JP5331586B2 - 欠陥検査装置および検査方法 - Google Patents
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Description
3…アッテネータ
4…出射光調整部
5…ビームエキスパンダ
6…偏光制御部
7…照明強度分布制御部
7v…照明強度分布制御部
22…ビームモニタ
23…ビームモニタ
24…照明強度分布モニタ
53…制御部
54…表示部
55…入力部
101…照明部
102…検出部
103…ステージ部
105…信号処理部
120…照明光軸
201…対物レンズ
202…偏光フィルタ
203…結像レンズ
204…複数画素センサ
205…試料面共役面
Claims (11)
- 光源から出射した光を,所望の光量,位置,ビーム径,および偏光状態を持った光束に調整する照明光調整工程と,
前記照明光調整工程により得られる光束を所望の入射角をもって試料表面に導き,前記試料表面におけるある一方向について前記試料表面に与えられる照明強度分布が実質的に均一になるよう照明強度分布を制御する照明強度分布制御工程と,
前記照明強度分布制御工程による前記試料面上の照明光照射位置において,前記照明強度分布が実質的に均一な方向に対して実質的に垂直な方向に試料を変位させる試料走査工程と,
前記試料走査工程において試料上にて発生する散乱光のうち互い異なる複数の方向に出射する複数の散乱光成分を検出して対応する複数の散乱光検出信号を出力する散乱光検出工程と,
前記散乱光検出工程において得られる複数の散乱光検出信号のうち少なくとも一つの信号を処理して欠陥の存在を判定する欠陥判定工程と,
前記欠陥判定工程において欠陥と判定される箇所各々について対応する複数の散乱光検出信号のうち少なくとも一つの信号を処理して欠陥の寸法を判定する欠陥寸法判定工程と,
前記欠陥判定工程において欠陥と判定される箇所各々について,前記試料表面上における位置および前記欠陥寸法判定工程において得られる欠陥寸法を表示する表示工程と、
を有し、
前記照明光調整工程において,前記光束の光量,位置,あるいは進行方向の計測値に基づき,前記光束が所望の状態に近づくよう光束の状態を変化させる照明光計測工程を有することを特徴とする欠陥検査方法。 - 前記散乱光検出工程において,前記照明強度分布制御工程によって照明光が照射される領域内の複数の小領域から出射される散乱光を対応する複数の光検出画素に各々導いて検出することを特徴とする請求項1に記載の欠陥検査方法。
- 前記照明強度分布制御工程において得られる前記試料表面上の照明強度分布を計測する照明強度分布計測工程を有することを特徴とする請求項2に記載の欠陥検査方法。
- 前記照明光調整工程において,前記光束の光量を,前記試料表面上での照明スポットの寸法,試料表面の材質の熱伝導率,熱拡散率とを用いて計算によって求められる試料表面の温度上昇の最大値に基づいて設定することを特徴とする請求項1記載の欠陥検査方法。
- 前記照明光調整工程において,互いに異なる複数の検査条件において試料表面上に導かれる光束の光量を、各々の検査条件における試料表面上での照明スポットの長手方向の長さの概略0.8乗に比例する光量に設定することを特徴とする請求項1記載の欠陥検査方法。
- 前記照明光調整工程において,前記光束の光量を,試料表面上での照明スポットの寸法,試料表面の材質の熱伝導率,熱拡散率,前記試料走査工程における試料の変位速度とに基づいて設定することを特徴とする請求項1記載の欠陥検査方法。
- 前記照明光調整工程において,前記光束の光量を,前記試料走査工程による試料変位中に動的に変化させることを特徴とする請求項6に記載の欠陥検査方法。
- 前記照明光計測工程では、照明光の光束の波面計測を行うことを特徴とする請求項1記載の欠陥検査方法。
- 前記表示工程では、照明光計測工程における計測結果を表示することを特徴とする請求項1記載の欠陥検査方法。
- 前記表示工程では、照明光強度分布計測工程における計測結果を表示することを特徴とする請求項1記載の欠陥検査方法。
- 照明強度分布制御工程では、回折光学素子またはシリンドリカルレンズまたは回折格子を用いることを特徴とする請求項1記載の欠陥検査方法。
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