱反応性化合物は、常温下では非反応性であるが、例えば、100℃以上(好ましくは150℃以上)の温度で、架橋反応、重合反応、重縮合反応、又は重付加反応性を示す化合物である。熱反応性化合物の分子量は、特に限定されるものではないが、好ましくは50〜2000、より好ましくは100〜1000である。
本発明の光散乱層用樹脂組成物の製造方法は特に限定されるものではなく、粒子と樹脂を均一に混合するのに用いられる方法であれば良く、通常用いられる従来公知の方法で何ら構わない。
分散安定性の観点からは、光散乱粒子(B)が分散した分散液、樹脂(A)が溶解した溶液を予め得ておき、前記光散乱粒子(B)の分散液と樹脂(A)の溶液と、必要に応じて金属酸化物微粒子(C)が分散した分散液やその他の成分とを均一に混合する方法が好ましく、界面活性剤はこのいずれの分散液および溶液に含まれていてもよい。
本発明の光散乱層は、上記の本発明の光散乱層用樹脂組成物を用いて形成されたものである。
本発明の光散乱層は、例えば、ガラスなどの透光性基板上に光散乱層用樹脂組成物を塗布、および乾燥し、得られた塗膜を加熱、あるいは紫外線や電子線等の照射を施し硬化させることによって得られる。
塗工方法としては、公知の方法を用いることができ、
例えばロットまたはワイヤーバーなどを用いた方法;
および、マイクログラビアコーティング、グラビアコーティング、ダイコーティング、カーテンコーティング、リップコーティング、スロットコーティングまたはスピンコーティングなどの各種コーティング方法を用いることができる。
光散乱層用樹脂組成物を用いて、光散乱層を透光性基板上にパターニングする場合は、1)印刷方式により透光性基板上に直接パターニングを行う方法 と、2)フォトリソグラフィー方式によりパターニングを行う方法を用いることが出来る。
1)印刷方式では、フレキソ印刷、グラビア印刷、グラビアオフセット印刷、オフセット印刷、反転オフセット印刷、スクリーン印刷、凸版印刷、インクジェット印刷等の通常の印刷方式で行うことができる。
2)フォトリソグラフィー方式では、感光性の光散乱層用樹脂組成物を使用する。その場合、2−1)本発明の光散乱層用樹脂組成物を透光性基板に直接塗布、乾燥させた後、もしくは 2−2)フィルム基材(以下セパレートフィルムと称す)上に溶剤に溶解させた上記樹脂組成物を塗工後、溶剤を乾燥させることにより得られる感光性ドライフィルムを、透光性基板に張り合わせたのち、ラミネートや真空ラミネートによって、透光性基板への密着および気泡等の除去を行う事により光散乱層を形成した後に、溶液現像またはアルカリ現像工程によってパターン形成を行う。
光散乱層の厚みは特に限定されないが、通常、0.5〜20μmであることが好ましい。
本発明の有機EL装置は、光散乱層用樹脂組成物から形成される光散乱層を具備する有機EL素子を含むものである。有機EL素子の構造は特に限定されないが、基本構造の例として、透光性基板上に、透光性電極、発光層を含む少なくとも1つの有機層(有機EL層)、背面電極、TFT基板を順次積層し、陽極側から光を取り出すボトム・エミッションという構造が挙げられる。また、もう一つの例として、TFT基板上に、背面電極、発光層を含む少なくとも1つの有機層(有機EL層)、透光性電極、封止層を順次積層し、陰極側から光を取り出すトップ・エミッションという構造が挙げられる。これらの方法や技術は、城戸淳二著、「有機ELのすべて」、日本実業出版社(2003年発行)に記載されている。
本実施形態の有機EL装置1は、透光性基板11上に、光散乱層12と、透光性を有する第1の電極(陽極、透光性電極)13と、発光層を含む少なくとも1つの有機層(有機EL層)14と、光反射性を有する第2の電極(陰極、背面電極)15とが順次積層されたものである。
光散乱層12が、上記の本発明の光散乱層用樹脂組成物を用いて形成された層である。
アクティブマトリクス型の有機EL表示装置では、異なる複数の色を発光する複数の発光層がマトリクス状にアレイ形成される。また、ドットごとに第2の電極(陰極、背面電極)15からなる画素電極とそのスイッチング素子であるTFT(薄膜トランジスタ)が形成されたTFT基板が備えられる。
ボトム・エミッション構造の場合、例えば以下のような場合が考えられる。
(1)透光性基板/光散乱層/透光性電極/有機EL層/背面電極
(2)光散乱層/透光性基板/透光性電極/有機EL層/背面電極
(3)光散乱層/透光性基板/光散乱層/透光性電極/有機EL層/背面電極
(4)基板/背面電極/有機EL層/透光性または半透光性電極/光散乱層/保護基板
(5)基板/背面電極/有機EL層/透光性または半透光性電極/封止層/光散乱層/保護基板
(6)基板/背面電極/有機EL層/透光性または半透光性電極/封止層/保護基板/光散乱層
(7)基板/背面電極/有機EL層/透光性または半透光性電極/光散乱層/保護基板/光散乱層
このとき透光性基板と透光性電極との間に光散乱層を具備した有機EL素子を含むものが、光取り出し効率の観点からより好ましい。
具体例としては、
酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、および酸化インジウムスズ(ITO)等の導電性金属酸化物;
