JP4876019B2 - 欠陥検査装置およびその方法 - Google Patents
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Description
図8に図1に示した光学部の構成の変形例を示す。光学部10’は、複数の照明部1a、1b、および複数の検出部4a、4b、4c、4dからなる。照明部1aと照明部1bは互いに異なる照明光を検査対象基板2に照射する。照明部1aおよび照明光1bによる照明にて、散乱光3aおよび3bが各々発生し、各々検出部4a、4bおよび検出部4c、4dにより散乱光強度信号として検出される。検出した散乱光強度信号は処理部20に入力される。処理部20は入力された複数の散乱光強度信号に基づき欠陥情報を出力する。出力部40は処理部20より得られた欠陥情報を出力する。
1a、1b…照明部
2…ウェハ
3a、3b…散乱光
4a、4b…検出部
10、10’、10’’…光学部
20…処理部
21…前処理部
22a〜d…特徴量
23…判定部
40…出力部
101a、101b…照明系
102…対物レンズ
103…光路分岐素子
104a、104b…フィルタ部
105a、105b…結像レンズ
106a、106b…検出器
107…オートフォーカス照明部
108…オートフォーカス検出部
151…ステージ駆動部
152…X-Y-Z-θステージ152
301…全体制御部
302…表示部
303…演算部
304…記憶部
1010…照明光源
1010a、1010b…光源
1011…アッテネータ
1012…偏光板
1013…位相板
1014…位相板
1015…ビームエキスパンダ
1016…光路
1017…ビーム成型光学素子
M1〜M7…ミラー
Claims (8)
- 光源から出射した光を検査対象基板上の所定の領域に所定の複数の光学条件で照射する照明工程と、
前記所定領域において、前記複数の光学条件に対応して生じる複数の散乱光分布の各々につき、所定の方位角範囲および所定の仰角範囲に伝播する散乱光成分のうち正反射光成分を除いた光成分のみを受光器に導き複数の画像として検出する検出工程と、
前記検出された複数の画像から複数の画像特徴量を抽出し、前記抽出された複数の画像特徴量の特徴量空間における分布から正常部とは異なる欠陥部を欠陥として検出する欠陥検出工程と、
を有することを特徴とする欠陥検査方法。 - 請求項1記載の欠陥検査方法であって、
前記照明工程では、前記複数の光学条件として互いに異なる波長の光を照射することを特徴とする欠陥検査方法。 - 請求項1又は2記載の欠陥検査方法であって、
前記照明工程では、前記複数の光学条件として互いに異なる偏光状態の光を照射することを特徴とする欠陥検査方法。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載の欠陥検査方法であって、
前記照明工程では、前記複数の光学条件の光を同時に照射することを特徴とする欠陥検査方法。 - 請求項1乃至4のいずれかに記載の欠陥検査方法であって、
前記照明工程では、前記光源としてランプ光源を用いることを特徴とする欠陥検査方法。 - 請求項1乃至5のいずれかに記載の欠陥検査方法であって、
前記検出工程では、空間フィルタを用いて前記散乱光成分の一部を遮光あるいは透過させた後に前記受光器に導くことを特徴とする欠陥検査方法。 - 請求項1乃至6のいずれかに記載の欠陥検査方法であって、
前記照明工程では、照野が線状となるように光を照射することを特徴とする欠陥検査方法。 - 請求項7記載の欠陥検査装置であって、
前記照明工程では、シリンドリカルレンズを用いて前記照野が線状となるような光を照射することを特徴とする欠陥検査方法。
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