JP5279992B2 - 表面検査方法及び装置 - Google Patents
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- 主走査が回転移動で副走査が並進移動を行う被検査物体移動ステージ上に搭載された被検査物体の表面に光ビームを照射し、上記被検査物体からの散乱、回折又は反射された光を集光し、集光した光に基づいて上記被検査物体表面を検査する表面検査方法において、
略楕円形状の2つの照明スポットを上記被検査物体の表面に形成するため、1つの光源から発生された光ビームを分割して2つの光ビームとし、上記被検査物体の表面に対して、略同一の仰角で互いに異なる方位角の2つの光ビームであって、これら2つの光ビームの方位角が、上記2つの略楕円形状照明スポットの長軸のそれぞれの延長線が互いに交わる交点と、上記被検査物体の主走査の回転移動の中心と、を結ぶ線分の延長線に対して、それぞれ鋭角の角度となるように、上記2つの光ビームを上記被検査物体の表面の異なる2つの領域に照射し、
上記2つの領域からの散乱、回折又は反射された光を集光し、集光した光に基づいて上記被検査物体表面上又は表面近傍内部に存在する異物や欠陥の位置や大きさ又は上記被検査物体表面粗さを検出する表面検査方法であり、
上記1つの光源は、パルスレーザを発生し、このパルスレーザから分割された第1の光ビームの上記光源から上記被検査物体の表面の異なる2つの領域のうちの第1の領域に至るまでの光路長は、上記パルスレーザから分割された第2の光ビームの上記光源から上記被検査物体の表面の異なる2つの領域のうちの第2の領域に至るまでの光路長より短く設定され、上記第1の光ビームが上記光源から発せられ分割されてから、上記第1の領域に到達するまでの時間より、上記第2の光ビームが上記光源から発せられ分割されてから、上記第2の領域に到達するまでの時間を長くして遅延時間を設定することを特徴とする表面検査方法。 - 請求項1記載の表面検査方法において、上記2つの光ビームの延長線は、上記回転移動の中心を通る直線上で90度の角度で互いに交差することを特徴とする表面検査方法。
- 請求項1記載の表面検査方法において、上記交点と上記回転移動の中心とを結ぶ線分の延長線に対して、上記2つの略楕円形状照明スポットの長軸のそれぞれの延長線とがなす鋭角の互いの和は90度であることを特徴とする表面検査方法。
- 請求項1記載の表面検査方法において、上記2つの光ビームは、共にp偏光、または、共にs偏光、または、共に円偏光、または、共に略等しい楕円率を有する楕円偏光であることを特徴とする表面検査方法。
- 請求項1記載の表面検査方法において、上記2つの領域からの散乱、回折又は反射された光の和に基づいて、上記被検査物体表面上または表面近傍内部に存在する異物や欠陥の大きさ、または被検査物体表面の粗さを算出することを特徴とする表面検査方法。
- 請求項1記載の表面検査方法において、上記第2の光ビームが上記第2の領域に到達するまでの時間の、上記第1の光ビームが上記光源から発せられ分割されてから、上記第1の領域に到達するまでの時間に対する遅延時間は、上記光源のパルスレーザ発振周期の1/10乃至1/2の範囲に設定することを特徴とする表面検査方法。
- 請求項6記載の表面検査方法において、上記第1の領域から散乱、回折又は反射された光と、上記第2の領域から散乱、回折又は反射された光とは、一つの集光手段により集光し、上記遅延時間に基づいて、上記第1の領域から散乱、回折又は反射された光と、上記第2の領域から散乱、回折又は反射された光とを分離して検出することを特徴とする表面検査方法。
- 主走査が回転移動で副走査が並進移動を行う被検査物体移動ステージと、このステージ上に搭載された被検査物体の表面に光ビームを照射する手段と、上記被検査物体からの散乱、回折又は反射された光を集光する手段と、集光した光に基づいて上記被検査物体表面を検査する検査手段とを有する表面検査装置において、
1つの光源と、この1つの光源から発生された光ビームを2つの光ビームに分割する手段とを有し、略楕円形状の2つの照明スポットを上記被検査物体の表面に形成するため、上記被検査物体の表面に対して、略同一の仰角で互いに異なる方位角の2つの光ビームであって、これら2つの光ビームの方位角が、上記2つの略楕円形状照明スポットの長軸のそれぞれの延長線が互いに交わる交点と、上記被検査物体の主走査の回転移動の中心と、を結ぶ線分の延長線に対して、それぞれ鋭角の角度となるように、上記2つの光ビームを、上記被検査物体の表面の異なる2つの領域に照射する光ビーム照射手段と、
上記2つの領域からの散乱、回折又は反射された光を集光する集光手段と、
集光した光に基づいて上記被検査物体表面上又は表面近傍内部に存在する異物や欠陥の位置や大きさ又は上記被検査物体表面粗さを検出する検出手段と、
を備え、
上記1つの光源は、パルスレーザを発生し、このパルスレーザから分割された第1の光ビームの上記光源から上記被検査物体の表面の異なる2つの領域のうちの第1の領域に至るまでの光路長は、上記パルスレーザから分割された第2の光ビームの上記光源から上記被検査物体の表面の異なる2つの領域のうちの第2の領域に至るまでの光路長より短く設定され、上記第1の光ビームが上記光源から発せられ分割されてから、上記第1の領域に到達するまでの時間より、上記第2の光ビームが上記光源から発せられ分割されてから、上記第2の領域に到達するまでの時間を長くして遅延時間を設定することを特徴とする表面検査装置。 - 請求項8記載の表面検査装置において、上記交点と上記回転移動の中心とを結ぶ線分の延長線に対して、上記2つの略楕円形状照明スポットの長軸のそれぞれの延長線とがなす鋭角の互いの和は90度であることを特徴とする表面検査装置。
- 請求項8記載の表面検査装置において、上記光ビーム照射手段は、上記2つの光ビームの延長線を、上記回転移動の中心を通る直線上で互いに交差させることを特徴とする表面検査装置。
- 請求項8記載の表面検査装置において、上記2つの光ビームを、共にp偏光、または、共にs偏光、または、共に円偏光、または、共に略等しい楕円率を有する楕円偏光に偏光する偏光手段を備えることを特徴とする表面検査装置。
- 請求項8記載の表面検査装置において、上記検査手段は、上記2つの領域からの散乱、回折又は反射された光の和に基づいて、上記被検査物体表面上または表面近傍内部に存在する異物や欠陥の大きさ、または被検査物体表面の粗さを算出することを特徴とする表面検査装置。
- 請求項8記載の表面検査装置において、上記第2の光ビームが上記第2の領域に到達するまでの時間の、上記第1の光ビームが上記光源から発せられ分割されてから、上記第1の領域に到達するまでの時間に対する遅延時間は、上記光源のパルスレーザ発振周期の1/10乃至1/2の範囲に設定することを特徴とする表面検査装置。
- 請求項8記載の表面検査装置において、上記第1の領域から散乱、回折又は反射された光と、上記第2の領域から散乱、回折又は反射された光とは、一つの集光手段により集光し、上記遅延時間に基づいて、上記第1の領域から散乱、回折又は反射された光と、上記第2の領域から散乱、回折又は反射された光とを分離して検出することを特徴とする表面検査装置。
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