金、銀、クロム、およびニッケル等の金属;
ヨウ化銅および硫化銅などの他の無機導電性物質;
ポリアニリン、ポリチオフェン、PEDOT/PSS、およびポリピロールなどの有機導電性物質;
およびこれらの混合物または積層物などが挙げられる。
好ましくは導電性金属酸化物であり、特に、生産性、高導電性、および透光性等の点からITOが好ましい。
アルカリ金属(例えばLi、Na、およびK等)およびそのフッ化物;
アルカリ土類金属(例えばMg、およびCa等)およびそのフッ化物;
金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金、およびこれらを含む混合金属;
リチウム−アルミニウム合金およびこれを含む混合金属;
LiF/Al合金およびこれを含む混合金属;
マグネシウム−銀合金およびこれを含む混合金属;
インジウム、およびイッテリビウム等の希土類金属等が挙げられる。
この中で、好ましくは仕事関数が4eV以下の材料であり、より好ましくはアルミニウム、リチウム−アルミニウム合金およびそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金およびその混合金属等である。
透光性電極の形成方法としては、電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、化学反応法(ゾル−ゲル法など)、および溶解物や分散物の塗布などの方法が用いられる。
形成した透光性電極は、所望に応じて、エッチング処理を行い、パターンを形成する。さらに、洗浄その他の処理により、装置の駆動電圧を下げたり、発光効率を高めることも可能である。例えばITOの場合、UV−オゾン処理などが効果的である。
有機EL層は発光層を含み、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、または電子輸送層などを含んでいてもよい。これらの各層はそれぞれ他の機能を備えたものであってもよい。
例えば、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、スチリルベンゼン誘導体、ポリフェニル誘導体、ジフェニルブタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ナフタルイミド誘導体、クマリン誘導体、ペリレン誘導体、ペリノン誘導体、オキサジアゾール誘導体、アルダジン誘導体、ピラリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体、キナクリドン誘導体、ピロロピリジン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、スチリルアミン誘導体、芳香族ジメチリディン化合物、および8 − キノリノール誘導体の金属錯体または希土類錯体に代表される各種金属錯体;
および、
ポリチオフェン、ポリフェニレン、およびポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物等が挙げられる。
具体例としては、
トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、シロール誘導体、フタロシアニン誘導体、および8−キノリノール誘導体の金属錯体;
メタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾール、およびベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体等が挙げられる。
これらの層の形成方法は特に限定されるものではないが、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法、分子積層法、コーティング法(スピンコート法、キャスト法、およびディップコート法など)、およびLB(Langmuir Blodgett)法などの方法が用いられる。好ましくは抵抗加熱蒸着法、およびコーティング法である。
負極である背面電極は、電子注入層、電子輸送層、または発光層などに電子を供給するものであり、隣接する層との密着性、イオン化ポテンシャル、および安定性等を考慮して選ばれる。
背面電極は光反射性を有することが好ましい。
背面電極の材料としては、金属、合金、導電性金属酸化物、他の導電性化合物、およびこれらの混合物を用いることができる。
具体例としては、
アルカリ金属(例えばLi、Na、およびK等)およびそのフッ化物;
アルカリ土類金属(例えばMg、およびCa等)およびそのフッ化物;
金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金、およびこれらを含む混合金属;
リチウム−アルミニウム合金およびこれを含む混合金属;
LiF/Al合金およびこれを含む混合金属;
マグネシウム−銀合金およびこれを含む混合金属;
インジウム、およびイッテリビウム等の希土類金属等が挙げられる。
好ましくは仕事関数が4eV以下の材料であり、より好ましくはアルミニウム、リチウム−アルミニウム合金およびそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金およびその混合金属等である。
また、光反射性を保ちながら有機層への電子あるいは正孔の注入性を制御するために、上記の背面電極の材料とITOを積層して背面電極とすることも可能である。
例えば、本発明の光散乱層を具備する有機EL素子は、フルカラー表示素子としても利用可能である。
フルカラー化方式の主な方式としては、3色塗り分け方式、色変換方式、カラーフィルター方式が挙げられる。3色塗り分け方式では、シャドウマスクを使った蒸着法や、インクジェット法や印刷法が挙げられる。また、特表2002−534782や、S.T.Lee, et al., Proceedings of SID’02, p.784(2002)に記載されているレーザー熱転写法(Laser Induced Thermal Imaging、LITI法ともいわれる)も用いることができる。色変換方式では、色発光の発光層を使って、蛍光色素を分散した色変換(CCM)層を通して、色より長波長の緑色と赤色に変換する方法である。カラーフィルター方式では、白色発光の有機EL発光素子を使って、液晶用カラーフィルターを通して3原色の光を取り出す方法であるが、これら3原色に加えて、一部白色光をそのまま取り出して発光に利用することで、素子全体の発光効率をあげることもできる。
説明する。
5%熱分解温度として、セイコーインスツルメンツ(株)社製の示差熱熱重量同時測定装置EXSTER TG/DTA6300を用い、200ml/分の空気気流下、10℃/分の昇温速度にて測定し、樹脂サンプルの質量が昇温前の95%となる温度を求めた。
質量平均分子量(Mw)は、昭和電工(株)社製のゲル浸透クロマトグラフィーGPC−101を用いて測定した。溶媒としてTHF(テトラヒドロフラン)を用い、ポリスチレン換算分子量を求めた。
二重結合当量とは、分子中に含まれる二重結合量の尺度となるものであり、同じ分子量の化合物であれば、二重結合当量の数値が小さいほど二重結合の導入量が多くなる。
二重結合当量は下記式により算出した。
[二重結合当量]=[二重結合を持つモノマー成分の分子量]/[二重結合を持つモノマー成分の分子中の全モノマーに対する質量比]
酸価(JIS酸価)は、以下の方法により求めた。
試料1gをキシレンとジメチルホルムアミドとを質量比1:1で混合した滴定溶剤に溶かした。電位差滴定法により0.1mol/Lの水酸化カリウム溶液(溶媒はエタノール)を用いて滴定した。滴定曲線上の変曲点を終点とし、水酸化カリウム溶液の終点までの滴定量から、下記式から酸価を算出した。
A=(B−C)×f×D/S
(式中の符号は以下の通りである。
A:酸価(mgKOH/g)、B:本試験の水酸化カリウム溶液の添加量(mL)、C:空試験(測定試料を用いないで測定)の水酸化カリウム溶液の添加量(mL)、f:水酸化カリウム溶液のファクター、D:濃度換算値=5.611mg/mL(0.1mol/Lの水酸化カリウム溶液1mLの水酸化カリウム相当量)、S:試料(g))
粒子径は、日機装(株)社製「ナノトラックUPA」を用いて測定した。
(製造例1)
工程1:
攪拌機、温度計、滴下装置、還流冷却器、およびガス導入管を備えた反応容器に、溶剤としてPGMEA(propyleneglycol monomethyl ether acetate)100部を入れた。この容器内に窒素ガスを注入しながら80℃に加熱した。この温度を保持し、スチレン(St)5.0部、シクロヘキシルメタクリレート(CHMA)15.9部、メタクリル酸(MAA)31.7部、および2,2’−アゾビスイソブチロニトリル3.0部の混合物を1時間かけて滴下して重合反応を行った。滴下終了後、さらに70℃で3時間反応させた後、アゾビスイソブチロニトリル0.5部をPGMEA40部に溶解させたものを添加し、その後3時間、同じ温度で攪拌を続けて、共重合体を得た。
工程2:
次いで、反応容器内に乾燥空気を導入し、グリシジルメタクリレート(GMA)50.0部、PGMEA37.0部、ジメチルベンジルアミン0.6部、およびメトキノン0.1部を仕込み、その後10時間、同じ温度で攪拌を続けた。室温に冷却後、PGMEAで希釈することにより、固形分35質量%の樹脂溶液(A―1)を得た。
主な反応条件(仕込み組成と反応温度)と、得られた樹脂の評価結果を表1に示す。
反応条件(仕込み組成と反応温度)を表1に示すものに変更した以外は、製造例1と同様の方法で樹脂溶液(A―2)〜(A―10)を得た。
PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
DCPMA:ジシクロペンタニルメタクリレート、
CHMA:シクロヘキシルメタクリレート、
St:スチレン、
M−110:パラクミルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレート、
HEMA:ヒドロキシエチルメタクリレート、
MAA:メタクリル酸、
GMA:グリシジルメタクリレート、
MMA:メチルメタクリレート。
表1中の配合量の単位は、「部」である。
(製造例101)
N2雰囲気下、メタノール58gおよび水32gの混合溶剤中で、メチルメタクリレート(和光純薬社製)4.5g、トリフルオロエチルメタクリレート(和光純薬社製)5g、およびアリルメタクリレート(和光純薬社製)0.5gを、2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)ジヒドロクロリド(和光純薬社製、V−50)0.025gを用いて60℃で8時間重合した。その後、PGMEA123gを加え、ストリッピングによりメタノールおよび水を除去し、固形分10質量%の光散乱粒子分散液(B−1)(アクリル樹脂粒子分散液)を作製した。
得られた光散乱粒子分散液(B−1)中の光散乱粒子の平均粒子径は420nm、光散乱粒子の全量に対する600nm以上の粒子の含有率は6%、変動係数は9%、屈折率は1.46だった。
工程1:分散剤(T−1)の製造
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、および温度計を備えた4口フラスコに、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(三菱化学(株)社製)80.0部、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)社製、商品名:KAYARAD PET−30)250.0部、ヒドロキノン(和光純薬工業(株)社製)0.16部、およびシクロヘキサノン141.2部を仕込み、85℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業(株)社製)1.65部を加え、85℃で8時間撹拌した。その後、グリシジルメタクリレート(ダウ・ケミカル日本(株)社製)77.3部、およびシクロヘキサノン33.9部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン(和光純薬工業(株)社製)2.65部を加え、85℃で6時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。
得られた反応溶液は、淡黄色透明で固形分70質量%であった。反応生成物の質量平均分子量(Mw)は約3130であった。
工程2:分散液の製造
平均1次粒子径が250nmの酸化チタン(TiO2)粒子10gに、分散媒としてメチルイソブチルケトン84.3g、および上記分散剤(T−1)5.7gを加えた。ジルコニアビーズ(1.25mm)をメディアとして用い、ダイノミルで1時間分散処理を行い、固形分20質量%の光散乱粒子分散液(B−2)(酸化チタン粒子分散液)を作製した。
得られた光散乱粒子分散液(B−2)中の光散乱粒子の平均粒子径は426nm、光散乱粒子の全量に対する600nm以上の粒子の含有率は12%、変動係数は22%、屈折率は2.5だった。
メラミン・ホルムアルデヒド縮合物粒子(日本触媒(株)社製「エポスターS6」)10gに、分散媒としてメチルイソブチルケトン87g、分散剤としてBYK−111(ビックケミー・ジャパン(株)社製)4gを加え、ジルコニアビーズ(1.25mm)をメディアとして用い、ペイントシェイカーで1時間分散処理を行い、光散乱粒子分散液(B−3)(メラミン樹脂粒子分散液)を作製した。平均粒子径は512nm、光散乱粒子の全量に対する600nm以上の粒子の含有率は40%、変動係数は37%、屈折率は1.65だった。
N2雰囲気下、水219.5gの溶剤中で、メチルメタクリレート(和光純薬社製)17.8g、トリフルオロエチルメタクリレート(和光純薬社製)19.8g、アリルメタクリレート(和光純薬社製)2g、及びp-スチレンスルホン酸ナトリウム(和光純薬社製)0.079gを、過硫酸カリウム(和光純薬社製)0.198gを用いて80℃で強撹拌した。8時間重合後、PGMEA385gを加え、ストリッピングによりメタノールおよび水を除去し、固形分20質量%の光散乱粒子分散液(B−4)(アクリル樹脂粒子分散液)を作製した。
得られた光散乱粒子分散液(B−4)中の光散乱粒子の平均粒子径は152nm、光散乱粒子の全量に対する600nm以上の粒子の含有率は2%、変動係数は6%、屈折率は1.46だった。
(製造例201)
平均1次粒子径が15nmの酸化チタン(TiO2)微粒子10gに、分散媒としてPGMEA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)84.3g、分散剤として製造例101の工程1で得られた分散剤(T−1)5.7gを加えた。得られた液に対して、2段階の分散処理を行った。前分散として、ジルコニアビーズ(平均径:1.25mm)をメディアとして用い、ペイントシェイカーで1時間分散した。本分散として、ジルコニアビーズ(平均径:0.1mm)をメディアとして用い、寿工業(株)社製分散機UAM−015で7時間分散した。以上のようにして、金属酸化物微粒子分散液(C−1)(酸化チタン微粒子分散液)を作製した。分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径は80nmであり、固形分は50%であった。
(製造例301)
反応槽として冷却管を付けたフラスコを準備し、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン(信越化学工業社製「KBE−9007」)100g、およびエタノール(キシダ化学社製)50gをよく攪拌混合したものを準備し、窒素置換した。その後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を60℃まで昇温した。反応槽の温度が60℃に安定してから、さらに8時間攪拌した。FT−IRスペクトルにより反応が終了したことを確認し、反応槽の温度を常温まで下げ、固形分79質量%の(3−カルバメートエチル)プロピルトリエトキシシランのエタノール溶液130gを得た。
ジムロート式冷却凝縮器、ディーンスターク、撹拌機、および温度計を備えた100mLの四つ口フラスコを充分窒素置換したものを準備した。上記で得られた(3−カルバメートエチル)プロピルトリエトキシシランのエタノール溶液100g、エタノール25mL、および酢酸ナトリウム0.06gを仕込み、水1.3gをゆっくりと添加した。常圧下、30〜40℃で1時間熟成した後、還流下で3時間熟成した。熟成後常圧で徐々に溶媒を抜き出し、釜温が105℃に達した所で加熱を止め、冷却した。得られた溶液をろ過し、減圧下、120℃で1時間乾燥することで透明なオイル状生成物であるシラン化合物(E−1)を得た。質量平均分子量(Mw)は約5,500であった。
反応槽として冷却管を付けたフラスコを準備し、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン(信越化学工業社製「KBE−9007」)100g、および2,8−エチル−1−テトラデカノール100g部をよく攪拌混合したものを準備し、窒素置換した。その後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を60℃まで昇温した。反応槽の温度が60℃に安定してから、さらに10時間攪拌した。FT−IRスペクトルにより反応が終了したことを確認し、反応槽の温度を常温まで下げ、窒素置換した容器に取り出し、シラン化合物(E−2)を得た。質量平均分子量(Mw)は約520であった。
反応槽として冷却管を付けたフラスコを準備し、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン(信越化学工業社製「KBE−9007」)100g、およびエタノール(キシダ化学社製)100gをよく攪拌混合したものを準備し、窒素置換した。その後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を60℃まで昇温した。反応槽の温度が60℃に安定してから、さらに6時間攪拌した。FT−IRスペクトルにより反応が終了したことを確認し、反応槽の温度を常温まで下げ、窒素置換した容器に取り出し、シラン化合物(E−3)を得た。質量平均分子量(Mw)は約280であった。
(実施例1)
光散乱粒子を1.5g含む光散乱粒子分散液(B―1)15.00gに対して、樹脂を8.71g含む樹脂溶液(A−4)23.16g、界面活性剤としてエマルゲン104P(HLB:9.6、アルキル鎖の炭素数:12、花王(株)製)を0.5gおよび有機溶剤PGMEA59.99gを加え、均一になるように撹拌および混合した。メッシュ径5μmのフィルタで濾過し、光散乱層用樹脂組成物を作製した。この組成物中の固形分の質量比は、樹脂(A−4):光散乱粒子(B−1):界面活性剤(エマルゲン104P)=81.3:14.0:4.7であった。
表2〜4に示した配合組成とした以外は実施例1と同様にして、光散乱層用樹脂組成物を得た。なお、本明細書において、実施例1、3〜9、および22は、参考例である。
<エチレン性不飽和単量体(D)>
・V#802:大阪有機化学工業社製ビスコート#802
・DPCA30:サートマー社製カヤラッドDPCA30
・DPCA60:サートマー社製カヤラッドDPCA60
・M402:東亞合成社製アロニックスM402
<シラン化合物(E)>
・KBM−573:信越シリコーン社製KBM−573
<光開始剤(F)>
・Irg907:BASF社製イルガキュア907
・OXE01:BASF社製イルガキュアOXE01
・OXE02:BASF社製イルガキュアOXE02
<レベリング剤>
・BYK330:ビックケミー社製BYK330。
得られた光散乱層用樹脂組成物は下記の装置または方法により評価を行った。評価結果を表6〜8に示す。
(バインダー組成物の屈折率、およびバインダー組成物と光散乱粒子(B)との屈折率差)
バインダー組成物をPEN(ポリエチレンナフタレート)フィルムにスピンコーターを用い、仕上がり膜厚が2.0μmとなるように塗布した。次に、得られた塗布基板を110℃に加熱したホットプレート上で2分間保持した後、超高圧水銀ランプを用いて、照度20mW/cm2、露光量50mJ/cm2で紫外線露光を行った。塗布基板を200℃で30分加熱、放冷後、日本工業規格:JISK7142「プラスチックの屈折率測定方法」に準拠し、アッベ屈折計によりバインダー組成物の屈折率(n1)を測定した。また、バインダー組成物の屈折率(n1)と光散乱粒子の屈折率(n2)との差を求めた。下記基準に基づき、評価した。
・バインダー組成物の屈折率
1.65以上:良(○)、
1.65未満:可(△)
・バインダー組成物と光散乱粒子(B)との屈折率差
0.1≦|n1−n2|:「良(○)」、
0.1>|n1−n2|:「不可(×)」
光散乱層用樹脂組成物を、100mm×100mm、0.7mm厚のガラス基板(コーニング社製ガラス「イーグル2000」)に、スピンコーターを用いて230℃20分加熱後の仕上がり膜厚が2.0μmとなるように塗布した。次に、得られた塗布基板を110℃に加熱したホットプレート上で2分間保持した後、超高圧水銀ランプを用いて、照度20mW/cm2、露光量50mJ/cm2で紫外線露光を行った。塗布基板を230℃で20分加熱、放冷後、顕微分光光度計(オリンパス光学社製「OSP−SP100」)を用い、得られた塗膜の波長400nmにおける透過率を求めた。下記基準に基づき、評価した。
透過率80%以上:良(○)、
透過率80%未満:可(△)
透過率の測定用に作製したものと同じ方法で得た光散乱層用樹脂組成物塗布基板を300℃20分加熱、放冷後、顕微分光光度計(オリンパス光学社製「OSP−SP100」)を用いて、得られた塗膜の波長400nmにおける透過率を求めた。下記基準に基づき、評価した。
透過率80%以上:良(○)、
透過率80%未満:可(△)
透過率の測定用に作製したものと同じ方法で得た光散乱層用樹脂組成物塗布基板において、塗布面から見た目視での凝集物の数を下記基準に基づき評価した。
凝集物0個:優(◎)
凝集物1〜3個:良(○)
凝集物4〜9個:可(△)
凝集物10個以上:不可()
透過率の測定用に作製したものと同じ方法で得た光散乱層用樹脂組成物塗布基板上に、ITOセラミックターゲット(In2O3:SnO2=90:10(質量比))を用い、DCスパッタリング法にて厚さ150nmのITO膜を形成し、透光性電極(陽極)とした。
フォトレジストを用いて上記ITO膜をエッチングして、発光面積が5mm×5mmとなるようにパターンを形成した。超音波洗浄を行った後、低圧紫外線ランプを用いてオゾン洗浄した。ついで、ITO面上に、真空蒸着法により、下記のように有機EL層を順次形成した。
まず、正孔注入層として、CuPcを15nmの厚さに形成した。次に、正孔輸送層として、α−NPDを、50nmの厚さに形成した。次に、表5に示す赤色の発光層を40nmの厚さに形成し、表5に示す電子注入層を30nmの厚さに形成した。
その後、MgとAgを共蒸着し、厚さ100nmのMgAgを形成後、MgAgの酸化防止の観点から、さらに、その上にAgを50nm形成し、背面電極(陰極)とした。
真空蒸着装置から取り出したのち、陰極電極側に紫外線硬化性エポキシ樹脂を滴下し、その上にスライドガラスを被せ、高圧紫外線ランプを用いてエポキシ樹脂を硬化させ、素子を封止した。
上記と同様にして、表5に示す発光層と電子注入層を使用し、青色、緑色、および白色の発光素子をそれぞれ作製した。
別途、評価用に、基材として光散乱層を形成していないガラス基板を用いた以外は、上記と同様の方法にてEL素子を得た。
・発光外観(ダークスポット、ムラ)
ダークスポット、ムラが観察されない:良(○)、
ダークスポット、ムラが僅かに観察される:可(△)、
ダークスポット、ムラが観察される:不可(×)
・光取り出し効率
正面輝度向上率1.5倍以上:優(◎)、
正面輝度向上率1.2倍以上〜1.5倍未満:良(○)、
正面輝度向上率1.2倍未満:可(△)
・波長依存性
赤・青・緑のそれぞれの正面輝度向上率の値の差が10%未満かつ白色のスペクトル形状が変化していない:良(○)、
赤・青・緑のそれぞれの正面輝度向上率の値の差が10%以上20%未満かつ白色のスペクトル形状が変化していない:可(△)、
赤・青・緑のそれぞれの正面輝度向上率の値の差が20%以上かつ白色のスペクトル形状が変化している:不可(×)
(ガラスおよびITOに対する密着性の測定)
透過率の測定用に作製したものと同じ方法で得た光散乱層用樹脂組成物塗布基板について、JISK5600−5−6に準じた付着性(クロスカット法)試験により塗膜の密着性を評価し、碁盤目25個中の剥離個数を数えた。
基材としては、コーニング社製ガラス「イーグル2000」およびジオマテック社製のITO膜を使用した。下記基準に基づき、評価した。
碁盤目の剥離個数0個:優(◎)、
碁盤目の剥離個数1個未満(フチハガレ:碁盤目のフチが剥がれるレベル):良(○)、
碁盤目の剥離個数1個以上3個以下:可(△)、
碁盤目の剥離個数3個より多い:不可(×)
透過率の測定用に作製したものと同じ方法でITO基材上に塗膜を形成した。得られた光散乱層用樹脂組成物塗布基板を硝酸/塩酸/水=0.1/1/1(質量比)の溶液に40℃で5分間浸漬し、純水にて洗浄後、24時間放置した。得られた基板をJIS K5600−5−6に準じた付着性(クロスカット法)試験により塗膜の密着性を評価し、碁盤目25個中の剥離個数を数えた。基材としては、ジオマテック社製のITO膜を使用した。下記基準に基づき、評価した。
碁盤目の剥離個数0個:優(◎)、
碁盤目の剥離個数1個未満(フチハガレ:碁盤目のフチが剥がれるレベル):良(○)、
碁盤目の剥離個数1個以上3個以下:可(△)、
碁盤目の剥離個数3個より多い:不可(×)
透過率の測定用に作製したものと同じ方法で得た光散乱層用樹脂組成物塗布基板を、アセトンまたはイソプロピルアルコールに浸漬し、それぞれ25℃で10分間、超音波洗浄した。得られた基板をJIS K5600−5−6に準じた付着性(クロスカット法)試験により塗膜の密着性を評価し、碁盤目25個中の剥離個数を数えた。下記基準に基づき、評価した。
碁盤目の剥離個数0個:優(◎)、
碁盤目の剥離個数1個未満(フチハガレ:碁盤目のフチが剥がれるレベル):良(○)、
碁盤目の剥離個数1個以上3個以下:可(△)、
碁盤目の剥離個数3個より多い:不可(×)
透過率の測定用に作製したものと同じ方法で得た光散乱層用樹脂組成物塗布基板について、アルバック社製の触針式膜厚計DECTAC−3で、塗膜の表面粗さを測定した。下記基準に基づき、評価した。
表面粗さ100Å未満:優(◎)、
表面粗さ100Å以上150Å未満:良(○)、
表面粗さ150Å以上250Å以下:可(△)、
表面粗さ250Åより大きい:不可(×)
光散乱粒子(B)として、光散乱層用樹脂組成物中の平均粒子径が100nm以上500nm以下であり、かつ、光散乱粒子の全量に対する粒子径600nm以上の粒子の含有量が20体積%以下であるという条件を満たしていない粒子を用いた比較例6では、波長依存性が大きく、取り出し効率の低下がみられた。比較例7では、バインダーの屈折率と光散乱粒子(B)との屈折率差が0.1より小さいため、取り出し効率が低い結果となった。シラン化合物(E)を加えた実施例17〜65では、分散性、密着性、エッチャント耐性、および耐薬品性に優れた塗膜が得られた。
(トップ・エミッション構造A)
イソプロピルアルコールで超音波洗浄した後乾燥窒素ガスで乾燥したガラス基板の上に、厚さ100nmとなる条件でアルミニウムを真空蒸着法で成膜し、その後、ITOセラミックターゲット(In2O3:SnO2=90質量%:10質量%)から、DCスパッタリング法にて厚さが20nmのITO膜を形成し、発光面積が5mm×5mmとなるようにパターニングして、アルミニウムとITOの積層体から成る背面電極(陽極)を形成した。次いで、真空から取り出すことなく、ITO面上に真空蒸着法により、下記のように有機EL層を順次形成した。まず、正孔注入/正孔輸送層として、α−NPDを、40nmの厚さに形成した。次に表9記載のH1とIr−1を蒸着速度が100:6になるように調節し、30nmの厚さに形成した。次いで、正孔ブロック層として、BAlqを、10nmの厚さに形成した。更に、電子輸送層として、Alq3を、20nmの厚さに形成した。次に、マグネシウムを真空蒸着法で2nmの厚さに形成し、更に、ITOセラミックターゲット(In2O3:SnO2=90質量%:10質量%)から、DCスパッタリング法にて厚さが100nmのITO膜を形成して、マグネシウムとITOの積層体による透光性電極(陰極)とした。
最後に、ガラス基板及び透過率の測定用に作製した実施例1〜65、比較例1の光散乱層用樹脂組成物塗布基板を封止用基板として用い、周囲にシール材としてエポキシ系光硬化型接着剤を適用し、これを前記基板の散乱膜側と密着させ、ガラス基板側からUV光を照射して、硬化・封止した。ガラス基板のみで封止したものを比較例8とする。
得られた発光素子の発光外観及び発光効率をボトム・エミッション構造の場合と同様に上記の方法で測定した。結果を表11〜12に記載する。
イソプロピルアルコールで超音波洗浄した後乾燥窒素ガスで乾燥したガラス基板の上に、厚さ100nmとなる条件でアルミニウムを真空蒸着法で成膜し、その後、フッ化リチウムを真空蒸着法で成膜し、厚さが0.5nmのフッ化リチウム膜を形成し、発光面積が5mm×5mmとなるようにパターニングして、アルミニウムとフッ化リチウムの積層体から成る背面電極(陰極)を形成した。次いで、真空から取り出すことなく、フッ化リチウム面上に真空蒸着法により、下記のように有機EL層を順次形成した。まず、電子輸送層として、Alq3を、20nmの厚さに形成した。次いで、正孔ブロック層として、BAlqを、10nmの厚さに形成した。次に表9記載のH1とIr−1を蒸着速度が100:6になるように調節し、30nmの厚さに形成した。次に正孔注入/正孔輸送層として、α−NPDを、40nmの厚さに形成した。次いでITOセラミックターゲット(In2O3:SnO2=90質量%:10質量%)から、DCスパッタリング法にて厚さが150nmのITO膜を形成して、ITOの透光性電極(陽極)とした。
最後に、ガラス基板及び透過率の測定用に作製した実施例1〜65、比較例1の光散乱層用樹脂組成物塗布基板を封止用基板として用い、周囲にシール材としてエポキシ系光硬化型接着剤を適用し、これを前記基板の散乱膜側と密着させ、ガラス基板側からUV光を照射して、硬化・封止した。ガラス基板のみで封止したものを比較例9とする。
得られた発光素子の発光外観及び発光効率をボトム・エミッション構造の場合と同様に上記の方法で測定した。結果を表11〜12に記載する。
透過率の測定用に作製したものと同じ方法で得た実施例1〜65、比較例1の光散乱層用樹脂組成物塗布基板上に、ITOセラミックターゲット(In2O3:SnO2=90質量%:10質量%)から、DCスパッタリング法にて厚さが150nmのITO膜を形成し、透光性電極(陽極)とした。これとは別に、光散乱層を形成せず、ガラス基板上に、直接、上記と同様にITO膜を形成し、透光性電極(陽極)とした。
その後、この両透光性電極に対し、フォトレジストを用いてITO膜をエッチングして、発光面積が5mm×5mmとなるようにパターンを形成した。超音波洗浄を行ったのち、低圧紫外線ランプを用いてオゾン洗浄した。洗浄したITO電極付きガラス板上に、PEDOT/PSS(ポリ(3,4−エチレンジオキシ)−2,5−チオフェン/ポリスチレンスルホン酸、Bayer社製BAYTRON P VP CH8000)をスピンコート法にて製膜し、膜厚40nmの正孔注入層を得た。
次いで、PVK(Poly(9−vinylcarbazole)、シグマアルドリッチ社製)を60%および、表10記載のIr−2を3%およびETM−1の37%の質量比で全体で2.0wt%の濃度となるようにトルエンに溶解させ、スピンコーティング法により70nmの膜厚の発光層を得た。さらにその上に、Caを20nm蒸着した後、Alを200nm蒸着して電極を形成して有機EL素子を得た。
最後に、陰極電極側に紫外線硬化性エポキシ樹脂を滴下し、その上にスライドガラスを被せ、高圧紫外線ランプを用いてエポキシ樹脂を硬化させ、素子を封止した。ガラス基板を使用したものを比較例10とする。
得られた発光素子の発光外観及び発光効率をボトム・エミッション構造の場合と同様に上記の方法で測定した。結果を表11〜12に記載する。
実施例1〜65、比較例1〜7で用いられた光散乱層用樹脂組成物を12μPETフィルム(東レ・デュポン株式会社製S−12)上に乾燥膜厚が2μmとなるように均一塗工して100℃で5分乾燥させた後、室温まで冷却し、二軸延伸ポリプロピレンフィルム(OPPフィルム)を光散乱層用樹脂組成物側にラミネートして感光性ドライフィルムを得た。感光性ドライフィルムからOPPフィルムを剥がし、ガラス基板(コーニング社製ガラス イーグル2000)に真空ラミネートした。真空ラミネート条件は加熱温度60℃、真空時間60秒、真空到達圧2hPa、圧力0.4MPa、加圧時間60秒でおこなった。
次に、超高圧水銀ランプを用いて、照度20mW/cm2、露光量50mJ/cm2で紫外線露光を行った。更に、得られた基板を230℃で20分加熱、放冷し光散乱層を得た。得られた光散乱層について、前記同様に素子作成及び評価を行い、光散乱層の可視光透過率、耐熱性;追加ベーク後の透過率の測定、ボトム・エミッション型EL素子の評価(光取り出し効率、発光外観(ダークスポット、ムラ)、波長依存性))、ガラスおよびITOに対する密着性の測定、ITOエッチャント耐性、耐薬品性、平坦性 を評価したところ、実施例18〜65、比較例1〜7で得られた結果と同様であった。
11 透光性基板
12 光散乱層
13 透光性電極
14 発光層を含む少なくとも1つの有機層(有機EL層)
15 背面電極
Claims (7)
- 有機エレクトロルミネッセンス装置の光散乱層を形成するために用いられる光散乱層用樹脂組成物であって、
少なくとも1種の樹脂(A)および金属酸化物微粒子(C)を含むバインダー組成物と光散乱粒子(B)と界面活性剤(X)とを含み、
光散乱粒子(B)は、有機粒子を含み、
光散乱粒子(B)は、前記光散乱層用樹脂組成物中の平均粒子径が100nm以上500nm以下であり、かつ、光散乱粒子(B)の全量に対する粒子径600nm以上の粒子の含有量が20体積%以下であり、かつ、前記バインダー組成物と光散乱粒子(B)との屈折率差が0.1以上であることを特徴とする光散乱層用樹脂組成物。 - 界面活性剤(X)は、HLBが4.0以上19.0以下であることを特徴とする請求項1記載の光散乱層用樹脂組成物。
- 界面活性剤(X)は、アルキル鎖を含むものであって、アルキル鎖の炭素数が9以上20以下であることを特徴とする請求項1または2記載の光散乱層用樹脂組成物。
- バインダー組成物の屈折率が1.65以上である請求項1〜3いずれか1項に記載の光散乱層用樹脂組成物。
- 請求項1〜4いずれか1項に記載の光散乱層用樹脂組成物を用いて形成された光散乱層。
- 透光性基板上に、請求項5記載の光散乱層と、透光性を有する第1の電極と、発光層を含む少なくとも1つの有機層と、光反射性を有する第2の電極とが順次積層された有機エレクトロルミネッセンス装置。
- 照明装置または表示装置である請求項6記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
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